KR890008588A - 집적 광학 소자의 제조방법 - Google Patents

집적 광학 소자의 제조방법 Download PDF

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    • G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device

Abstract

내용 없음

Description

집적 광학 소자의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 상기 발명의 제조시 사용되는 유리 블럭의 평면도.
제2도는 제1도의 2-2선에 따른 단면도.
제3,4 도와 6-12도는 여러 제조단계중 제1도의 블럭을 나타낸 개략도.

Claims (14)

  1. 광섬유가 상기 광학소자의 도파관과 일렬을 이루도록 설치된 적어도 하나의 홈을 갖는 집적 광학소자의 제조방법으로서, 적어도 하나의 평펴면(planar surface)과 상기 평표면에 대하여 옆면으로 위치하는 적어도 하나의 평평한 표면(flat surface)을 포함하는 유리 블럭을 제조하는 단계 ; 차단물질층을 상기 평표면에 적층시키고 차단물질층을 상기 평평한 표면에 적층시키는 단계 ; 상기 평평한 표면을 덮고 있는 상기 차단물 질층내에 상기 광학소자 홈에 부합하는 디자인의 최소 형성된 개구를 사진 석판술로 형성하는 단계 ; 상기 평표면을 덮고 있는 상기 차단물질 층내에 상기 광학소자 홈에 부합하는 디자인의 두번째 형성된 개구를 상기 최초 형성된 객와 일렬을 이루어 사진석판술로 형성시키는 단계 ; 상기 두번째 형성된 개구를 통하여 도파관 패스를 형성시키는 단계 ; 상기 최초 형성된 개구를 통하여 노출된 상기 평평한 표면에 화학 침식을 가하여, 그 내부에 상기 광학 패스와 정확히 일렬을 이루는 광섬유 설치 홈을 형성시키는 단계 및 상기 차단물질의 잔류부분을 제거하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 집적광학소자의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 평평한 표면에 화학 침식을 가하는 단계가 광학 도파관 패스를 형성시키는 단계전에 행하여지며, 상기 방법이 상기 평평한 표면에 화학 침식을 가하기전 상기 평표면을 덮고 있는 상기 차단물질의 부분에 화학 저항물질을 가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 광학 도파관 패스를 형성하는 단계가 상기 평평한 표면에 화학침식을 가하는 단계전에 행하여지며, 상기 방법이 상기 평표면에 화학 침식을 가하기전 화학 저항물질층을 상기 평표면을 덮고 있는 차단물질에 가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 유리 블럭을 제조하는 단계가 상기 평평한 표면이 상기 평표면에 대하여 상기 표면이 다른 평면에 있는 것과 같이 우묵 들어가도록 블럭을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 두번째 형성된 개구를 통하여 광학 도파관 패스를 형성하는 단계가 차단층이 없는 상기 평표면에 이온교환 방법을 가하여 그 내부에 광학 채널을 형성시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 평표면내에 형성된 상기 채널을 상기 평표면 아래 묻는 추가 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 두번째 형성된 개구를 통하여 광학 도파관 패스를 형성하는 단계가 차단물질이 없는 상기 평표면의 부분위에 광학 도파관 패스를 형성시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서, 광학 도파관 패스를 형성하는 단계가 차단층이 없는 상기 평표면의 상기 부분위에 rf증착, 증발 화학증기 적층과 화염 가수분해로 이루어진 그룹에서 선택된 방법에 의해 유리층을 적층시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 차단물질층내에 상기 최초의 두번째 형성된 개구를 사진 석판술로 형성하는 단계가 단순 노출 단계 갖는 과정에 의해 행하여지는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 차단물질층내에 상기 최초의 두번째 형성된 개구를 사진 석판술로 형성하는 단계가 감광 저항층을 상기 차단층위에 가하는 단계 ; 상기 광학 소자의 홈과 도파관에 부합하는 디자인의 단순 포토매스크를 통하여 상기 감광층을 적당한 방사원에 노출시키는 단계 ; 노출된 감광층을 현상하는 단계 ; 저항물질의 적당한 부분을 제거하여, 상기 저항물질내에 상기 도파관과 홈의 위치에 부합하는 개구를 형성하는 단계 ; 상기 개구를 통하여 노출된 차단층의 부분을 제거하는단계 및 잔류 저항물질을 제거하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  11. 광섬유가 상기 광학 소자의 도파관의 일렬을 이루도록 설치된 적어도 하나의 홈을 갖는 집적 광학 소자의 제조방법으로서, 상기 방법이 적어도 하나의 평표면과 상기 평표면에 대하여 우묵 들어간 적어도 하나의 평평한 표면을 포함하는 유리 블럭을 제조하는 단계 ; 상기 평표면과 상기 평평한 표면위에 차단물질층을 적층시키는 단계 ; 차단물질층에 감광 저항물질을 가하는 단계 ; 상기 광학 소자내에 제조된 홈과 도파관에 부합하는 디자인의 포토메스크를 통하여 상기 감광층을 적당한 방사원에 노출시키는 단계 ; 노출된 감광층을 형성하고 저항물질 부분을 제거하여 상기 도파관과 홈을 부함하는 개구를 형성하는 단계 ; 상기 저항층내의 개구를 통하여 노출된 상기 차단층의 부분을 제거하는 단계 ; 잔류 저항물질을 제거하는 단계 ; 상기 평표면위에 차단물질에 화학 저항물질층을 가하는 단계 ; 상기 차단물질층내의 개구를 통하여 노출된 상기 평평한 표면의 부분에 화학 침식을 가하여 그 내부에 광섬유가 설치되는 홈을 형성하는 단계 ; 상기 화학 저항물질을 제거하는 단계 ; 차단물질이 없는 상기 평표면의 존에 이온교환 방법을 가하여 그 내부에 광학 채널을 형성시키는 단계 및 상기 차단물질의 잔류 부분을 제거하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 평표면내에 형성된 상기 채널을 상기 평표면 아래 묻는 추가 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 차단층이 실리콘 나이트라이드로 형성되는 것을 특징으로 하는 집적 광학 소자의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 광섬유와 상기 광학 패스의 끝에 인접한 이 광섬의 끝면을 상기 홈내에 설치하고, 상기 광섬유 상기 광학소자내에 보호하는 것을 특징으로 하는 광학 집적 소자의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880015650A 1987-11-26 1988-11-26 집적 광학 소자의 제조 방법 KR970006200B1 (ko)

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