KR950012571A - 위상천이 마스크와 그 제조방법 및 그러한 위상천이 마스크를 사용한 노광 방법 - Google Patents

위상천이 마스크와 그 제조방법 및 그러한 위상천이 마스크를 사용한 노광 방법 Download PDF

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Abstract

석영기판(1)은 노광을 투과하는 제1광투과부(1a)와 제2광투과부(2a)를 포함한다.
제1,2광투과부(1a,1b)는 각각의 광투과부를 투과하는 빛의 위상이 서로 180도 차이가 나게 형성된다.
반차광막(3)은 제1,2광투과부(1a,1b)의 사이에 위치하며, 제 1 , 2 광 투과 부(1a,1b)의 한 부분에 형성된다. 또한, 반차광막(3)은 3%에서 30%사이의 투과율을 갖는다.

Description

위상천이 마스크와 그 제조방법 및 그러한 위상천이 마스크를 사용한 노광방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 대한 위상천이 마스크의 구조를 도식적으로 보여주는 단면도이다.

Claims (17)

  1. 제1광투과부(1a;201a;301a;401a)와 제1광투과부와 인접하며 제1광투과부를 통하여 투과된 노광과 다른 위상을 가진 노광을 투과하는 제2광투과부(1b;201b;301b;401b)로 구성되는 기판(1;201;301;401)과, 제1,2광투과부 사이의 계면에 위치하며 제1,2광투과부안에 위치하는 반차광막(3;204;303;403)으로 구성되며, 제1광투과부는 제1투과영역(1L;201L)과 반차광막이 형성되는 제1감쇠투과영역(1N;201N1)을 포함하며, 제1투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제1감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크고, 제2광투과부는 제2투과영역(1M;201M)과 반차광막이 형성되는 제2감쇠투과영역(1N2;201N2)을 포함하며, 제2투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제2감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크며, 반차광막은 3%에서 30%사이의 투과율을 갖는 위상천이 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 기판(301;401)은 제1광투과부(301a;401a)와 제2광투과부(301b;401b)의 표면에 의하여 형성되는 소정의 단차를 갖으며, 반차광막은 기판의 단차부분(303;403)을 덮으며, 기판의 단차부분의 벽면은 본질적으로 단차의 높이와 같은 곡률반경을 갖는 위상천이 마스크.
  3. 제2항에 있어서, 기판(401)은 제1막(413)과 제1막위에 형성되며 제1막과 다른 식각특성을 갖는 물질로 제조되는 제2막(415)으로 구성되며, 제1광투과부(401a)의 표면은 제2막의 표면에 의하여 형성되고, 제2광투과부(401b)의 표면은 제1막의 표면에 의하여 형성되는 위상천이 마스크.
  4. 제1항에 있어서, 반차광막(3;203;303;403)이 반차광막을 통하여 투과하기 전의 빛의 위상과 반차광막을 통과한 후의 빛의 위상을 본질적으로 같게 형성되는 위상천이 마스크.
  5. 제1항에 있어서, 반차광막(3;203;303;403)은 크롬으로 제조되며, 반차광막의 두께는 100Å에서 300Å 사이인 위상천이 마스크.
  6. 노광을 투과하는 제1광투과부(301a;401a)와 제1광투과부를 투과한 노광의 위상과 다른 위상을 가지는 빛을 투과하는 제2광투과부(301b;401b) 및 제1,2광투과부의 표면이 소정의 높이를 갖는 단차를 형성하는 기판(301;401)과, 기판의 단차부분을 덮으며 제1,2광투과부의 소정의 영역을 노출하는 반차광막(303;403)과, 본질적으로 단차의 높이와 같은 곡률반경을 갖는 곡률반경을 갖는 모양을 갖는 단차부분으로 구성되는 위상천이 마스크.
  7. 제6항에 있어서, 기판(401)은 제1막(413)과 제1막위에 형성되며 제1막과 다른 식각특성을 갖는 물질로 제조되는 제2막(415)으로 구성되며, 제1광투과부(401a)의 표면은 제2막의 표면에 의하여 형성되고, 제2광투과부의 표면(401b)은 제1막의 표면에 의하여 형성되는 위상천이 마스크.
  8. 제6항에 있어서, 반차광막(203;303)은 크롬으로 제조되며, 반차광막의 두께는 본질적으로 1000Å인 위상천이 마스크.
  9. 광원(111)으로부터 노광이 방출되어 위상천이 마스크(20;220;320;420)까지 전달된 후, 제1광투과부(1a;201a;301a;401a)와, 제1광투과부와 인접하며 제1광투과부를 통하여 투과된 노광과 다른 위상을 가진 노광을 투과하는 제2광투과부(1b;201b;301b;401b)로 구성되는 기판(1;201;301;401)과, 제1,2광투과부 사이의 계면에 위치하며 제1,2광투과부안의 한 부분에 위치하는 반차광막(3;203;303;403)으로 구성되며, 제1광투과부는 제1투과영역(1L;201L)과 반차광막이 형성되는 제1감쇠투과영역(1N1;201N1)을 포함하며 제1투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제1감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크고, 제2광투과부는 제2투과영역(1M;201M)과 반차광막이 형성되는 제2감쇠투과영역(1N2;201N2)을 포함하며 제2투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제2감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크며, 반차광막은 3%에서 30%사이의 투과율을 갖는 위상천이 마스크를 통하여 감광이 된 후에는 식각되는 감광제(121a)라고 하는 막위에 조사되는 단계로 구성되는 노광방법.
  10. 광원(111)로부터 노광이 방출되어 위상천이 마스크(320;420)까지 전달된 후, 노광을 투과하는 제1광투과부(301a;401a)와, 제1광투과부를 투과한 노광의 위상과 다른 위상을 가지는 빛을 투과하는 제2광투과부(301b;401b) 및 제1,2광투과부의 표면이 소정의 높이를 갖는 단차를 형성하는 기판과, 기판의 단차부분을 덮으며 제1,2광투과부의 소정의 영역을 노출하는 반차광막(303;403)과, 본질적으로 단차의 높이와 같은 곡률반경을 갖는 곡률반경을 갖는 모양을 갖는 단차부분으로 구성되는 위상천이 마스크를 통하여 감광이 된 후에는 식각되는 감광제(121a)라고 하는 막위에 조사되는 단계로 구성되는 노광방법.
  11. 제1광투과부(1a;201a;301a;401a)와 제1광투과부와 인접하며 제1광투과부를 통하여 투과된 노광과 다른 위상을 가진 노광을 투과하는 제2광투과부(1b;201b;301;401)로 구성되는 기판(1;201;301;401)을 형성하고, 제1광투과부는 제1투과영역(1L;201L)과 반차광막(3;203;303;403)이 형성되는 제1감쇠투과영역(1N1;201N1)을 포함하며 제1투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제1감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크고, 제2광투과부는 제2투과영역(1M;201M)과 반차광막이 형성되는 제2감쇠투과영역(1N2;201N2)을 포함하며 제2투과영역을 투과하는 노광의 광강도는 제2감쇠투과영역을 투과하는 노광의 광강도보다 크며, 3%에서 30%사이의 투과율을 갖고 제1,2광투과부 사이의 계면에 위치하며 제1,2광투과부안에 위치하는 반차광막을 형성하는 단계로 구성되는 위상천이 마스크의 제조방법.
  12. 기판(301,401)의 표면에 노광을 투과하는 소정의 모양을 갖는 마스크(305;405)를 형성하고, 기판위에 제1광투과부(301a;401a)와 제1광투과부와 인접하며 제1광투과부를 통하여 투과된 노광과 다른 위상을 가진 노광을 투과하는 제2광투과부(301b;401b)를 마스크를 이용하여 기판표면을 등방성 식각하여 형성하고, 식각된 표면위에 제1광투과부의 소정의 영역과 제2광투과부의 소정의 영역을 노광하기 위하여 노출을 차단하는 광차단막(303;403)을 형성하는 단계로 구성되는 위상천이 마스크의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 300Å에서 1000Å사이의 두께를 갖기 위해서 주입된 불순물을 함유하는 비정질실리콘을 형성하는 단계를 포함하는 마스크(305;405)형성단계가 있는 위상천이 마스크의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 기판(401)은 제1막(413)과 제1막위에 형성되며 제1막과 다른 식각특성을 갖는 물질로 제조되는 제2막(415)으로 구성되며, 기판의 표면을 등방성 식각하는 단계가 제1막의 표면이 노출될 때까지 제2막의 소정의 영역이 제거되는 단계를 포함하는 위상천이 마스크의 제조방법.
  15. 제14항에 있어서, 제1막(413)의 물질이 SnO나 A1203을 포함하고, 제1막의 두께가 100Å에서 1000Å 사이의 두께를 갖는 위상천이 마스크의 제조방법.
  16. 제14항에 있어서, 제2막(415)의 물질이 실리콘 산화막을 포함하고, 제2막의 두께가 4000Å을 넘지 않는 위상천이 마스크의 제조방법.
  17. 제14항에 있어서, 기판(401)이 제3막(411)을 포함하며, 제3막의 물질은 석영을 포함하는 위상천이 마스크의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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