JP2624239B2 - 光学的造形方法 - Google Patents
光学的造形方法Info
- Publication number
- JP2624239B2 JP2624239B2 JP61132342A JP13234286A JP2624239B2 JP 2624239 B2 JP2624239 B2 JP 2624239B2 JP 61132342 A JP61132342 A JP 61132342A JP 13234286 A JP13234286 A JP 13234286A JP 2624239 B2 JP2624239 B2 JP 2624239B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cured
- light energy
- photoreactive composition
- acrylate
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光硬化を用いて行う光学的造形方法に関す
る。
る。
従来の技術 従来の光学的造形方法は、半導体部門で用いられるレ
ジスト等のリソグラフィ技術である。しかし半導体のリ
ソグラフィ技術は、マスキングを用いた造形方法であり
造形精度は優れているものの本発明で主にねらいとして
いる立体物の造形法には適していない。又、特開昭60−
247515号に示されている光学的造形方法は、光源又は被
照射物が動作するという点で大型形状の立体物を短時間
で形成するのには適した方法を提示しているとは言えな
い。
ジスト等のリソグラフィ技術である。しかし半導体のリ
ソグラフィ技術は、マスキングを用いた造形方法であり
造形精度は優れているものの本発明で主にねらいとして
いる立体物の造形法には適していない。又、特開昭60−
247515号に示されている光学的造形方法は、光源又は被
照射物が動作するという点で大型形状の立体物を短時間
で形成するのには適した方法を提示しているとは言えな
い。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、連続する多数のマスクを形成可能でしかも
平面状の光源を形成できるために、光源又は被照射物の
機械的動作特にX,Y面（平面）の動作がないために、高
速にしかも高精度に大型の形状の光学的造形が可能なよ
うにしたものである。
平面状の光源を形成できるために、光源又は被照射物の
機械的動作特にX,Y面（平面）の動作がないために、高
速にしかも高精度に大型の形状の光学的造形が可能なよ
うにしたものである。
問題点を解決するための手段 本発明は、光エネルギーを照射して硬化する光反応組
成物を支持体上に形成した後、所定の部分に前記光反応
組成物形成面側から光エネルギーを選択的に照射し硬化
させて、残存硬化形状膜を成形し、次に少くとも残存硬
化形状膜に重なるように新たな光反応組成物を形成し、
所定の部分に新たに形成された光反応組成物形成面側よ
り光エネルギーを照射し、硬化させる工程を順次くり返
しながら所定の立体形状に残存硬化形状膜を積層成形す
るとともに、前記光エネルギーを選択的に照射する方法
が、平面の各点を選択的に光らせるブラウン管または光
源と前記光反応組成物との間に形成されたスイッチング
可能な液晶としたことを特徴とする。
成物を支持体上に形成した後、所定の部分に前記光反応
組成物形成面側から光エネルギーを選択的に照射し硬化
させて、残存硬化形状膜を成形し、次に少くとも残存硬
化形状膜に重なるように新たな光反応組成物を形成し、
所定の部分に新たに形成された光反応組成物形成面側よ
り光エネルギーを照射し、硬化させる工程を順次くり返
しながら所定の立体形状に残存硬化形状膜を積層成形す
るとともに、前記光エネルギーを選択的に照射する方法
が、平面の各点を選択的に光らせるブラウン管または光
源と前記光反応組成物との間に形成されたスイッチング
可能な液晶としたことを特徴とする。
そして光エネルギーを選択的に照射する方法が平面の
各点を選択的に光らせるブラウン管であるか，或いは光
エネルギーを選択的に照射する方法が、光源と薄膜との
間に形成されたスイッチング可能な液晶であることが好
ましい。尚、光源は、選択的に形状表示可能な面状体で
あれば良い。
各点を選択的に光らせるブラウン管であるか，或いは光
エネルギーを選択的に照射する方法が、光源と薄膜との
間に形成されたスイッチング可能な液晶であることが好
ましい。尚、光源は、選択的に形状表示可能な面状体で
あれば良い。
前記光エネルギーを照射して硬化する流動物質として
は、一般に用いられているネガ型のレジスト及びこれら
のレジストを主成分とした配合材料であれば良い。特に
硬化物の強度や耐熱性が必要な場合には、光照射により
硬化する種々の物質を用いることができ、例えば、変性
ポリウレタン（メタ）アクリレート，オリゴエステル
（メタ）アクリレート，ウレタン（メタ）アクリレー
ト，エポキシ（メタ）アクリレート，感光性ポリイミ
ド，アミノアルキドなどを挙げることができる。さらに
詳しくは、樹脂の耐熱性，透明性が必要なものには、多
官能アクリレート化合物も用いられ、上記多官能性アク
リレート化合物としては下記一般式（Ｉ） 〔式中、R1は炭素数２〜50のアルコール残基であり、R2
はＨまたはCH3であり、ｎは２〜６の数である。〕 で表わされる化合物で、これをラジカル重合して得られ
る硬化物のガラス転移温度が110℃以上を有する化合物
が使用される。
は、一般に用いられているネガ型のレジスト及びこれら
のレジストを主成分とした配合材料であれば良い。特に
硬化物の強度や耐熱性が必要な場合には、光照射により
硬化する種々の物質を用いることができ、例えば、変性
ポリウレタン（メタ）アクリレート，オリゴエステル
（メタ）アクリレート，ウレタン（メタ）アクリレー
ト，エポキシ（メタ）アクリレート，感光性ポリイミ
ド，アミノアルキドなどを挙げることができる。さらに
詳しくは、樹脂の耐熱性，透明性が必要なものには、多
官能アクリレート化合物も用いられ、上記多官能性アク
リレート化合物としては下記一般式（Ｉ） 〔式中、R1は炭素数２〜50のアルコール残基であり、R2
はＨまたはCH3であり、ｎは２〜６の数である。〕 で表わされる化合物で、これをラジカル重合して得られ
る硬化物のガラス転移温度が110℃以上を有する化合物
が使用される。
かかる多官能性アクリレート化合物の具体例として
は、2,2′−ビス〔４−（β−メタクハイルオキシ）シ
クロヘキシル〕プロパン、2,2′−ビス〔４−（β−メ
タクロイルオキシジエトキシ）シクロヘキシル〕プロパ
ン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.02,5〕デ
カンジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイルオキ
シメチル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、1,3−ブタンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、2,2′−ビス〔４−（メタアクロイルジエトキ
シ）フエニルプロパン等メタクリル酸エステル及びアク
リル酸エステル化合物単独及びそれらの混合物等があげ
られるが光学的性質上、特に好ましくは2,2′−ビス
〔４−（β−メタクロイルオキシエトキシ）シクロヘキ
シル〕プロパン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.
2.1.02,5〕デカンジメタクリレート、1,4−ビス（メタ
クロイルオキシメチル）シクロヘキサンが利用できる。
ここで（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタク
リレートの両者を総称して示す。
は、2,2′−ビス〔４−（β−メタクハイルオキシ）シ
クロヘキシル〕プロパン、2,2′−ビス〔４−（β−メ
タクロイルオキシジエトキシ）シクロヘキシル〕プロパ
ン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.2.1.02,5〕デ
カンジメタクリレート、1,4−ビス（メタクロイルオキ
シメチル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、1,3−ブタンジオールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、2,2′−ビス〔４−（メタアクロイルジエトキ
シ）フエニルプロパン等メタクリル酸エステル及びアク
リル酸エステル化合物単独及びそれらの混合物等があげ
られるが光学的性質上、特に好ましくは2,2′−ビス
〔４−（β−メタクロイルオキシエトキシ）シクロヘキ
シル〕プロパン、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔5.
2.1.02,5〕デカンジメタクリレート、1,4−ビス（メタ
クロイルオキシメチル）シクロヘキサンが利用できる。
ここで（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタク
リレートの両者を総称して示す。
更に、上記の如き一般式（Ｉ）化合物に加えて、一般
的に粘度調整剤として用いられるラジカル重合性モノマ
ーを10重量％以下の範囲で使用することが可能である。
かかる他の重合性モノマーとしては、例えばスチレン、
クロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニルトルエン、
ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル
化合物、メチルメタアクリレート、フエニル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フエ
ノキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）
アクリレート等の（メタ）アクリル化合物、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート、ジアリルフタレー
ト等アリル化合物が挙げられる。
的に粘度調整剤として用いられるラジカル重合性モノマ
ーを10重量％以下の範囲で使用することが可能である。
かかる他の重合性モノマーとしては、例えばスチレン、
クロルスチレン、ジクロルスチレン、ビニルトルエン、
ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル
化合物、メチルメタアクリレート、フエニル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フエ
ノキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）
アクリレート等の（メタ）アクリル化合物、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート、ジアリルフタレー
ト等アリル化合物が挙げられる。
これらのモノマーの重合の際に使用されるラジカル開
始剤は特に限定されず、例えば過酸化ベンゾイル、ジイ
ソプロピルパーオキシカーボネート、ラウロイルパーオ
キサイド、ターシャリーブチルパーオキシピパレート等
の過酸化物、アゾイソブチロニトリル等アゾ化合物、ベ
ンゾフエノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジル、
アセトフエノン、アントラキノン等光増感剤、ジフエニ
ルスフイット、チオカーバーメート等硫黄化合物など公
知のラジカル開始剤である。
始剤は特に限定されず、例えば過酸化ベンゾイル、ジイ
ソプロピルパーオキシカーボネート、ラウロイルパーオ
キサイド、ターシャリーブチルパーオキシピパレート等
の過酸化物、アゾイソブチロニトリル等アゾ化合物、ベ
ンゾフエノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジル、
アセトフエノン、アントラキノン等光増感剤、ジフエニ
ルスフイット、チオカーバーメート等硫黄化合物など公
知のラジカル開始剤である。
又、上記ラジカル重合条件は、一般的なラジカル重合
条件（加熱、光照射、電子線照射等）で行なうことが可
能である。ラジカル開始剤の添加量は多官能性アクリレ
ート化合物100重量部に対し、0.01〜10重量部であり、
重合温度は10〜200℃で、好ましくは30〜150℃である。
そしてそれらの重合雰囲気は、空気中もしくは不活性ガ
ス中で行なうことができる。
条件（加熱、光照射、電子線照射等）で行なうことが可
能である。ラジカル開始剤の添加量は多官能性アクリレ
ート化合物100重量部に対し、0.01〜10重量部であり、
重合温度は10〜200℃で、好ましくは30〜150℃である。
そしてそれらの重合雰囲気は、空気中もしくは不活性ガ
ス中で行なうことができる。
作用 以上の様に薄膜の膜厚により硬化深さは決められるた
め、照射時間と硬化時間（又は分解時間）及び硬化領域
の限定が可能である。又、ブラウン管，液晶スイッチな
どを用いた光源は、平面状の光源を持つことが可能であ
り、電気的な動作又は制御のみで所定の形に光を与える
ことが可能で、機械的動作のない静的な面状硬化又は分
解可能であり、高速に所望の形状の残存硬化形状膜を得
ることができる。そして前記残存硬化形状膜を積層成形
して、所定の立体形状の立体物を得ることができる。
め、照射時間と硬化時間（又は分解時間）及び硬化領域
の限定が可能である。又、ブラウン管，液晶スイッチな
どを用いた光源は、平面状の光源を持つことが可能であ
り、電気的な動作又は制御のみで所定の形に光を与える
ことが可能で、機械的動作のない静的な面状硬化又は分
解可能であり、高速に所望の形状の残存硬化形状膜を得
ることができる。そして前記残存硬化形状膜を積層成形
して、所定の立体形状の立体物を得ることができる。
実 施 例 第１図に本発明の実施例を示した。紫外螢光が最も高
いブラウン管１に石英ガラスファイバーでブラウン管画
面上にライトガイド２を設けその他端上面を平面に加工
しその面にフッ化マグネシウム（MgF2）と酸化ケイ素
（SiO2）膜を形成させ表面の離型剤を向上させた。その
上の容器３中に、光エネルギー照射で硬化又は分解する
流動物質を加液装置６より供給し薄膜５を形成する。そ
の後、硬化させる形状を画像処理装置12からブラウン管
に５分程度表示し、同時に紫外螢光を照射し所定の硬化
が完了後、引上げ棒４を残存硬化形状膜厚分だけ上昇19
し第２残存硬化形状膜９、第３残存硬化形状膜10、第４
残存形状膜11と引き上げ、液を注液し、第５薄膜５を所
定の部分にブラウン管が表示され、第５残存形状膜７が
形成されている状態を第１図は示している。以下実施例
では、ネガ型の光学的造形法を示す。実施例に用いた材
料は、ウレタンアクリレート（コピマーUV120P油化ファ
イン（株）製）10wt％、ネオペンチルグリコールジアク
リレート45wt％、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート50wt％、光増感剤イルガキニア185（チバガイギー
社製）2wt％、熱開始剤ベンゾインパーオキサイド3wt％
の配合組成物である。
いブラウン管１に石英ガラスファイバーでブラウン管画
面上にライトガイド２を設けその他端上面を平面に加工
しその面にフッ化マグネシウム（MgF2）と酸化ケイ素
（SiO2）膜を形成させ表面の離型剤を向上させた。その
上の容器３中に、光エネルギー照射で硬化又は分解する
流動物質を加液装置６より供給し薄膜５を形成する。そ
の後、硬化させる形状を画像処理装置12からブラウン管
に５分程度表示し、同時に紫外螢光を照射し所定の硬化
が完了後、引上げ棒４を残存硬化形状膜厚分だけ上昇19
し第２残存硬化形状膜９、第３残存硬化形状膜10、第４
残存形状膜11と引き上げ、液を注液し、第５薄膜５を所
定の部分にブラウン管が表示され、第５残存形状膜７が
形成されている状態を第１図は示している。以下実施例
では、ネガ型の光学的造形法を示す。実施例に用いた材
料は、ウレタンアクリレート（コピマーUV120P油化ファ
イン（株）製）10wt％、ネオペンチルグリコールジアク
リレート45wt％、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート50wt％、光増感剤イルガキニア185（チバガイギー
社製）2wt％、熱開始剤ベンゾインパーオキサイド3wt％
の配合組成物である。
注液，硬化，引上げをくり返して、第６層12,第７層1
3,第８層14,第９層15,第10層16,第11層17,第12層18と第
２図の平面図（ａ）と正面図（ｂ）に示した様な立体造
形物を約１時間程度で得ることができた。さらになめら
かな曲面を得るためには、スピン塗布やタンポ印刷な
ど、薄膜形成法に工夫が必要である。
3,第８層14,第９層15,第10層16,第11層17,第12層18と第
２図の平面図（ａ）と正面図（ｂ）に示した様な立体造
形物を約１時間程度で得ることができた。さらになめら
かな曲面を得るためには、スピン塗布やタンポ印刷な
ど、薄膜形成法に工夫が必要である。
第３図には、第２の実施例を示した。紫外線（以下UV
と略）ランプ20と液晶スイッチパネル24とランプとパネ
ルの間は石英ガラスとで構成される冷却板21からなり、
冷却水は、循環入口22から入り出口23に出る間に冷却す
る。液晶スイッチパネル24のUVランプ20と反対側の面
は、フッ化マグネシウムスパッタ膜で離型処理されてい
る。液晶スイッチパネル24は、画像スイッチング装置31
とケーブル32によってUVのスイッチング可能となってい
る。注液ディスペンサ装置26によって所定の薄膜形成用
液を補給し、順次硬化させ立体造形物28が引上げ棒27下
部に積層形成されている状態を第３図に示した。UVラン
プ20は常に照射されており、液晶スイッチパネル24によ
り、所定の水平画面上で、UVは、照射される部分29とシ
ャ断される部分25に区別されている。この方法では、硬
化反応は、下部のUVランプ20の照度によって変えること
ができ、超高圧水銀灯を用いた場合には約10秒程度で、
引上げ可能なゲル状又は硬化状態にすることができた。
約２分で、第２図程度の立体物は造形可能であり、10分
程度約５倍かければ、かなりなめらかな造形物が得るこ
とができた。逆に、液晶スイッチパネルの微細加工化が
課題である。
と略）ランプ20と液晶スイッチパネル24とランプとパネ
ルの間は石英ガラスとで構成される冷却板21からなり、
冷却水は、循環入口22から入り出口23に出る間に冷却す
る。液晶スイッチパネル24のUVランプ20と反対側の面
は、フッ化マグネシウムスパッタ膜で離型処理されてい
る。液晶スイッチパネル24は、画像スイッチング装置31
とケーブル32によってUVのスイッチング可能となってい
る。注液ディスペンサ装置26によって所定の薄膜形成用
液を補給し、順次硬化させ立体造形物28が引上げ棒27下
部に積層形成されている状態を第３図に示した。UVラン
プ20は常に照射されており、液晶スイッチパネル24によ
り、所定の水平画面上で、UVは、照射される部分29とシ
ャ断される部分25に区別されている。この方法では、硬
化反応は、下部のUVランプ20の照度によって変えること
ができ、超高圧水銀灯を用いた場合には約10秒程度で、
引上げ可能なゲル状又は硬化状態にすることができた。
約２分で、第２図程度の立体物は造形可能であり、10分
程度約５倍かければ、かなりなめらかな造形物が得るこ
とができた。逆に、液晶スイッチパネルの微細加工化が
課題である。
発明の効果 以上のように、本発明は、光硬化させて残存硬化形状
膜を造形し、それを順次積層して立体物を成形する方法
であり、光源又は液面が動作しないため、安定であり、
しかも光エネルギーの照射の制御を高速で行うことがで
きるので、立体物を素早く得ることができるなど、工業
的価値は大なるものがある。
膜を造形し、それを順次積層して立体物を成形する方法
であり、光源又は液面が動作しないため、安定であり、
しかも光エネルギーの照射の制御を高速で行うことがで
きるので、立体物を素早く得ることができるなど、工業
的価値は大なるものがある。
第１図は本発明の一実施例であるブラウン管を用いた造
形方法の概略説明図、第２図は本発明で得られた立体造
形物を示し、（ａ）はその平面図，（ｂ）はその正面
図、第３図は本発明の他の実施例である液晶スイッチパ
ネルを用いた造形方法を示す概略説明図である。 １……ブラウン管、２……ライトガイド、４……引上げ
棒、５……薄膜、６……加液装置、12……画像処理装
置、20……UVランプ、24……液晶スイッチパネル、27…
…引上げ棒、26……注液ディスペンサ装置、31……画像
スイッチング装置。
形方法の概略説明図、第２図は本発明で得られた立体造
形物を示し、（ａ）はその平面図，（ｂ）はその正面
図、第３図は本発明の他の実施例である液晶スイッチパ
ネルを用いた造形方法を示す概略説明図である。 １……ブラウン管、２……ライトガイド、４……引上げ
棒、５……薄膜、６……加液装置、12……画像処理装
置、20……UVランプ、24……液晶スイッチパネル、27…
…引上げ棒、26……注液ディスペンサ装置、31……画像
スイッチング装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−127978（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−116320（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−116321（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−114817（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−114818（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】光エネルギーを照射して硬化する光反応組
成物を支持体上に形成した後、所定の部分に前記光反応
組成物形成面側から光エネルギーを選択的に照射し硬化
させて、残存硬化形状膜を成形し、次に少なくとも残存
硬化形状膜に重なるように新たな光反応組成物を形成
し、所定の部分に新たに形成された光反応組成物形成面
側より光エネルギーを照射し、硬化させる工程を順次く
り返しながら所定の立体形状に残存硬化形状膜を積層成
形するとともに、前記光エネルギーを選択的に照射する
方法が、平面の各点を選択的に光らせるブラウン管また
は光源と前記光反応組成物との間に形成されたスイッチ
ング可能な液晶である光学的造形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61132342A JP2624239B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 光学的造形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61132342A JP2624239B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 光学的造形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62288844A JPS62288844A (ja) | 1987-12-15 |
| JP2624239B2 true JP2624239B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=15079095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61132342A Expired - Lifetime JP2624239B2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 光学的造形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2624239B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210057212A (ko) * | 2013-11-14 | 2021-05-20 | 스트럭토 피티이. 리미티드. | 적층 제조 장치 및 방법 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2590215B2 (ja) * | 1988-07-15 | 1997-03-12 | 旭電化工業株式会社 | 光学的造形用樹脂組成物 |
| JPH0231726U (ja) * | 1988-08-24 | 1990-02-28 | ||
| JP2775844B2 (ja) * | 1989-05-01 | 1998-07-16 | ソニー株式会社 | 紫外光照射プロジェクターを用いた光学的像形成装置 |
| JP3792168B2 (ja) | 2002-03-12 | 2006-07-05 | ナブテスコ株式会社 | 光学的立体造形方法および装置 |
| SG11201809614VA (en) * | 2016-05-31 | 2018-11-29 | Univ Northwestern | Method for the fabrication of three-dimensional objects and apparatus for same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54127978A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-04 | Teijin Ltd | Method for reinforcing photo-cured resin product |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP61132342A patent/JP2624239B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210057212A (ko) * | 2013-11-14 | 2021-05-20 | 스트럭토 피티이. 리미티드. | 적층 제조 장치 및 방법 |
| KR102348270B1 (ko) | 2013-11-14 | 2022-01-10 | 스트럭토 피티이. 리미티드. | 적층 제조 장치 및 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62288844A (ja) | 1987-12-15 |
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