KR20210102237A - 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치 - Google Patents
홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210102237A KR20210102237A KR1020217017076A KR20217017076A KR20210102237A KR 20210102237 A KR20210102237 A KR 20210102237A KR 1020217017076 A KR1020217017076 A KR 1020217017076A KR 20217017076 A KR20217017076 A KR 20217017076A KR 20210102237 A KR20210102237 A KR 20210102237A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hologram recording
- recording medium
- acid
- hologram
- composition
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 94
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 claims abstract description 44
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 8
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 7
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K vanadic acid Chemical compound O[V](O)(O)=O WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 35
- -1 azide compounds Chemical class 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- CVTOCKKPVXJIJK-HBKJEHTGSA-N (2e,5e)-2,5-dibenzylidenecyclopentan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C\C=2C=CC=CC=2)CC\C1=C/C1=CC=CC=C1 CVTOCKKPVXJIJK-HBKJEHTGSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYXTWWCETRIEDR-UHFFFAOYSA-N Tributyrin Chemical compound CCCC(=O)OCC(OC(=O)CCC)COC(=O)CCC UYXTWWCETRIEDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxotungsten Chemical compound O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.O=[W](=O)=O.OP(O)(O)=O IYDGMDWEHDFVQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFZRSOGEOFHZKS-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentabromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br OFZRSOGEOFHZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAUKWGFWINVWKS-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=CC=C21 IAUKWGFWINVWKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 1,6-dichloro-3-methylhex-1-ene Chemical compound ClC=CC(C)CCCCl PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFZHOMDRVKTPLX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibenzylidenecyclopentan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=C1C(=O)CCC1=CC1=CC=CC=C1 WFZHOMDRVKTPLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAPZWLABWNLCTB-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(3,4,5-trimethylphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound CC=1C=C(C=C(C1C)C)C=C1C(C(CC1)=CC1=CC(=C(C(=C1)C)C)C)=O MAPZWLABWNLCTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKTOHMIMKMDVEE-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-acetylphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C(C)(=O)C1=CC=C(C=C1)C=C1C(C(CC1)=CC1=CC=C(C=C1)C(C)=O)=O AKTOHMIMKMDVEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOAWLEKLGGIUDF-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-chlorophenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(Cl)C=C1 HOAWLEKLGGIUDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSEMBYWAAKOCKW-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-hydroxyphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(O)C=C1 YSEMBYWAAKOCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXIITVGWLWCRQL-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-methylphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(C)C=C1 IXIITVGWLWCRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRYANQKLDMIRG-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-propan-2-ylphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(C(C)C)C=C1 BLRYANQKLDMIRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRACEYHZOYXQCO-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-sulfanylphenyl)methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound SC1=CC=C(C=C1)C=C1C(C(CC1)=CC1=CC=C(C=C1)S)=O GRACEYHZOYXQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHHKCSMTRYAENY-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(trichloromethyl)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound ClC(C1=CC=C(C=C1)C=C1C(C(CC1)=CC1=CC=C(C=C1)C(Cl)(Cl)Cl)=O)(Cl)Cl YHHKCSMTRYAENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVTOCKKPVXJIJK-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibenzylidenecyclopentan-1-one Chemical compound O=C1C(=CC=2C=CC=CC=2)CCC1=CC1=CC=CC=C1 CVTOCKKPVXJIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)-1h-imidazole Chemical class C1=CNC(C=2NC=CN=2)=N1 AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWOSNAGVFGKPDL-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,5-dinitrophenyl)methyl]-4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(CC=2C(=CC=C(C=2)[N+]([O-])=O)[N+]([O-])=O)=C1 UWOSNAGVFGKPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-acetyloxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOC(C)=O OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWKXKNCCQLNZDB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CC AWKXKNCCQLNZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSKNCQWPZQCABD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-heptanoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl heptanoate Chemical compound CCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)CCCCCC SSKNCQWPZQCABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(O)=O LJKDOMVGKKPJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJZNCUHIYJBAMS-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2h-1,2-oxazol-5-one Chemical compound N1OC(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 JJZNCUHIYJBAMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N Diethyl adipate Chemical compound CCOC(=O)CCCCC(=O)OCC VIZORQUEIQEFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 241001168730 Simo Species 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate) Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CCCC FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N Tris(2-ethylhexyl) phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(=O)(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N anhydrous methyl chloride Natural products ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- QRMFGEKERJAYSQ-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)iodanium Chemical class C1=CC(Cl)=CC=C1[I+]C1=CC=C(Cl)C=C1 QRMFGEKERJAYSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- LBXQUCHUHCBNTC-UHFFFAOYSA-N dibutyl octanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCC(=O)OCCCC LBXQUCHUHCBNTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIAWWFZNZAIXRF-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 1-benzoylcyclohexa-3,5-diene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound C1C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=CC1(C(=O)OOC(C)(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BIAWWFZNZAIXRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N octan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-] KSCKTBJJRVPGKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O phenylsulfanium Chemical compound [SH2+]C1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;trioxomolybdenum Chemical compound O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.O=[Mo](=O)=O.OP(O)(O)=O DHRLEVQXOMLTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N silicic acid;trioxotungsten Chemical compound O[Si](O)(O)O.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1.O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 CGFYHILWFSGVJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000000391 spectroscopic ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0065—Recording, reproducing or erasing by using optical interference patterns, e.g. holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
- G03H1/0248—Volume holograms
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24035—Recording layers
- G11B7/24044—Recording layers for storing optical interference patterns, e.g. holograms; for storing data in three dimensions, e.g. volume storage
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/16—Esters having free carboxylic acid groups, e.g. monoalkyl maleates or fumarates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/026—Recording materials or recording processes
- G03H2001/0264—Organic recording material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/12—Photopolymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 보다 더 향상시킬 수 있는 홀로그램 기록용 조성물을 제공하는 것. 본 기술은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 함유하는 홀로그램 기록용 조성물을 제공한다. 본 기술은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 함유하는 광 경화성 수지층을 적어도 포함하는, 홀로그램 기록 매체도 제공한다. 또한, 본 기술은 상기 홀로그램 기록 매체를 사용한 회절 광학 소자도 제공한다. 나아가, 본 기술은 상기 회절 광학 소자를 사용한 광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치도 제공한다.
Description
본 기술은 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치에 관한 것이다.
홀로그램은, 광의 명암 (간섭) 패턴을 감광 재료 등에 굴절률 등의 패턴으로서 기록한 것이며, 광 정보 처리, 보안, 의학, 헤드업 디스플레이 등의 분야에서 폭넓게 이용되고 있다. 홀로그램은, 물체에 관한 3차원 정보를 광의 정보로서 대용량으로 기록할 수 있기 때문에, 차세대 기록 매체로서 주목받고 있다.
지금까지, 홀로그램용 재료에 대해 다양한 제안이 이루어져 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에서는, 3차원 가교 폴리머 매트릭스 및 1종 또는 복수의 광활성 모노머로 이루어지고, 적어도 1종의 광활성 모노머가, 모노머 관능기 이외에, 폴리머 매트릭스에 실질적으로 존재하지 않는 부분을 포함하고, 매트릭스 폴리머 및 1종 또는 복수의 광활성 모노머의 중합으로부터 생기는 폴리머가 상용성인 광학 제품이 제안되어 있다.
또한, 특허문헌 2에서는, 가간섭성 광의 간섭에 의한 간섭 무늬(interference fringe)를 굴절률 차에 의해 기록하는 홀로그램 기록용 조성물로서, a) 티오펜환기, 축합 티오펜환기, 복수의 티오펜환 및/또는 축합 티오펜환이 단결합으로 연결되어 있는 기, 및 복수의 티오펜환 및/또는 축합 티오펜환이 연결기를 통해 복수 결합한 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기와 b) 중합성 관능기를 갖는 중합성 티오펜환 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그램 기록용 조성물이 제안되어 있다.
나아가, 특허문헌 3에서는, 적어도 1종의 광 중합성 화합물과, 광 중합 개시제와, 무기 금속계 미립자를 갖는 체적형 홀로그램용 수지 조성물로서, 상기 무기 금속계 미립자의 평균 입경이 홀로그램의 기록 파장보다 작은 것을 특징으로 하는 체적형 홀로그램용 수지 조성물이 제안되어 있다.
그러나, 홀로그램 기술에서는, 회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 더욱 향상시키는 것이 요구되고 있다. 이에, 본 기술은, 회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 보다 더 향상시킬 수 있는 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치를 제공하는 것을 주목적으로 한다.
본 발명자들은, 전술한 과제를 해결하기 위해 주의깊게 연구를 행한 결과, 회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 더욱 향상시키는 것에 성공하여, 본 기술을 완성하는 것에 이르렀다.
즉, 본 기술은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감(增感) 색소를 적어도 함유하는 홀로그램 기록용 조성물을 제공한다.
상기 헤테로폴리산은 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종이어도 된다.
상기 헤테로폴리산의 굴절률은 1.8 이상이어도 된다.
상기 증감 색소는, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 가지고 있어도 된다.
상기 증감 색소는 하기의 일반식(1)로 표현되는 구조를 가지고 있어도 된다.
[화학식 1]
(해당 일반식 중, R1∼R12는, 각각 독립적으로, 알킬기, 아실기, 에스테르기, 아릴기, 카르복실기, 티올기, 히드록실기, 할로겐 또는 수소이다.)
상기 광 중합성 모노머는 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 가지고 있어도 된다.
또한, 본 기술은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 광 경화성 수지층을 포함하는 홀로그램 기록 매체를 제공한다.
상기 헤테로폴리산은 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종이어도 된다.
상기 헤테로폴리산의 굴절률은 1.8 이상이어도 된다.
상기 증감 색소는, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 가지고 있어도 된다.
상기 증감 색소는 하기의 일반식(1)로 표현되는 구조를 가지고 있어도 된다.
[화학식 2]
(해당 일반식 중, R1∼R12는, 각각 독립적으로, 알킬기, 아실기, 에스테르기, 아릴기, 카르복실기, 티올기, 히드록실기, 할로겐 또는 수소이다.)
상기 광 중합성 모노머는 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 가지고 있어도 된다.
상기 홀로그램 기록 매체가 적어도 하나의 투명 기재를 포함하고, 상기 광 경화성 수지층이 상기 적어도 하나의 투명 기재 상에 형성되어 있어도 된다.
상기 홀로그램 기록 매체는 체적 위상형 홀로그램 기록 매체이어도 된다.
또한, 본 기술은 상기 홀로그램 기록 매체를 사용한 회절 광학 소자도 제공한다.
상기 회절 광학 소자는, 굴절률 변조도가 0.05 이상이어도 된다.
상기 회절 광학 소자는, 가시광 투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 0.5% 이하이어도 된다.
본 기술은 상기 회절 광학 소자를 사용한 광학 장치도 제공한다.
또한, 본 기술은 상기 회절 광학 소자를 사용한 광학 부품도 제공한다.
나아가, 본 기술은 상기 회절 광학 소자를 사용한 화상 표시 장치도 제공한다.
도 1은 본 기술의 일 실시형태에 따른 홀로그램 기록 매체의 일례를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
이하, 본 기술을 실시하기 위한 바람직한 형태에 대해 설명한다. 한편, 이하에 설명하는 실시형태는, 본 기술의 대표적인 실시형태를 나타낸 것이며, 본 기술의 범위가 이들 실시형태로 한정되지 않는다.
한편, 본 기술의 설명은 이하의 순서로 행한다.
1. 본 기술의 개요
2. 제1 실시형태(홀로그램 기록용 조성물)
2-1. 홀로그램 기록용 조성물
2-2. 헤테로폴리산
2-3. 광 중합성 모노머
2-4. 광 중합 개시제
2-5. 증감 색소
2-6. 그 밖의 성분
2-7. 홀로그램 기록용 조성물의 제조 방법
3. 제2 실시형태(홀로그램 기록 매체)
3-1. 홀로그램 기록 매체
3-2. 광 경화성 수지층
3-3. 투명 기재
3-4. 홀로그램 기록 매체의 제조 방법
4. 제3 실시형태(회절 광학 소자)
4-1. 회절 광학 소자
4-2. 회절 광학 소자의 제조 방법
5. 제4 실시형태(광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치)
<1. 본 기술의 개요>
먼저, 본 기술의 개요에 대해 설명한다.
본 기술은, 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치에 관한 것이다.
홀로그램의 일례로서, 광학 이방성을 갖는 패턴을 소정 주기로 배열하여 되는 체적 위상형 홀로그램을 들 수 있다. 체적 위상형 홀로그램에서 높은 굴절률 변조량(Δn)을 얻기 위한 재료로서, 예를 들면 방향족환을 복수 연결시킨 유기 분자, 및 이것과 금속 원자를 착체화한 유기 금속 착체, 및 제4족 원소(Ti, Zr 등)의 산화물 미립자 등이 지금까지 제안되어 있다. 그러나, 유기 분자나 유기 금속 착체는 재료 자체가 가시광을 흡수하는 경우가 있어, 가시광 투명 광학 소자용 재료로서 그대로 사용하는 것이 곤란할 경우가 있었다. 또한, 산화물 미립자는 유기 바인더와의 상용성이 낮기 때문에, 헤이즈가 생겨서, 가시광 투명 광학 소자용 재료로서 그대로 사용하는 것이 곤란할 경우가 있었다.
본 발명자들은, 회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 더욱 향상시키기 위해, 높은 굴절률을 가지며, 가시광에 흡수를 갖지 않고, 또한 유기 바인더와의 상용성이 높은 재료로서 헤테로폴리산을 사용하는 것을 검토하였다. 그런데, 홀로그램 기록 매체에 있어서 일반적으로 사용되는 증감 색소는 강산에 의해 소색되어 버리는 경우가 많기 때문에, 강산인 헤테로폴리산을 이러한 증감 색소와 조합시키면, 증감 색소의 기능이 발현되지 않게 되어, 홀로그램 기록을 행할 수 없었다.
이에, 본 발명자들은, 헤테로폴리산과, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 조합함으로써, 헤테로폴리산 존재 하에서도 홀로그램 기록을 가능하게 할 수 있다는 것을 알아내었다. 나아가, 이들 재료를 함유하는 홀로그램 기록용 조성물에 의하면, 회절 특성 및 홀로그램의 투명성을 보다 더 향상시킬 수 있다는 것을 밝혀내었다.
즉, 본 기술은, 홀로그램용 재료로서 헤테로폴리산과, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 조합함으로써, 우수한 회절 특성 및 투명성을 갖는 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
<2. 제1 실시형태(홀로그램 기록용 조성물)>
[2-1. 홀로그램 기록용 조성물]
본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 홀로그램 기록용 조성물이다.
본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 의하면, 우수한 회절 특성 및 투명성이 우수한 홀로그램을 얻을 수 있다. 이하, 각 성분에 대해 상세하게 설명한다.
[2-2. 헤테로폴리산]
본 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 포함되는 헤테로폴리산은, 높은 굴절률을 가지며, 가시광에 흡수를 갖지 않고, 유기 바인더와의 상용성이 높다. 그 때문에, 얻어지는 회절 광학 소자의 굴절률 변조량(Δn) 및 가시광 투과율을 양호한 것으로 할 수 있고, 헤이즈도 적게 할 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 헤테로폴리산은, 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 또한, 헤테로폴리산은 케긴(Keggin) 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.
구체적으로는, 이하의 화합물을 예시할 수 있고, 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
H5[BW12O40]으로 표현되는 붕텅스텐산; H4[SiW12O40]으로 표현되는 규소텅스텐산; H6[CoW12O40]으로 표현되는 코발트 텅스텐산; H5[AlW12O40]으로 표현되는 알루미노텅스텐산; H5[GaW12O40]으로 표현되는 5-(갈륨 텅스텐산); H3[PW12O40]으로 표현되는 인텅스텐산; H3[PMo12O40]으로 표현되는 인몰리브덴산; H4[GeW12O40]으로 표현되는 게르마노텅스텐산; H3+x[PMo12 - xVxO40]으로 표현되는 바나도몰리브도인산(0≤x≤12); H4+y[SiMo12-yVyO40]으로 표현되는 바나도몰리브도규산(0≤y≤6); H3+z[PVzW12-zO40]으로 표현되는 바나도텅스토인산(0≤z≤4); 및 이들의 수화물 등.
또한, 헤테로폴리산의 굴절률은 1.8 이상인 것이 바람직하다. 한편, 본 기술에 있어서, 굴절률은 임계각법 또는 분광 엘립소메트리법(spectroscopic ellipsometry method)으로 측정할 수 있다. 예를 들면, 임계각법에서는, 시부야 광학제 아베 굴절률계 ER-1을 사용하여 측정할 수 있다(측정 파장 589nm).
홀로그램 기록용 조성물 중의 헤테로폴리산의 함유량은 당업자에 의해 적절히 설정되어도 되지만, 홀로그램 기록용 조성물의 전체 질량에 대해, 5∼95 질량%인 것이 바람직하다.
[2-3. 광 중합성 모노머]
본 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 포함되는 광 중합성 모노머로서는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 광 중합성 모노머를 사용할 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 광 중합성 모노머는 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는 것이 바람직하다. 또는, 본 실시형태에 있어서, 광 중합성 모노머는 카르바졸계 모노머인 것이 바람직하다. 이들 모노머를 사용함으로써, 헤테로폴리산과 조합했을 때의 헤이즈를 더욱 적게 할 수 있다.
에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는 광 중합성 모노머로서, 구체적으로는, 단관능, 2관능, 3관능 또는 다관능의 아크릴레이트 모노머; 메타크릴레이트 모노머; 우레탄 아크릴레이트 등이 바람직하고, 이 중, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 트리시클로데칸디메탄올 디아크릴레이트 등의 디아크릴레이트 모노머 등을 예시할 수 있다.
한편, 카르바졸계 모노머로서, 구체적으로는, 단관능, 2관능, 3관능 또는 다관능의 카르바졸계 모노머가 바람직하고, 이 중, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 비닐 카르바졸 또는 이들의 유도체 등을 사용할 수 있고, 보다 더 구체적으로는, N-비닐 카르바졸 등을 예시할 수 있다.
[2-4. 광 중합 개시제]
본 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 포함되는 광 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 광 중합 개시제를 사용할 수 있다.
본 실시형태에서의 광 중합 개시제로서, 라디칼 중합 개시제(라디칼 발생제) 또는 양이온 중합 개시제(산 발생제), 또는 그 양쪽의 기능을 갖는 것을 예시할 수 있다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 한편, 해당 광 중합 개시제로서, 음이온 중합 개시제(염기 발생제)를 사용해도 된다.
라디칼 중합 개시제(라디칼 발생제)로서는, 이미다졸 유도체, 비스이미다졸 유도체, N-아릴글리신 유도체, 유기 아지드 화합물, 티타노센류, 알루미네이트 착체, 유기 과산화물, N-알콕시피리디늄 염, 티오크산톤 유도체 등을 예시할 수 있다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
구체적으로는, 1,3-디(t-부틸디옥시카르보닐) 벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(t-부틸디옥시카르보닐) 벤조페논, 3-페닐-5-이소옥사졸론, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 비스(2,4,5-트리페닐) 이미다졸, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 (상품명: 이르가큐어 651, 시바 스페셜티 케미컬즈(주) 제), 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 (상품명: 이르가큐어 184, 시바 스페셜티 케미컬즈(주) 제), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1 (상품명: 이르가큐어 369, 시바 스페셜티 케미컬즈(주) 제), 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐) 티타늄 (상품명: 이르가큐어 784, 시바 스페셜티 케미컬즈(주) 제) 등을 예시할 수 있지만, 이들로 한정되는 것이 아니다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
양이온 중합 개시제(산 발생제)로서는, 술폰산 에스테르, 이미드 술포네이트, 디알킬-4-히드록시술포늄 염, 아릴 술폰산-p-니트로벤질 에스테르, 실라놀-알루미늄 착체, (η6-벤젠) (η5-시클로펜타디에닐) 철(II) 등을 예시할 수 있다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
구체적으로는, 벤조인토실레이트, 2,5-디니트로벤질토실레이트, N-토시프탈산 이미드 등을 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것이 아니다.
라디칼 중합 개시제(라디칼 발생제)로서도 양이온 중합 개시제(산 발생제)로서도 사용되는 것으로는, 디아릴 요오드늄 염, 디아릴요오드늄 유기 붕소 착체, 방향족 술포늄 염, 방향족 디아조늄 염류, 방향족 포스포늄 염, 트리아진 화합물, 철 아렌 착체계 등을 예시할 수 있다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
구체적으로는, 4-이소프로필-4'-메틸디페닐요오드늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트, 디페닐요오드늄 , 디톨릴요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐) 요오드늄, 비스(p-클로로페닐) 요오드늄 등의 요오드늄의 클로라이드, 브로마이드, 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트 염, 헥사플루오로안티모네이트 염 등의 요오드늄 염, 트리페닐술포늄, 4-tert-부틸트리페닐술포늄, 트리스(4-메틸페닐) 술포늄 등의 술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트 염, 헥사플루오로안티모네이트 염 등의 술포늄 염, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진 등의 2,4,6-치환-1,3,5-트리아진 화합물을 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것이 아니다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
[2-5. 증감 색소]
본 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 포함되는 증감 색소는, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는다. 증감 색소는, 광 중합 개시제의 광에 대한 감도를 증감시킬 수 있다. 해당 증감 색소가 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 가짐으로써, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물에 포함되는 헤테로폴리산의 존재 하에서도, 증감 색소의 상기한 작용을 발현할 수 있다.
본 실시형태에 있어서, 증감 색소는, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 갖는 것이 바람직하다. 나아가, 상기 증감 색소는 하기의 일반식(1)로 표현되는 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다.
[화학식 3]
해당 일반식 중, R1∼R12는, 각각 독립적으로, 알킬기, 아실기, 에스테르기, 아릴기, 카르복실기, 티올기, 히드록실기, 할로겐 또는 수소이다.
구체적으로는, 이하의 화합물을 예시할 수 있고, 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
상기 일반식 중의 페닐기 상에 알킬기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스(페닐메틸렌) 시클로펜탄온, 2,5-비스[(4-메틸페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온, 2,5-비스[(4-이소프로필페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온, 2,5-비스[(3,4,5-트리메틸페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 아실기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스[(4-아세틸페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 카르복실기를 갖는 화합물로서, 4,4'-비스[(2-옥소-1,3-시클로펜탄디일리덴) 디메틸리딘] 벤조산 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 티올기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스[(4-메르캅토페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 히드록실기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스[(4-히드록시페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 할로겐 또는 할로메틸기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스[(4-클로로페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온, 2,5-비스[(4-트리클로로메틸페닐) 메틸렌] 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 알케닐기 상에 치환기를 갖는 화합물로서, 2,5-비스(1-페닐에틸리덴기) 시클로펜탄온 등;
상기 일반식 중의 페닐기 상에 수소를 갖는 화합물로서, 2,5-디벤질리덴시클로펜탄온 등.
홀로그램 기록용 조성물 중의 증감 색소의 함유량은 당업자에 의해 적절히 설정되어도 되지만, 홀로그램 기록용 조성물의 전체 질량에 대해, 0.1∼20 질량%인 것이 바람직하다.
[2-6. 그 밖의 성분]
본 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물은, 상기한 성분 이외에, 바인더 수지, 가소제, 중합 억제제, 연쇄 이동제, 용매 등을 포함해도 된다.
바인더 수지는, 막 강도를 향상시켜, 내열성이나 기계 강도를 향상시키기 위해 유효할 수 있다.
해당 바인더 수지로서, 예를 들면, 폴리아세트산비닐 또는 그 가수분해물 등의 아세트산비닐계 수지; 폴리(메타)아크릴산 에스테르 또는 그 부분 가수분해물 등의 아크릴계 수지; 폴리비닐 알코올 또는 그 부분 아세탈화물; 트리아세틸셀룰로오스; 폴리이소프렌; 폴리부타디엔; 폴리클로로프렌; 실리콘 고무; 폴리스티렌; 폴리비닐 부티랄; 폴리클로로프렌; 폴리염화비닐; 폴리알릴레이트; 염소화 폴리에틸렌; 염소화 폴리프로필렌; 폴리-N-비닐카르바졸 또는 그 유도체; 폴리-N-비닐피롤리돈 또는 그 유도체; 폴리알릴레이트; 스티렌과 무수 말레산의 공중합체 또는 그의 반에스테르(semiester); 아크릴산, 아크릴산 에스테르, 메타크릴산, 메타크릴산 에스테르, 아크릴아미드, 아크릴 니트릴, 에틸렌, 프로필렌, 염화비닐, 아세트산비닐 등의 공중합 가능한 모노머 군의 적어도 하나를 중합 성분으로 하는 공중합체 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 나아가, 공중합 성분으로서, 열 경화 또는 광 경화 가능한 경화성 관능기를 함유하는 모노머를 사용할 수도 있다.
또한, 해당 바인더 수지로서, 올리고머 타입의 경화성 수지를 사용할 수도 있다. 예를 들면, 비스페놀 A, 비스페놀 S, 노볼락, o-크레졸 노볼락, 및 p-알킬페놀 노볼락 등의 각종 페놀 화합물과, 에피클로로히드린과의 축합 반응에 의해 생성되는 에폭시 화합물 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
가소제는, 홀로그램 기록용 조성물의 접착성, 유연성, 경도 및 그 밖의 물리적 특성을 조정하기 위해 유효할 수 있다.
해당 가소제로서, 예를 들면, 트리에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜 디아세테이트, 트리에틸렌 글리콜 디프로피오네이트, 트리에틸렌 글리콜 디카프릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 폴리(에틸렌 글리콜), 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 비스(2-에틸헥사노에이트), 테트라에틸렌 글리콜 디헵타노에이트, 디에틸 세파케이트, 디부틸 수베레이트, 트리스(2-에틸헥실) 포스페이트, 이소졸로빌나프탈렌, 디이소프로필나프탈렌, 폴리(프로필렌 글리콜), 글리세릴 트리부티레이트, 아디핀산 디에틸, 세바신산 디에틸, 수페린산노부틸, 인산 트리부틸, 인산 트리스(2-에틸헥실) 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
중합 억제제로서, 예를 들면, 히드로퀴논 등의 퀴논계 화합물; 힌더드 페놀계 화합물; 벤조트리아졸 화합물; 페노티아진 등의 티아진계 화합물 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
연쇄 이동제는, 중합 반응의 성장 말단으로부터 라디칼을 추출하고, 성장을 정지시킴과 함께, 새로운 중합 반응 개시종이 되고, 광 중합성 모노머에 부가하여 새로운 폴리머의 성장을 개시시킬 수 있다. 연쇄 이동제를 사용함으로써, 라디칼 중합의 연쇄 이동의 빈도가 증가함으로써, 광 중합성 모노머의 반응률이 증가하고, 광에 대한 감도를 향상시킬 수 있다. 또한, 광 중합성 모노머의 반응률이 증가하고, 반응 기여 성분이 증가함으로써, 광 중합성 모노머의 중합도를 조정하는 것이 가능하다.
해당 연쇄 이동제로서, 예를 들면, α-메틸스티렌 다이머, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조티아졸, tert-부틸 알코올, n-부탄올, 이소부탄올, 이소프로필벤젠, 에틸벤젠, 클로로포름, 메틸에틸케톤, 프로필렌, 염화비닐 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
용매는, 점도 조정, 상용성 조절 이외에, 막형성성 등을 향상시키기 위해 유효할 수 있다.
해당 용매로서, 예를 들면, 아세톤, 크실렌, 톨루엔, 메틸 에틸 케톤, 테트라히드로푸란, 벤젠, 염화메틸린, 디클로로메탄, 클로로포름, 메탄올 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
[2-7. 홀로그램 기록용 조성물의 제조 방법]
본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 증감 색소를 소정량으로, 전술한 용매에 상온 등에서 첨가하고, 용해 혼합시켜서, 예를 들면 제조할 수 있다. 또한, 용도나 목적 등에 따라, 전술한 바인더 수지, 가소제, 중합 억제제, 연쇄 이동제 등을 첨가해도 된다. 후술하는 홀로그램 기록 매체에, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물이 사용될 때에는, 해당 홀로그램 기록용 조성물은 도포액으로서 사용되어도 된다.
<3. 제2 실시형태(홀로그램 기록 매체)>
[3-1. 홀로그램 기록 매체]
본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 광 경화성 수지층을 포함하는 홀로그램 기록 매체이다. 본 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물을 포함하는 것이다.
본 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 적어도 하나의 투명 기재를 포함하고 있어도 되고, 광 경화성 수지층이 해당 적어도 하나의 투명 기재 상에 형성되어도 된다.
여기서, 본 실시형태의 홀로그램 기록 매체의 일례의 단면 모식도를 도 1에 나타낸다. 도시하는 홀로그램 기록 매체(1)는, 투명 보호 필름(11)(투명 기재)과 글래스 또는 필름 기판(투명 기재)(13)의 사이에, 광 경화성 수지층(12)이 배치되어 3층 구조로 구성되어 있다. 이와 같이, 본 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 광 경화성 수지층이 1번째의 투명 기재 상에 형성되고, 나아가, 1번째의 투명 기재가 형성되어 있지 않은, 광 경화성 수지층의 주면에 2번째의 투명 기재가 형성되어 3층 구조로 구성되어도 된다.
본 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 체적 위상형 홀로그램 기록 매체 또는 릴리프(relief) 홀로그램 기록 매체인 것이 바람직하고, 체적 위상형 홀로그램 기록 매체인 것이 보다 바람직하다.
본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체에 의하면, 우수한 회절 특성 및 투명성이 우수한 홀로그램을 얻을 수 있다.
[3-2. 광 경화성 수지층]
본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체에 포함되는 광 경화성 수지층은, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유한다. 해당 광 경화성 수지층은, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물의 재료를 포함하는 것이며, 상기 2.에서 각 재료에 대해 설명한 내용 모두가, 본 실시형태에서의 홀로그램 기록 매체의 광 경화성 수지층에도 적합하다. 해당 홀로그램 기록 매체의 광 경화성 수지층은, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물과 그 밖의 재료로 구성되어도 되고, 본 기술에 따른 제1 실시형태의 홀로그램 기록용 조성물로 구성되어도 된다.
본 실시형태의 홀로그램 기록 매체의 광 경화성 수지층의 두께는, 당업자에 의해 적절히 설정되어도 되지만, 회절 효율과 광에 대한 감도의 관점에서, 0.1∼100㎛인 것이 바람직하다.
[3-3. 투명 기재]
본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 적어도 하나의 투명 기재를 포함해도 된다. 해당 투명 기재로서는, 글래스 기판, 투명성을 갖는 수지의 기판 등이 사용되어도 된다.
투명성을 갖는 수지의 기판으로서, 구체적으로는, 폴리에스테르 필름, 예를 들면 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리불화에틸렌계 필름, 폴리불화비닐리덴 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 에틸렌-비닐 알코올 필름, 폴리비닐 알코올 필름, 폴리메틸 메타크릴레이트 필름, 폴리에테르 술폰 필름, 폴리에테르 에테르 케톤 필름, 폴리아미드 필름, 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 공중합 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 등; 폴리이미드 필름 등을 들 수 있다. 이 중의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
본 실시형태의 홀로그램 기록 매체의 투명 기재의 두께는, 당업자에 의해 적절히 설정되어도 되지만, 홀로그램 기록 매체의 투명성과 강성의 관점에서, 0.1∼100㎛인 것이 바람직하다. 홀로그램 기록 매체의 보호 필름으로서 상기에서 예시한 필름을 사용하여, 필름을 도포면 상에 라미네이트할 수 있다. 이 경우, 라미네이트 필름과 도포면의 접촉면은, 나중에 떼어내기 쉽도록 이형 처리가 되어 있어도 된다.
[3-4. 홀로그램 기록 매체의 제조 방법]
본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체는, 투명 기재 상에, 상기 2.에서 설명한 홀로그램 기록용 조성물로 이루어지는 도포액을, 스핀 코터, 그라비어 코터, 콤마 코터 또는 바 코터 등을 사용하여 도포하고, 그 후 건조시켜 광 경화성 수지층을 형성함으로써, 예를 들면 얻을 수 있다.
<4. 제3 실시형태(회절 광학 소자)>
[4-1. 회절 광학 소자]
본 기술에 따른 제3 실시형태의 회절 광학 소자는, 본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체를 사용하여 얻어진다. 본 실시형태의 회절 광학 소자는, 예를 들면 상기 홀로그램 기록 매체에 대해 후술하는 방법으로 노광을 행함으로써 얻을 수 있다. 해당 회절 광학 소자는, 예를 들면 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머 유래의 구성 단위를 포함하는 폴리머 및/또는 올리고머와, 광 중합 개시제가 외부 에너지의 조사에 의해 활성종을 발생시켜 구조 변환된 것과, 증감 색소의 소색체를 적어도 함유한다.
본 실시형태의 회절 광학 소자는, 굴절률 변조량(Δn)이 0.05 이상인 것이 바람직하다. 나아가, 본 실시형태의 회절 광학 소자는, 가시광 투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 0.5% 이하인 것이 바람직하다.
한편, 본 기술에 있어서, 굴절률 변조량(Δn)은 가시광 투과율 스펙트럼 중심 파장의 투과율 및 반값으로부터, Bell System Technical Journal, 48, 2909(1969)에 기재된 Kogelnik의 결합파 이론에 의해 산출할 수 있다. 가시광 투과율 스펙트럼은, 광원으로서 하마마츠 포토닉스제 스폿 광원을, 분광기로서 오션 옵틱스제 소형 파이버 광학 분광기 USB-4000을 사용하여, 400-700nm에서의 투과율을 측정함으로써 얻을 수 있다.
본 기술에 있어서, 가시광 투과율은, 예를 들면 일본공업규격 JIS K 7105에 기재된 수법을 사용하여 측정할 수 있다.
또한, 본 기술에 있어서, 헤이즈는, 예를 들면 일본공업규격 JIS K 7136에 기재된 수법을 사용하여 측정할 수 있다.
본 기술에 따른 제3 실시형태의 회절 광학 소자에 의하면, 높은 굴절률 변조량(Δn)이 얻어지고, 우수한 회절 특성의 효과가 나타난다. 또한, 본 실시형태의 회절 광학 소자는, 가시광 투과율이 높고, 헤이즈가 낮기 때문에, 투명성도 우수하다.
[4-2. 회절 광학 소자의 제조 방법]
본 기술에 따른 제3 실시형태의 회절 광학 소자는, 예를 들면, 본 기술에 따른 제2 실시형태의 홀로그램 기록 매체에 대해, 가시광 영역의 반도체 레이저를 사용하여 2광속 노광을 행한 후, UV(자외선)를 전체 면에 조사함으로써 미경화의 광 중합성 모노머를 경화시켜, 굴절률 분포를 홀로그램 기록 매체에 고정시킴으로써 얻을 수 있다. 2광속 노광의 조건은, 회절 광학 소자의 용도나 목적 등에 따라 당업자에 의해 적절히 설정되어도 되지만, 바람직하게는, 홀로그램 기록 매체 상에서의 한쪽 광속의 광 강도를 0.1∼100mW/cm2로 하고, 1∼1000초간의 노광을 행하여, 2광속이 이루는 각도가 0.1∼179.9도가 되도록 하여 간섭 노광을 행하는 것이 바람직하다.
<5. 제4 실시형태(광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치)>
본 기술에 따른 제4 실시형태의 광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치는, 본 기술에 따른 제3 실시형태의 회절 광학 소자를 사용한 것이다.
본 실시형태에 따른 광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치로서, 예를 들면, 광 디스크 및 광자기 디스크 등의 정보 기록 매체, 광 픽업 장치, 촬상 장치, 편광 현미경, 센서, 컬러 필터, 회절 렌즈, 도광판, 홀로그램 스크린, 투명 디스플레이, 헤드마운트 디스플레이(head-mounted display), 헤드업 디스플레이를 예시할 수 있다.
본 기술에 따른 제4 실시형태의 광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치는, 회절 특성 및 투명성이 우수한 회절 광학 소자를 사용하고 있다. 그 때문에, 광 이용 효율이 높고, 고휘도, 광화각, 저소비전력의 광학 장치, 광학 부품 및 화상 표시 장치를 실현할 수 있다. 특히, 본 기술을 디스플레이에 사용한 경우에는, 높은 시스루성(see-through property) 및 투명성을 갖는 디스플레이로 할 수 있다.
한편, 본 기술에 따른 실시형태는, 전술한 실시형태로 한정되는 것이 아니고, 본 기술의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경이 가능하다.
또한, 본 명세서에 기재된 효과는 어디까지나 예시이며 한정되는 것이 아니고, 또한 다른 효과가 있어도 된다.
한편, 본 기술은, 이하와 같은 구성을 취할 수도 있다.
[1]
헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 홀로그램 기록용 조성물.
[2]
상기 헤테로폴리산이 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종인, [1]에 기재된 홀로그램 기록용 조성물.
[3]
상기 헤테로폴리산의 굴절률이 1.8 이상인, [1] 또는 [2]에 기재된 홀로그램 기록용 조성물.
[4]
상기 증감 색소가, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 갖는, [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록용 조성물.
[5]
상기 증감 색소가 하기의 일반식(1)로 표현되는 구조를 갖는, [4]에 기재된 홀로그램 기록용 조성물.
[화학식 4]
(해당 일반식 중, R1∼R12는, 각각 독립적으로, 알킬기, 아실기, 에스테르기, 아릴기, 카르복실기, 티올기, 히드록실기, 할로겐 또는 수소이다.)
[6]
상기 광 중합성 모노머가 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는, [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록용 조성물.
[7]
헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 광 경화성 수지층을 포함하는, 홀로그램 기록 매체.
[8]
상기 헤테로폴리산이 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종인, [7]에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[9]
상기 헤테로폴리산의 굴절률이 1.8 이상인, [7] 또는 [8]에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[10]
상기 증감 색소가, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 갖는, [7]∼[9] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[11]
상기 증감 색소가 하기의 일반식(1)로 표현되는 구조를 갖는, [10]에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[화학식 5]
(해당 일반식 중, R1∼R12는, 각각 독립적으로, 알킬기, 아실기, 에스테르기, 아릴기, 카르복실기, 티올기, 히드록실기, 할로겐 또는 수소이다.)
[12]
상기 광 중합성 모노머가 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는, [7]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[13]
상기 홀로그램 기록 매체가 적어도 하나의 투명 기재를 포함하고,
상기 광 경화성 수지층이 상기 적어도 하나의 투명 기재 상에 형성되는, [7]∼[12] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[14]
체적 위상형 홀로그램 기록 매체인, [7]∼[13] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록 매체.
[15]
[7]∼[14] 중 어느 하나에 기재된 홀로그램 기록 매체를 사용한, 회절 광학 소자.
[16]
굴절률 변조도가 0.05 이상인, [15]에 기재된 회절 광학 소자.
[17]
가시광 투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 0.5% 이하인, [16]에 기재된 회절 광학 소자.
[18]
[15]∼[17] 중 어느 하나에 기재된 회절 광학 소자를 사용한 광학 장치.
[19]
[15]∼[17] 중 어느 하나에 기재된 회절 광학 소자를 사용한 광학 부품.
[20]
[15]∼[17] 중 어느 하나에 기재된 회절 광학 소자를 사용한 화상 표시 장치.
실시예
이하에, 실시예를 들어, 본 기술의 효과에 대해 구체적으로 설명한다. 한편, 본 기술의 범위는 본 실시예로 한정되는 것이 아니다.
<실시예 1>
(홀로그램 기록용 조성물 1의 조제)
헤테로폴리산으로서 인텅스텐산 12수화물(나칼라이 테스큐 제) 1.0g, 광 중합성 모노머로서 트리시클로데칸디메탄올 디아크릴레이트(신 나카무라 화학공업 제, 「A-DCP」) 1.0g, 가소제로서 세바신산 디에틸(간토 화학 제) 0.1g, 광 중합 개시제로서 4-이소프로필-4'-메틸디페닐요오드늄 테트라키스(펜타플루오로페닐) 보레이트(도쿄 화성 제) 0.1g, 증감 색소로서 2,5-디벤질리덴 시클로펜탄온(Sigma-Aldrich 제) 0.02g, 연쇄 이동제로서 2-메르캅토벤조옥사졸(도쿄 화성 제) 0.06g, 및 용매로서 아세톤 1.0g를 12시간 혼합하고, 홀로그램 기록용 조성물 1을 조제하였다.
(홀로그램 기록 매체(1)의 제작)
상기 홀로그램 기록용 조성물 1을, 5㎛의 폴리비닐 알코올 필름 상에 바 코터로 건조 막 두께가 20㎛가 되도록 도포하고, 실온에서 5분간 건조를 행하여, 광 경화성 수지층을 얻었다. 0.7mm의 글래스 기판 상에 수지면을 압착하고, 글래스 기판, 광 경화성 수지층 및 폴리비닐 알코올 필름을 이 순서로 적층하여 되는 홀로그램 기록 매체(1)를 얻었다.
(회절 광학 소자 1의 제작)
상기 홀로그램 기록 매체(1)에 대해, 노광 파장 457nm의 반도체 레이저를 사용하여 2광속 노광을 행한 후, UV(자외선)를 전체 면에 조사함으로써 미경화의 모노머를 경화시켜, 굴절률 분포를 매체 1에 고정시켰다. 2광속 노광의 조건은, 기록 매체 상에서의 한쪽 광속의 광 강도를 2.5mW/cm2로 하고, 30초간 노광을 행하여, 2광속이 이루는 각도가 3도가 되도록 간섭 노광을 행하였다. 이에 의해, 홀로그램 기록 매체(1)에 굴절률 분포를 형성하여, 회절 광학 소자 1을 얻었다.
(회절 광학 소자 1의 평가)
제작된 회절 광학 소자 1의 굴절률 변조량(Δn), 가시광 투과율 및 헤이즈 값을 측정하였다.
<비교예 1∼4>
(홀로그램 기록용 조성물 101∼104의 제작)
비교예 1에서는, 헤테로폴리산 대신에 지르코니아 미립자로서 아이카아이트론 Z-510IJ(아이카 공업 제)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 재료를 사용하여, 표 1에 나타낸 양에 따라 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 홀로그램 기록용 조성물 101을 얻었다.
비교예 2에서는, 헤테로폴리산 대신에 방향족 아크릴레이트로서 OGSOL EA-0200(오사카 가스 케미컬즈 제)을 사용하고, 광 중합성 모노머로서 트리시클로데칸디메탄올 디아크릴레이트 대신에 덴카 사쿠놀 SN-09T(덴카 제)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 재료를 사용하여, 표 1에 나타낸 양에 따라 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 홀로그램 기록용 조성물 102를 얻었다.
비교예 3에서는, 헤테로폴리산 대신에 펜타브로모페닐 메타크릴레이트(Sigma-Aldrich 제)를 사용하고, 광 중합성 모노머로서 트리시클로데칸디메탄올 디아크릴레이트 대신에 덴카 사쿠놀 SN-09T(덴카 제)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 재료를 사용하여, 표 1에 나타낸 양에 따라 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 홀로그램 기록용 조성물 103을 얻었다.
비교예 4에서는, 증감 색소로서 2,5-디벤질리덴 시클로펜탄온 대신에, 산과 반응하는 치환기(아미노기)를 가지며, 산 존재 하에서 소색하는 증감 색소인 2,5-비스(디에틸아미노벤질리덴) 시클로펜탄온(ACROS ORGANIC사 제)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 재료를 사용하여, 표 1에 나타낸 양에 따라 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 홀로그램 기록용 조성물 104를 얻었다.
(홀로그램 기록 매체 101∼104의 제작)
상기 홀로그램 기록용 조성물 101∼104를 사용하여, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 홀로그램 기록 매체 101∼104를 제작하였다.
(회절 광학 소자 101∼104의 제작)
상기 홀로그램 기록 매체 101∼104를 사용하여, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 회절 광학 소자 101∼104를 제작하였다.
(회절 광학 소자 101∼104의 평가)
제작된 회절 광학 소자 101∼104의 굴절률 변조량(Δn), 가시광 투과율 및 헤이즈 값을 측정하였다.
<실험 결과>
상기한 실시예 1, 비교예 1∼4의 회절 광학 소자의 실험 결과를 표 1에 나타낸다. 한편, 표 1에서 각 성분의 수치는 중량비로 나타내고 있다.
표 1의 실시예 1에 나타내는 바와 같이, 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 조합시킴으로써, 굴절률 변조량(Δn)이 높은 회절 광학 소자를 얻을 수 있었다. 또한, 해당 회절 광학 소자는, 가시광 투과율이 높고, 헤이즈 값이 낮기 때문에, 투명성도 우수한 것을 알았다.
1: 홀로그램 기록 매체
11: 투명 보호 필름(투명 기재)
12: 광 경화성 수지층
13: 글래스 또는 필름 기판(투명 기재)
11: 투명 보호 필름(투명 기재)
12: 광 경화성 수지층
13: 글래스 또는 필름 기판(투명 기재)
Claims (20)
- 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감(增感) 색소를 적어도 함유하는, 홀로그램 기록용 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 헤테로폴리산이 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종인, 홀로그램 기록용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 헤테로폴리산의 굴절률이 1.8 이상인, 홀로그램 기록용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 증감 색소가, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 갖는, 홀로그램 기록용 조성물. - 제1항에 있어서,
상기 광 중합성 모노머가 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는, 홀로그램 기록용 조성물. - 헤테로폴리산과, 광 중합성 모노머와, 광 중합 개시제와, 산 존재 하에서 가시광 영역에 흡수를 갖는 증감 색소를 적어도 함유하는 광 경화성 수지층을 포함하는, 홀로그램 기록 매체.
- 제7항에 있어서,
상기 헤테로폴리산이 텅스텐산, 몰리브덴산, 및 바나듐산으로부터 선택되는 적어도 1종인, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 있어서,
상기 헤테로폴리산의 굴절률이 1.8 이상인, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 있어서,
상기 증감 색소가, 시클로알키논 구조와, 치환기를 가져도 되는 방향족 탄화수소기 1 또는 2개 이상을 갖는, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 있어서,
상기 광 중합성 모노머가 에테르 결합 또는 에스테르 결합을 갖는, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 있어서,
상기 홀로그램 기록 매체가 적어도 하나의 투명 기재를 포함하고,
상기 광 경화성 수지층이 상기 적어도 하나의 투명 기재 상에 형성되는, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 있어서,
체적 위상형 홀로그램 기록 매체인, 홀로그램 기록 매체. - 제7항에 기재된 홀로그램 기록 매체를 사용한, 회절 광학 소자.
- 제15항에 있어서,
굴절률 변조도가 0.05 이상인, 회절 광학 소자. - 제16항에 있어서,
가시광 투과율이 80% 이상이고, 헤이즈가 0.5% 이하인, 회절 광학 소자. - 제15항에 기재된 회절 광학 소자를 사용한, 광학 장치.
- 제15항에 기재된 회절 광학 소자를 사용한, 광학 부품.
- 제15항에 기재된 회절 광학 소자를 사용한, 화상 표시 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2018-231346 | 2018-12-11 | ||
JP2018231346 | 2018-12-11 | ||
PCT/JP2019/041403 WO2020121653A1 (ja) | 2018-12-11 | 2019-10-21 | ホログラム記録用組成物、ホログラム記録媒体、回折光学素子、及びこれを用いた光学装置、光学部品、画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210102237A true KR20210102237A (ko) | 2021-08-19 |
Family
ID=71077247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217017076A KR20210102237A (ko) | 2018-12-11 | 2019-10-21 | 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록 매체, 회절 광학 소자, 및 이를 사용한 광학 장치, 광학 부품, 화상 표시 장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US12094507B2 (ko) |
EP (1) | EP3896530B1 (ko) |
JP (1) | JP7347444B2 (ko) |
KR (1) | KR20210102237A (ko) |
CN (1) | CN113168129B (ko) |
TW (1) | TWI835917B (ko) |
WO (1) | WO2020121653A1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112020000633T5 (de) * | 2019-01-31 | 2021-10-28 | Sony Group Corporation | Hologramm-aufzeichnungszusammensetzung, hologramm-aufzeichnungsmedium, hologramm und optische vorrichtung und eine diese nutzende optische komponente |
WO2024204550A1 (ja) * | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 三菱ケミカル株式会社 | ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体、重合体、大容量メモリ、光学素子、ar導光板、並びにarグラス |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352303A (ja) | 1998-03-24 | 1999-12-24 | Lucent Technol Inc | 光学製品およびその製造法 |
JP2005043507A (ja) | 2003-07-24 | 2005-02-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | ホログラム記録用組成物及びホログラム記録媒体 |
JP2005062757A (ja) | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 体積型ホログラム用樹脂組成物 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6072918A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-25 | Toshiba Corp | 光重合性エポキシ樹脂組成物 |
JPS63254111A (ja) * | 1987-04-11 | 1988-10-20 | F S K Kk | 親水性(メタ)アクリル酸誘導体類モノマ−用光重合触媒 |
US4942102A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic optical elements having a reflection hologram formed in a photopolymer |
JPH0451146A (ja) * | 1990-06-19 | 1992-02-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | 樹脂組成物及びその硬化物 |
JPH04152249A (ja) | 1990-10-16 | 1992-05-26 | Kiminori Ito | 光導波路回折格子バイオケミカルセンサー |
WO1994001467A1 (en) * | 1992-07-14 | 1994-01-20 | Canji, Inc. | Characterization of a novel anti-p110rb monoclonal antibody |
JP2005077741A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Tdk Corp | ホログラム記録材料の製造方法、ホログラム記録媒体の製造方法、ホログラム記録材料、及び、ホログラム記録媒体 |
JP2007248925A (ja) | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
KR20090045913A (ko) * | 2006-08-25 | 2009-05-08 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 유기-지르코니아 복합 미립자를 포함하는 감광성 조성물 |
JP2008224805A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | ホログラム記録材料 |
JP4985137B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2012-07-25 | 大日本印刷株式会社 | 体積ホログラム転写箔、体積ホログラム積層体およびこれらの製造方法 |
JP5148201B2 (ja) * | 2007-08-02 | 2013-02-20 | サカタインクス株式会社 | 光硬化型インクジェット印刷用インク組成物 |
JP2009086298A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 3次元架橋構造の高分子マトリックスを含む2光子吸収光記録媒体 |
JP2010133887A (ja) | 2008-12-08 | 2010-06-17 | Yamaguchi Univ | 水溶性高効率二光子吸収材料 |
JP5803401B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2015-11-04 | Tdk株式会社 | ホログラム記録材料及びホログラム記録媒体 |
JP5924089B2 (ja) * | 2012-04-11 | 2016-05-25 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 |
JP6028456B2 (ja) * | 2012-08-24 | 2016-11-16 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性基板、及び、体積型ホログラム記録体 |
JP6028455B2 (ja) * | 2012-08-24 | 2016-11-16 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性基板、及び、体積型ホログラム記録体 |
JP2014065853A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Tokuyama Corp | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
JP6064607B2 (ja) * | 2013-01-16 | 2017-01-25 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録体、及び体積型ホログラム記録体の製造方法 |
JP5874789B2 (ja) * | 2014-08-28 | 2016-03-02 | 大日本印刷株式会社 | 転写体 |
JP6656619B2 (ja) * | 2015-06-26 | 2020-03-04 | 凸版印刷株式会社 | 光硬化性組成物および硬化物 |
JP2019023669A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-02-14 | コニカミノルタ株式会社 | 体積ホログラム製造用感光性組成物、体積ホログラムの製造方法、体積ホログラム及びホログラフィック光学素子 |
KR102363755B1 (ko) * | 2016-03-29 | 2022-02-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 |
CN108780273B (zh) | 2016-03-31 | 2022-06-28 | Dnp精细化工股份有限公司 | 感光性着色树脂组合物、滤色器及其制造方法以及显示设备 |
CN109415572B (zh) | 2016-06-28 | 2020-08-28 | 大日本印刷株式会社 | 色材分散液、着色树脂组合物、滤色器、液晶显示设备和发光显示设备 |
EP3508924B1 (en) * | 2016-08-30 | 2022-05-04 | Sony Group Corporation | Photosensitive composition for hologram recording, hologram recording medium, and hologram |
-
2019
- 2019-10-21 KR KR1020217017076A patent/KR20210102237A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-10-21 US US17/312,860 patent/US12094507B2/en active Active
- 2019-10-21 WO PCT/JP2019/041403 patent/WO2020121653A1/ja unknown
- 2019-10-21 CN CN201980080152.8A patent/CN113168129B/zh active Active
- 2019-10-21 EP EP19895148.5A patent/EP3896530B1/en active Active
- 2019-10-21 JP JP2020559779A patent/JP7347444B2/ja active Active
- 2019-11-08 TW TW108140572A patent/TWI835917B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11352303A (ja) | 1998-03-24 | 1999-12-24 | Lucent Technol Inc | 光学製品およびその製造法 |
JP2005043507A (ja) | 2003-07-24 | 2005-02-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | ホログラム記録用組成物及びホログラム記録媒体 |
JP2005062757A (ja) | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 体積型ホログラム用樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7347444B2 (ja) | 2023-09-20 |
US12094507B2 (en) | 2024-09-17 |
CN113168129B (zh) | 2022-08-05 |
WO2020121653A1 (ja) | 2020-06-18 |
JPWO2020121653A1 (ja) | 2021-11-04 |
EP3896530A1 (en) | 2021-10-20 |
US20220013142A1 (en) | 2022-01-13 |
EP3896530A4 (en) | 2022-03-16 |
TWI835917B (zh) | 2024-03-21 |
CN113168129A (zh) | 2021-07-23 |
EP3896530B1 (en) | 2023-05-24 |
TW202028336A (zh) | 2020-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2873126B2 (ja) | 体積ホログラム記録用感光性組成物 | |
US5858614A (en) | Photosensitive composition for volume hologram recording | |
US8852828B2 (en) | Volume hologram photosensitive composition | |
US8900775B2 (en) | Hologram recording material and hologram recording medium | |
JP5942736B2 (ja) | ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 | |
JP2004191919A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性媒体、及び体積型ホログラム | |
CN113168129B (zh) | 全息记录组合物、全息记录介质、衍射光学元件、以及使用衍射光学元件的光学装置、光学部件和图像显示装置 | |
WO2021095400A1 (ja) | ホログラム記録用組成物、ホログラム記録媒体、ホログラム、及びこれを用いた光学装置、光学部品 | |
US20120044550A1 (en) | Transmission type volume hologram recording medium and manufacturing method thereof | |
US20220091559A1 (en) | Hologram recording composition, hologram recording medium, hologram optical element, optical device and optical component using same, and method for forming hologram diffraction grating | |
JP4589008B2 (ja) | 体積型ホログラム感光性組成物 | |
JP4500532B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP2010134259A (ja) | 体積ホログラム記録用感光性組成物 | |
WO2013094708A1 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム積層体の製造方法 | |
JP7331556B2 (ja) | 体積ホログラム、頭部装着型センサ装置 | |
JP2008261928A (ja) | 光記録用樹脂材料及びその製造方法、並びに光記録媒体 | |
JP2007108253A (ja) | スレッド用体積ホログラム、および、これを用いたスレッド付き偽造防止用紙 | |
JP2005055472A (ja) | ホログラム層とそれを用いたホログラム転写箔 | |
JP2023084262A (ja) | 画像表示用導光板 | |
JP2004318070A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP2006079049A (ja) | 体積ホログラム記録媒体およびその製造方法 | |
JP2004318068A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP2005062757A (ja) | 体積型ホログラム用樹脂組成物 | |
JP2005055473A (ja) | ホログラム積層体 | |
JP2013054280A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、及びこれを用いた体積型ホログラム記録媒体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
WITB | Written withdrawal of application |