JPS5818923A - 直接露光装置 - Google Patents
直接露光装置Info
- Publication number
- JPS5818923A JPS5818923A JP56117073A JP11707381A JPS5818923A JP S5818923 A JPS5818923 A JP S5818923A JP 56117073 A JP56117073 A JP 56117073A JP 11707381 A JP11707381 A JP 11707381A JP S5818923 A JPS5818923 A JP S5818923A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- exposure
- ray tube
- cathode ray
- exposed
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B15/00—Special procedures for taking photographs; Apparatus therefor
- G03B15/003—Apparatus for photographing CRT-screens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ＩＣチップ内の配線や、配線基板の配線パタ
ーンｔフォトリノダラフイ技術によって形成させろ場合
に使用する露光装置に関する。
ーンｔフォトリノダラフイ技術によって形成させろ場合
に使用する露光装置に関する。
ＩＣチップ内部の配線パターンを形成し友ル、配線基板
の配線パターンを形成しえりする方法として、近年フォ
トリングラフィが用いられて−る。
の配線パターンを形成しえりする方法として、近年フォ
トリングラフィが用いられて−る。
フォトリングラフィとは、基板の表面を感光性Ｏ膜で覆
い、この膜を所望の形状に従って露光し先後現俸して所
望の形状に削除することによ如、とＯ膜の下層にあらか
じめ形成された金属膜の一部を露出させて、該露出部分
にめっきを施し、又は露出部分をエツチング法により除
去する事ｅｌｌＫよって所望の形状パターンの金属膜を
得る方法である。所望の形状に露光する技術としては、
従来、以下にのべる様なものがあった。
い、この膜を所望の形状に従って露光し先後現俸して所
望の形状に削除することによ如、とＯ膜の下層にあらか
じめ形成された金属膜の一部を露出させて、該露出部分
にめっきを施し、又は露出部分をエツチング法により除
去する事ｅｌｌＫよって所望の形状パターンの金属膜を
得る方法である。所望の形状に露光する技術としては、
従来、以下にのべる様なものがあった。
第１図は、ガラス又はセルロイド等の透明板１５に、所
望の形状のクロム膜１６を蒸着したマスクを、光源１１
と感光剤１７を被露光基板１８Ｋｍ布した被露光面との
間に置くことによシ、マスクの形状を被露光面の感光剤
１７の膜に転写する方法を示す、こＪ１法は、パターン
が異なるごとに、新丸なマスクを作らなければならない
ため、パターン化の所要期間が長くなるという欠点があ
る・第２図は、光源２１からの光線を凹面鏡２３で反射
させた平行光線２４を遮光板２５１２６の透光窓を通し
て凸レンズ２７で集光して、被露光基板３０に塗布した
感光剤２９０面Ｋｆ／１４点を結ばせ、基板設置台２０
を移動させることによって、被露光面に所望の形状パタ
ーンの露光を得る方法を示す、この場合は、マスクを作
る必要がないから、パターン化の所要期間は短いが、レ
ンズ系や嬉蔽板に高度の機械的精度が要求されるため、
装置の作成が困難で高価に＆るという欠点がある・壇た
、フォトリソグラレイではないが、これから派生し丸技
術として第３図に示すような方法も用いられている。す
なわち、被露光基板３９を電子線に対して反応する膜３
８で覆う友ものを、真空容器３１内に置き、カソード３
３から射出する電子ビーム３７によって照射する方法で
ある。電子ビーム３７は、グリッド３４で集束され、偏
向電極板３５．３６に与えられた電圧によって偏光され
て所望の形状パターンを画く。この方法は、コンピュー
タ４２で制御される′１源４１から与えられる電圧によ
って任意の形状パターンを画くことが可能であるが、基
板を露光する度に、真空容器内にセットし、真空引きを
しなければならないから、露光に要する作業時間が長く
なるという欠点がある。
望の形状のクロム膜１６を蒸着したマスクを、光源１１
と感光剤１７を被露光基板１８Ｋｍ布した被露光面との
間に置くことによシ、マスクの形状を被露光面の感光剤
１７の膜に転写する方法を示す、こＪ１法は、パターン
が異なるごとに、新丸なマスクを作らなければならない
ため、パターン化の所要期間が長くなるという欠点があ
る・第２図は、光源２１からの光線を凹面鏡２３で反射
させた平行光線２４を遮光板２５１２６の透光窓を通し
て凸レンズ２７で集光して、被露光基板３０に塗布した
感光剤２９０面Ｋｆ／１４点を結ばせ、基板設置台２０
を移動させることによって、被露光面に所望の形状パタ
ーンの露光を得る方法を示す、この場合は、マスクを作
る必要がないから、パターン化の所要期間は短いが、レ
ンズ系や嬉蔽板に高度の機械的精度が要求されるため、
装置の作成が困難で高価に＆るという欠点がある・壇た
、フォトリソグラレイではないが、これから派生し丸技
術として第３図に示すような方法も用いられている。す
なわち、被露光基板３９を電子線に対して反応する膜３
８で覆う友ものを、真空容器３１内に置き、カソード３
３から射出する電子ビーム３７によって照射する方法で
ある。電子ビーム３７は、グリッド３４で集束され、偏
向電極板３５．３６に与えられた電圧によって偏光され
て所望の形状パターンを画く。この方法は、コンピュー
タ４２で制御される′１源４１から与えられる電圧によ
って任意の形状パターンを画くことが可能であるが、基
板を露光する度に、真空容器内にセットし、真空引きを
しなければならないから、露光に要する作業時間が長く
なるという欠点がある。
本発明の目的は、上述の従来の欠点を解決し、マスクを
必要とせず、露光に要する作業時間が短く、かつ安価な
露光装置を提供することにある。
必要とせず、露光に要する作業時間が短く、かつ安価な
露光装置を提供することにある。
本発明の露光装置は、ブラウン管と、該ブラウン管の前
面ガラス表面に光学繊維束の端面が密接するように光学
繊維束を固定保持する手段と、腋光学繊藻束の前記ブラ
ウン管と反対側の端面に被露光基板をｖＲ振させる丸め
の基板設置台とを備えて、前記ブラウン管の螢光面の発
光を前記光学繊維束を介して被露光基板の感光面に入射
させるように構成したことを特徴とする。
面ガラス表面に光学繊維束の端面が密接するように光学
繊維束を固定保持する手段と、腋光学繊藻束の前記ブラ
ウン管と反対側の端面に被露光基板をｖＲ振させる丸め
の基板設置台とを備えて、前記ブラウン管の螢光面の発
光を前記光学繊維束を介して被露光基板の感光面に入射
させるように構成したことを特徴とする。
次に、本発明について、図面を参照して詳細に説明する
。
。
第４図は、本発明の一実施例を示す断面図であ如、第２
図はその斜視図である。すなわち、ブラウン管ｓ１の前
面ガラス６ＧＫ密接して、光学繊維束６１を、その軸が
前面ガラス６０に垂直になるように密接固定する。光学
繊維束６１は、直接前面ガラス６０に接着固定しても良
く、又は、適尚な支持体によって一体に保持されて、そ
の端面が前面ガラス６０ＫＩｆ接するように形成され九
光学繊維板によって前面ガラスに密接できるようにして
もよい、勿論、光学繊維束６１のブラウン管とは反対側
の面は平面に形成され、被露光基板６３０表面表面布し
た感光膜６２に密接することができる。被露光基板６３
は基板設置台６４に載置され位置合わせのつめ６ｓによ
って位置決めされている。そして、上記ブラウン管のカ
ソード５３から射出する電子ビーム５７を、グリッド５
４で集束し偏向電極［５５，５６によって偏向させ螢光
面ｓ８の所望の位置を照射して輝点５９を生じさせ、螢
光面５８上に任意の形状パターンを画かせることができ
る。これらは、コンピュータ６７の制御によ）、電源６
６から与えられる電圧によって、任意に制御される。
図はその斜視図である。すなわち、ブラウン管ｓ１の前
面ガラス６ＧＫ密接して、光学繊維束６１を、その軸が
前面ガラス６０に垂直になるように密接固定する。光学
繊維束６１は、直接前面ガラス６０に接着固定しても良
く、又は、適尚な支持体によって一体に保持されて、そ
の端面が前面ガラス６０ＫＩｆ接するように形成され九
光学繊維板によって前面ガラスに密接できるようにして
もよい、勿論、光学繊維束６１のブラウン管とは反対側
の面は平面に形成され、被露光基板６３０表面表面布し
た感光膜６２に密接することができる。被露光基板６３
は基板設置台６４に載置され位置合わせのつめ６ｓによ
って位置決めされている。そして、上記ブラウン管のカ
ソード５３から射出する電子ビーム５７を、グリッド５
４で集束し偏向電極［５５，５６によって偏向させ螢光
面ｓ８の所望の位置を照射して輝点５９を生じさせ、螢
光面５８上に任意の形状パターンを画かせることができ
る。これらは、コンピュータ６７の制御によ）、電源６
６から与えられる電圧によって、任意に制御される。
輝点５９によシ、感光面６２に感光させる状態を第６図
に示す。すがわち、電子ビームｓ７で螢光面５８を照射
すると輝点Ｓ９を生じる。輝点５９からの光線は前面ガ
ラス６０中を図中矢印のように進向するが光学縁ｍ６１
ｍの端面に対して一定の臨界角以上で入射した光は全反
射されるため、光学繊維６１ｍに入射しない。このため
、輝点５９の図中真下ＫＴｏる少数の光学繊維６１亀に
よって感光ＪＩＩ６２を照射し、露光させる。図中６２
１ｓが露光され九部分であり、１１２ｍは露光されない
部分を示す０以上のように１輝点５９が殆んど拡大され
ない状憩で露光させることが可能であ為。光学繊維束と
しては、セルフォックレンズをアレイ状に配し九竜ル７
オツクレ／ズアレイ等を用いろことができる。セルフォ
ックレンズの直径が数十ンクロン以下のものを使用すれ
ば、最小寸法が数十建クロン程度の露光パターンを得る
ことができる。本実施例では、露光パターンは、コンピ
ュータ内に記憶させることができるから、マスクの作成
は必要でなく、パターン化の所要期間が短くてすむとい
う効果がある。また、露光作業に要する時間は短くてす
み、かつ高精度を要する可動部分がないから安価に提供
することができる・第７図（ａ）および伽）ｉｌｔ、本
発明の他の実施例を示す断面図および側断面図である。
に示す。すがわち、電子ビームｓ７で螢光面５８を照射
すると輝点Ｓ９を生じる。輝点５９からの光線は前面ガ
ラス６０中を図中矢印のように進向するが光学縁ｍ６１
ｍの端面に対して一定の臨界角以上で入射した光は全反
射されるため、光学繊維６１ｍに入射しない。このため
、輝点５９の図中真下ＫＴｏる少数の光学繊維６１亀に
よって感光ＪＩＩ６２を照射し、露光させる。図中６２
１ｓが露光され九部分であり、１１２ｍは露光されない
部分を示す０以上のように１輝点５９が殆んど拡大され
ない状憩で露光させることが可能であ為。光学繊維束と
しては、セルフォックレンズをアレイ状に配し九竜ル７
オツクレ／ズアレイ等を用いろことができる。セルフォ
ックレンズの直径が数十ンクロン以下のものを使用すれ
ば、最小寸法が数十建クロン程度の露光パターンを得る
ことができる。本実施例では、露光パターンは、コンピ
ュータ内に記憶させることができるから、マスクの作成
は必要でなく、パターン化の所要期間が短くてすむとい
う効果がある。また、露光作業に要する時間は短くてす
み、かつ高精度を要する可動部分がないから安価に提供
することができる・第７図（ａ）および伽）ｉｌｔ、本
発明の他の実施例を示す断面図および側断面図である。
すなわち、この場合は、値蔽板８２にスリットを穿設し
て、該スリット内に光学砿維束８１を配設固着している
。
て、該スリット内に光学砿維束８１を配設固着している
。
光学繊維束８１の端面は勿論前面ガラス８０に密接可能
である。第７図（、）において、電子ビーＡ７７は図中
左右方向に走査され、図中前後方向に副走査される。そ
して、蓮幣板８２は、そのスリット位置が電子ビームの
副走査に同期して第７図（＆）の図中前後方向、すなわ
ち同図（ｂ）の図中左右方向に移動する。該スリットの
幅を適当に選定すれば、副走査位置に対して余裕がある
から、さほど精密な位置制御は必要でない。また、光学
繊維の量が少々くてすむから安価に提供することができ
る。
である。第７図（、）において、電子ビーＡ７７は図中
左右方向に走査され、図中前後方向に副走査される。そ
して、蓮幣板８２は、そのスリット位置が電子ビームの
副走査に同期して第７図（＆）の図中前後方向、すなわ
ち同図（ｂ）の図中左右方向に移動する。該スリットの
幅を適当に選定すれば、副走査位置に対して余裕がある
から、さほど精密な位置制御は必要でない。また、光学
繊維の量が少々くてすむから安価に提供することができ
る。
その他の点については前述の実施例と同様表効果を奏す
る。
る。
以上のように、本発明においては、ブラウン管の前面に
光学繊維束を密接して配列し、該光学繊維束を介して被
露光基板の露光面を照射するように構成されているから
、露光操作が簡単で短時間に可能７であシ、また１、、
露光用のマスク作成を必要としないから、パターン化の
所要期間を短縮できる効果がある。さらに、機械的に高
精度な可動部分がないから安価に提供することができる
。
光学繊維束を密接して配列し、該光学繊維束を介して被
露光基板の露光面を照射するように構成されているから
、露光操作が簡単で短時間に可能７であシ、また１、、
露光用のマスク作成を必要としないから、パターン化の
所要期間を短縮できる効果がある。さらに、機械的に高
精度な可動部分がないから安価に提供することができる
。
第１図〜第３図はそれぞれ従来の露光装置の一例を示す
側面図、＠４図は本発明の一実施例を示す断面図、第５
図は上記実施例を示す斜視図、第６図は輝点付近の巻路
および露光の状態を示す断面図、第７図（ａ）および（
ｂ）は本発明の他の実施例を示す断面図および側断面図
である。 図において、１１．２１−・・・・光源、１３ｐ２７−
・・・凸レンズ、１５−透明板、１６・−クロムマスク
パターン、１７＊２ｅ＊３８ｓ６２ｔ６２ａｔ６２に、
８３・・・感光膜、１８，３０，３９，６３゜８６−・
被露光基板、２３−凹面鏡、２５，２４ｉ。 ［トー鑑蔽板、２０，６４．８４−・基板設置台、６５
．８５−・位置合わせのりめ、３１−真空容器、＄８＃
５１７３−・カソード、３４ｔ５４＃７４−グリッド、
５１．７１−ブラウン管、３５，３６゜！＄ｌ５ｅＳ６
ｔ７５ｔ７６−・偏向電極板、３７，５７゜７７−電子
ビーム、５８．７８−螢光面、５９゜７９−・輝点、６
０．８０・・・前面ガラス、ｅ １．ａｔ−光学繊維束
、６１ ｍ ＝・光学繊維、６１ｂ−・隔壁、６６−電
源、６７−コｙピユータ。 代理人弁理士 住田俊宗 １０ 第１図 ５ 第２図 第７図（ｂ）
側面図、＠４図は本発明の一実施例を示す断面図、第５
図は上記実施例を示す斜視図、第６図は輝点付近の巻路
および露光の状態を示す断面図、第７図（ａ）および（
ｂ）は本発明の他の実施例を示す断面図および側断面図
である。 図において、１１．２１−・・・・光源、１３ｐ２７−
・・・凸レンズ、１５−透明板、１６・−クロムマスク
パターン、１７＊２ｅ＊３８ｓ６２ｔ６２ａｔ６２に、
８３・・・感光膜、１８，３０，３９，６３゜８６−・
被露光基板、２３−凹面鏡、２５，２４ｉ。 ［トー鑑蔽板、２０，６４．８４−・基板設置台、６５
．８５−・位置合わせのりめ、３１−真空容器、＄８＃
５１７３−・カソード、３４ｔ５４＃７４−グリッド、
５１．７１−ブラウン管、３５，３６゜！＄ｌ５ｅＳ６
ｔ７５ｔ７６−・偏向電極板、３７，５７゜７７−電子
ビーム、５８．７８−螢光面、５９゜７９−・輝点、６
０．８０・・・前面ガラス、ｅ １．ａｔ−光学繊維束
、６１ ｍ ＝・光学繊維、６１ｂ−・隔壁、６６−電
源、６７−コｙピユータ。 代理人弁理士 住田俊宗 １０ 第１図 ５ 第２図 第７図（ｂ）
Claims (1)
- （１） ブラウン管と、該ブラウン管の前面ガラス表
面に光学繊維束の端面が密接するように光学繊維束を固
定保持する手段と、誼光学繊維束の前記ブラウン管と度
対側の端面に被露光基板を密接させるための基板設置台
とを備えて、前記ブラウン管の螢光面の発光を前記光学
繊維束を介して被露光基板の感光面に入射させるように
構成したことを特徴とする直接露光装置（２、特許請求
の範囲第１項記載の直接露光装置において、前記光学繊
維束は、スリットを有するｍ＊板のスリット中に配設さ
れ、上記鍵蔽板はそのスリット位置を前記ブラウン管の
走査位置に合わせるようにブラウン管走査に同期して移
動するように構成され九ことを特徴とするもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56117073A JPS5818923A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 直接露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56117073A JPS5818923A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 直接露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5818923A true JPS5818923A (ja) | 1983-02-03 |
Family
ID=14702735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56117073A Pending JPS5818923A (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | 直接露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5818923A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59220923A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | Toshiba Corp | 半導体集積回路のパタ−ン形成方法 |
| JPS605685U (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-16 | 東芝テック株式会社 | 振動式電気かみそり |
| FR2591357A1 (fr) * | 1985-12-10 | 1987-06-12 | Labo Electronique Physique | Dispositif d'insolation pour la generation de masques |
| JPH02291594A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-03 | Sony Corp | 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4830314A (ja) * | 1971-08-20 | 1973-04-21 | ||
| JPS4960114A (ja) * | 1972-10-07 | 1974-06-11 | ||
| JPS529085A (en) * | 1975-07-03 | 1977-01-24 | Monsanto Co | Adhesive coated steel reinforced menbers and their production |
-
1981
- 1981-07-28 JP JP56117073A patent/JPS5818923A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4830314A (ja) * | 1971-08-20 | 1973-04-21 | ||
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Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
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| JPS605685U (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-16 | 東芝テック株式会社 | 振動式電気かみそり |
| FR2591357A1 (fr) * | 1985-12-10 | 1987-06-12 | Labo Electronique Physique | Dispositif d'insolation pour la generation de masques |
| JPS62144329A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-27 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | マスク製造用露光装置 |
| JPH02291594A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-03 | Sony Corp | 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置 |
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