KR0147286B1 - 자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치 - Google Patents

자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치

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가쓰도시 오노
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오가 노리오
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Abstract

내용없음

Description

자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치
제1도 및 제3도는 본원 발명의 자외광조사프로젝터의 일예와 이 자외광조사프로젝터를 사용해서 전자회로패턴을 형성하는 본원 발명 광학적 상형성장치의 일예를 도시한 것으로서, 제1도는 광학적 상형성장치의 설명도.
제2도는 자외광조사프로젝터의 변형예를 도시한 설명도.
제3도 및 제4도는 입체를 형성하는 본원 발명의 광학적 상형성장치의 실시의 일예를 도시한 도면.
제3도는 설명도.
제4도는 형성된 입체상에 있어서 일부의 분해면을 분리해서 도시한 확대사시도.
제5도 내지 제7도는 상기 광학적 상형성장치에 설치된 포커싱기구의 일예를 나타내는 도면으로서, 제5도는 전체의 회로블록도.
제6도는 브라운관의 패널면상에 있어서의 패턴상과 포커스조정용 패턴상의 배치예를 도시한 설명도.
제7도는 포커스조정용 패턴상의 일예를 사각화하고, 또한 광검출기의 신호출력과 함께 도시한 개념도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1:자외광조사프로젝터 2:브라운관
3a:형광패널면 5:형광체
6:결상용 광학부재 8a:자외광감응노광면
1A:자외광조사프로젝터 16:결상용 광학부재
9:광학적 상형성장치 10:화상처리장치
15:자외광감응재 17:광학적 상형성장치
18,20:공급수단 19:자외광감응재
19a:노광면 25:화상처리장치
30:입체상 31:포커싱기구
10,25:테스트신호출력수단 32:이동수단
34,34':공간주파수측정용 패턴상 35,35':광검출기
38,38',43:제어회로.
본원 발명은 자외광(紫外光)조사(照射)프로젝터 및 광학적 상형성장치에 관한 것이다.
본원 발명은 신규의 자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치에 관한 것이다. 상세하게는 자외광감응재를 노광하기 위한 광원인 자외광조사프로젝터 및 이 자외광조사프로젝터를 사용해서 원하는 2차원상 또는 3차원상을 형성하는 광학적 상형성장치에 관한 것이며, 자외광감응재를 프로젝터의 광학부재와 비접촉인 상태로 노광할 수 있도록 한 신규의 자외광조사프로젝터와, 이와 같은 자외광조사프로젝터를 사용함으로써 복잡한 조건관리를 요하지 않고 원하는 상을 고정밀도롤 형성할 수 있도록 한 신규의 광학적 상형성장치를 제공하려고 하는 것이다.
본원 발명의 자외광조사프로젝터는 자외광을 발광하는 브라운관의 패널면과 자외광감응노광면과의 사이에 이 노광면과 비접촉인 결상용 광학부재를 배치함으로써 자외광감응노광면을 광학부재와 항상 비접촉인 상태로 노광할 수 있으며, 따라서 프로젝터의 광학부재와 노광면과의 접촉을 피할 수 있도록 하고 또한 본원 발명의 광학적 상형성장치는 상기 자외광조사프로젝터를 광원으로서 자외광 감광수지를 원하는 전자회로패턴에 맞는 패턴으로 노광함으로써 전자회로패턴형성용의 2차원상을 고정밀도로 형성할 수 있도록 하고, 또한 본원 발명의 광학적 상형성장치는 상기 자외광조사프로젝터를 광으로서 자외광감광수지를 노광한 시트형의 경화수지를 순차적층함으로써 원하는 3차원상을 고정밀도로 형성할 수 있도록 한 것이다.
원하는 상을 형성하는 방법의 하나로 이른바 광학적 상형성방법이 있으며, 예를 들면 자외광이 조사됨으로써 경화 또는 분해되는 액상 또는 시트형의 합성수지(이하,감광수지라 함)을 소정의 파장의 자외광으로 포지티브로 또는 네가티브로 노광함으로써 감광수지가 원하는 상으로 형성되도록 한 것이다.
그리고, 이와 같은 상형성에 사용되는 광원으로서는 종래부터 자외광발광형의 브라운관을 이용한 것이 있으며, 이 브라운관의 패널면과 감광수지와의 사이에 결상용 광학부재를 개재시켜서 상기 발광면으로부터의 자외광을 결상용 광학부재에 의해 감광수지에 결상시킴으로써 이 감광수지를 노광하도록 되어 있다.
이와 같은 것으로서는 예를 들면 일본국 특개소 62(1987)-288, 844호 공보에 기재된 것이 있다.
그러나, 상기 공보에 기재된 광학적 상형성장치는 브라운관의 발광면상에 자외광을 평행광속화(光束化)하기 위한 라이트가이드를 배설하는 동시에, 이 라이트가이드의 출광끝면에 즉시 감광수지를 공급하도록 하고 있으므로, 라이트가이드의 출광면의 평활도가 형성상의 정밀도를 직접 좌우하게 되고, 이 때문에 상기 출광끝면에 매우 높은 가공정밀도가 요구되며, 또한 경화된 감광수지가 상기 출광면에 부착해서 남는 등의 일이 있으면, 당해 형성상의 패턴이 파괴될 뿐만 아니라, 그 다음에 새로운 감광수지를 공급해서 노광할 때의 형성상의 패턴도 파괴되어 버리게 되며, 더욱이 출광끝면에 남은 경화수지가 자외광에 광학적인 악영향을 미치는 일이 되기도 하는 등, 여러 가지 문제가 있었다.
또한, 브라운관의 패널면과 감광수지와의 접촉에 의해 이들 사이에 온도차가 생기는 것은 필연적이며, 이것이 브라운관을 사용하는데 있어서 제약사항이 되어 버리는 문제도 있다.
그래서, 본원 발명의 자외광조사프로젝터는 상기 과제를 해결하기 위해, 자외광을 발광하는 브라운관의 패널면과 자외광감응노광면과의 사이에 결상용 투영렌즈 등의 결상용 광학부재를 노광면과 비접촉으로 배치하고, 이 자외광조사프로젝터에 화상처리장치를 접속해서 원하는 전자회로패턴상을 형성하거나, 또는 임의로 설계한 입체상의 -의 방향으로 분해한 다수의 분해면마다 자외광감광수지를 노광하고, 또한 이 노광이 끝난 감광수지를 적층함으로써 원하는 입체상을 형성하도록 한 것이다.
따라서, 본원 발명에 의하면 자외광감응노광면을 프로젝터의 광학부재와 항상 비접촉인 상태로 노광할 수 있으므로, 감광재가 상기 광학부재의 면정밀도의 영향을 받거나, 또는 감광재가 광학부재에 부착해서 남거나 하는 것을 완전히 방지할 수 있으므로, 항상 정밀도가 좋은 노광을 행할 수 있으며, 또한 브라운관에 부과되는 온도조건 등의 제약도 적다.
이하에, 본원 발명 자외광조사프로젝터 및 광학적 상형성장치의 상세를 도시한 실시예에 따라 설명한다.
[자외광조사프로젝터 및 전자회로패턴상형성장치의 실시예]
(제1도 내지 제3도)
제1도 내지 제3도는 본원 발명 자외광조사프로젝터를 구비한 전자회로패턴상형성장치의 실시예를 도시한 것이다.
a. 자외광조사프로젝터(제1도)
(1)은 자외광조사프로젝터이며, 음극선관인 브라운관과 투영렌즈로 이루어진다.
(2)는 브라운관이며, 그 패널부(3)는 자외광에 관한 투과율이 높은 유리재가 바람직하지만, 통상의 청판유리나 백판유리 등에 의해 형성할 수 있으며, 이 패널부(3)의 재료는 그 선팽창계수가 패널부의 재료의 그것과 대략 같은 값이다.
그리고, 상기 패널부(3)의 내면(3a), 즉 형광패널면에는 전자총(4)으로부터 방사된 전자빔이 닿음으로써 여기되어 파장 450㎚(나노미터) 이하의 자외광을 발광하는 형광체(5)가 도포되어 있다.
(6)은 패널부(3)의 전방에 배치된 투영렌즈(도면에서는 단체형상의 것으로 도시되어 있으나, 실제로는 각종 보정용 렌즈의 조합으로 이루어짐)이며, 이 투영렌즈(6)는 패널부(3)와 같이 자외광의 투과율이 높은재료, 예를 들면 석영유리나 백판유리 등에 의해 형성되어 있다.
그래서, 패널부(3)의 출광면에 현출된 자외광에 의한 상패널은 투영렌즈(6)로부터 그 합초(合焦)거리 이간된 투영면(7)상에 결상되고, 따라서 이 투영면(7)상에 자외광감응재료(8) 즉 파장 450㎚ 이하의 자외광을 조사함으로써 경화 또는 분해하는 합성수지(이하, 감광수지 라함)을 배치하면 이 감광수지(8)의 노광면(8a)이 원하는 상패턴으로 노광된다.
또한, 투영렌즈(6)의 배율은 브라운관(2)의 휘도나 해상도의 관계로부터 약 1/2 - 수배가 적당한 값으로 된다.
그래서, 감광수지(8)는 항상 투영렌즈(6)와 비접촉인 상태로 노광되고, 이로 인해 감광수지(8)가 투영렌즈(6)의 면정밀도의 영향을 받거나, 또는 감광수지(8)가 투영렌즈(6)에 부착되는 등의 일은 전혀 없다.
b. 전자회로패턴 상형성장치(제1도)
(9)는 상기한 자외광조사프로젝터(1)를 광원으로 한 전자회로패턴상형성장치이며, 예를 들면 프린트배선기판의 제조에 사용되는 드라이필름의 패턴형성을 행하기 위한 장치이다.
(10)은 이른바 CAD 시스템의 주요부를 이루는 화상처리장치, (11)은 이 화상처리장치(10)와 브라운관(2)의 전자총(4)과의 사이에 설치된 콘트롤러이며, 화상처리장치(10)에 의해 임의로 설계된 전자회로패턴에 대응한 데이터는 콘트롤러(11)를 통해서 텔레비전신호로서 전자총(4)에 출력되며, 따라서 원하는 전자회로패턴상이 자외광조사프로젝터(1)에 의해 상기 투영면(7)에 투영된다.
(12)는 투영면(7)과 근접해서 배치된 작업대이며, 이 작업대(12)상에 기판(13)이 공급된다. 또한, 이 기판(13)에는 한쪽면에 도금층(14)이 형성되고, 그 위에 소정의 두께의 드라이필름(15)이 도포된다.
그래서, 드라이필름(15)을 설계된 전자회로패턴에 맞는 상패턴을 가진 자외광으로 노광할 수 있으며, 통상 필요로 하는 마스크필름의 제조공정을 생략할 수 있다. 따라서, 예를 들면 CAD 시스템을 사용해서 설계한 회로패턴을 그 경우에 즉시 시험제작하여, 이것을 평가하는 것도 간단히 행할 수 있다.
c. 자외광조사프로젝터의 변형예(제2도)
제2도는 상기 자외광조사프로젝터(1)의 변형에(1a)를 도시한 것이다.
이 변형예에 도시한 자외광조사프로젝터(1a)는 브라운관(2)의 패널면에 나타난 상을 투영면(7)에 결상시키기 위한 결상용 광학부재에, 이른바 굴절율분포형의 어레이렌즈(16)를 사용하고 있으며, 패널면으로부터 출사한 자외광은 이 어레이렌즈(16)에 의해 평행광속이 되어 투영면(7)에 투영된다.
이와 같은 어레이렌즈(16)를 사용한 경우에는 배율이 1배로 고정되어 있으나, 패널면과 투영면(7)과의 거리가 짧아도 되며, 장치전체를 소형으로 구성할 수 있다.
또한, 이와 같이 브라운관(2)의 패널면과 결상면이 접근되어 있음으로써 감광수지에의 악영향이 생길 경우에는 어레이렌즈(16)와 브라운관(2)과의 사이, 또는 어레이렌즈(16)와 투영면(7)과의 사이에 자외광이외의 불요성분(예를 들면 X선 등)을 제거하기 위한 적당한 필터부재 등을 배치하면 된다.
[입체상형성장치의 실시예(제3도, 제4도)]
제3도 및 제4도는 상기 자외광조사프로젝터(1)를 구비한 입체상형성장치의 실시예(17)를 도시한 것이다.
(18)은 수지저류조(貯留槽)이며, 그 내부에 용융상태의 광경화형감광수지(19)가 저류되어 있다.
(20)은 엘리베이터이며, 그 하단부에 위치한 수평의 판상을 이루는 스테이지(21)를 갖는 동시에 상단부에 너트부재(22)가 고정되고, 이 너트부재(22)가 스테핑모터(23)에 의해 회전되는 이송나사(24)와 나사 결합되어 있으며, 이 이송나사(24)가 회전함으로써 너트부재(22)가 보내지고, 그것에 의해 엘리베이터(20)가 상하방향으로 스텝이동되도록 되어 있으며, 또한 스테이지(21)는 상기 수지저류조(18)에 저류되어 있는 감광수지(19)중에 위치되어 있다.
그리고, 자외광조사프로젝터(1)는 브라운관(2)의 패널부(3)로부터 출사된 상패턴이 수지저류조(18)내의 감광수지(19)의 액면(19a)의 위에서 결상되도록 배치되어 있다.
(25)는 상기 화상처리장치(10)와 대략 마찬가지로 CAD 시스템에 의해 구축되는 입체상프로그래밍장치이며, 이 입체상프로그래밍장치(25)에 의해 임의로 설계된 입체상의 - 방향에서 소정의 피치(이하, 분해피치 라함)로 분해된 다수의 분해면에 대한 데이터가 영상신호의 형태로 콘트롤러(26)에 송출되며, 표시용 드라이버(27)를 통해서 브라운관(2)의 전자총(4)에 출력되도록 되어 있다.
(28)은 모터구동회로이며, 콘트롤러(26)로부터의 제어신호를 받아서, 스테핑모터(23)에 소정의 상여자(相여磁)신호를 송출하기 위해 설치되어 있다. 그리고, 도시생략된 엘리베이터(20)의 현재위치를 검출하기 위한 센서가 설치되어 있으며, 이 위치검출신호가 콘트롤러(26)에 송출되도록 되어 있다.
그래서, 상형성동작시에는 먼저 엘리베이터(20)가 초기위치 즉 스테이지(21)상에 감광수지(19)가 상기 분해피치분의 두께로 존재하는 위치로 이동되는 동시에, 상기 다수의 분해면중 첫번째의 분해면에 대한 데이터에 대응한 상패턴이 자외광조사프로젝터(1)에 의해 감광수지(19)의 액면(19a)에 투영된다. 이로써, 스테이지(21)상의 감광수지(19)가 당해 첫번째의 분해면에 맞는 패턴으로 노광되어 하나의 시트형상을 한 경화층(29)(제4도 참조)이 형성된다.
이어서, 엘리베이터(20)가 1분해피치분 아래쪽으로 이동되고, 그것에 의해 형성이 끝난 경화층(291)상에 감광수지(19)가 1분해피치분의 두께로 흘러들도록 공급된다. 이 상태에서 두번째의 분해면에 대한 데이터에 대응한 상패턴이 감광수지(19)의 액면(19a)에 투영되고, 그것에 의해 경화층(291)상의 감광수지(19)가 당해 두 번째의 분해면에 맞는 패턴으로 노광되어 하나의 시트형상을 한 경화층(292)이 경화층(291)상에 형성된다.
그래서, 엘리베이터(20)의 1분해피치씩 아래쪽으로의 이동과 각 분해면에 맞는 패턴에서의 감광수지(19)에 대한 노광이 교대로 반복되어 행해져서 다수의 경화층(291), (292), (293), . . . (29n-1), (29n)이 스테이지(21)상에서 순차 적층되어, 그것에 의해 임의로 설계된 입체상(30)이 형성된다.
[포커싱기구의 예(제5도 내지 제7도)]
그러나, 상기한 전자회로패턴 상형성장치(9)나 입체상형성장치(17)에 있어서는 브라운관(2)의 패널면상에 영출되는 상패턴을 핀트가 맞은 상태로 노광면상에 결상시키는 것이 중요하다.
제5도 및 제7도는 그와 같은 포커스조정을 위한 포커싱기구의 일예(31)을 도시한 것이다.
또한, 자외광조사프로젝터(1)에 있어서 포커스조정을 행할 때의 조정요소로서는 브라운관(2)의 패널부(3)와 투영렌즈(6)와의 사이의 거리 ℓ1또는 투영렌즈(6)와 노광면(8a) 또는 (19a)과의 사이의 거리 ℓ2가 고려되지만, 이 예에 나타낸 포커싱기구(31)는 상기 거리 ℓ1은 고정해 두고, 거리 ℓ2를 조정하도록 한 것이다.
이 도면에 있어서, (32), (32)는 구동기구이며, 모터(32a), (32a)와 자외광조사프로젝터(1)의 상하방향에 있어서의 원점위치를 검출하기 위한 홈센서(32b), (32b) 등을 구비하고 있으며, 자외광조사프로젝터(1)는 그 전체가 이들 구동기구(32), (32)에 의해 노광면과 수직인 방향으로 이동되도록 되어 있다.
그리고, 제6도에 도시한 바와 같이, 브라운관(2)의 패널면상에 있어서, 그 주변부를 제외한 영역(33a)내에 소정의 화상패턴이 표시되고, 이 영역(33a)이 전자회로패턴이나 입체상형성패턴의 형성상 유효한 영역이 된다.
또한, 상기 영역(33a)의 주변영역(33b)에는 영역(33a)을 사이에 두고 경사방향으로 위치한 포커스조정용패턴상(34), (34')가 영출되도록 되어 있다. 이 포커스조정용패턴상(34), (34')은 자외광영역에 있어서의 소정의, 또는 소정범위에 걸친 공간주파수패턴을 가지고 있으며, 예를 들면 제7도에 시각화해서 도시한 바와 같이 자외선강도가 강한 부분(34a)과 약한 부분(34b)이 교대로 또한 화살표방향으로 감에 따라 피치가 점차로 작아지는 공간주파수패턴이 되며, 이 포커스조정용패턴상(34), (34')이 래스터스캔에 의해 주변영역(33b)의 소정범위내에 걸쳐서 이동된다.
(35), (35')는 노광면(8a) 또는 (19a)와 등가인 위치에 배치된 광검출기, (36), (36')는 상기 포커스조정용패턴상(34), (34')를 상기 광검출기(35), (35')에 각각 인도하기 위한 하프미터, (37), (37')는 이 하프미터(36), (36')와 광검출기(35), (35')와의 사이에 배설된 슬릿(또는 핀흘)이며, 포커스조정용패턴상(34), (34')는 슬릿(37), (37')을 통해서 광검출기(35), (35')에 도달하고, 따라서 광검출기(35)(또는 35')의 출력신호는 제7도에 도시한 바와 같이 포커스조정용패턴상(34) (또는 34')의 강약의 피치가 작게(공간주파수가 크게)됨에 따라서, 그 진폭이 감소하는 신호가 된다.
(38), (38')는 검출회로(도면에서는 한쪽의 광검출기(35)와 접속된 한쪽의 검출회로(38)에 대해서만 그 세부를 도시하고 있으나, 다른쪽의 검출회로(38')의 구성도 한쪽의 검출회로(38)와 같음)이다. (39)는 광검출기(35)로부터의 신호를 증폭하는 프리앰프, (40)은 이 프리앰프(39)의 후단에 배치된 엔벨로프검파회로, (41)은 엔벨로프검파회로(40)로부터의 신호를 디지털화하기 위한 A/D 변환회로, (42)는 이 A/D변환회로(41)의 후단에 배치된 피크검출회로이며, 그 출력신호는 포커스제어회로(43)에 송출되도록 되어 있다.
이와 같이, 광검출기(35), (35')의 출력신호는 프리앰프(39)에 의해 전치증폭된 후, 그 엔벨로프가 추출되고, 그때 그때의 값이 디지털화되어, 피크치의 검출이 이루어진다. 따라서, 이와 같은 데이터에 의한 공간주파수와 진폭변조도와의 관계, 이른바 앰프리튜드레스폰스로부터 포커스가 맞았는지의 여부가 판정된다.
그리고, 포커스제어회로(43)는 포커스가 맞았는지의 여부판단에 따라 모터구동회로(44)에 제어신호를 송출해서, 모터(32a), (32a)를 각각 별도로 회전제어하도록 되어 있다.
또한, 포커스제어회로(43)는 화상처리장치(10) 또는 입체상프로그래밍장치(25)로부터의 포커스조정의 개시지령을 인터페이스회로(45)를 통해서 받아 작동하며, 홈센서(32b), (32b)로부터의 원점위치의 검출신호가 입력될 때까지의 사이, 모터구동회로(44)에 제어신호를 송출해서 모터(32a)(32a)에 의해 이동기구(32), (32)를 작동시켜, 자외광조사프로젝터(1)를 원점위치에 복귀시키도록 제어한다.
그래서 노광동작이 개시되면 먼저 자외광조사프로젝터(1)가 원점위치로 이동되고, 그후 표시용 드라이버(27)에 의해 브라운관(2)의 패널면에 포커스조정용패턴상(34),(34')이 영출된다. 그리고, 모터(32a)(32a)가 구동되어 자외광조사프로젝터(1)가 노광면(8a) 또는 (19a)측으로 이동되고, 또한 검출회로(38),(38')및 포커스제어회로(43)에 의해 고주파성분인 레스폰스가 최대로 될 때까지 상기 거리 ℓ2가 조정된다. 그리고, 고주파성분인 레스폰스의 최대점이 검출된 곳에서, 즉 포커스가 맞은 곳에서 모터(32a),(32a)의 구동이 정지되어 브라운관(2)의 영역(33a)에 소정의 상패턴이 표시되어 실제의 노광이 개시된다. 그리고, 그후는 포커스상태에 관한 미소변동의 보정이 검출회로(38), (38')의 감시하에 항상 행해진다.
또한, 이와 같은 포커스조정은 브라운관(2)의 패널면에 영출되는 2개의 포커스조정용패턴상(34), (34')에 따라 각각 별도로 행해지고, 이로써 자외광조사프로젝터(1)의 수평면에 대한 경사의 조정도 동시에 행해진다.
포커스조정용패턴상(34), (34')로서는 상기 패턴외에 고정된 공간주파수를 가진 패턴 즉 자외선강도의 강약이 일정한 피치가 되도록 패턴상을 사용할 수도 있으나, 이 경우에는 출력신호의 진폭치를 미리 설정된 기준치와 비교하게 되고, 브라운관의 자외선강도의 변화(사용기간 등의 요인에 의한)에 대한 보정을 행할 필요가 있다는 번거로움이 생기지만, 상기와 같이 소정범위내에서 변화하는 공간주파수 패턴상을 사용하면, 어떤 공간주파수를 기준으로 한 상대적인 레스폰스치가 얻어지므로 상기와 같은 보정은 불필요하며, 포커스조정이 용이하다.
또한, 이 실시예에서는 포커스조정을 행하기 위해, 투영렌즈(6)와 노광면(8a) 또는 (19a)와의 사이의 거리 ℓ2 만을 조정하도록 하였으나, 경우에 따라서는 투영렌즈(6)를 브라운관(2) 및 노광면(8a) 또는 (19a)에 대해서 이동시키도록 해도 된다.
이상 기재한 것으로부터 명백한 바와 같이, 본원 발명의 자외광조사프로젝터는 전자총으로부터의 전자빔의 충돌에 의한 여기(勵起)에 의해 450㎚ 이하의 파장을 가진 자외광 빔을 발광하는 형광체가 도포된 형광패널면을 가지는 음극선관과, 상기 음극선관의 형광패널면과 상기 자외광 빔으로 조사(照射)되는 자외광감응재의 노광면 사이에 상기 노광면으로부터 분리되어 배치되고, 대략 1배의 배율을 가지고 상기 자외광 빔이 상기 노광면을 조사하기 전에 상기 자외광을 평행하게 하며 원하는 굴절에 의한 인덱스를 가지는 어레이 렌즈를 구비하는 결상용 광학부재와로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본원 발명의 자외광조사프로젝터에 의하면, 자외광감응노광면을 프로젝터의 광학부재와 항상 비접촉인 상태로 노광할 수 있으므로, 감광재가 상기 광학부재의 면정밀도의 영향을 받거나, 또는 감광재가 광학부재에 부착되어 남는 것 등을 완전히 방지할 수 있으므로, 항상 정밀도 높은 노광을 행할 수 있고, 또한 브라운관에 부과되는 온도조건 등의 제약도 적다.
또한, 본원 발명의 광학적 상형성장치는 전자총으로부터의 전자빔의 충돌에 의한 여기에 의해 450㎚ 이하의 파장을 가진 자외광 빔을 발광하는 형광체가 도포된 형광패널면을 가지는 음극선관과, 상기 음극선관의 형광패널면과 상기 자외광 빔으로 조사되는 자외광감응재의 노광면 사이에 상기 노광면으로부터 분리되어 배치되고, 대략 1배의 배율을 가지고 상기 자외광 빔이 상기 노광면을 조사하기 전에 상기 자외광을 평행하게 하며 원하는 굴절에 의한 인덱스를 가지는 어레이 렌즈를 가지는 결상용 광학부재를 구비한 자외광조사프로젝터와, 원하는 전자회로패턴에 대응한 이미지 데이터를 상기 음극선관에 출력하기 위한 화상처리장치와로 이루어지고, 상기 음극선관으로부터 발광되는 자외광 빔에 의해 자외광응재의 상기 노광면을 노광함으로써, 이 노광면에 원하는 전자회로패턴이 형성되도록 한 것을 특징으로 한다.
따라서, 이와 같은 광학적 상형성장치에 의하면, 자외광감응노광면을 프로젝터의 광학부재와 항상 비접촉인 상태로 노광할 수 있으므로, 감광재가 상기 광학부재의 면정밀도의 영향을 받거나 또는 감광재가 광학부재에 부착되어 남는 것 등을 완전히 방지할 수 있으므로, 항상 정밀도 높은 노광을 행할 수 있으며, 이로써 원하는 전자회로패턴상을 정밀도 높게 또한 저코스트로 형성할 수 있다.
그리고, 본원 발명에 관한 다른 광학적상형성장치는 형광패널면에 전자 여기에 의해 파장 450나노미터 이하의 자외광을 발광하는 형광체가 도포된 브라운관과 이 브라운관의 형광패널면과 자외광감응노광면과의 사이에 이 노광면과 비접촉으로 배치된 결상용 광학부재를 가진 자외광조사프로젝터와, 원하는 입체상을 -의 방향에서 1피치마다 분해한 다수의 분해면에 관한 데이터를 순차 상기 브라운관에 출력하기 위한 화상처리장치와, 하나의 분해면에 대한 노광이 종료할 때마다 감응이 끝난 노광면상에 1피치분의 층두께로 자외광감응재를 공급하는 공급수단을 구비하고, 각 분해면에 대응한 감응이 끝난 노광면이 적층됨으로써 원하는 입체상이 형성되도록 한 것을 특징으로 한다.
따라서, 이와 같은 광학적상형성장치에 의하면 자외광감응노광면을 프로젝터의 광학부재와 항상 비접촉인 상태에서 노광할 수 있으므로, 감광재가 상기 광학부재의 면정밀도의 영향을 받거나, 또는 감광재가 광학부재에 부착해서 남는 것 등을 완전히 방지할 수 있으므로, 항상 정밀도 높은 노광을 행할 수 있으며, 이로써 임의로 설계한 입체상을 정밀도 높게 또한 저코스트로 형성할 수 있다.
그리고, 이들 광학적상형성장치에 있어서 브라운관에 영출되는 포커스 조정용 패턴상을 이용한 포커싱기구를 설치함으로써, 육안으로는 보이지 않는 자외선상에 관한 포커스조정을 간단하고 정밀도 높게 행할 수 있다.

Claims (4)

  1. 전자총으로부터의 전자빔의 충돌에 의한 여기(勵起)에 의해 450㎚ 이하의 파장을 가진 자외광 빔을 발광하는 형광체가 도포된 형광패널면을 가지는 음극선관과, 상기 음극선관의 형광패널면과 상기 자외광 빔으로 조사(照射)되는 자외광감응재의 노광면 사이에 상기 노광면으로부터 분리되어 배치되고, 대략 1배의 배율을 가지고 상기 자외광 빔이 상기 노광면을 조사하기 전에 상기 자외광을 평행하게 하며 원하는 굴절에 의한 인덱스를 가지는 어레이 렌즈를 구비하는 결상용 광학부재와로 이루어지는 것을 특징으로 하는 자외광아조사프로젝터.
  2. 전자총으로부터의 전자빔의 충돌에 의한 여기에 의해 450㎚ 이하의 파장을 가진 자외광 빔을 발광하는 형광체가 도포된 형광패널면을 가지는 음극선관과, 상기 음극선관의 형광패널면과 상기 자외광 빔으로 조사되는 자외광감응재의 노광면 사이에 상기 노광면으로부터 분리되어 배치되고, 대략 1배의 배율을 가지고 상기 자외광 빔이 상기 노광면을 조사하기 전에 상기 자외광을 평행하게 하며 원하는 굴절에 의한 인덱스를 가지는 어레이 렌즈를 가지는 결상용 광학부재를 구비한 자외광조사프로젝터와, 원하는 전자회로패턴에 대응한 이미지 데이터를 상기 음극선관에 출력하기 위한 화상처리장치와로 이루어지고, 상기 음극선관으로부터 발광되는 자외광 빔에 의해 자외광감응재의 상기 노광면을 노광함으로써, 이 노광면에 원하는 전자회로패턴이 형성되도록 한 것을 특징으로 하는 광학적 상형성장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 음극선관에 공간주파수 측정용 패턴신호를 출력하는 테스트신호 출력수단과, 상기 음극선관으로부터 사출(射出)된 공간주파수 측정용 패턴상을 검출하는 광검출기와, 상기 자외광조사프로젝터 또는 상기 결상용 광학부재를 상기 자외광감응재의 노광면과 수직인 방향으로 이동시키는 이동수단과, 상기 광검출기로부터의 출력신호를 받아서 공간주파수특성의 평가를 행하여, 상기 이동수단에 포커스제어신호를 출력하는 포커스제어회로와를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광학적 상형성장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 자외광감응재는 보드에 형성된 도금층상에 도포된 드라이 필름으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학적 상형성장치.
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