KR880004572A - 반도체 메모리장치 - Google Patents

반도체 메모리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR880004572A
KR880004572A KR1019860008230A KR860008230A KR880004572A KR 880004572 A KR880004572 A KR 880004572A KR 1019860008230 A KR1019860008230 A KR 1019860008230A KR 860008230 A KR860008230 A KR 860008230A KR 880004572 A KR880004572 A KR 880004572A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
region
semiconductor
layer
semiconductor substrate
conductivity type
Prior art date
Application number
KR1019860008230A
Other languages
English (en)
Other versions
KR890002589B1 (ko
Inventor
서승모
Original Assignee
강진구
삼성반도체통신 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 강진구, 삼성반도체통신 주식회사 filed Critical 강진구
Priority to KR1019860008230A priority Critical patent/KR890002589B1/ko
Publication of KR880004572A publication Critical patent/KR880004572A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR890002589B1 publication Critical patent/KR890002589B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

반도체 메모리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 α입자의 초기에너지와 관통깊이의 관계도.
제 2 도는 종래의 1트랜지스터 디램셀의 단면도.
제 3 도는 제 2 도의 1트랜지스터셀에 α입자가 침투되었을시의 전자호울의 이동상태도.
제 4 도는 본 발명에 따른 1트랜지스터 디램셀의 단면도.
제 5 도는 제 4 도의 디램셀에 α입자가 침투하였을시의 전자호울의 이동상태도.
제 6 도는 제 4 도의 절선 A-A1에서의 에너지밴드에 따른 전자의 이동상태도.

Claims (1)

  1. 제 1 도전형의 반도체기판과 반대의 도형을 갖고 반도체표면에 형성된 고농도의 제 2 도전형의 제 1 전극반도체영역(80)과, 상기 반도체영역(80)의 상부에 유전체층(72)을 가지며 상기 유전체층(68)의 상부에는 제 2 전극이되는 제1 폴리실리콘층(70)을 가지며 상기 제 1 전극 반도체영역(80)의 하부에 고농도의 제 1 도전형의 반도체영역(82)으로 이루어지는 캐패시터 영역과, 상기 반도체영역(80)과 동일도전형으로 접속되어 있는 소오스영역(74)과 드레인영역(74) 및 이격된 상기 소오스 영역(74)과 드레인영역(74) 사이의 반도체표면상에 게이트절연층(90) 및 워드라인이되는 게이트전극층(62)을 구비하는 트랜지스터 영역 및 상기 캐패시터영역과 트랜지스터 영역을 둘러쌓는 필드산화막층(60)과 상기 필드산화막층(60)의 외측에 형성된 웰(52)을 구비하는 반도체 메모리셀에 있어서, 제 1 도전형의 고농도 반도체기판(50)과, 이 반도체기판(50)상에 형성되는 제 1 도전형의 상기 반도체기판(50)의 농도 보다 낮은 농도를 갖는 에피층(58)과, 상기 반도체기판(50)과 에피층(58)계면에 형성되고 상기 캐패시터영역과 드레인영역(78)하부에 있는 고농도의 제 2 도전형의 매몰층(54)(56)을 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860008230A 1986-09-30 1986-09-30 반도체 메모리장치 KR890002589B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019860008230A KR890002589B1 (ko) 1986-09-30 1986-09-30 반도체 메모리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019860008230A KR890002589B1 (ko) 1986-09-30 1986-09-30 반도체 메모리장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880004572A true KR880004572A (ko) 1988-06-07
KR890002589B1 KR890002589B1 (ko) 1989-07-19

Family

ID=19252582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019860008230A KR890002589B1 (ko) 1986-09-30 1986-09-30 반도체 메모리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR890002589B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR890002589B1 (ko) 1989-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR870006662A (ko) 홈 용량을 가진 다이나믹 랜덤 액세스 메모리
KR850005733A (ko) 반도체 기억장치
KR840001392A (ko) 절연 게이트형 전계효과 트랜지스터(Insulated gate field effect transistor)
KR850004875A (ko) 반도체 메모리 장치
KR890016651A (ko) 반도체 집적회로 장치의 제조방법
KR870008318A (ko) 트렌치 콘덴서를 갖춘 다이나믹 랜덤 억세스메모리
KR900004031A (ko) 바이폴러 트랜지스터 및 그 제조방법
KR860008623A (ko) 금속 산화물 반도체 전계효과 트랜지스터
KR880005693A (ko) Mosfet 구조물 및 이의 제조 방법
KR890012390A (ko) 트렌치 아이솔레이션을 갖는 반도체 장치
KR850000804A (ko) 반도체 장치
KR890013796A (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
KR910019235A (ko) 반도체기억장치
KR900019235A (ko) 고밀도 다이나믹 ram 셀 및 이의 제조 방법
KR950034769A (ko) 절연 게이트형 전계 효과 트랜지스터 제조 방법 및 절연 게이트형 반도체 소자
KR910003813A (ko) 적층된 캐패시터 및 매립된 측방향 접촉부를 갖는 dram 셀
KR930005259A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
KR910007162A (ko) 반도체 장치의 제조 방법
KR850006782A (ko) 반도체 메모리
KR910008861A (ko) 집적회로소자
KR860009489A (ko) 반도체 집적회로장치 및 그 제조방법
KR850005169A (ko) 우물영역을 갖는 반도체기판상에 형성되는 mis형 반도체장치
KR840000081A (ko) 반도체 메모리
KR840008213A (ko) 반도체 장치
KR880004572A (ko) 반도체 메모리장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20040329

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee