JP4775444B2 - 磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Description

この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法に関する。

ハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ）などの磁気記録装置の記録容量は大容量化される傾向にあり、記録方式として垂直記録方式が実用化されつつある。

この垂直記録方式は、磁気記録媒体の記録層面内に対して垂直方向に磁化させることによって記録する方式であり、高密度な記録が可能となる。しかしながら、垂直記録方式では、１００Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ^２以上の記録密度になると、磁気ヘッド側面から発生するサイドフリンジングによって、隣接するトラックへの書き込み動作が行われてしまい、記録不良や再生不良が生じてしまう問題がある。

このため、磁気記録媒体の円周方向に溝を形成し、トラック間をデータの書き込みが不能な非磁性領域（非記録領域）によって物理的に分離する、いわゆるディスクトラックリートメディア（以下、「ＤＴメディア」と称する）が提案されている（例えば特許文献１、及び特許文献２）。このＤＴメディアによれば、トラック間に非磁性領域（非記録領域）が設けられているため、記録時に隣接するトラックに誤ってデータを書き込んでしまう問題や、再生時に隣接するトラックから誤ってデータを読み出してしまう問題や、記録ビット端部の磁化湾曲によって発生する信号ノイズに起因する出力低下の問題などを回避することができ、高密度記録が可能な磁気記録媒体に特有な問題を回避することができる。
特開平５−２８４８８号公報 特開２００５−２９３６３３号公報

しかしながら、各トラックに形成される磁性層は、その磁性層を構成する結晶構造の単位格子が規則的に形成されているとは限らない。例えば、トラックの端部においては、単位格子が規則的に形成されないおそれがある。この場合、磁性層に歪が発生したり、規則的に形成されていない部分では非磁性になったりして、所望の磁気特性（保磁力や再生出力など）が得られないおそれがある。また、磁気ノイズなどが発生して、記録再生特性を大きく低下させてしまう問題がある。

この発明は上記の問題を解決するものであり、磁気記録媒体用基板の記録領域に磁性層を規則的に形成することが可能な磁気記録媒体、及び磁気記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とする。

この発明の第１の形態は、磁性層が形成された複数の記録領域が表面に形成された円板状の磁気記録媒体用基板を有し、
前記記録領域の大きさは、前記磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさであることを特徴とする磁気記録媒体である。

この発明の第２の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体であって、前記表面には溝が形成され、前記記録領域は前記溝の凹部であり、前記凹部の幅は、前記単位格子の格子定数の整数倍であることを特徴とする。

この発明の第３の形態は、第１の形態に係る磁気記録媒体であって、前記表面には溝が形成され、前記記録領域は前記溝の凸部であり、前記凸部の幅は、前記単位格子の格子定数の整数倍であることを特徴とする。

この発明の第４の形態は、第２の形態又は第３の形態のいずれかに係る磁気記録媒体であって、前記溝は、１つ又は複数の幾何学的パターンの組み合わせで形成されていることを特徴とする。

この発明の第５の形態は、第４の形態に係る磁気記録媒体であって、前記幾何学的パターンは、格子状、放射状、同心円状、又は亀甲状であることを特徴とする。

この発明の第６の形態は、第１の形態から第５の形態のいずれかに係る磁気記録媒体であって、前記記録領域は、成形法によって形成されたことを特徴とする。

この発明の第７の形態は、第１の形態から第５の形態のいずれかに係る磁気記録媒体であって、前記記録領域は、パターニングによって形成されたことを特徴とする。

この発明の第８の形態は、第１の形態から第７の形態のいずれかに係る磁気記録媒体であって、基板の母材は、樹脂、ガラス、金属材料、半導体、酸化物、窒化物、又は硫化物のいずれかで構成されていることを特徴とする。

この発明の第９の形態は、円板状の基板の表面に、磁性層が形成される複数の記録領域を形成する磁気記録媒体用基板の製造方法であって、前記記録領域の大きさを、前記磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさにすることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法である。

この発明によると、基板表面の記録領域の大きさが、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさであるため、複雑なプロセスを要せずに規則化された磁性層を記録領域に形成することが可能となる。これにより、歪などが発生し難い磁性層を形成し、磁気記録媒体の磁気特性を向上させることが可能となる。

さらに、パターンドメディアのような記録ビット個々に独立させることでさらに記録密度を向上させる方式に対しても、この発明によると、記録ビット内で結晶配列を規則化することができるため、ビット内において結晶欠陥のない単結晶構造を構成して、安定した磁気ドメインを構成することが可能となる。そのことにより、良好な磁気特性を発現させることが可能となる。

この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の上面図である。 この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の断面図である。 この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体の断面図である。 磁性層の単結晶構造の単位格子と、磁気記録媒体用基板の記録領域との関係を示す上面図である。 この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の断面図である。 この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体の断面図である。

符号の説明

１、５ 磁気記録媒体用基板
２、６ 凹部
３、７ 凸部
１０、２０ 磁気記録媒体
１１、２１ 磁性層
１１ａ 単位格子

［第１の実施の形態］
この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について、図１から図４を参照して説明する。図１は、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の上面図である。図２は、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の断面図である。

磁気記録媒体用基板１は円板状の形状を有し、中央に貫通孔が形成されてハードディスクなどの磁気記録媒体の基板として用いられる。図１に示すように、磁気記録媒体用基板１の表面には互いに直交する溝（凹部２）が形成され、その溝によって格子状のパターンが形成されている。このように磁気記録媒体用基板１の表面に溝を形成することで、基板表面に凹部２と凸部３が形成されることになる。溝の本数や間隔は、基板の大きさや、磁性層の材料などの条件によって適宜変えればよい。また、溝は格子状パターンの他、放射状、同心円状、又は亀甲状などの幾何学的パターンであっても良い。さらに、複数のパターンを組み合わせたパターンであっても良い。

図２の断面図に示すように、磁気記録媒体用基板１の表面には一定間隔ごとに凹部２と凸部３が形成されている。この実施形態では、凸部３が記録領域に用いられる。そして、凸部３の上に磁性層が形成されることで、磁気記録媒体が作製される。なお、図２の断面図には、磁気記録媒体用基板１の１部を示している。

記録領域として用いられる凸部３の幅は、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさとなっている。つまり、凸部３の幅を幅ｄ１とし、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数（幅ｄ２）とすると、幅ｄ１＝幅ｄ２×ｎ（ｎ：正の整数）の関係が成立している。

直方体の磁性結晶粒子を用いて磁性層を構成する場合、格子定数をａ、ｂ、ｃ（立方体結晶の場合、ａ＝ｂ＝ｃ）とすると、磁性粒子の磁性容易軸（実際に磁石としての特性を示しやすい格子方向）を、磁化を並べたい向きに配列させる。例えば、面内記録媒体の場合は、磁性容易軸を水平方向（好ましくは円周方向）に向けて磁性結晶粒子を配列させる。また、垂直記録媒体の場合は、磁性容易軸を垂直方向に向けて磁性結晶粒子を配列させる。例えば、垂直記録媒体で磁化容易軸をｃ軸の格子方向とした場合、ａ軸定数の整数倍とｂ軸定数の整数倍で構成される凸部３を形成すれば良い。

この磁気記録媒体用基板１の表面に形成する磁性層の材料としては、例えばＣｏ系合金のＣｏＰｔを用いる。ＣｏＰｔを用いた場合、単位格子の幅ｄ２（格子定数）は２．７［Å］となるため、記録領域としての凸部３の幅ｄ１を、幅ｄ２の整数倍の５４［Å］にする。

なお、磁性層を形成する際には、成膜温度、圧力（真空度）、スパッタやＣＶＤでの蒸着の出力を制御し、高真空、低出力で形成することが好ましい。

また、凸部３上に形成される磁性層が、凹部２の側壁面や底面に形成される磁性層と関係なく成長するように、溝（凹部２）の深さを、凸部３上に形成する磁性層の厚さの１．２倍以上にすることが好ましい。
（磁気記録媒体）
次に、磁気記録媒体用基板１を用いた磁気記録媒体について、図３及び図４を参照して説明する。図３は、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体の断面図である。図４は、磁性層の単結晶構造の単位格子と、磁気記録媒体用基板の記録領域との関係を示す上面図である。

この磁気記録媒体用基板１を用いて磁気記録媒体を作製する場合、磁気記録媒体用基板１の表面上にスパッタリングなどによりＣｏ系合金などの磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、図３の断面図に示すように、磁気記録媒体用基板１の凸部３上に磁性層１１を形成することで、磁気記録媒体１０を作製する。磁気記録媒体１０は、磁気記録媒体用基板１の凹部２を非磁性材料で埋めたものとしてもよい。

凸部３の幅ｄ１が単位格子の幅ｄ２（格子定数）の整数倍になっているため、凸部３上に磁性層１１を規則的に形成することができる。特に、凸部３の端部においても、磁性層１１を規則的に形成することができる。

例えば、図４（ａ）の上面図に示すように、凸部３の上面の形状が正方形で、１辺の幅が幅ｄ１の場合、幅ｄ１は磁性層１１の単位格子１１ａの幅ｄ２（格子定数）の整数倍になっているため、凸部３上に磁性層１１の単位格子１１ａを規則的に形成することができる。この場合、凸部３上面の端部近傍においても、単位格子１１ａを規則的に形成することができる。

また、凸部３の上面の形状が長方形であっても、凸部３の幅が、磁性層１１の単位格子１１ａの幅の整数倍であれば、凸部３上に磁性層１１を規則的に形成することができる。例えば、図４（ｂ）の上面図に示すように、凸部３の上面の形状が長方形で、１辺の幅が幅ｄ１で、他の辺の幅が幅ｄ３の場合、幅ｄ１と幅ｄ３が単位格子１１ａの幅ｄ２の整数倍になっている場合、凸部３上に磁性層１１の単位格子１１ａを規則的に形成することができる。
（基板の材料）
次に、磁気記録媒体用基板１の材料について説明する。磁気記録媒体用基板１の材料としては、樹脂、金属、酸化物、半導体、窒化物、硫化物、セラミックス、ガラス、ガラスセラミックス、又は、有機無機複合材などを用いることができる。

ここでは、樹脂を用いた例について説明する。磁気記録媒体用基板１には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。

例えば、磁気記録媒体用基板１には、熱可塑性樹脂として、例えば、ポリカーボネイト、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、環状ポリオレフィン樹脂、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂（ＰＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ樹脂、ＰＢＴ樹脂など）、ポリオレフィン樹脂（ＰＥ樹脂、ＰＰ樹脂など）、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、又は、アクリル樹脂などを用いることができる。また、熱硬化性樹脂として、例えば、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂（ＢＭＣ樹脂など）、シリコン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂などを用いることができる。その他、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）などを用いることができる。

また、活性線硬化性樹脂として、例えば、紫外線硬化性樹脂が用いられる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、紫外線硬化シリコン系樹脂、又は、紫外線硬化アクリル樹脂などを挙げることができる。

この発明の目的を効果的に発現させるために、塗設された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用してもよい。

また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合は、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することができるが、特に紫外線を選択することが好ましいが、特に限定されるものではない。また、活性線の照射中、または前後に加熱によって硬化反応を強化させても良い。

また、磁気記録媒体用基板１には、液晶ポリマー、有機／無機ハイブリッド樹脂（例えば、高分子成分にシリコンを骨格として取り込んだもの）などを用いることができる。なお、上記に挙げた樹脂は磁気記録媒体用基板１に用いられる樹脂の一例であり、これらの樹脂に限定されることはない。２種以上の樹脂を混合してもよく、また、別々の層として異なる成分を隣接させて基板としてもよい。

また、母材としての樹脂は、極力、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが高い方が望ましい。磁気記録媒体用基板１にはスパッタリングにより磁性層が形成されるため、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇは、そのスパッタリングにおける温度以上であることが望ましい。例えば、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上である樹脂を用いることが望ましい。

ガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上の代表的な樹脂として、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ＢＭＣ樹脂、又は、液晶ポリマーなどが挙げられる。より具体的には、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）として、ユーデル（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）として、ウルテム（日本ＧＥプラスチック）、ポリアミドイミド樹脂として、トーロン（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリイミド樹脂（熱可塑性）として、オーラム（三井化学）、ポリイミド（熱硬化性）として、ユーピレックス（宇部興産）、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂として、ＰＢＩ／Ｃｅｌａｚｏｌｅ（クラリアントジャパン）が挙げられる。また、液晶ポリマーとして、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学）、ポリエーテルエーテルケトンとして、ビクトレックス（ビクトレックスＭＣ）が挙げられる。

また、磁気記録媒体用基板１として、吸湿による基板の寸法変化による磁気ヘッドとの位置ずれを防ぐために、吸湿性が少ない樹脂を用いることが望ましい。吸湿性の少ない樹脂の代表としては、ポリカーボネイトや環状ポリオレフィン樹脂がある。

また、以上の説明は、基板が単一の樹脂により構成されているものを例として行ったが、基板は単一の樹脂で構成されているものに限らず、金属やガラスなどの非磁性材料の表面を樹脂層で被覆することにより構成されるものでもよい。この場合、樹脂で被覆される非磁性材料としては、樹脂、金属、半導体、窒化物、硫化物、セラミックス、ガラス、ガラスセラミックス、又は、有機無機複合材など、基板として適用できる様々な素材を用いることができる。

なお、基板は単一の樹脂で構成されている方が、製造工程をより簡略化できるという効果があるため、好ましい。
（製造方法）
樹脂を用いた磁気記録媒体用基板１の製造方法は、磁気記録媒体用基板１に対応した形状を有する金型を用いて、射出成形法、注型成形法、シート成形法、射出圧縮成形法、又は圧縮成形法などの成形法によって作製することができる。つまり、磁気記録媒体用基板１の凹部２と凸部３に対応する形状を有する金型を用いて、射出成形法などによって磁気記録媒体用基板１を作製する。さらに、必要に応じて、成形した基板をカッティングし、打ち抜き、又はプレス成形を行って磁気記録媒体用基板１を作製しても良い。

また、上記射出成形法などにより磁気記録媒体用基板１を成形することで、磁気記録媒体用基板１の内径の寸法、外径の寸法、内周端部の形状、又は外周端部の形状の少なくとも１つを同時に形成することができる。つまり、磁気記録媒体用基板１の内径の寸法や外径の寸法に合わせて、射出成形法などに用いられる金型を作製し、その金型を用いることで、内径寸法や外径寸法が樹脂成形時に完成されることになる。また、磁気記録媒体用基板１の内周端部の形状や外周端部の形状に合わせて、金型を作製し、その金型を用いることで、内周端部の形状や外周端部の形状が樹脂成形時に形成されることになる。

また、成形法以外の方法によっても、この実施形態に係る磁気記録媒体用基板１を作製することができる。例えば、平板状の基板上にレジストを設け、凹部２（溝）に対応したマスクによってレジストにパターンを形成し、エキシマレーザなどのレーザを照射することで基板に凹部２（溝）を形成する。その後、基板上のレジストを剥離して磁気記録媒体用基板１とする。このようにパターニング工程によって磁気記録媒体用基板１を作製してもよい。また、レジストによって基板上にパターンを形成した後、ドライエッチングによって凹部２（溝）を形成してもよい。

また、印刷法やナノインプリント法などの方法によって基板上に凹部２（溝）を形成してもよい。

また、磁気記録媒体用基板１の表面上に被覆層を形成し、その被覆層の上に磁性層を形成しても良い。被覆層には、金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層（ハイブリッド層）が用いられる。また、高密度化技術として期待の大きい垂直磁気記録媒体においては、基板表面に対して垂直に磁性体を並べる必要があり、そのためには、磁性層と基板との間に軟磁性層を形成する必要がある。この軟磁性層の代表的な合金として、ニッケル−コバルト（Ｎｉ−Ｃｏ）合金がある。被覆層としてＮｉ−Ｃｏ合金を用いることにより、垂直磁気記録媒体における軟磁性層としての機能も果たすことが可能となる。
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について、母材が樹脂により構成されている磁気記録媒体用基板を例として図５及び図６を参照して説明する。図５は、この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の断面図である。図６は、この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体の断面図である。

第１の実施形態では、磁気記録媒体用基板の凸部を記録領域として、凸部に磁性層を形成したが、この第２の実施形態では、凹部を記録領域として、凹部に磁性層を形成する。例えば、図５に示すように、磁気記録媒体用基板５の表面に溝を形成することで、基板表面に凹部６と凸部７を形成する。そして、凹部６に磁性層が形成されることで、磁気記録媒体が作製される。なお、図５の断面図には、磁気記録媒体用基板５の１部を示している。

記録領域として用いられる凹部６の幅は、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさとなっている。つまり、凹部６の幅を幅ｄ４とし、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅（格子定数）をｄ２とすると、幅ｄ４＝幅ｄ２×ｎ（ｎ：正の整数）の関係が成立している。
（磁気記録媒体）
この磁気記録媒体用基板５を用いて磁気記録媒体を作製する場合、磁気記録媒体用基板５の表面上にスパッタリングなどによりＣｏ系合金などの磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、図６の断面図に示すように、磁気記録媒体用基板５の凹部６上に磁性層２１を形成することで、磁気記録媒体２０を作製する。

凹部６の幅ｄ４が単位格子の幅ｄ２（格子定数）の整数倍となっているため、凹部６に磁性層２１を規則的に形成することができる。特に、凹部６の端部においても、磁性層２１を規則的に形成することができる。

また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、基板の片面のみに溝を形成したが、両面に溝を形成してもよい。この場合、凸部又は凹部を記録領域とし、記録領域とした凸部又は凹部の幅を、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅（格子定数）の整数倍にすることで、上記第１の実施形態及び第２の実施形態と同じ効果を奏することができる。

なお、溝の側面は垂直に形成されていてもよく、斜め形成されていてもよい。また、溝の側面は直線状に形成されていてもよく、曲面状に形成されていてもよい。

また、上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、記録領域とする凸部又は凹部の形状を矩形状としたが、磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の構造によっては、凸部又は凹部の形状を３角形状、又は５角形状以上としてもよい。
［実施例］
次に、この発明の実施形態に係る具体的な実施例について説明する。
（実施例１）
この実施例１では、図１から図３に示す磁気記録媒体用基板１の具体例について説明する。この実施例１では、図１から図３に示す磁気記録媒体用基板１の凸部３を記録領域として、凸部３上に磁性層を形成した。また、図４（ａ）に示すように、凸部３の上面の形状を正方形とした。
（磁気記録媒体用基板１の成形）
基板の材料としてポリイミドを用い、射出成形により磁気記録媒体用基板１を作製した。ポリイミドとして、オーラム（三井化学社製）を用いた。この磁気記録媒体用基板１の寸法を以下に示す。

外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
磁気記録媒体用基板１の厚さ：０．４［ｍｍ］
凸部３（記録領域）の幅ｄ１：８８［Å］
凹部２の幅：２００［Å］
（磁性層の形成）
磁気記録媒体用基板１の表面にスパッタリングによってＣｏＰｄ合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。

磁性層の厚さ：２６［ｎｍ］
磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅ｄ２（格子定数）（１１１）：２．２［Å］
（評価）
この実施例１では、記録領域としての凸部３の幅ｄ１が８８［Å］であり、単位格子の幅ｄ２（格子定数）が２．２［Å］であるため、幅ｄ１は幅ｄ２の整数倍となる。これにより、凸部３上に磁性層を規則的に形成することが可能となる。特に、凸部３の上面の端部においても、磁性層を規則的に形成することができる。例えば、電子線回折測定によって結晶性や歪の程度を確認したところ、凸部３上に磁性層を規則的に形成することが確認できた。
（実施例２）
この実施例２では、実施例１と同様に磁気記録媒体用基板１の凸部３を記録領域として、凸部３上に磁性層を形成した。この実施例２では、図４（ｂ）に示すように、凸部３の上面の形状を長方形とした。なお、この実施例２に係る磁気記録媒体用基板１では、実施例１と同じ樹脂（ポリイミド）を用いた。
（磁気記録媒体用基板１の寸法）
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
磁気記録媒体用基板１の厚さ：０．４［ｍｍ］
凸部３（記録領域）の幅ｄ１：８１［Å］
凸部３（記録領域）の幅ｄ３：１０８［Å］
（磁性層の形成）
磁気記録媒体用基板１の表面にスパッタリングによってＣｏＰｔの磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。

磁性層の厚さ：３０［ｎｍ］
磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅ｄ２（格子定数）：２．７［Å］
（評価）
この実施例２では、記録領域としての凸部３の幅ｄ１が８１［Å］、幅ｄ３が１０８［Å］であり、単位格子の幅ｄ２（格子定数）が２．７［Å］であるため、幅ｄ１と幅ｄ３は幅ｄ２の整数倍となる。これにより、凸部３上に磁性層を規則的に形成することが可能となる。
（実施例３）
この実施例３では、実施例１と同様に磁気記録媒体用基板１の凸部３を記録領域として、凸部３上に磁性層を形成した。この実施例３では、図４（ａ）に示すように、凸部３の上面の形状を正方形とした。また、この実施例３では、磁性層の材料を変えた。なお、この実施例３に係る磁気記録媒体用基板１では、実施例１と同じ樹脂（ポリイミド）を用いた。
（磁気記録媒体用基板１の寸法）
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
磁気記録媒体用基板１の厚さ：０．４［ｍｍ］
凸部３（記録領域）の幅ｄ１：４８［Å］
（磁性層の形成）
磁気記録媒体用基板１の表面にスパッタリングによってＣｏＣｒＰｔの磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。

磁性層の厚さ：２０［ｎｍ］
磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅ｄ２（格子定数）：２．４［Å］
（評価）
この実施例３では、記録領域として凸部３の幅ｄ１が４８［Å］であり、単位格子の幅ｄ２（格子定数）が２．４［Å］であるため、幅ｄ１は幅ｄ２の整数倍となる。これにより、凸部３上に磁性層を規則的に形成することが可能となる。
（比較例）
次に、上記実施例１から実施例３に対する比較例について説明する。この比較例に係る磁気記録媒体用基板では、上記実施例１から実施例３と同様に、磁気記録媒体用基板の表面に溝を形成することで、凹部と凸部を形成した。なお、この比較例に係る磁気記録媒体用基板の材料には、実施例１などと同じ樹脂（ポリイミド）を用いた。
（比較例に係る磁気記録媒体用基板の寸法）
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
磁気記録媒体用基板の厚さ：０．４［ｍｍ］
凸部（記録領域）の幅：４０［Å］
（磁性層の形成）
磁気記録媒体用基板の表面にスパッタリングによってＣｏＰｔの磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製した。

磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の幅（格子定数）：２．７［Å］
（評価）
この比較例では、記録領域としての凸部の幅が４０［Å］であり、単位格子の幅（格子定数）が２．７［Å］であるため、凸部の幅は単位格子の幅（格子定数）の整数倍にならない。従って、凸部上に形成された磁性層は不規則になってしまい、特に、凸部上面の端部において歪などが発生しやすくなる。

以上のように、この発明の実施例に係る磁気記録媒体用基板によると、複雑なプロセスを要せずに規則化された磁性層を記録領域に形成することが可能となる。これにより、歪などが発生し難い磁性層を形成し、磁気記録媒体の磁気特性を向上させることが可能となる。

なお、上記実施例では磁気記録媒体用基板１の材料としてポリイミドを用いたが、上記実施形態で挙げた他の樹脂を用いても同様の効果を奏することができる。

また、上記実施例では、第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板１の凸部３上に磁性層を形成したが、第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板５の凹部６に磁性層を形成した場合であっても、凹部６に磁性層を規則的に形成されることが確認された。

Claims (9)

1. 磁性層が形成された複数の記録領域が表面に形成された円板状の磁気記録媒体用基板を有し、
   前記記録領域の大きさは、前記磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさであることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 前記表面には溝が形成され、前記記録領域は前記溝の凹部であり、前記凹部の幅は、前記単位格子の格子定数の整数倍であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記表面には溝が形成され、前記記録領域は前記溝の凸部であり、前記凸部の幅は、前記単位格子の格子定数の整数倍であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. 前記溝は、１つ又は複数の幾何学的パターンの組み合わせで形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の磁気記録媒体。
5. 前記幾何学的パターンは、格子状、放射状、同心円状、又は亀甲状であることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
6. 前記記録領域は、成形法によって形成されたことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の磁気記録媒体。
7. 前記記録領域は、パターニングによって形成されたことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の磁気記録媒体。
8. 基板の母材は、樹脂、ガラス、金属材料、半導体、酸化物、窒化物、又は硫化物のいずれかで構成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の磁気記録媒体。
9. 円板状の基板の表面に、磁性層が形成される複数の記録領域を形成する磁気記録媒体用基板の製造方法であって、
   前記記録領域の大きさを、前記磁性層を構成する単結晶構造の単位格子の格子定数の整数倍の大きさにすることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。