KR20210127083A - 판상물의 가공 방법 - Google Patents

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KR20210127083A
KR20210127083A KR1020210034350A KR20210034350A KR20210127083A KR 20210127083 A KR20210127083 A KR 20210127083A KR 1020210034350 A KR1020210034350 A KR 1020210034350A KR 20210034350 A KR20210034350 A KR 20210034350A KR 20210127083 A KR20210127083 A KR 20210127083A
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마코토 시모타니
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

(과제)　시트 및 수지를 반도체 웨이퍼 등의 판상물로부터 용이하게 박리할 수 있는 새로운 가공 방법을 제공하는 것이다.
(해결 수단)　판상물(애즈 슬라이스 웨이퍼(1))의 가공 방법으로서, 외적 자극으로 경화하는 수지(20)를 개재하여 시트(30) 상에 판상물을 배치하고, 수지(20)로 판상물의 일 측면(하측 면(1b))을 덮고 시트(30)가 수지(20)를 덮는 형태로 하는 배치 단계와, 배치 단계를 실시한 후, 외적 자극을 수지(20)에 부여하여 수지(20)를 경화시키는 경화 단계를 포함하고, 시트(30)가 수지(20)와 동일 계통의 수지로 되는 것인, 판상물의 가공 방법으로 한다.

Description

판상물의 가공 방법{METHOD OF PROCESSING PLATE-SHAPED OBJECT}
본 발명은, 판상물의 가공 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 판상물의 일면에 수지층을 배치하고, 평탄한 기준면을 형성하는 기술에 관한 것이다.
종래, 예컨대, 반도체 웨이퍼 등의 판상물의 가공에 있어서, 잉곳을 와이어 쏘(wire saw) 등으로 슬라이스 하여 애즈 슬라이스 웨이퍼를 구성한 후, 애즈 슬라이스 웨이퍼의 양면을 연삭, 연마함으로써 플랫하게 평탄화하는 것이 알려져 있다.
예컨대, 특허 문헌 1에서는, 잉곳으로부터의 슬라이스 시에 생기는 기복이나 휘어짐을 제거하기 위해서, 애즈 슬라이스 웨이퍼의 일면에 액상 수지를 도포하여 경화시킨 후, 웨이퍼를 연삭하는 것이 개시되어 있다.
특허 문헌 1에서는, 도포되는 액상 수지가 웨이퍼를 지지하는 스테이지 측에 고착하지 않게 하기 위해서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 탄성을 가지는 시트가 이용된다. 즉, 스테이지 상에 시트를 배치하고, 시트 상에 액상 수지를 공급하고, 액상 수지 위에서부터 웨이퍼를 덮도록 배치한다. 이에 따라, 액상 수지를 개재하여 웨이퍼를 시트에 고정시키고, 웨이퍼를 시트와 함께 핸들링 가능하도록 하고 있다.
일본 공개 특허 공보 2014-33005호 공보
웨이퍼에 연삭 등이 가공을 한 후에는, 시트 및 수지를 웨이퍼로부터 박리할 필요가 생긴다. 그러나, 시트로부터 수지가 박리되어서 수지가 웨이퍼에 잔존하여 버린다고 하는 문제가 생기는 경우가 있어, 개선이 절실히 요구되고 있었다.
본 발명은, 이상의 문제를 감안하여, 시트 및 수지를 반도체 웨이퍼 등의 판상물로부터 용이하게 박리할 수 있는 새로운 가공 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 해결 하고자 하는 과제는 이상과 같고, 다음에 이 과제를 해결하기 위한 수단을 설명한다.
본 발명의 일 양태에 의하면,
판상물의 가공 방법으로서,
외적 자극으로 경화하는 수지를 개재하여 시트 상에 판상물을 배치하고, 상기 수지로 상기 판상물의 일 측면을 덮고 상기 시트가 상기 수지를 덮는 형태로 하는 배치 단계와,
상기 배치 단계를 실시한 후, 상기 외적 자극을 상기 수지에 부여하여 상기 수지를 경화시키는 경화 단계
를 포함하고,
상기 시트가 상기 수지와 동일 계통의 수지로부터 되는, 판상물의 가공 방법으로 한다.
또한, 본 발명의 일 양태에 의하면,
상기 배치 단계를 실시하기 전에,
테이블 상에 상기 수지를 공급하고, 공급한 상기 수지를 압박 부재로 압박함과 함께 상기 외적 자극을 상기 수지에 부여하여 상기 수지를 경화시키는 것에 의해, 상기 시트를 형성하는 시트 형성 단계를 더 포함하는,
판상물의 가공 방법으로 한다.
또한, 본 발명의 일 양태에 의하면,
상기 외적 자극은 자외선인 것인, 판상물의 가공 방법으로 한다.
또한, 본 발명의 일 양태에 의하면,
상기 수지와 상기 시트는 아크릴기를 가지는 수지로 되는 것인, 판상물의 가공 방법으로 한다.
본 발명의 효과로서, 이하에 나타내는 효과를 발휘한다.
즉, 본 발명의 일 양태에 의하면, 수지와 동일 계통의 수지로 되는 시트를 이용하고, 판상물과 수지층과 시트를 일체화한 워크를 형성하는 것에 의해, 수지와 시트를 견고하게 접착시키는 것이 가능해진다. 이에 따라, 시트를 판상물로부터 박리할 때에, 시트로부터 수지가 분리하여 박리될 우려를 저감할 수 있고, 나아가서는, 수지가 판상물에 잔존하여 버릴 우려를 저감할 수 있다.
도 1은 애즈 슬라이스 웨이퍼를 워크로서 연삭 가공하는 예에 대해 나타내는 도면이다.
도 2(A)는 시트 형성 단계에 있어서 수지를 세팅한 상태에 대해 나타내는 도면이다. 도 2(B)는 수지를 프레스 하여 경화하는 상태에 대해 나타내는 도면이다. 도 2(C)는 시트가 형성된 상태에 대해 나타내는 도면이다.
도 3(A)는 판상물의 배치 단계에 있어서 수지를 세팅한 상태에 대해 나타내는 도면이다. 도 3(B)는 수지를 프레스 하여 인장하는 상태에 대해 나타내는 도면이다.
도 4(A)는 경화 단계에 관해서 나타내는 도면이다. 도 4(B)는 웨이퍼를 형성한 상태에 대해 나타내는 도면이다.
도 5(A)는 가공 준비 단계에 관해서 설명하는 도면이다. 도 5(B)는 가공 단계에 관해서 나타내는 도면이다.
도 6(A)는 박리 테이블에 있어서 워크를 지지한 상태에 대해 나타내는 도면이다. 도 6(B)는 수지층과 함께 테이프를 박리하는 상태에 대해 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
이하의 실시예에서는, 도 1에 도시한 바와 같이, 판상물의 일례인 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)(반도체 웨이퍼)의 하측 면(1b)을, 수지층(20A)을 개재하여 시트(30)에 일체화시켜서 워크(W)를 형성하고, 연삭 휠(60)로 연삭 가공을 하는 예를 이용하여 설명한다. 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)는, 와이어 쏘로 잉곳을 얇게 슬라이스 한 상태의 웨이퍼이고, 하측 면(1b)에 수지층(20A)으로 평탄한 기준면을 형성함으로써, 그 반대 측의 상측 면(1a)을 연삭이나 연마하여 잉곳으로부터의 슬라이스에 따른 휘어짐이나 기복을 제거하는 것이 예정되는 것이다.
또한, 판상물은 애즈 슬라이스 웨이퍼로 한정되는 것이 아니고, 애즈 슬라이스 웨이퍼가 연삭이나 연마된 웨이퍼나 디바이스가 형성된 웨이퍼 등이어도 좋다. 이하 차례로 워크(W)를 형성하기 위한 단계에 관해서 설명한다.
<시트 형성 단계>
도 2(A)(B)는, 가공 장치(40)의 일례로서, 압박 판(42)(압박 부재)과, 테이블(44)과, 경화 수단으로서의 광 조사기(46)를 가지는 구성을 나타낸다.
압박 판(42)은, 도시하지 않는 유압 기구 등의 압력 부여 기구에 접속되고, 도면에 있어서 상하 방향으로 이동하는 것이고, 그 하측에 평탄한 프레스 면(42a)이 형성된다.
테이블(44)은, 압박 판(42)의 프레스 면(42a)에 대향하는 평탄한 프레스 면(44a)을 가지고 구성된다. 테이블(44)은, 유리 등의 투광성을 가지는 부재로 구성되고, 광 조사기(46)의 광원(46a)으로부터 조사되는 광을 투과시키도록 구성된다.
광 조사기(46)는, 프레스 면(42a, 44a)의 사이에서 프레스 성형되는 수지(20)에 대해, 외적 자극을 부여함으로써 경화시키는 경화 수단이고, 본 실시예에서는 복수의 광원(46a)을 가지고 구성된다. 수지(20)는 외적 자극으로 경화하는 경화 수지이고, 예컨대, 아크릴계, 에폭시계의 광 경화 수지를 이용할 수 있다.
광 조사기(46)의 광원(46a)은 수지의 종류에 따라 설계할 수 있고, 예컨대, 아크릴계, 에폭시계의 수지이면, 소정 파장의 자외선을 조사하는 LED 라이트(또는 저압 수은 램프 등)로 구성할 수 있다. 이 경우, 자외선이 수지에 대한 외적 자극이 된다. 여기서, 아크릴계의 수지란, (메타) 아크릴레이트이고, 우레탄 결합(우레탄기)을 가지는 (메타) 아크릴레이트나 우레탄 결합(우레탄기)을 가지지 않는 (메타) 아크릴레이트를 이용할 수 있다.
또한, (메타) 아크릴레이트란, 아크릴산 화합물인 아크릴레이트, 또는 메타크릴산 화합물인 메타크릴레이트를 가리킨다. 구체적으로는, 예컨대, 테트라하이드로푸르푸릴 아크릴레이트(Tetrahydrofurfuryl acrylate), 이소보닐 아크릴레이트(Isobornyl acrylate), 1, 9-노난디올 디아크릴레이트(1,9-Nonanediol diacrylate) 등을 이용할 수 있다.
한편, 에폭시계 수지란, 에폭시기를 함유하는 수지이고, 예컨대, 비스페놀 A형 에폭시 수지나 지방족형 에폭시 수지(다이마산(ダイマ-酸)형 에폭시 수지) 등을 이용할 수 있다.
또한, 열 경화 수지가 사용되는 경우에는, 열이 외적 자극이 되고, 열원이 수지를 경화시키기 위한 경화 수단으로서 사용된다.
이상의 가공 장치(40)에 있어서, 도 2(A)에 도시한 바와 같이, 테이블(44)의 프레스 면(44a) 위에 수지(20)를 공급한다. 수지(20)는, 예컨대, 액상이나 페이스트상 등이다. 수지(20)의 공급량은, 형성되는 시트(30)(도 2(C))가 원하는 면적, 두께를 가지도록 조정된다.
그 다음에, 도 2(B)에 도시한 바와 같이, 압박 판(42)을 하강시켜 수지(20)가 미리 정해진 두께가 되도록 프레스함과 함께, 광원으로부터 수지에 광을 조사한다. 즉, 경화 수단이 되는 광 조사기(46)에 의해 수지(20)에 외적 자극을 주어 수지(20)를 경화시킨다.
미리 정해진 시간 광을 조사하여 수지의 경화를 완료시킨 후, 도 2(C)에 도시한 바와 같이, 압박 판(42)을 상승시켜서 퇴피 시킴으로써, 테이블(44)의 프레스 면(44a) 상에 원하는 크기, 두께를 가진 시트(30)가 형성된다.
<배치 단계>
도 3(A)는, 가공 장치(40)의 일례로서, 도 2(A)에 나타내는 구성에 더하여, 판상물인 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)를 유지하는 판상물 유지 기구(48)를 가지는 구성을 나타낸다. 또한, 이 가공 장치(40)의 예에서는, 판상물 유지 기구(48)(도 3(A))와, 압박 판(42)(도 2(A))의 양쪽 모두를 구비하고, 어느 한쪽이 선택적으로 사용되는 구성으로 하는 것이지만, 이 장치 구성으로 한정되는 것은 아니다.
도 3(A)에 도시한 바와 같이, 판상물 유지 기구(48)는, 도시하지 않는 유압 기구 등의 압력 부여 기구에 접속되고, 도면에 있어서 상하 방향으로 이동하는 것이다.
판상물 유지 기구(48)는, 판상물인 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)의 상측 면(1a)을 흡인 유지하는 유지면(48a)을 형성하는 다공질 플레이트(48b)와, 다공질 플레이트(48b)에 통하는 흡인로(48c)를 구비하여 구성된다. 흡인로(48c)는, 밸브(49a)를 통해 흡인원(49b)에 접속된다.
이상의 가공 장치(40)에 있어서, 도 3(A)에 도시한 바와 같이, 이미 형성된 시트(30)의 상면(30a)에 수지(20)를 공급한다. 수지(20)의 공급량은, 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)의 휘어짐이나 기복을 흡수할 수 있는 두께이며, 또한, 넓혀진 수지(20)가 시트(30)의 외직경보다 소직경의 범위에서 들어가는 양으로 설정된다.
여기서, 수지(20)는, 시트(30)의 형성에 사용된 수지와 동일한 수지를 이용할 수 있다. 또한, 완전하게 동일한 수지로 하는 것 외에, 동일 계통의 수지, 즉, 아크릴계, 에폭시계 등, 계통이 동일하고, 시트(30)와의 접착성이 양호한 것이라면, 특별히 한정이 되는 것은 아니다. 여기서, 아크릴계의 수지란, (메타) 아크릴레이트이고, 우레탄 결합(우레탄기)을 가지는 (메타) 아크릴레이트나 우레탄 결합(우레탄기)을 가지지 않는 (메타)아크릴레이트를 이용할 수 있다.
또한, (메타) 아크릴레이트란, 아크릴산 화합물인 아크릴레이트, 또는 메타크릴산 화합물인 메타크릴레이트를 가리킨다. 구체적으로는, 예컨대, 테트라하이드로푸르푸릴 아크릴레이트(Tetrahydrofurfuryl acrylate), 이소보닐 아크릴레이트(Isobornyl acrylate), 1, 9-노난디올 디아크릴레이트(1,9-Nonanediol diacrylate) 등을 이용할 수 있다.
한편, 에폭시계 수지란, 에폭시기를 함유하는 수지이고, 예컨대, 비스페놀 A형 에폭시 수지나 지방족형 에폭시 수지(다이마산형 에폭시 수지) 등을 이용할 수 있다.
그 다음에, 도 3(B)에 도시한 바와 같이, 판상물 유지 기구(48)를 하강시켜 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)의 하측 면(1b)으로 수지(20)를 눌러 늘림으로써, 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)의 하측(일면 측)이 수지(20)로 덮인 상태로 한다. 여기서, 상술한 바와 같이, 수지(20)는, 시트(30)의 외직경보다 소직경의 범위에서 들어가도록 넓혀짐으로써, 시트(30)에는 수지(20)로 덮이지 않는 부분이 확보된다. 이 수지(20)로 덮이지 않는 부분이, 후의 박리 단계에서 협지된다.
<경화 단계>
그 다음에, 도 4(A)에 도시한 바와 같이, 경화 수단인 광 조사기(46)에 의해 시트(30)를 통해 수지(20)에 외적 자극을 부여함으로써, 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)와 시트(30)의 사이의 수지가 경화해서 되는 수지층(20A)이 형성된다. 또한, 여기에서는, 시트 형성 단계에 있어서의 경우와 마찬가지로, 경화 수단인 광 조사기(46)(광원(46a))로부터의 자외선 조사가 진행된다.
미리 정해진 시간 광을 조사하여 수지의 경화를 완료시킨 후, 도 4(B)에 도시한 바와 같이, 판상물 유지 기구(48)를 상승시켜서 퇴피 시킴으로써, 테이블(44)의 프레스 면(44a) 상에, 애즈 슬라이스 웨이퍼(1), 수지층(20A), 시트(30)가 일체가 된 워크(W)가 형성된다. 그리고, 이 상태로, 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)의 하측에는, 수지층(20A)에 의해서 평탄한 기준면이 형성된 상태가 된다.
<가공 준비 단계>
도 5(A)에 도시한 바와 같이, 워크(W)를 가공하는 가공 장치의 유지 테이블(50)에서, 판상물인 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)를 노출한 상태로 유지하는 단계이다.
유지 테이블(50)은, 다공질 플레이트(52)와, 다공질 플레이트(52)를 유지하는 프레임(54)을 가지고, 프레임(54)에 형성되는 흡인로(54a)가, 밸브(55a)를 통해 흡인원(55b)에 접속된다.
다공질 플레이트(52)의 상면에 형성되는 유지면(52a)에는, 워크(W)의 시트(30)가 재치되어, 흡인 유지된다. 워크(W)가 유지된 상태로, 피가공면(Wa)이 상측에 노출된다.
<가공 단계>
도 5(B)에 도시한 바와 같이, 유지 테이블(50)로 유지된 워크(W)를 가공하는 단계이다.
도 5(B)의 예에서는, 연삭 지석(62)을 구비하는 연삭 휠(60)에 의해, 워크(W)(애즈 슬라이스 웨이퍼(1))의 피가공면(Wa)을 연삭 가공(그라인딩)하고, 박화하는 예를 나타내고 있다.
또한, 가공 단계에서 실시되는 가공의 종류에 대해서는, 이러한 연삭 가공 외에, 연마 가공(polishing), SD 가공(STEALTH　DICING: 등록상표), 미리 절삭 블레이드나 레이저로 하프 컷 홈을 형성한 판상물을 이면 연삭하여 칩으로 분할하는 DBG 가공(Dicing　Before　Grinding) 등도 있으며, 특별히 한정되는 것은 아니다.
유지 테이블(50)이나, 연삭 휠(60) 등의 가공을 하기 위한 장치는, 도 2(A), 도 3(A)에 나타나는 가공 장치(40)에 설치되는 것으로 하는 것 외에, 다른 장치에 설치되는 것으로 해도 좋고, 특별히 한정되는 것은 아니다.
<박리 단계>
도 6(A)(B)에 도시한 바와 같이, 가공된 워크(W)의 피가공면(Wa)을 박리 테이블(70)로 유지함과 함께, 시트 박리 장치(80)로 수지층(20A)과 함께 시트(30)를 박리하는 단계이다.
박리 테이블(70)은, 다공질 플레이트(72)와 다공질 플레이트(72)를 유지하는 프레임(74)을 가지고, 프레임(74)에 형성되는 흡인로(74a)가, 밸브(75a)를 통해 흡인원(75b)에 접속된다.
다공질 플레이트(72)의 상면에 형성되는 유지면(72a)에는, 워크(W)의 피가공면(Wa)이 재치됨과 함께, 흡인 유지된다. 워크(W)가 유지된 상태로, 시트(30)가 위쪽에 노출한다.
박리 테이블(70)로 흡인 유지된 워크(W)의 시트(30)를, 시트 박리 장치(80)로 박리한다. 시트 박리 장치(80)는, 시트(30)의 단부를 잡는 클램프 기구(82)와, 클램프 기구(82)를 제1 수평 방향(X1)으로 이동시켜서 시트(30)의 단부를 잡음과 함께, 180도 회전시키면서 더욱 제1 수평 방향(X1)으로 이동시켜서 시트(30)를 박리시키는 클램프 이동 기구(도시)를 구비하여 구성할 수 있다.
클램프 기구(82)에서는, 시트(30)의 외주에 가까운 부분으로서 수지층(20A)이 형성되지 않은 부분이 협지된다. 해당 부분은 수지층(20A)이 존재하지 않기 때문에, 굴곡되기 쉬워지고, 수지층(20A)과 함께 시트(30)를 용이하게 박리할 수 있다. 또한, 시트(30)를 벗기는 방향이나, 시트 박리 장치(80)의 구체적인 구성에 대해서는, 여기서 나타내는 예로 한정되는 것은 아니다.
여기서, 수지층(20A)을 구성하는 수지가 시트(30)를 구성하는 수지와 동일, 또는, 동일 계통으로 하는 것에 의해, 수지층(20A)과 시트(30)가 견고하게 접착되어서 일체가 되고, 수지층(20A)을 시트(30)와 함께 애즈 슬라이스 웨이퍼(1)로부터 확실히 박리시킬 수 있다.
이상과 같이 하여 본 발명을 실시할 수 있다.
즉, 도 3(A)(B)에 도시한 바와 같이,
판상물(애즈 슬라이스 웨이퍼(1))의 가공 방법으로서,
외적 자극으로 경화하는 수지(20)를 개재시켜 시트(30) 상에 판상물을 배치하고, 수지(20)로 판상물의 일 측면(하측 면(1b))을 덮고 시트(30)가 수지(20)를 덮는 형태로 하는 배치 단계와,
배치 단계를 실시한 후, 외적 자극을 수지(20)에 부여하여 수지(20)를 경화시키는 경화 단계를 포함하고,
시트(30)가 수지(20)와 동일 계통의 수지로 되는, 판상물의 가공 방법으로 하는 것이다.
이와 같이 하여, 수지와 동일 계통의 수지로 되는 시트를 이용하고, 판상물과 수지층과 시트를 일체화한 워크를 형성하는 것에 의해, 수지와 시트를 견고하게 접착시키는 것이 가능해진다. 이에 따라, 시트를 판상물로부터 박리할 때에, 시트로부터 수지가 분리하여 박리할 우려를 저감할 수 있고, 나아가서는, 수지가 판상물에 잔존하여 버릴 우려를 저감할 수 있다.
또한, 도 2(A)에 도시한 바와 같이,
배치 단계를 실시하기 전에,
테이블(44) 상에 수지(20)를 공급하고, 공급한 수지(20)를 압박 판(42)(압박 부재)으로 압박함과 함께 외적 자극을 수지(20)에 부여하여 수지(20)를 경화시키는 것에 의해, 시트(30)를 형성하는 시트 형성 단계를 더 포함하는,
것으로 하는 것이다.
이에 따라, 먼저 시트(30)를 형성한 후, 그대로 시트(30) 상에 수지(20)를 배치하여 배치 단계를 실시할 수 있고, 시트 형성 단계와 배치 단계를 연속적으로 실시할 수 있고, 스루풋을 향상시킬 수 있다.
또한, 도 2(B)에 도시한 바와 같이, 외적 자극은 자외선인 것으로 하는 것이다.
이에 따라, 판상물의 일 측면을 덮는 수지와 시트(30)를, 동일한 장치 구성에 의해 경화시키는 것이 가능해지고, 장치 구성의 공통화, 단순화가 가능해진다.
또한, 도 3(B)에 도시한 바와 같이, 수지(20)와 시트(30)는 아크릴기를 가지는 수지로 되는 것으로 하는 것이다.
이에 따라, 도 3(C)에 도시한 바와 같이, 경화했을 때에는, 수지(20)에 의해 형성되는 수지층(20A)과 시트(30)가 견고하게 일체화되고, 박리 시에 양자를 분리시키지 않고, 일체적으로 박리시키는 것이 가능해진다. 또한, 아크릴기를 가지는 아크릴계의 수지로서는, 예컨대, 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 이용할 수 있다.
1　　애즈 슬라이스 웨이퍼
1a　　상측 면
1b　　하측 면
20　　수지
20A　　수지층
30　　시트
30a　　상면
40　　가공 장치
42　　압박 판
42a　　프레스 면
44　　테이블
44a　　프레스 면
46　　광 조사기
46a　　광원
48　　판상물 유지 기구
48a　　유지면
48b　　흡인로
49a　　밸브
49b　　흡인원
50　　유지 테이블
52　　다공질 플레이트
52a　　유지면
54　　프레임
54a　　흡인로
55a　　밸브
55b　　흡인원
60　　연삭 휠
62　　연삭 지석
70　　박리 테이블
72　　다공질 플레이트
72a　　유지면
74　　프레임
74a　　흡인로
75a　　밸브
75b　　흡인원
80　　시트 박리 장치
82　　클램프 기구
W　　워크
Wa　　피가공면
X1　　제1 수평 방향

Claims (4)

  1. 판상물의 가공 방법으로서,
    외적 자극으로 경화하는 수지를 개재하여 시트 상에 판상물을 배치하고, 상기 수지로 상기 판상물의 일 측면을 덮고 상기 시트가 상기 수지를 덮는 형태로 하는 배치 단계와,
    상기 배치 단계를 실시한 후, 상기 외적 자극을 상기 수지에 부여하여 상기 수지를 경화시키는 경화 단계
    를 포함하고,
    상기 시트가 상기 수지와 동일 계통의 수지로 되는 것인, 판상물의 가공 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 배치 단계를 실시하기 전에,
    테이블 상에 상기 수지를 공급하고, 공급한 상기 수지를 압박 부재로 압박함과 함께 상기 외적 자극을 상기 수지에 부여하여 상기 수지를 경화시키는 것에 의해, 상기 시트를 형성하는 시트 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 판상물의 가공 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 외적 자극은 자외선인 것을 특징으로 하는 판상물의 가공 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 수지와 상기 시트는 아크릴기를 가지는 수지로 되는 것을 특징으로 하는 판상물의 가공 방법.

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