JP2005070650A - レジストパターン形成方法 - Google Patents
レジストパターン形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005070650A JP2005070650A JP2003303170A JP2003303170A JP2005070650A JP 2005070650 A JP2005070650 A JP 2005070650A JP 2003303170 A JP2003303170 A JP 2003303170A JP 2003303170 A JP2003303170 A JP 2003303170A JP 2005070650 A JP2005070650 A JP 2005070650A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- pattern
- layer
- resist pattern
- resist layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0017—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor for the production of embossing, cutting or similar devices; for the production of casting means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 レジスト層を塗布する下地材料をアモルファス構造を有するものとし、露光用電子線を照射して潜像を形成した後に現像して当該レジスト層に所定の凹凸パターンを形成する。
【選択図】 なし
Description
上記実施例1に対し、基材10を単結晶Si基板とし、その他は実施例1と同様にして、レジストパターンの形成を行った。これにより、レジストパターンRp1が形成され、その凸部の幅が74nm程度で高さが130nm程度に形成された。形成されたレジストパターンのラインエッジラフネスの測定を実施例1と同様に行った。測定結果を表1に示す。
上記実施例3に対し、基材10を多結晶カーボン基板とし、その他は実施例3と同様にして、レジストパターンの形成を行った。これにより、レジストパターンRp1が形成され、その凸部の幅が74nm程度で高さが130nm程度に形成された。形成されたレジストパターンのラインエッジラフネスの測定を実施例1と同様に行った。測定結果を表1に示す。
11…レジスト層
12、12‘…スタンパー原盤
13…導電膜
14…金属膜
15…スタンパー
20…試料
21…ガラス基板
22…磁性薄膜層
23…第1のマスク層
24…第2のマスク層
25…レジスト層
EB…電子線
Ri1、Ri2…潜像
Rp1、Rp2…レジストパターン
Claims (5)
- アモルファス構造を有する支持基材の上にレジスト層を形成し、露光用電子線を照射して潜像を形成した後に現像して当該レジスト層に所定の凹凸パターンを形成するレジストパターン形成方法。
- 支持基材の上にアモルファス構造を有する下地材料とレジスト層とをこの順に形成し、露光用電子線を照射して潜像を形成した後に現像して当該レジスト層に所定の凹凸パターンを形成するレジストパターン形成方法。
- 請求項1または2に記載のレジストパターン形成方法によりレジストパターンを形成する工程を含むことを特徴とするスタンパー作製用原盤の製造方法。
- 被加工体の上に形成されて該被加工体を所定のパターンに加工するためのアモルファス構造を有することを特徴とするマスク。
- 請求項4に記載のマスクの上にレジスト層を形成し、露光用電子線を照射して潜像を形成した後に現像して形成されたレジストパターンを転写して前記マスクに所定の凹凸パターンを形成するマスクパターン形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003303170A JP2005070650A (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | レジストパターン形成方法 |
US10/925,038 US20050079448A1 (en) | 2003-08-27 | 2004-08-25 | Method for forming resist pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003303170A JP2005070650A (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | レジストパターン形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005070650A true JP2005070650A (ja) | 2005-03-17 |
Family
ID=34407247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003303170A Withdrawn JP2005070650A (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | レジストパターン形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050079448A1 (ja) |
JP (1) | JP2005070650A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006268934A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Tdk Corp | スタンパーの製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
JP2007210191A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Toppan Printing Co Ltd | モールドの欠陥修正方法及びモールド |
JP2008230083A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Japan Steel Works Ltd:The | スタンパーの製造方法 |
JP2008290284A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Nano Craft Technologies Co | 微細加工技術 |
JP2009509331A (ja) * | 2005-09-15 | 2009-03-05 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ナノ成形法 |
JP2010140569A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8002997B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
US8012361B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-09-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8029682B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8057689B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-11-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8980451B2 (en) | 2010-09-17 | 2015-03-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4775444B2 (ja) * | 2007-01-09 | 2011-09-21 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法 |
JP2009182075A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Canon Inc | インプリントによる構造体の製造方法 |
DE112020002762T5 (de) * | 2019-05-31 | 2022-02-17 | Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. | Verfahren zur herstellung eines master für einen vervielfältigungsprozess |
US11349061B2 (en) | 2020-06-08 | 2022-05-31 | International Business Machines Corporation | Glassy carbon mask for immersion implant and selective laser anneal |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3257893B2 (ja) * | 1993-10-18 | 2002-02-18 | 三菱電機株式会社 | 位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法 |
JP2002337152A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Fujitsu Ltd | 金型、金型の製造方法、記録媒体の製造方法、及び記録媒体の基板 |
US6913868B2 (en) * | 2003-01-21 | 2005-07-05 | Applied Materials, Inc. | Conductive bi-layer e-beam resist with amorphous carbon |
JP2005133166A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Tdk Corp | パターン転写用スタンパ及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-08-27 JP JP2003303170A patent/JP2005070650A/ja not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-08-25 US US10/925,038 patent/US20050079448A1/en not_active Abandoned
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4600109B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2010-12-15 | Tdk株式会社 | スタンパーの製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
JP2006268934A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Tdk Corp | スタンパーの製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
JP2009509331A (ja) * | 2005-09-15 | 2009-03-05 | ダウ・コーニング・コーポレイション | ナノ成形法 |
JP2007210191A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Toppan Printing Co Ltd | モールドの欠陥修正方法及びモールド |
JP2008230083A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Japan Steel Works Ltd:The | スタンパーの製造方法 |
JP2008290284A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Nano Craft Technologies Co | 微細加工技術 |
US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8002997B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
US8017023B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-09-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
JP4551957B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2010-09-29 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010140569A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
US7993536B2 (en) | 2008-12-12 | 2011-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8012361B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-09-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8029682B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8057689B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-11-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
US8980451B2 (en) | 2010-09-17 | 2015-03-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050079448A1 (en) | 2005-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005070650A (ja) | レジストパターン形成方法 | |
JP2006277869A (ja) | 磁気記録媒体、電子線縮小投影描画用レチクルおよび磁気記録媒体の製造方法 | |
JPS613339A (ja) | 高密度情報記録円板複製用スタンパおよびその製造方法 | |
JP5814868B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2008126450A (ja) | モールド、その製造方法および磁気記録媒体 | |
US20060222967A1 (en) | Reticle, method for manufacturing magnetic disk medium using reticle, and magnetic disk medium | |
JP2005133166A (ja) | パターン転写用スタンパ及びその製造方法 | |
US20080026258A1 (en) | Electron beam irradiating method, magnetic recording medium manufactured by using the method and method for manufacturing the medium | |
JP2010017865A (ja) | ナノインプリント用モールドの製造方法 | |
TWI258142B (en) | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the stamper spacer with template | |
JP2009084644A (ja) | スタンパの製造方法およびスタンパ | |
JP2009070544A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2006278879A (ja) | スタンパの製造方法 | |
JP2008310944A (ja) | モールド構造体及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP2005044390A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用スタンパーおよび磁気記録媒体用中間体 | |
US20050011767A1 (en) | Manufacturing method for a magnetic recording medium stamp and manufacturing apparatus for a magnetic recording medium stamp | |
JP2008276907A (ja) | モールド構造体、及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP2008254413A (ja) | 複製スタンパおよびその製造方法 | |
JP2010077476A (ja) | スタンパの製造方法 | |
JP5058297B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
JP4892080B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
JP2005166105A (ja) | 凹凸パターン転写用原盤及び情報記録媒体製造用スタンパの製造方法 | |
JP2006286122A (ja) | 転写用原盤及びその製造技術 | |
JP2012018741A (ja) | 描画方法、原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法 | |
JP2008276906A (ja) | モールド構造体、及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051110 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051110 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20071114 |