JPH02291594A - 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置 - Google Patents

紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置

Info

Publication number
JPH02291594A
JPH02291594A JP1112503A JP11250389A JPH02291594A JP H02291594 A JPH02291594 A JP H02291594A JP 1112503 A JP1112503 A JP 1112503A JP 11250389 A JP11250389 A JP 11250389A JP H02291594 A JPH02291594 A JP H02291594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet light
ray tube
cathode ray
ultraviolet
light irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1112503A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2775844B2 (ja
Inventor
Masanobu Yamamoto
眞伸 山本
Nobutomo Umeki
梅木 信友
Katsutoshi Ono
勝利 大野
Kazumine Itou
和峰 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP11250389A priority Critical patent/JP2775844B2/ja
Priority to US07/499,943 priority patent/US5079430A/en
Priority to DE69029678T priority patent/DE69029678T2/de
Priority to EP90303615A priority patent/EP0396259B1/en
Priority to KR1019900005454A priority patent/KR0147286B1/ko
Publication of JPH02291594A publication Critical patent/JPH02291594A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2775844B2 publication Critical patent/JP2775844B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/704162.5D lithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B15/00Special procedures for taking photographs; Apparatus therefor
    • G03B15/003Apparatus for photographing CRT-screens
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70375Multiphoton lithography or multiphoton photopolymerization; Imaging systems comprising means for converting one type of radiation into another type of radiation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0082Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the exposure method of radiation-sensitive masks

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Testing, Inspecting, Measuring Of Stereoscopic Televisions And Televisions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明紫外光照射プロジェクター及び光学的像形成装置
を以下の項目に従って詳細に説明する。
A.産業上の利用分野 B.発明の概要 C.従来技術 D.発明が解決しようとする課題 E.課題を解決するための手段 F 実施例 F−1,紫外光照射プロジェクター及び電子回路パター
ン像形成装置の実施例 [第1図乃至第3図コ a.紫外光照射プロジェクター[第 1 図コ b.電子回路パターン像形成装置[第 1図] C.紫外光照射プロジェクターの変形 例[第2図] F−2.立体像形成装置の実施例[第3図、第4図コ F−3.フォーカシング機構の例[第5図乃至第7図] G.発明の効果 (A.産業上の利用分野) 本発明は新規な紫外光照射プロジェクター及び光学的像
形成装置に関する。詳しくは、紫外光感応材を露光する
ための光源である紫外光照射プロジェクター及び該紫外
光照射プロジェクターを用いて所望の2次元像もしくは
3次元像を形成する光学的像形成装置に関するものであ
り、紫外光感応材をプロジェクターの光学部材と非接触
な状態で露光することができるようにした新規な紫外光
照射プロジェクターと、このような紫外光照射プロジェ
クターを使用することによって複雑な条件管理を要しな
いで所望の像を高精度に形成することができるようにし
た新規な光学的像形成装置を提供しようとするものであ
る。
CB.発明の概要) 本発明紫外光照射プロジェクターは、紫外光を発光する
ブラウン管のパネル面と紫外光感応露光面との間に該露
光面と非接触な結像用光学部材を配置することにより紫
外光感応露光面を光学部材と常に非接触な状態で露光す
ることができ、よってプロジェクターの光学部材と露光
面との接触を避けることができるようにし、また、本発
明光学的像形成装置は上記紫外光照射プロジェクターを
光源として紫外光感光樹脂を所望の電子回路パターンに
応じたパターンで露光することにより電子回路パターン
形成用の2次元像を高精度に形成することができるよう
にし、更に、本発明光学的像形成装置は上記紫外光照射
プロジェクターを光源として紫外光感光樹脂を露光した
シート状の硬化樹脂を順次積層することによって所望の
3次元像を高精度に形成することができるようにしたも
のである。
(C.従来技術) 所望の像を形成する方法の1つに所謂光学的像形成方法
があり、例えば、紫外光を照射されることによって硬化
又は分解される液状もしくはシート状の合成樹脂(以下
、「感光樹脂Jという。)を所定の波長の紫外光でポジ
ティブにあるいはネガティブに露光することにより感光
樹脂か所望の像に形成されるようにしたものである。
そして、このような像形成に用いられる光源としては、
従来から、紫外光発光型のブラウン管を利用したものが
あり、該ブラウン管のパネル面と感光樹脂との間に結像
用光学部材を介在させ上記発光面からの紫外光を結像用
光学部材によって感光樹脂に結像させることにより該感
光樹脂を露光するようになっている。
このようなものとしては、例えば、特開昭62−288
844号公報に記載されたものがある。
(D、発明が解決しようとする課題) ところが、上記公報に記載された光学的像形成装置は、
ブラウン管の発光面上に紫外光を平行光束化するための
ライトガイドを設けると共に、該ライトガイドの出光端
面に、直に、感光樹脂を供給するようにしているので、
ライトガイドの出光面の平滑度が形成像の精度を直接左
右することになり、このため、上記出光端面に極めて高
い加工精度が要求され、また、硬化した感光樹脂が上記
出光面に付着して残るようなことがあると、当該形成像
のパターンが壊れてしまうばかりか、その次に新たな感
光樹脂を供給して露光する際の形成像のパターンも壊わ
されてしまうことになり、しかも、出光端面に残った硬
化樹脂が紫外光に光学的な悪影響を及ぼすことにもなる
等、様々な問題があった。
また、ブラウン管のパネル面と感光樹脂との接触によっ
てこれらの間に温度差が生じることは必至であり、これ
がブラウン管を使用する上で制約事項になってしまうと
いう問題もある。
(E.課題を解決するための手段) そこで、本発明紫外光照射プロジェクターは、上記課題
を解決するために、紫外光を発光するブラウン管のパネ
ル面と紫外光感応露光面との間に桔像用投影レンズ等の
結像用光学部材を露光面と非接触に配置し、該紫外光照
射プロジェクターに画像処理装置を接続して所望の電子
回路パターン像を形成したり、あるいは任意に設計した
立体像のーの方向で分解した多数の分解面毎に紫外光感
光樹脂を露光しかつ該露光済の感光樹脂を積層すること
によって所望の立体像を形成するようにしたものである
従って、本発明によれば、紫外光感応露光面をプロジェ
クターの光学部材と常に非接触な状態で露光することが
できるので、感光材が上記光学部材の面精度の影響を受
けたり、あるいは感光材が光学部材に付着して残るよう
なことを完全に防止することができるため、常に、精度
の良い露光を行なうことができ、かつ、ブラウン管に課
せられる温度条件等の制約も少ない。
(F.実施例) 以下に、本発明紫外光照射プロジェクター及び光学的像
形成装置の詳細を図示した実施例に従って説明する。
(F−1 紫外光照射プロジェクター及び電子回路パタ
ーン像形成装置の実施例) [第1図乃至第3図] 第1図乃至第3図は本発明紫外光照射プロジェクターを
備えた電子回路パターン像形成装置の実施例を示すもの
である。
(a.紫外光照射プロジェクター)[第1図]1は紫外
光照射プロジェクターであり、ブラウン管と投影レンズ
とから成る。
2はブラウン管であり、そのパネル部3は紫外光に関す
る透過率の高いガラス材が望ましいが、通常の青板ガラ
スや白板ガラス等により形成することができ、該パネル
部3の材料は、その線膨張係数がファンネル部の材料の
それと略同じ値とされている。
そして、上記パネル部3の内面3a,即ち、蛍光パネル
面には電子銃4から放射された電子ビームが当ることに
より励起されて波長450nm(ナノメートル)以下の
紫外光を発光する蛍光体5が塗布されている。
6はパネル部3の前方に配置された投影レンズ(図面で
は単体状のもので示してあるが、実際には、各種の補正
用レンズの組合せから成る。)であり、この投影レンズ
6はパネル部3と同様に紫外光の透過率の高い材料、例
えば、石英ガラスや白板ガラス等により形成されている
しかして、パネル部3の出光面に現出した紫外光による
像パターンは投影レンズ6からその合焦距離離間した投
影面7上に結像され、従って、この投影面7上に紫外光
感応材料8、即ち、波長450nm以下の紫外光を照射
されることにより硬化又は分解する合成樹脂(以下、「
感光樹脂」と言う。)を配置すれば、該感光樹脂8の露
光面8aが所望の像パターンで露光される。
尚、投影レンズ6の倍率はブラウン管2の輝度や解像度
の関係から約掻〜数倍が適当な値とされる。
しかして、感光樹脂8は、常に、投影レンズ6と非接触
な状態で露光されることになり、このため、感光樹脂8
か投影レンズ6の面精度の影響を受けたり、あるいは感
光樹脂8が投影レンズ6に付着ずるようなことは全く無
い。
(b.電子回路パターン像形成装置)[第1図] 9は上記した紫外光照射プロジェクター1を光源とした
電子回路パターン像形成装置であり、例えば、プリント
配線基板の製造に用いられるドライフィルムのパターン
形成を行なうための装置である。
10は所謂CADシステムの主要部を成す画像処理装置
、11は該画像処理装置10とブラウン管2の電子銃4
との間に設けられたコントローラであり、画像処理装置
10によって任意に設計された電子回路パターンに対応
したデータはコントローラ11を介してテレビ信号とし
て電子銃4に出力され、従って、所望の電子回路パター
ン像が紫外光照射プロジェクター1により前記投影面7
に投影される。
12は投影面7と近接して配置されたワーク台であり、
該ワーク台12上に基板13が供給される。尚、該基板
l3には一方の面にメッキ層14が形成され、その上に
所定の厚さのドライフィルム15が塗布される。
しかして、トライフィルム15を設計された電子回路パ
ターンに応じた像パターンを有する紫外光で露光するこ
とかでき、通常必要とされるマスクフィルムの製作工程
を省略することができる。
よって、例えば、CADシステムを用いて設計した回路
パターンを、その場合で直ちに試作して、これを評価す
るといったことも簡単に行うことができる。
(c.紫外光照射プロジェクターの変形例)[第2図] 第2図は前記紫外光照射プロジェクター1の変形例IA
を示すものである。
この変形例に示す紫外光照射プロジェクターIAは、ブ
ラウン管2のパネル面に現出した像を投影面7に結像さ
せるための結像用光学部材に、所謂屈折率分布型のアレ
イレンズ16を使用しており、パネル面から出射した紫
外光はこのアレイレンズ16により平行光束となって投
影面7に投影される。
このようなアレイレンズ16を用い場合には倍率が1倍
に固定しているが、パネル面と投影面7との距離が短く
て済み、装置全体を小型に構成することができる。
尚、このようにブラウン管2のパネル面と結像面とが接
近していることにより感光樹脂への悪影害が生じる場合
には、アレイレンズ16とブラウン管2との間、もしく
はアレイレンズ16と投影面7との間に紫外光以外の不
要成分(例えばX線等)を除去するための適宜なフィル
タ一部材等を配苦すれは良い。
( F = 2.立体像形成装置の実施例)[第3図、
第4図コ 第3図及び第4図は前記紫外光照射ブロジェクター1を
備えた立体像形成装置の実施例17を示すものである。
18は樹脂貯留槽であり、その内部に溶融状態の光硬化
型感光樹脂19が貯留されている。
20はエレベータであり、その下端部に位置した水平な
板状を為すステージ21を有すると共に上端部にナット
部材22が固定され、該ナット部材22がステッピング
モータ23により回転される送りねじ24と螺合されて
おり、該送りねじ24が回転することによってナット部
材22が送られ、それにより、エレベータ20が上下方
向へステップわ動されるようになっており、また、ステ
ージ21は前記樹脂貯留槽l8に貯留されている感光樹
脂l9中に位置されている。
そして、紫外光照射プロジェクター1はブラウン管2の
パネル部3から出射した像パターンが樹脂貯留槽18内
の感光樹脂19の液面19aの上で結像するように配置
されている。
25は前記画像処理装置10と略同様にCADシステム
によって構築される立体像プログラミング装置であり、
該立体像プログラミング装置25により任意に設計され
た立体像の一の方向で所定のピッチ(以下、「分解ビッ
チ」と言う。)で分解された多数の分解面についてのデ
ータが映像信号の形でコントローラ26に送出され、表
示用ドライバー27を介してブラウン管2の電子銃4へ
出力されるようになっている。
28はモータ駆勅回路であり、コントローラ26からの
制御信号を受けて、ステッピングモータ23に所定の相
励磁信号を送出するために設けられている。尚、図示は
省略するが、エレベータ20の現在位置を検出す,るた
めのセンサーが設けられており、この位置検出信号がコ
ントローラ26に送出されるようになっている。
そこで、像形成動作時には、先ずエレベータ20が初期
位置、即ち、ステージ21上に感光樹脂19が前記分解
ピッチ分の厚さで存在する位置へと移動されると共に、
前記多数の分解面のうち第1番目の分解面についてのデ
ータに対応した像パターンが紫外光照射プロジェクター
1により感光樹脂19の液面19aに投影される。これ
により、ステージ21上の感光樹脂19が当該第1番目
の分解面に応じたパターンで露光されて1つのシート状
をした硬化層29、(第4図参照)が形成される。
次いで、エレベータ20が1分解ピッチ分下方へ}多勅
され、それにより、形成済の硬化N29,上に感光樹脂
19が1分解ピッチ分の厚さでもって流れ込むように供
給される。この状態から第2番目の分解面についてのデ
ータに対応した像パターンが感光樹脂19の液面19a
に投影され、それによって、硬化層29,上の感光樹脂
19が当該第2番目の分解面に応じたパターンで露光さ
れて1つのシート状をした硬化N292が硬化層29+
上に形成される。
しかして、エレベータ20の1分解ピッチづつの下方へ
の移動と各分解面に応じたパターンでの感光樹脂19に
対する露光とが交互にくり返して行なわれて多数の硬化
層29,  29,、293、・・・29.1.29n
がステージ21上で順次積層されて行き、それにより、
任意に設計とされた立体像30が形成される。
(F−3.フォーカシング機構の例)[第5図乃至第7
図] ところで、上記した電子回路パターン像形成装置9や立
体像形成装置17においては、ブラウン管2のパネル面
上に映し出される像パターンをピントが合った状態で露
光面上に結像させることが重要である。
第5図及び第7図はそのようなフォーカス調整のための
フォーカシング機構の一例31を示すものである。
尚、紫外光照射プロジェクター1においてフォーカス調
整を行なう際の調整要素としてはブラウン管2のパネル
部3と投影レンズ6との間の距IRft Il+又は投
影レンズ6と露光面(8a又は19a)との間の距離2
2が考えられるが、この例に示すフォーカシング機構3
1は上記距離n.は固定しておいて距!1iffu2を
調整するようにしたものである。
同図において、32、32は駆動機構であり、モータ3
2a,32aと、紫外光照射プロジェクター1の上下方
向における原点位置を検出するためのホームセンサー3
2b,32b等を備えており、紫外光照射プロジェクタ
ー1はその全体がこれら駆動機構32、32により露光
面と垂直な方向へ移動されるようになっている。
そして、第6図に示すように、ブラウン管2のパネル面
上において、その周辺部を除いた領域33a内に所定の
画像パターンが表示され、この領域33aが電子回路パ
ターンや立体像形成パターンの形成上有効な領域とされ
る。
また、上記領域33aの周辺領域33bには、領域33
aを挟んで斜向いに位置したフォーカス調整用パターン
像34、34′が映し出されるようになっている。該フ
ォーカス調整用パターン像34、34′は紫外領域にお
ける所定の、又は、所定範囲に亘る空間周波数パターン
を有しており、例えば、第7図に視覚化して示すように
紫外線強度の強い部分34aと弱い部分34bとが交互
に、かつ、矢印方向にいくに従ってピッチが次第に小さ
くなって行くような空間周波数パターンとされ、このフ
ォーカス調整用パターン像34、34′が、ラスタース
キャンによって周辺領域33bの所定範囲内に亘って移
動される。
35、35′は露光面8a又は19aと等価な位置に配
置された光検出器、36、36′は上記フォーカス調整
用パターン像34、34′を上記光検出器35、35′
に各々導くためのハーフミラー、37、37′は該ハー
フミラー36、36′と光検出器35、35′との間に
設けられたスリット(又はピンホール)であり、フォー
カス調整用パターン像34、34′はスリット37、3
7′を通して光検出器35、35′に到達し、よって、
光検出器35(又は35′)の出力信号は第7図に示す
ようにフォーカス調整用パターン像34(又は34′)
の強弱のピッチが小さく(空間周波数が大きく)なるに
つれ、その振幅が減少する信号となる。
38、38′は検出回路(図面では一方の光検出器35
と接続された一方の検出回路3Bについてのみその細部
を示してあるが、他方の検出回路38′の構成も一方の
検出回路38と同様になっている.)である.39は光
検出器35からの信号を増幅するプリアンプ、40は該
ブリアンプ39の後段に配置されたエンベローブ検波回
路、41は該エンベローブ検波回路40からの信号をデ
ィジタル化するためのA/D変換回路、42は該A/D
変換回路41の後段に配置されたピーク検出回路であり
、その出力信号はフォーカス制御回路43に送出される
ようになっている.このように、光検出器35、35′
の出力信号はブリアンブ39により前置増幅された後、
そのエンベローブが抽出され、その時々の値がディジタ
ル化されて、ピーク値の検出がなされる.よってこのよ
うなデータに基づいた空間周波数と振幅変調度との関係
、所謂アンプリチェードレスポンスから、フォーカスが
合ったかどうかが判定される。
そして、フォーカス制御回路43はフォーカスが合った
かどうかの判断に応じてモータ駆勅回路44に制御信号
を送出して、モータ32a132aを各別に回転制御す
るようになっている。
尚,フォーカス制御回路43は画像処理装置10又は立
体像プログラミング装置25からのフォーカス調整の開
始指令をインターフェース回路45を介して受けて作動
し、ホームセンサー32b、32bからの原点位置の検
出信号が人力される迄の間、モータ駆勅回路44に制御
信号を送出してモータ32a,32aにより移動機構3
2、32を作動させ、紫外光照射プロジェクター1を原
点位置に復帰させるように制御を行う。
しかして、露光動作が開始すると、先ず、紫外光照射プ
ロジェクター1が原点位置へ移動され、その後表示用ド
ライバー27によってブラウン管2のパネル面にフォー
カス調整用パターン像34、34′が映し出される。そ
して、モータ32a,32aが駆動されて紫外光照射プ
ロジェクター1が露光面8aもしくは19a側へ移動し
、かつ、検出回路38、38′及びフォーカス制御回路
43によフて高周波成分のレスポンスが最大になるまで
前記距l!!ft i 2が調整される。そして、高周
波成分のレンスボンスの最大点が検出されたところで、
即ち、フォーカスが合ったところでモータ32a,32
aの駆動が停止されてブラウン管2の領域33aに所定
の像パターンが表示されて実際の露光が開始される。そ
して、その後はフォーカス状態に関する微小変動の補正
が、検出回路38、38′の監視の下に常時行われるこ
とになる。
尚、このようなフォーカス調整はブラウン管2のパネル
面に映し出される2つのフォーカス調整用パターン像3
4、34”に基づいて各別に行なわれ、これによって紫
外光照射プロジェクター1の水平面に対する傾きの調整
も同時に行われる。
フォーカス調整用パターン像34、34′としては、上
記したパターンの他、固定した空間周波数を有するパタ
ーン、つまり、紫外線強度の強弱が一定のピッチとされ
るようなパターン像を用いることもできるが、この場合
には出力信号の振幅値を予め設定された基準値と比較す
ることになり、ブラウン管の紫外線強度の変化(使用時
間等の要因による)に対する補正を行う必要があるとい
った煩わしさが生じるが、前記したように、所定範囲内
で変化する空間周波数パターン像を用いれば、ある空間
周波数を基準とした相対的なレスポンス値が得られるの
で上記のような補正は不要でありフォーカス調整が容易
である。
また、この実施例では、フォーカス調整を行なうために
、投影レンズ6と露光面88又は19aとの間の距@ 
!L2のみを調整するようにしたが、場合によっては、
投影レンズ6をブラウン管2及び露光面8a又は19a
に対して移動させるようにしても良い。
(G.発明の効果) 以上に記載したところから明らかなように、本発明紫外
光照射プロジェクターは、蛍光面に電子励起により波長
450ナノメートル以下の紫外光を発光する蛍光体が塗
布されたブラウン管と、該ブラウン管の蛍光パネル面と
紫外光感応露光面との間に該露光面と非接触に配置され
た結像用光学部材とを備えたことを特徴とする。
従って、本発明紫外光照射プロジェクターによれば、紫
外光感応露光面をプロジェクターの光学部材と常に非接
触な状態で露光することができるので、感光材が上記光
学部材の面精度の影響を受けたり、あるいは感光材が光
学部材に付着して残るようなことを完全に防止すること
ができるため、常に、精度の良い露光を行なうことがで
き、かつ、ブラウン管に課せられる温度条件等の制約も
少ない。
また、本発明光学的像形成装置は、蛍光パネル面に電子
励起により波長450ナノメートル以下の紫外光を発光
する蛍光体が塗布されたブラウン管と該ブラウン管の蛍
光パネル面と紫外光感応露光面との間に該露光面と非接
触に配置された結像用光学部材とを有する紫外光照射プ
ロジェクターと、所望の電子回路パターンに対応したデ
ータを上記ブラウン管に出力するための画像処理装置と
を備え、ブラウン管からの紫外光により上記露光面を露
光することにより該露光面に所望の電子回路パターン像
が形成されるようにしたことを特徴とする。
従って、このような光学的像形成装置によれば、紫外光
感応露光面をプロジェクターの光学部材と常に非接触な
状態で露光することができるので、感光材が上記光学部
材の面精度の影響を受けたり、あるいは感光材が光学部
材に付着して残るようなことを完全に防止することがで
きるため、常に、精度の良い露光を行なうことができ、
これにより、所望の電子回路パターン像を精度良く、か
つ、低コストに形成することができる。
更に、本発明に係る他の光学的像形成装置は、蛍光パネ
ル面に電子励起により波長450ナノメートル以下の紫
外光を発光する蛍光体が塗布されたブラウン管と該ブラ
ウン管の蛍光パネル面と紫外光感応露光面との間に該露
光面と非接触に配置された結像用光学部材とを有する紫
外光照射プロジェクターと、所望の立体像を一の方向で
1ピッチ毎に分解した多数の分解面に関するデータを順
次上記ブラウン管に出力するための画像処理装置と、1
つの分解面についての露光が終了する度に感応済み露光
面上に1ピッチ分の層厚で紫外光感応材を供給する供給
手段とを備え、各分解面に対応した感応済みの露光面が
積層されることにより所望の立体像が形成されるように
したことを特徴とする。
従って、このような光学的像形成装置によれば、紫外光
感応露光面をプロジェクターの光学部材と常に非接触な
状態で露光することができるので、感光材が上記光学部
材の面精度の影響を受けたり、あるいは感光材が光学部
材に付着して残るようなことを完全に防止することがで
きるため、常に、精度の良い露光を行なうことができ、
これにより、任意に設計した立体像を精度良く、かつ、
低コストに形成することかできる。
そして、これら光学的像形成装置において、ブラウン管
に映し出されるフォーカス調整用パターン像を利用した
フォーカシング機構を設けることによって、肉眼では見
えない紫外線像に関するフォーカス調整を簡単、かつ、
高精度に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第3図は本発明紫外光照射プロジェクターの
一例と該紫外光照射プロジェクターを用いて電子回路パ
ターンを形成する本発明光学的像形成装置の一例を示す
ものであり、第1図は光学的像形成装置の説明図、第2
図は紫外光照射プロジェクターの変形例を示す説明図、
第3図及び第4図は立体を形成する本発明光学的像形成
装置の実施の一例を示すものであり、第3図は説明図、
第4図は形成された立体像において一部の分解面を分離
して示す拡大斜視図、第5図乃至第7図は上記光学的像
形成装置に設けられたフ才一力シング機構の一例を示す
もので、第5図は全体の回路ブロック図、第6図はブラ
ウン管のパネル面上におけるパターン像とフォーカス調
整用パターン像の配置例を示す説明図、第7図はフォー
カス調整用パターン像の一例を視覚化し、かつ、光検出
器の信号出力と共に示す概念図である。 符号の説明 1・・・紫外光照射プロジェクター 2・・・ブラウン管、 3a・・・蛍光パネル面、 5・・・蛍光体、 6・・・結像用光学部材、 8a・・・紫外光感応露光面、 IA・・・紫外光照射プロジェクター 16・・・結像用光学部材、 9・・・光学的像形成装置、 10・・・画像処理装置、 15・・・紫外光感応材、 17・・・光学的像形成装置、 1 8、 1 0、 3 4、 像、 35、 38、 0・・・供給手段、 ・紫外光感応材、 ・・露光面、 ・画像処理装置、 ・立体像、 ・フォーカシング機構、 5・・・テスト信号出力手段 ・移動手段、 4′・・・空間周波数測定用パターン 35′・・・光検出器、 38’  43・・・制御回路 出 願 大 ソニー株式会社 代理人弁理士  小  松  祐  治゛・,紫外光照
射プロジェクターの説明図(変形例)第 2図 30・・・立体像 34、34′・・空間周波数測定用パターン像ス 説明図 第6図 概 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)蛍光面に電子励起により波長450ナノメートル
    以下の紫外光を発光する蛍光体が塗布されたブラウン管
    と、 該ブラウン管の蛍光パネル面と紫外光感応露光面との間
    に該露光面と非接触に配置された結像用光学部材とを備
    えた ことを特徴とする紫外光照射プロジェクター(2)蛍光
    パネル面に電子励起により波長 450ナノメートル以下の紫外光を発光する蛍光体が塗
    布されたブラウン管と該ブラウン管の蛍光パネル面と紫
    外光感応露光面との間に該露光面と非接触に配置された
    結像用光学部材とを有する紫外光照射プロジェクターと
    、 所望の電子回路パターンに対応したデータを上記ブラウ
    ン管に出力するための画像処理装置とを備え、 ブラウン管からの紫外光により紫外光感応材の上記露光
    面を露光することにより該露光面に所望の電子回路パタ
    ーン像が形成されるようにしたことを特徴とする光学的
    像形成装置 (3)蛍光パネル面に電子励起により波長 450ナノメートル以下の紫外光を発光する蛍光体が塗
    布されたブラウン管と該ブラウン管の蛍光パネル面と紫
    外光感応露光面との間に該露光面と非接触に配置された
    結像用光学部材とを有する紫外光照射プロジェクターと
    、 所望の立体像を一の方向で1ピッチ毎に分解した多数の
    分解面に関するデータを順次上記ブラウン管に出力する
    ための画像処理装置と、 1つの分解面についての露光が終了する度に感応済み露
    光面上に1ピッチ分の層厚で紫外光感応材を供給する供
    給手段とを備え、 各分解面に対応した感応済みの露光面が積層されること
    により所望の立体像が形成されるようにした ことを特徴とする光学的像形成装置 (4)ブラウン管に空間周波数測定用パターン信号を出
    力するテスト信号出力手段と、ブラウン管から射出され
    た空間周波数測定用パターン像を検出する光検出器と、
    紫外光照射プロジェクターもしくは結像用光学部材を露
    光面と垂直な方向へ移動させる移動手段と、上記光検出
    器からの信号を受けて空間周波数特性の評価を行い上記
    移動手段へフォーカス制御信号を出力する制御回路とを
    有するフォーカシング機構を備えたことを特徴とする特
    許請求の範囲第2項又は第3項記載の光学的像形成装置
JP11250389A 1989-05-01 1989-05-01 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置 Expired - Fee Related JP2775844B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11250389A JP2775844B2 (ja) 1989-05-01 1989-05-01 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置
US07/499,943 US5079430A (en) 1989-05-01 1990-03-27 Ultraviolet radiation projector and optical image forming apparatus
DE69029678T DE69029678T2 (de) 1989-05-01 1990-04-04 PVorrichtung zur Herstellung von optischen Bildern
EP90303615A EP0396259B1 (en) 1989-05-01 1990-04-04 Optical image forming apparatus
KR1019900005454A KR0147286B1 (ko) 1989-05-01 1990-04-19 자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11250389A JP2775844B2 (ja) 1989-05-01 1989-05-01 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02291594A true JPH02291594A (ja) 1990-12-03
JP2775844B2 JP2775844B2 (ja) 1998-07-16

Family

ID=14588284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11250389A Expired - Fee Related JP2775844B2 (ja) 1989-05-01 1989-05-01 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5079430A (ja)
EP (1) EP0396259B1 (ja)
JP (1) JP2775844B2 (ja)
KR (1) KR0147286B1 (ja)
DE (1) DE69029678T2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5278027A (en) * 1989-03-08 1994-01-11 R. R. Donnelley Method and apparatus for making print imaging media
US5426567A (en) * 1993-10-15 1995-06-20 General Motors Corporation Electronic module package and mounting having diagonally disposed guide pins and threaded rods
SE502478C2 (sv) * 1994-03-30 1995-10-30 Graf & Bild I Vaesteraas Ab Anordning för framtagning av bild-/textelement
DE19939617A1 (de) * 1999-08-20 2001-03-29 Deltamed Medizinprodukte Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE10012523A1 (de) * 2000-03-15 2001-09-27 Mario Fuchs Vorrichtung und Verfahren zum Belichten, Abtasten und/oder Wiedergeben einer Vorlage
EP1184725A1 (en) * 2000-09-04 2002-03-06 Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG Method for adjusting a lithographic tool
JP3925513B2 (ja) 2004-06-23 2007-06-06 セイコーエプソン株式会社 プロジェクタの自動フォーカス調整
WO2010064594A1 (ja) * 2008-12-01 2010-06-10 学校法人立教学院 熱蛍光積層体、熱蛍光板状体、熱蛍光積層体の製造方法、熱蛍光板状体の製造方法、及び放射線の3次元線量分布の取得方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5818923A (ja) * 1981-07-28 1983-02-03 Nec Corp 直接露光装置
JPS60126962A (ja) * 1983-12-14 1985-07-06 Canon Inc 画像処理装置
JPS62156647A (ja) * 1985-12-27 1987-07-11 Brother Ind Ltd 複写装置
JPS62288844A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学的造形方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1256509A (fr) * 1956-11-28 1961-03-24 Procédé d'enregistrement photographique
US4511925A (en) * 1982-08-16 1985-04-16 Mackenroth Iii Joseph R High intensity ultraviolet light video imaging apparatus
US4498009A (en) * 1982-09-22 1985-02-05 Honeywell Inc. Optical lithographic system having a dynamic coherent optical system
DE3418960A1 (de) * 1984-05-22 1985-11-28 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Vorrichtung zur herstellung fotografischer aufnahmen von bildschirmbildern
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4616926A (en) * 1985-08-28 1986-10-14 Eastman Kodak Company Film video player/printer
FR2591357A1 (fr) * 1985-12-10 1987-06-12 Labo Electronique Physique Dispositif d'insolation pour la generation de masques
US4924254A (en) * 1987-05-26 1990-05-08 Silhouette Technology, Inc. Film printing/reading system
US4922284A (en) * 1987-05-26 1990-05-01 Silhouette Technology, Inc. Film printing/reading system
JP2755650B2 (ja) * 1989-02-01 1998-05-20 株式会社東芝 露光装置
US4980563A (en) * 1990-01-09 1990-12-25 United States Department Of Energy VUV lithography

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5818923A (ja) * 1981-07-28 1983-02-03 Nec Corp 直接露光装置
JPS60126962A (ja) * 1983-12-14 1985-07-06 Canon Inc 画像処理装置
JPS62156647A (ja) * 1985-12-27 1987-07-11 Brother Ind Ltd 複写装置
JPS62288844A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学的造形方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0396259A3 (en) 1991-11-06
EP0396259B1 (en) 1997-01-15
DE69029678D1 (de) 1997-02-27
EP0396259A2 (en) 1990-11-07
KR0147286B1 (ko) 1998-08-01
US5079430A (en) 1992-01-07
DE69029678T2 (de) 1997-05-07
JP2775844B2 (ja) 1998-07-16
KR900018745A (ko) 1990-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3634068B2 (ja) 露光方法及び装置
JPH06112106A (ja) オブジェクト画像焦点合わせ装置及び方法、並びにマスク画像焦点合わせ装置
JP2863822B2 (ja) 自動焦点システムを備えた投射型画像表示装置
JP2008292916A (ja) 画像露光装置及びマイクロレンズユニット並びにその製造方法
CN107807495B (zh) 图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法
JPH02291594A (ja) 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置
JP2742006B2 (ja) 円筒内面走査装置
KR102478399B1 (ko) 노광 장치, 노광 방법 및 물품 제조 방법
JP2020109477A (ja) リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の制御方法
JP2001507475A (ja) 露光装置の制御方法
JP2005294373A (ja) マルチビーム露光装置
JP2001013388A (ja) レンズ系光軸調整方法およびレンズ系光軸調整装置
JPS6336526A (ja) ウエハ露光装置
JP2009210960A (ja) レーザ直接描画装置
JP4974821B2 (ja) 画像記録方法、および画像記録システム
WO2020059256A1 (ja) 描画装置および描画方法
JP5624580B2 (ja) 画像記録方法、および画像記録システム
TW201636738A (zh) 曝光裝置及曝光方法
JP2009145494A (ja) 焦点位置検出方法および描画装置
JPH06347412A (ja) 異物検査方法及び装置
JP4583827B2 (ja) 画像形成装置および画像形成方法
JP2007011288A (ja) 光量調整方法、画像記録方法及び装置
JPH04254319A (ja) 電子線装置及び電子線装置の焦点調整方法
JP7254686B2 (ja) 撮影システム及び画像処理方法
US20230144586A1 (en) Methods and apparatus for correcting lithography systems

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees