JP6013850B2 - ウェーハの加工方法 - Google Patents
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Description
3 プレス装置
4 研削装置
5 紫外線照射装置
11 保持テーブル
12 ローラー
21 保持テーブル
31 保持テーブル
32 押圧部
41 保持テーブル
42 研削ホイール
43 研削砥石
51 保持テーブル
52 紫外線源
61 保持テーブル
A1,A2 粘着層
B 基材シート
DT 両面粘着テープ
DT1,DT2,DT1a,DT2a,W3,W4,W3a 端部
F フレーム
OF オリフラ(オリエンテーションフラット)
S 支持部材
S1,W1 表面
S2,W2 裏面
T 保護テープ
UV 紫外線
W ウェーハ
a1,a2,a3 矢印
t 仕上げ厚み
Claims (2)
- ウェーハの裏面を研削して薄化するウェーハの加工方法であって、
基材シートの両面に紫外線硬化型粘着剤からなる粘着層が形成された両面粘着テープの一方の粘着層を剛性支持部材に貼着する第1貼着工程と、
該第1貼着工程を実施した後に、該両面テープの他方の粘着層を上面に露呈して該剛性支持部材を保持テーブルに保持し、ウェーハの表面を該他方の該粘着層に対向させウェーハの外径方向一端を該両面粘着テープの該粘着層の外径方向一端側に当接させるとともにウェーハの外径方向他端を上方に向けた状態から、ウェーハの該外径方向他端を該両面粘着テープの該他方の粘着層の外径方向他端側へ向けて倒すことでウェーハの表面全面を該粘着層に載置するウェーハ載置工程と、
ウェーハ載置工程を実施した後に、ウェーハ側から押圧しウェーハを該剛性支持部材に貼着された該両面テープの他方の粘着層に貼着する第2貼着工程と、
該第2貼着工程を実施した後に、該剛性支持部材を保持テーブルに保持してウェーハの裏面を研削し所定厚みへと薄化する研削工程と、
ウェーハ又は該剛性支持部材と該両面粘着テープの該基材シートとは紫外線を透過する材質で形成されており、該研削工程を実施した後に、該両面テープの粘着層に紫外線を照射し粘着層を硬化させ粘着力を低下させる粘着層硬化工程と、
該粘着層硬化工程を実施した後に、該剛性支持部材及び該両面粘着テープをウェーハから剥離する除去工程と、
を備えるウェーハの加工方法。 - ウェーハに結晶方位を示すオリフラが形成されている場合には、該ウェーハ載置工程の際に、オリフラを該両面粘着テープの該粘着層の外径方向一端側に当接させるとともにウェーハのオリフラと反対側の他端を上方に向けた状態から、ウェーハの該オリフラと反対側の他端を該両面粘着テープの該他方の粘着層の外径方向他端側へ向けて倒すこと、を特徴とする請求項1記載のウェーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012214302A JP6013850B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | ウェーハの加工方法 |
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JP2014067982A JP2014067982A (ja) | 2014-04-17 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP6013850B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016107630A1 (en) * | 2014-12-29 | 2016-07-07 | Karl Heinz Priewasser | Protective sheeting for use in processing a semiconductor-sized wafer and semiconductor-sized wafer processing method |
JP6475504B2 (ja) * | 2015-02-09 | 2019-02-27 | 積水化学工業株式会社 | 表面に凹凸を有するウエハの処理方法 |
JP6622661B2 (ja) * | 2016-06-29 | 2019-12-18 | 東京応化工業株式会社 | 支持体分離装置、及び支持体分離方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09211437A (ja) * | 1996-02-02 | 1997-08-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子及びその製造方法と製造装置 |
JP4215998B2 (ja) * | 2002-04-30 | 2009-01-28 | リンテック株式会社 | 半導体ウエハの処理方法およびそのための半導体ウエハの転写装置 |
JP2005300972A (ja) * | 2004-04-13 | 2005-10-27 | Seiko Epson Corp | 表示装置の製造方法及び基板貼り合わせ装置 |
JP2009132867A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-06-18 | Lintec Corp | 板状部材加工用両面粘着シートおよび板状部材加工方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2014067982A (ja) | 2014-04-17 |
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