JP6288935B2 - シート - Google Patents

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Description

本発明は、上面に供給された接着剤を介してウエーハ等の板状物が貼着されるシートに関する。
IC、LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハは、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の各種電気機器に広く利用されている。
半導体ウエーハ(以下、単にウエーハと略称することがある)の裏面を研削する研削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石を有する研削ホイールが回転可能に装着された研削手段とを備えていて、ウエーハを高精度に所望の厚みに研削できる。
半導体ウエーハの裏面を研削するには、多数のデバイスが形成されたウエーハの表面側をチャックテーブルで吸引保持しなければならないため、デバイスを保護するためにポリエチレン塩化ビニル、ポリオリフィン等の基材の一面にアクリル系の粘着層を配設して構成される保護テープが半導体ウエーハの表面に貼着される。
ウエーハの裏面研削では、このような保護テープが表面に貼着された保護テープ側をチャックテーブルの保持面で吸引保持し、ウエーハの裏面を研削してウエーハを一様な厚みに薄化するが、保護テープの粘着層の厚みにばらつきがあるため、ウエーハを一様な厚みに研削するのは容易ではない。特に、ウエーハの口径が大きくなればなるほど、保護テープの粘着層に厚みばらつきが発生するため、ウエーハを一様な厚みに研削するのは難しい。
一方、インゴットからワイヤーソー等を使用して切り出されたウエーハは反りやうねりを有している。このようなウエーハは研削により平坦化する加工が行われる。このウエーハの研削時には、一方の面に樹脂を塗付し、樹脂を硬化させることにより当該一方の面側を平坦面とした後、該平坦面側を保持し、他方の面に研削砥石を接触させて研削を行うことにより、ウエーハのうねりや反りを除去する方法及び装置が提案されている(特開2009−148866号公報参照)。
この公開公報に記載された樹脂被覆装置においては、接着剤として作用する紫外線硬化樹脂と紫外線硬化樹脂を支持する支持テーブルとが固着しないように支持テーブル上にシートを配設し、シートとともにウエーハの一方の面に樹脂を塗付して硬化させて一方の面側を平坦面としている。
このように保護テープに代わってシート上に塗付された液状樹脂にウエーハの表面側をプレス等で押し付けて液状樹脂を一様な厚さとした後硬化させる方法は、ウエーハの裏面研削時に使用するウエーハの表面を保護する保護手段として有効であり、特にウエーハの口径が大きくなればその利用価値が増大する。
特開2009−148866号公報
特許文献1に開示された樹脂被覆方法では、上面に接着剤が供給されたシートにウエーハを押圧して貼着する際に、接着剤とウエーハとの間に気泡が混入してしまうと気泡が混入した部分は局所的に接着剤で支持されないため、後の加工で悪影響を及ぼしてしまうという問題がある。
具体的には、例えば気泡が混入することで研削時にウエーハを吸引保持して十分固定することができず、研削加工中に接着剤からウエーハが剥離してしまったりする等の問題を生じることがある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、接着剤と板状物との間に気泡が混入されにくいシートを提供することである。
本発明によると、接着剤を介して板状物が貼着されるシートであって、該シートの該接着剤が供給される面の濡れ性が該接着剤をはじく程度に低くなり、該面に供給される該接着剤が、該接着剤と該板状物との間に空気が入り込まない程度に山状又は半球状に盛り上がるように、撥接着剤性を付与する処理が施された該面を有することを特徴とするシートが提供される。
好ましくは、撥接着剤性を付与する処理が施された面は、フッ素樹脂コーティングが施された面又はコロナ放電処理が施された面である。好ましくは、接着剤は紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂から構成され、シートは紫外線を透過する。
本発明のシートは、供給された接着剤が山状になるように、シートの少なくとも接着剤が供給される面が撥接着剤性を有する。従って、シート上に供給された接着剤が山状になるため、板状物を接着剤に対して接近移動させた場合、板状物は接着剤とほぼ点接触で接触した後、接着剤は板状物で押し広げられて板状物がシート上に貼着される。よって、接着剤と板状物との間に空気が入り込むことが防止されるため、接着剤と板状物との間に気泡が混入されにくい。
図1(A)は本発明第1実施形態のシートの断面図、図1(B)は第2実施形態のシートの断面図である。 接着剤供給ステップを示す側面図である。 半導体ウエーハの表面側斜視図である。 押圧ステップを示す一部断面側面図である。 接着剤硬化ステップを示す一部断面側面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1(A)を参照すると、本発明第1実施形態のシート10の断面図が示されている。シート10は、撥接着剤性を有する材質から形成され、例えばポリスチレンシートである。ここで、「撥接着剤性」とは、接着剤を弾く程度に濡れ性が低い性質を指すと定義する。好ましくは、シート10は紫外線に対して透明である。
図1(B)を参照すると、本発明第2実施形態のシート12の断面図が示されている。シート12は、例えば保護テープの基材と同様なポリエチレン塩化ビニル、ポリオリフィン等の樹脂から形成される。
シート12の表面(被貼着面)12aには、例えばテフロン(登録商標)コーティング等のフッ素樹脂コーティング14が施されている。このフッ素樹脂コーティング14により、撥接着剤性をシート12の被貼着面12aに与えることができる。
代替実施形態として、シート12の被貼着面12aをコロナ放電処理するようにしてもよい。コロナ放電処理によっても、シート12の被貼着面12aに撥接着剤性を付与することができる。好ましくは、シート12も紫外線に対して透明である。
ここで、シート12の被貼着面12aの全面にフッ素樹脂コーティング14又はコロナ放電処理を施す必要はなく、シート12の少なくとも接着剤が供給される面に撥接着剤性を付与するフッ素樹脂コーティング又はコロナ放電処理を施すようにしてもよい。
図2を参照すると、接着剤供給ステップを示す側面図が示されている。まず、ガラス等から形成された支持台16の支持面16a上に撥接着剤性を有するシート10を載置し、シート10上に液状の接着剤18を滴下すると、シート10が接着剤を弾く程度に濡れ性が低い性質(撥接着剤性)を有しているため、接着剤18は山状又は半球状に盛り上がる。ここで、好ましくは接着剤18は紫外線硬化樹脂から構成され、より好ましくは、紫外線硬化エポキシ樹脂から構成される。
図3を参照すると、本発明のシート10が貼着される板状物の一種である半導体ウエーハ(以下、単にウエーハと略称することがある)11の表面側斜視図が示されている。半導体ウエーハ11の表面11aには複数の分割予定ライン(ストリート)13が格子状に形成されているとともに、分割予定ライン13で区画された各領域にIC,LSI等のデバイス15が形成されている。半導体ウエーハ11は例えばシリコンウエーハから構成され、その厚みは約700μm程度である。11bはウエーハ11の裏面である。
次に、図4及び図5を参照して、ウエーハ11の表面11aに硬化された接着剤層18aとシート10とからなる保護シート32を貼着する方法について説明する。図4(A)を参照すると、プレス装置20はポーラスセラミックス等から形成された吸引保持部24を有する保持テーブル22を備えており、吸引保持部24は電磁切替弁26を介して吸引源28に選択的に接続される。
図4(A)に示すように、プレス装置20の保持テーブル22でウエーハ11の裏面11b側を吸引保持し、保持テーブル22を矢印A方向に降下させて、図4(B)に示すように、ウエーハ11の表面11aを半球状の接着剤18に点接触させる。
この状態から、保持テーブル22を更にゆっくりと降下させて接着剤18をシート10に対して押圧すると、接着剤18は矢印B方向に一様に引き延ばされ、シート10が一様に引き延ばされた接着剤18を介してウエーハ11の表面11aに貼着される。
この状態で、図5に示すように、ガラス等の透明材料から形成された支持台16の下方に配置された紫外線ランプ30を点灯して、支持台16及び紫外線を透過する性質を有するシート10を通して、一様に引き延ばされた接着剤18に紫外線を照射して接着剤18を硬化させ接着性を有する接着剤層18aとする。プレス装置20の保持テーブル22を上昇させると、ウエーハ11の表面11aにシート10と接着剤層18aとからなる保護シート32を貼着することができる。
本発明のシート10,12を使用した保護シート貼着ステップでは、シート10上に供給された接着剤は山状又は半球状になるため、ウエーハ11を接着剤18に対して接近移動させた場合、ウエーハ11は接着剤18とほぼ点接触で接触した後、ウエーハ11で接着剤18が一様に押し広げられてウエーハ11がシート10上に貼着される。
即ち、ウエーハ11の表面11aにシート10と硬化された接着剤層18aとからなる保護シート32が貼着される。従って、接着剤18とウエーハ11との間に空気が入り込むことが防止されるため、接着剤18とウエーハ11との間に気泡が混入されることが抑制される。
上述した実施形態では、本発明のシート10,12を接着剤18を介してウエーハ11の表面11aに貼着する例について説明したが、被加工物はウエーハに限定されるものではなく、一般的な板状の被加工物(板状物)を含むものである。
10,12 シート
11 半導体ウエーハ
12a 被貼着面
14 フッ素樹脂コーティング
16 支持台
18 接着剤
20 プレス装置
22 保持テーブル
24 吸引保持部
28 吸引源
30 紫外線ランプ

Claims (3)

  1. 接着剤を介して板状物が貼着されるシートであって、
    該シートの該接着剤が供給される面の濡れ性が該接着剤をはじく程度に低くなり、該面に供給される該接着剤が、該接着剤と該板状物との間に空気が入り込まない程度に山状又は半球状に盛り上がるように、撥接着剤性を付与する処理が施された該面を有することを特徴とするシート。
  2. 前記撥接着剤性を付与する処理が施された面は、フッ素樹脂コーティングが施された面又はコロナ放電処理が施された面である請求項1に記載のシート。
  3. 前記接着剤は紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化樹脂から構成され、
    前記シートは紫外線を透過する請求項1又は2に記載のシート。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017224670A (ja) * 2016-06-14 2017-12-21 株式会社ディスコ 保護部材形成装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1164154A1 (de) * 2000-06-15 2001-12-19 Ag Bayer Haftklebstoffe mit verbesserter Scherfestigkeit bei erhöhten Temperaturen
JP2002203827A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Lintec Corp 半導体ウエハの裏面研削方法
JP2005206664A (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Nitto Denko Corp 半導体封止用樹脂組成物
JP2006066625A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Nec Corp ベアチップ実装装置、ベアチップ実装方法及びシート
JP4954663B2 (ja) * 2005-10-17 2012-06-20 東京エレクトロン株式会社 貼り合せ装置
JP2008194886A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Nippon Shokubai Co Ltd 表面保護フィルム
JP5089370B2 (ja) 2007-12-21 2012-12-05 株式会社ディスコ 樹脂被覆方法および装置
JP2010062269A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Three M Innovative Properties Co ウェーハ積層体の製造方法、ウェーハ積層体製造装置、ウェーハ積層体、支持層剥離方法、及びウェーハの製造方法
JP5324212B2 (ja) * 2008-12-26 2013-10-23 株式会社ディスコ 樹脂被覆方法および樹脂被覆装置
JP5503951B2 (ja) * 2009-12-07 2014-05-28 株式会社ディスコ 貼着装置
EP2416633A1 (de) * 2010-08-04 2012-02-08 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Verfahren ur Festlegung und/oder Einbettung eines elektronischen Bauteils sowie Kleber zur Verwendung in einem derartigen Verfahren

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