KR20210036864A - 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법 - Google Patents

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20210036864A
KR20210036864A KR1020207031416A KR20207031416A KR20210036864A KR 20210036864 A KR20210036864 A KR 20210036864A KR 1020207031416 A KR1020207031416 A KR 1020207031416A KR 20207031416 A KR20207031416 A KR 20207031416A KR 20210036864 A KR20210036864 A KR 20210036864A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
compound
composition
mass
Prior art date
Application number
KR1020207031416A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102746881B1 (ko
Inventor
요스케 마에다
토모미 사이토우
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아데카 filed Critical 가부시키가이샤 아데카
Publication of KR20210036864A publication Critical patent/KR20210036864A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102746881B1 publication Critical patent/KR102746881B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
    • C08G65/18—Oxetanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/3311—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing a hydroxy group
    • C08G65/3314—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing a hydroxy group cyclic
    • C08G65/3315—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing a hydroxy group cyclic aromatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
    • C08G65/33331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing imide group
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

본 발명의 과제는 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제와, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 조성물이다. 상기 알콕시벤젠 화합물, 상기 벤조카르바졸 화합물 및 상기 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량은 상기 광산발생제 100질량부에 대하여 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하다.

Description

조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법
본 발명은 양이온 중합성 화합물과 광산발생제와 특정 증감제를 포함하는 조성물에 관한 것이다.
특정 광에 대하여 강도가 큰 흡수를 가지는 화합물은, CD-R, DVD-R, DVD+R, BD-R 등의 광학 기록 매체의 기록층이나, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 광학 요소로 이용되고 있다.
특허문헌 1에는, 플라스마 디스플레이에서의 리모콘 오동작 방지 및 플라스마 디스플레이에서 발생하는 네온 오렌지광 흡수를 목적으로 하는 광학 필터 형성용 조성물로서, 특정 아크릴계 수지 및 380~780㎚에 극대 흡수를 가지는 색소를 함유하는 수지 조성물이 개시되어 있다.
특허문헌 2에는, 단파 반도체 레이저의 발신 파장에 대하여 고감도인 화상 기록 재료로서, 350~850㎚에 흡수 극대를 가지는 증감 색소를 함유하는 라디칼 중합성의 감광성 조성물이 개시되어 있다.
특허문헌 3에는, 고체 촬상 소자 등의 광학 필터의 형성에 사용되는 조성물로서, 700~1100㎚에 흡수 극대를 가지는 레이크 색소를 함유하는 경화성 조성물이 개시되어 있다.
US7241404 일본 공개특허공보 특개2006-259558호 US7820254
화상 표시 장치의 색 재현성 향상의 방법으로서, 각 색의 발광 광의 색 순도를 향상시키는 방법이 알려져 있다.
예를 들면, 녹색광 및 적색광의 겹침 영역의 파장의 광을 흡수하는 광학 필터를 사용함으로써, 화상 표시 장치는 녹색광 및 적색광의 색 순도 향상을 도모할 수 있다.
본 발명자들은 상술한 광학 필터의 형성에 사용하는 베이스 조성물로서, 양이온 중합성 화합물, 광산발생제 및 증감제를 포함하는 양이온 중합성 조성물을 사용하는 것을 검토하고 있는데, 경화 감도 및 조성물의 분산 안정성 양자가 뛰어난 양이온 중합성 조성물로 할 수 없는 경우가 있었다.
본 발명은 상기 문제점에 비추어 보아 이루어진 것이며, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 한 결과, 양이온 중합성 화합물 및 광산발생제와 특정 증감제를 조합하여 사용함으로써, 상술한 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 이른 것이다.
즉, 본 발명은 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제와, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을 포함하는 조성물을 제공하는 것이다.
조성물이 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물(이하, 특정 증감제라고 칭하는 경우가 있음.)에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을 가짐으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명에서는 상기 알콕시벤젠 화합물이 하기 일반식(3-1)로 나타내는 화합물이며, 상기 벤조카르바졸 화합물이 하기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 나타내는 화합물이고, 상기 디알콕시카르바졸 화합물이 하기 일반식(1000-1)로 나타내는 화합물임으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문에 바람직하다.
Figure pct00001
(식 중 R11 및 R12는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기를 나타낸다.)
Figure pct00002
(식 중, R155는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
R156, R157, R158, R159, R160, R161, R162, R163, R164 및 R165는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00003
(식 중 R255는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
R256, R257, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264 및 R265는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00004
(식 중 R355는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
R356, R357, R358, R359, R360, R361, R362, R363, R364 및 R365는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00005
(식 중 R1001은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
R1002, R1003, R1004, R1005, R1006, R1007, R1008 및 R1009는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타내고,
R1002, R1003, R1004 및 R1005 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이며, 또한 R1006, R1007, R1008 및 R1009 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이다.)
본 발명에서는 상기 일반식(3-1) 중의 R11 및 R12가, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~3의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기이며, 상기 일반식(4-1) 중의 R155가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이고, 상기 일반식(4-2) 중의 R255가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이며, 상기 일반식(4-3) 중의 R355가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이고, 상기 일반식(1000-1) 중의 R1001이 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~15의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 특정 증감제가 상술한 화합물임으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 특정 증감제의 합계 함유량이 상기 광산발생제 100질량부에 대하여 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하다. 특정 증감제의 함유량이 상술한 범위임으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 특정 증감제의 합계 함유량이 상기 특정 증감제와 그 이외의 증감제의 합계 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하다. 특정 증감제의 함유량이 상술한 범위임으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 양이온 중합성 화합물이 지환식 에폭시 화합물을 포함하고, 상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량이 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 20질량부 이상인 것이 바람직하다. 양이온 중합성 화합물의 종류 및 함유량이 상술한 범위임으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 조성물이 색소를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 광학 필터 형성용으로서 유용한 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 조성물이 광학 필터 형성용인 것이 바람직하다. 상술한 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어나다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.
본 발명은 상술한 조성물 경화물을 제공한다.
상기 경화물은 상술한 조성물을 경화시킨 것이기 때문에, 예를 들면, 조성물이 색소를 포함하는 경우에 색소의 블리드 아웃(bleed out) 등이 적고, 색소의 분산 상태가 양호한 것으로 할 수 있다.
본 발명은 상술한 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 광학 필터를 제공한다.
상기 광 흡수층이 상술한 조성물 경화물을 포함함으로써, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 광학 필터가 된다. 또한, 경시 안정성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명은 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법을 제공한다.
상기 경화물의 제조 방법은 상술한 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 경화물의 형성이 용이한 것이 된다.
본 발명은 조성물, 그 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법에 관한 것이다.
이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.
A. 조성물
우선, 본 발명의 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 조성물은 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제와, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 조성물은 양이온 중합성 화합물 및 광산발생제와, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물(이하, 특정 증감제라고 칭하는 경우가 있음.)에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을 조합하여 사용함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 된다.
양이온 중합성 화합물 및 광산발생제와 상기 특정 증감제를 조합함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되는 이유에 대해서는 다음과 같이 추측된다.
특정 증감제가 가지는 방향환 구조에 의해, 양이온 중합성 화합물 및 광산발생제의 응집이 억제되고, 조성물은 각 성분의 분산 안정성이 뛰어난 것이 된다. 그리고 조성물 중의 각 성분이 양호하게 분산된 상태가 되는 결과, 특정 증감제는 광을 효율적으로 흡수할 수 있게 된다. 더욱이, 특정 증감제는 HOMO와 LUMO의 에너지 준위가 광산발생제보다도 높기 때문에, 광산발생제로의 전자이동이 효율적으로 이루어진다. 이 때문에, 조성물은 양이온 중합성 화합물 및 광산발생제와 특정 증감제를 포함함으로써, 경화 감도가 뛰어난 것이 된다.
본 발명의 조성물은 경화 감도가 뛰어나기 때문에, 충분히 경화된 경화물을 얻을 수 있는 것이며, 상기 조성물이 색소를 포함하는 경우에 색소의 블리드 아웃 등이 적은 경화물을 용이하게 얻을 수 있다. 더욱이, 본 발명의 조성물은 분산 안정성이 뛰어나기 때문에, 상기 조성물이 색소를 포함하는 경우에 색소의 분산 상태가 양호한 경화물을 안정적으로 제조하는 것이 가능하다.
이하, 본 발명의 조성물의 각 성분에 대해 상세하게 설명한다.
1. 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물
본 발명의 조성물은 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을 포함하는 것이다.
(1) 알콕시벤젠 화합물
상기 알콕시벤젠 화합물은 벤젠환에 공유 결합으로 직접 결합하는 알콕시기를 하나 이상 가지는 화합물이면 된다.
이와 같은 알콕시벤젠 화합물로는 예를 들면, 하기 일반식(3)으로 나타내는 화합물(이하, 화합물 1이라고 칭하는 경우가 있음.)을 들 수 있다.
Figure pct00006
(식 중 R은, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기를 나타내고, n은 1~6의 정수를 나타낸다. 한편, R은 n이 2 이상인 경우는 각각 동일해도 되고 다른 것이어도 된다.)
상기 일반식(3) 중의 R로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 2,4-디메틸펜틸기, 시클로헥실메틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, 2,5-디메틸헥실기, 2,5,5-트리메틸헥실기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 2,6-디메틸-4-헵틸기, 3,5,5-트리메틸헥실기, n-데실기, 4-에틸옥틸기, n-운데실기, 1-메틸데실기, n-도데실기, 1,3,5,7-테트라메틸옥틸기, n-트리데실기, 1-헥실헵틸기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-에이코실기, n-트리코실기, n-테트라코실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 알킬기를 들 수 있다.
본 발명에서는 탄소 원자수 1~30의 알킬기의 구조는 직쇄, 분기 또는 환상 중 어느 것이어도 되는데, 직쇄 또는 분기인 것이 바람직하고, 특히 직쇄인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서, 알킬기의 탄소 원자수는 1~5인 것이 바람직하고, 그 중에서도 1~3인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 1~2인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 1인 것이 바람직하다. 상기 R이 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 일반식(3) 중의 R로 나타내는, 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기(이하, 치환 알킬기라고 칭하는 경우가 있음.)의 수소 원자를 치환하는 원자 또는 기는 수산기 및 카르복실기에서 선택할 수 있는데, 수산기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 치환 알킬기에 사용되는 알킬기의 바람직한 구조, 바람직한 탄소 원자수에 대해서는 상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기와 마찬가지로 할 수 있다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 R은 탄소 원자수 1~15의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~2의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 R이 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 R은 n이 2 이상인 경우에는 각각 독립적으로 선택할 수 있고, 동일해도 되고 달라도 된다.
상기 일반식(3) 중에서, n은 1~6의 정수인데, 1~3의 정수인 것이 바람직하고, 그 중에서도 2~3의 정수인 것이 바람직하며, 특히 2인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, n이 2인 경우, 상기 화합물 1은 하기 일반식(3-1)로 나타내는 화합물(이하, 화합물 3-1이라고 칭하는 경우가 있음.)인 것, 즉, 2개의 알콕시기가 파라번위로 치환되어 있는 화합물인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00007
(식 중 R11 및 R12는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기를 나타낸다.)
상기 일반식(3-1) 중의 R11 및 R12로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 치환 알킬기는 상기 일반식(3) 중의 R로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 치환 알킬기와 마찬가지이다.
상기 R11 및 R12는, 각각 독립적으로 직쇄 또는 분기의 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 직쇄의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 R11 및 R12는 동일한 기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 R11 및 R12는, 각각 독립적으로 직쇄의 탄소 원자수 1~15의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 직쇄의 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~5의 알킬기 또는 치환 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
(2) 벤조카르바졸 화합물
상기 벤조카르바졸 화합물은 벤조카르바졸 구조를 가지는 화합물이면 된다.
이와 같은 벤조카르바졸 화합물로는 하기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도 하기 일반식(4-1)로 나타내는 화합물인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00008
(식 중 R155는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R156, R157, R158, R159, R160, R161, R162, R163, R164 및 R165는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00009
(식 중 R255는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R256, R257, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264 및 R265는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
Figure pct00010
(식 중 R355는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R356, R357, R358, R359, R360, R361, R362, R363, R364 및 R365는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155, R255 및 R355(이하, R155 등이라고 칭하는 경우가 있음.)로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는, 상기 일반식(1) 중의 R로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기와 마찬가지이다.
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등으로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 3,4,5-트리메톡시페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 안트라세닐기 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기는, 기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이, 예를 들면, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 알케닐옥시기, 알콕시알킬기, 알카노일옥시기, 또는 알콕시카르보닐기로 치환되어 있는, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기여도 된다.
한편, 기의 탄소 원자수는 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 경우, 그 치환기의 탄소 원자수를 포함시킨 합계의 탄소 원자수를 규정한다. 예를 들면, 상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기의 수소 원자가 치환기로 치환되어 있는 경우, 탄소 원자수 6~30이란, 그 치환기의 탄소 원자수를 포함시킨 합계의 탄소 원자수를 가리키고, 수소 원자가 치환되기 전의 탄소 원자수를 가리키는 것은 아니다.
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R156, R157, R158, R159, R160, R161, R162, R163, R164 및 R165, R256, R257, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264 및 R265 그리고 R356, R357, R358, R359, R360, R361, R362, R363, R364 및 R365(이하, R156 등이라고 칭하는 경우가 있음.)로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기는, 상기 R156 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 마찬가지이다.
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R156 등으로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬 및 요오드를 들 수 있다.
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등으로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는 예를 들면, 상술한 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 아릴기로 치환된 기 등을 들 수 있고, 예를 들면, 벤질기, 플루오레닐기, 인데닐기, 9-플루오레닐메틸기, α-메틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, 페닐에틸기 및 나프틸프로필기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등은 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 5~12의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히, 탄소 원자수 6~10의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~10의 아릴알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등이 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기인 경우, 직쇄 또는 분기의 알킬기, 또는 직쇄 또는 분기의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 분기의 알킬기 또는 직쇄의 아릴알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등은 분기의 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 직쇄의 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 분기의 탄소 원자수 5~12의 알킬기 또는 직쇄의 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히, 분기의 탄소 원자수 6~10의 알킬기 또는 직쇄의 탄소 원자수 7~10의 아릴알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R156 등이 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
(3) 디알콕시카르바졸 화합물
상기 디알콕시카르바졸 화합물은 카르바졸 골격을 가지며, 더욱이, 카르바졸골격 중의 2개의 벤젠환 각각에 알콕시기를 가지는 디알콕시카르바졸 구조를 가지는 화합물이면 된다.
이와 같은 디알콕시카르바졸 화합물로는 하기 일반식(1000-1)로 나타내는 화합물을 들 수 있다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00011
(식 중 R1001은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R1002, R1003, R1004, R1005, R1006, R1007, R1008 및 R1009는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타내고, R1002, R1003, R1004 및 R1005 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이며, 또한 R1006, R1007, R1008 및 R1009 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이다.)
상기 일반식(1000-1) 중의 R1001로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 및 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기에 대해서는, 상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R155 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 및 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기와 마찬가지이다.
상기 일반식(1000-1) 중의 R1002~R1009(이하, R1002 등이라고 칭하는 경우가 있음.)에 사용되는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 할로겐 원자에 대해서는 상기 일반식(4-1)~(4-3) 중의 R156 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 및 할로겐 원자와 마찬가지이다.
상기 일반식(1000-1) 중의 R1002 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기의 벤젠환 측 말단의 메틸렌기가 산소 원자로 치환된 기를 들 수 있고, 구체적으로는 메톡시기, 에톡시기, 부톡시기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(1000-1) 중의 R1001은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~15의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 일반식(1000-1) 중의 R1002, R1003, R1004 및 R1005 중 적어도 하나의 기와 R1006, R1007, R1008 및 R1009 중 적어도 하나의 기는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이다.
본 발명에서는 R1002, R1003, R1004 및 R1005 중 R1003이, R1006, R1007, R1008 및 R1009 중 R1008이, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알콕시기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 1~15의 알콕시기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~5의 알콕시기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 탄소 원자수 1~3의 알콕시기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 일반식(1000-1) 중의 R1002 등으로 나타내는, 알콕시기 이외의 원자 또는 기로는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기가 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기가 바람직하며, 특히 수소 원자가 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 R1003 및 R1008이 각각 알콕시기인 경우, R1002, R1004 및 R1005 그리고 R1006, R1007 및 R1009가 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
(4) 기타
본 발명의 조성물은 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물 중 어느 한쪽만 포함하는 것이어도 되고, 양쪽을 포함하는 것이어도 된다.
본 발명에서는 경화 감도 및 분산 안정성의 밸런스가 뛰어나다는 관점에서, 벤조카르바졸 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 조성물이 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물 양쪽을 포함하는 경우, 벤조카르바졸 화합물의 함유량은 이들 화합물의 합계 100질량부 중에, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 특히, 90질량부 이상인 것이 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명의 조성물에서의 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는, 상기 광산발생제 100질량부에 대하여 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 80질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 20질량부 이상 70질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 30질량부 이상 65질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 40질량부 이상 60질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는 이들 화합물과, 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제의 합계 100질량부 중에 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량부 이상 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.5질량부 이상 3질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.7질량부 이상 2질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는, 상기 조성물 100질량부 중에, 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.2질량부 이상 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.3질량부 이상 2질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.4질량부 이상 1.8질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.5질량부 이상 1.5질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는 상기 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물과, 이들 이외의 증감제의 합계 100질량부 중에, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 특히 바람직하며, 100질량부, 즉, 상기 조성물이 증감제로서 특정 증감제만 포함하는 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명의 조성물은 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물에서 선택되는 어느 하나의 화합물만 포함하는 것이어도 되고, 2개 이상의 화합물을 포함하는 것이어도 된다.
본 발명에서는 경화 감도 및 분산 안정성의 밸런스가 뛰어나다는 관점에서, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물 중 적어도 한쪽을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 경화 감도 및 분산 안정성의 밸런스가 뛰어나다는 관점에서, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물 중 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물만 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물에서의, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는, 상기 광산발생제 100질량부에 대하여 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 80질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 20질량부 이상 70질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 30질량부 이상 65질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 40질량부 이상 60질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는 이들 화합물과 양이온 중합성 화합물과 광산발생제의 합계 100질량부 중에, 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량부 이상 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.5질량부 이상 3질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.7질량부 이상 2질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는, 상기 조성물 100질량부 중에, 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.2질량부 이상 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.3질량부 이상 2질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.4질량부 이상 1.8질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.5질량부 이상 1.5질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량으로는, 상기 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물과, 이들 이외의 증감제의 합계 100질량부 중에, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 특히 바람직하며, 100질량부, 즉, 상기 조성물이 증감제로서 특정 증감제만 포함하는 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
특정 증감제의 함유량의 대상인, 특정 증감제와 특정 증감제 이외의 증감제의 합계에 사용되는, 특정 증감제 이외의 증감제로는 구체적으로는, 후술할 "5. 기타 증감제"의 항에 기재된 증감제를 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 복소환 화합물로서의 카르바졸 유도체, 벤조페논 유도체, 티오크산톤 유도체, 티오크산텐 화합물, 복소환 화합물로서의 페노티아진 유도체 및 아민 화합물로서의 트리페닐아민 화합물을 들 수 있다.
2. 양이온 중합성 화합물
본 발명의 조성물은 양이온 중합성 화합물을 포함하는 것이다.
상기 양이온 중합성 화합물은 광산발생제로부터 발생한 산에 의해 중합 반응 또는 가교 반응을 일으키는 화합물이면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 양이온 중합성 화합물로는 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물 등의 환상 에테르 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 및 비닐 에테르 화합물 등을 들 수 있다. 양이온 중합성 화합물로서, 이들에서 선택되는 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 경화 감도 및 분산 안정성이 양호해지는 관점에서, 상기 양이온 중합성 화합물로서 환상 에테르 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
환상 에테르 화합물의 함유량은 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에, 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 특히 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 환상 에테르 화합물로는, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물이 바람직하고, 특히, 에폭시 화합물이 바람직하다. 에폭시 화합물을 포함함으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 에폭시 화합물에는 에폭시기를 포함하는 모든 화합물이 포함되는 것으로 한다. 예를 들면, 에폭시기 및 옥세탄기 양자를 포함하는 화합물은 에폭시 화합물에 해당하는 것이 된다.
이와 같은 에폭시 화합물로는 예를 들면, 방향족 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.
상기 지환식 에폭시 화합물은, 시클로헥센이나 시클로펜텐환 함유 화합물을 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는, 시클로헥센옥사이드나 시클로펜텐옥사이드 화합물과 같이, 지방족환과 에폭시환이 환구조의 일부를 공유하는 시클로알켄옥사이드 구조를 가지는 화합물이다.
상기 시클로알켄옥사이드 구조를 가지는 화합물로는, 하기 일반식(5-1)로 나타내는 화합물과 같은, 2 이상의 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 화합물을 들 수 있다. 이와 같은 화합물을 포함함으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00012
(식 중 X5는, 직접 결합 또는 연결기(1개 이상의 원자를 가지는 2가의 기)를 나타낸다.)
X5로 나타내는 연결기로는 예를 들면, 2가의 탄화수소기, 탄소-탄소 이중결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기, 카르보닐기, 에테르 결합, 에스테르 결합, 카보네이트기, 아미드기, 및 이들이 복수 연결된 기 등을 들 수 있다.
상기 2가의 탄화수소기로는 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~20의 알킬렌기를 들 수 있다.
상기 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 아밀기, 이소아밀기, t-아밀기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 이소옥틸기, 2-에틸헥실기, t-옥틸기, 노닐기, 이소노닐기, 데실기, 이소데실기, 운데실기, 도데실기, 테트라데실기, 헥사데실기, 옥타데실기, 이코실기 등의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기를 들 수 있다.
상기 2가의 탄화수소기로서의, 탄소 원자수 1~20의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기로는 메틸렌기, 메틸메틸렌기, 디메틸메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
상기 시클로알킬환으로는 단환식 탄화수소기, 가교 탄화수소환기 등을 들 수 있다.
상기 단환식 탄화수소기로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 시클로데실기, 메틸시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 트리메틸시클로헥실기, 테트라메틸시클로헥실기, 펜타메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기, 메틸시클로헵틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기를 들 수 있다.
상기 가교 탄화수소환기로는, 비시클로[2.1.1]헥실기, 비시클로[2.2.1]헵틸기, 비시클로[2.2.2]옥틸기, 비시클로[4.3.1]데실기, 비시클로[3.3.1]노닐기, 보닐기, 보네닐기, 노보닐기, 노보네닐기, 6,6-디메틸비시클로[3.1.1]헵틸기, 트리시클로부틸기, 아다만틸기를 들 수 있다.
X5로 나타내는 시클로알킬환을 가지는 알킬기로는 상기 시클로알킬기와, 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기를 조합한 기를 들 수 있다. 예를 들면, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 상기 시클로알킬기로 치환된 기, 직쇄 또는 분기의 알킬기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이 상기 시클로알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 기로 치환된 기, 상기 시클로알킬기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 상기 직쇄 또는 분기의 알킬기로 치환된 기 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 예를 들면, 1,2-시클로펜틸렌기, 1,3-시클로펜틸렌기, 시클로펜틸리덴기, 1,2-시클로헥실렌기, 1,3-시클로헥실렌기, 1,4-시클로헥실렌기, 시클로헥실리덴기 등의 시클로알킬렌기(시클로알킬리덴기를 포함함) 등을 들 수 있다.
상기 탄소-탄소 이중 결합의 일부 또는 전부가 에폭시화된 알케닐렌기(이하, "에폭시화알케닐렌기"라고 칭하는 경우가 있음.)에서의 알케닐렌기로는 예를 들면, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 1-부테닐렌기, 2-부테닐렌기, 부타디에닐렌기, 펜테닐렌기, 헥세닐렌기, 헵테닐렌기, 옥테닐렌기 등의 탄소 원자수 2~8의 직쇄 또는 분기의 알케닐렌기 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 X5가 연결기인 것이 바람직하고, 2가의 탄화수소기, 에스테르 결합, 또는 이들이 복수 연결된 기인 것이 바람직하며, 특히, 2가의 탄화수소기와 에스테르 결합이 연결된 기인 것이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 사용함으로써, 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 본 발명에서는 X5로 나타내는 2가의 탄화수소기가, 탄소 원자수 1~18의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 직쇄 또는 분기의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1~5의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 알킬렌기인 것이 더 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~3의 직쇄의 알킬기로부터 수소 원자를 1개 제거한 알킬렌기인 것이 바람직하다. 상기 탄소 원자수가 상술한 범위 내임으로써, 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 지환식 에폭시 화합물로서, 보다 구체적으로는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트, 6-메틸-3,4-에폭시시클로헥실메틸-6-메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-3-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-3-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-5-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-5-메틸시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 에폭시헥사하이드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사하이드로프탈산디-2-에틸헥실, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시-2-에폭시에틸시클로헥산, 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 및 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트 등이 바람직하다. 이와 같은 화합물을 포함함으로써, 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 지환식 에폭시 화합물로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허제6103653호 등에 기재된 것을 들 수 있다.
상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이면 제한은 없는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에 20질량부 이상으로 할 수 있고, 30질량부 이상 95질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 40질량부 이상 90질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 50질량부 이상 90질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 방향족 에폭시 화합물은 방향족환 및 에폭시기를 가지며, 시클로알켄옥사이드 구조를 가지지 않는 것이다.
이와 같은 방향족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 적어도 1개의 방향족환을 가지는 다가 페놀 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 또는 이들에 알킬렌옥사이드를 부가한 화합물의 글리시딜에테르, 및 에폭시 노볼락 수지 등을 들 수 있다.
또한, 레조르시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물의 글리시딜에테르; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 가지는 다염기산 방향족 화합물의 폴리글리시딜에스테르; 안식향산이나 톨루일산, 나프토산 등의 안식향산류의 글리시딜에스테르; 스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 페놀류의 폴리글리시딜에테르, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르, 다가 페놀류의 폴리글리시딜에테르, 안식향산류의 글리시딜에스테르 및 다염기산류의 폴리글리시딜에스테르가 바람직하고, 특히, 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 폴리글리시딜에테르가 바람직하다. 이와 같은 화합물을 포함함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 방향족 에폭시 화합물의 함유량은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이면 되는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에 0질량부 이상 60질량부 이하인 것이 바람직하고, 10질량부 이상 40질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 지방족 에폭시 수지는 에폭시기를 가지며, 시클로알켄옥사이드 구조 및 방향족환을 포함하지 않는 것이다.
이와 같은 지방족 에폭시 화합물로는 예를 들면, 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르; 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르; 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트의 비닐 중합에 의해 합성한 호모 폴리머; 글리시딜아크릴레이트 또는 글리시딜메타크릴레이트와 기타 비닐 모노머의 비닐 중합에 의해 합성한 코폴리머 등을 들 수 있다.
대표적인 화합물로서, 디올의 디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 소르비톨의 테트라글리시딜에테르, 디펜타에리트리톨의 헥사글리시딜에테르 등의, 다가 알코올의 글리시딜에테르, 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르, 및 지방족 장쇄 이염기산의 디글리시딜에스테르를 들 수 있다. 더욱이, 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜에테르, 페놀, 크레졸, 부틸페놀, 또는 이들에 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르알코올의 모노글리시딜에테르, 고급 지방산의 글리시딜에스테르, 에폭시화 대두유, 에폭시스테아르산옥틸, 에폭시스테아르산부틸 및 에폭시화폴리부타디엔 등을 들 수 있다.
또한, 상기 지방족 에폭시 화합물로서, 수소첨가 비스페놀A디글리시딜에테르 등의 방향족 에폭시 화합물의 수소첨가물도 사용할 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물로는 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물 등의, 에폭시시클로알킬환에서 유래하는 시클로알킬환에 옥시라닐기가 직접 단결합으로 결합된 구조를 구성 단위로서 가지며, 에폭시시클로알킬환의 에폭시기끼리가 중합된 구조를 주쇄 구조로서 가지는 화합물도 사용할 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물로서 사용되는, 디올의 디글리시딜에테르로는, 하기 일반식(5-2)로 나타내는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 화합물을 사용함으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00013
(식 중 Y5는 2가의 탄화수소기를 나타낸다.)
Y5로 나타내는 2가의 탄화수소기로는 예를 들면, 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기를 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상은 -O-로 치환되어 있어도 된다.
Y5로 나타내는 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기로는, 상기 X5로 나타내는 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬렌기와 동일한 기를 사용할 수 있다.
본 발명에서는 Y5가 분기를 가지는 기인 것이 바람직하다. 상기 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
본 발명에서는 Y5가 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 2~30의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 3~28의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 직쇄 혹은 분기의, 또는 시클로알킬환을 가지는 탄소 원자수 4~26의 알킬렌기인 것이 바람직하다. 또한, Y5가 직쇄 또는 분기의 알킬렌기이며, 메틸렌기가 -O-로 치환되어 있지 않은 알킬렌기인 경우, 그 탄소 원자수는 4~10인 것이 바람직하다. 상기 Y5가 직쇄 또는 분기이며, 메틸렌기가 -O-로 치환되어 있는 알킬렌기인 경우, Y5는 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리알킬렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제거한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수가 10~26이며, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜로부터 양 말단의 수산기를 제거한 구조를 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하다. Y5가 시클로알킬환을 가지는 알킬렌기인 경우, Y5는 탄소 원자수가 13~20이며, 시클로알킬환을 2개 가지는 알킬렌기인 것이 바람직하고, 특히 하기 일반식(5-3)으로 나타내는 기인 것이 바람직하다. Y5가 상술한 구조를 가짐으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00014
(식 중 R5a 및 R5b는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, *는 결합 부분을 나타낸다.)
상기 일반식(5-2)로 나타내는 지방족 디올 화합물의 디글리시딜에테르화물로는, 구체적으로는 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 등의 폴리알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르화물, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 시클로헥산디메틸올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,9-노난디올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
또한, Y5가 시클로알킬환을 가지는 것으로는, 예를 들면, 수소첨가 비스페놀의 디올의 디글리시딜에테르화물, 수소첨가 비스페놀A디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀AF디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀B디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀C디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀E디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀F디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀G디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀M디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀S디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀P디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀TMC디글리시딜에테르, 수소첨가 비스페놀Z디글리시딜에테르, 비스[4-(글리시딜옥시)시클로헥실]에테르, 4,4'-비시클로헥산올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이면 제한은 없는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에 10질량부 이상으로 할 수 있고, 15질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하며, 20질량부 이상 70질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 25질량부 이상 60질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물은 지방족 에폭시 화합물 및 지환식 에폭시 화합물 양자를 포함하는 것이 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물이 지방족 에폭시 화합물 및 지환식 에폭시 화합물 양자를 포함하는 경우, 상기 지방족 에폭시 화합물의 함유량은, 상기 지방족 에폭시 화합물 및 지환식 에폭시 화합물의 합계 100질량부 중에 5질량부 이상 90질량부 이하인 것이 바람직하고, 그 중에서도 10질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 15질량부 이상 40질량부 이하인 것이 바람직하다.
상기 방향족 및 지방족 에폭시 화합물로서 알맞게 사용할 수 있는 시판품으로는 예를 들면, 일본 특허공보 특허제6103653호 등에 기재된 것을 들 수 있다.
상기 옥세탄 화합물은 옥세탄환을 가지며, 에폭시기를 포함하지 않는 것이다.
이와 같은 옥세탄 화합물로는 예를 들면, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 3-(메타)알릴옥시메틸-3-에틸옥세탄, (3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸벤젠, 4-플루오로-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 4-메톡시-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, [1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)에틸]페닐에테르, 이소부톡시메틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 이소보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-에틸헥실(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 에틸디에틸렌글리콜(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜타디엔(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라하이드로푸르푸릴(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-테트라브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-트리브로모페녹시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시프로필(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 부톡시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타클로로페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타브로모페닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 보닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 3,3'-(1,3-(2-메틸레닐)프로판디일비스(옥시메틸렌))비스-(3-에틸옥세탄), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디시클로펜테닐비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리시클로데칸디일디메틸렌(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리메틸올프로판트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산, 펜타에리트리톨트리스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 폴리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디펜타에리트리톨테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 디트리메틸올프로판테트라키스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, PO 변성 수소첨가 비스페놀A비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, EO 변성 비스페놀F(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등을 들 수 있다.
상기 옥세탄 화합물이 가지는 옥세탄환의 수로는 1 이상이면 되는데, 1 이상 5 이하인 것이 바람직하고, 1 이상 3 이하인 것이 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 옥세탄 화합물의 함유량으로는 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이면 제한은 없는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에, 60질량부 이하로 할 수 있고, 5질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하며, 10질량부 이상 40질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물로는 티이란 화합물, 티에탄 화합물 등의 기타 화합물도 사용할 수 있다.
양이온 중합성 화합물로서 사용할 수 있는, 기타 화합물, 환상 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물 및 비닐에테르 화합물 등에 대해서는 일본 특허공보 특허제6103653호 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 양이온 중합성 화합물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이면 되고, 저분자량 화합물, 고분자량 화합물 중 어느 것이나 사용할 수 있다.
상기 양이온 중합성 화합물은 조성물의 코팅 용이성 등의 관점에서는 저분자량 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 저분자량 화합물은 조성물 중으로의 분산성 또는 용해성 등이 뛰어나기 때문에, 투명성이 뛰어난 경화물을 얻을 수 있는 점에서 바람직하다.
상기 저분자량 화합물의 분자량은 원하는 코팅성 등이 얻어지는 것이라면 제한은 없고, 예를 들면, 1000 이하로 할 수 있다.
상기 저분자량 화합물의 함유량은, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 얻을 수 있는 것이라면 제한은 없지만, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에, 10질량부 이상인 것이 바람직하고, 30질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 50질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 특히 바람직하며, 80질량부 이상인 것이 가장 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물의 함유량은, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 제한은 없는데, 예를 들면, 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물과, 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제의 합계 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 80질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 90질량부 이상인 것이 특히 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물의 함유량은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 제한은 없는데, 예를 들면, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물과, 양이온 중합성 화합물과, 광산발생제의 합계 100질량부 중에 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 80질량부 이상인 것이 더 바람직하고, 90질량부 이상인 것이 특히 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 양이온 중합성 화합물의 함유량은, 상기 조성물 100질량부 중에 30질량부 이상으로 할 수 있고, 40질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히 50질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 조성물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
3. 광산발생제
본 발명의 조성물은 광산발생제를 포함하는 것이다.
상기 광산발생제는 자외선 조사 등의 광 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 자외선의 조사에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그의 유도체인 것이 바람직하다. 경화 감도가 뛰어난 것이 되기 때문이다. 이와 같은 화합물의 대표적인 것으로는 하기 일반식(11)로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 들 수 있다.
Figure pct00015
일반식(11) 중의 양이온 [A]m+는 오늄인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식(11A)로 나타낼 수 있다.
Figure pct00016
여기서, R3은 탄소 원자수가 1~60이고, 탄소 원자 이외의 원자를 몇 개 포함하고 있어도 상관없는 유기 기이다. a는 1~5의 정수이다. a개의 R3은 각각 독립적으로, 동일해도 달라도 상관없다. 또한, 적어도 하나는 방향환을 가지는 상기 유기 기인 것이 바람직하다. 상기 R3이 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도가 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Q는 S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, N=N으로 이루어지는 군에서 선택되는 원자 혹은 원자단이다. 또한, 양이온 [A]m+ 중의 Q의 원자가를 q로 했을 때, m=a-q라는 관계가 성립되는 것이 필요하다(단, N=N은 원자가 0으로 취급함).
또한, 음이온 [B]m-는 할로겐화물 착체인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식(11B)로 나타낼 수 있다. 상기 음이온이 상술한 구조임으로써, 상기 조성물은 경화 감도가 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00017
여기서, L은 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 또는 반금속(Metalloid)이며, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co 등이다. X는 할로겐 원자 또는 할로겐화 알킬기이다. b는 3~7의 정수이다. 또한, 음이온 [B]m- 중의 L의 원자가를 p로 했을 때, m=b-p라는 관계가 성립되는 것이 필요하다.
상기 일반식의 음이온 [LXb]m-의 구체예로는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트[(C6F5)4B]-, 테트라플루오로보레이트(BF4)-, 헥사플루오로포스페이트(PF6)-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF6)-, 헥사플루오로알세네이트(AsF6)-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl6)-, 트리스(펜타플루오로메틸)트리플루오로인산 이온(FAP 음이온) 등을 들 수 있다.
또한, 음이온 [B]m-는 하기 일반식(11B-1)로 나타내는 구조의 것도 바람직하게 사용할 수 있다. 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
Figure pct00018
여기서, L, X, b는 상기와 마찬가지이다. 또한, 그 밖에 사용할 수 있는 음이온으로는, 과염소산 이온(ClO4)-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF3SO3)-, 플루오로설폰산 이온(FSO3)-, 톨루엔설폰산 음이온, 트리니트로벤젠설폰산 음이온, 캄퍼 설포네이트, 노나플로로부탄설포네이트, 헥사데카플로로옥탄설포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 이와 같은 오늄염 중에서도 하기의 (가)~(다)의 방향족 오늄염을 사용하는 것이 특히 유효하다. 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다. 이들 중에서, 그 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
(가) 페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트, 4-메톡시페닐디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 4-메틸페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트 등의 아릴디아조늄염
(나) 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-메틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-tert-부틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 톨릴쿠밀요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 디아릴요오도늄염
(다) 하기 군I 또는 군II로 나타내는 설포늄 양이온과 헥사플루오로안티몬 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온 등의 설포늄염
Figure pct00019
Figure pct00020
또한, 그 밖에 바람직한 것으로는 (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠〕-아이언-헥사플루오로포스페이트 등의 철-아렌 착체나, 트리스(아세틸아세토나토)알루미늄, 트리스(에틸아세토나토아세타토)알루미늄, 트리스(살리실알데히다토)알루미늄 등의 알루미늄 착체와 트리페닐실라놀 등의 실라놀류의 혼합물 등도 들 수 있다. 상기 조성물은 경화 감도 등이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
이들 중에서도 실용면과 광 감도의 관점에서, 방향족 요오도늄염, 방향족 설포늄염, 철-아렌 착체를 사용하는 것이 바람직하고, 하기 일반식(2)로 나타내는 방향족 설포늄염이 경화 감도의 점에서 더 바람직하다.
Figure pct00021
(식 중 R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29 및 R30은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R31, R32, R33 및 R34는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며, R35는 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 또는 하기 화학식(A)~(C)에서 선택되는 어느 하나의 치환기를 나타내고, Anq-는 q가의 음이온을 나타내며, p는 전하를 중성으로 하는 계수를 나타낸다.)
Figure pct00022
(식 중 R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 또는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기를 나타내고, R140, R141, R142, R143 및 R144는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타내며,
*는 식(2) 중의 S와의 결합 위치를 나타낸다.)
상기 일반식(2)로 나타내는 화합물에서, R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R31, R32, R33, R34, R35, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R140, R141, R142, R143, R144, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R31, R32, R33, R34, R35, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R140, R141, R142, R143, R144, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s-부틸, t-부틸, 이소부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 시클로헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 에틸옥틸, 2-메톡시에틸, 3-메톡시프로필, 4-메톡시부틸, 2-부톡시에틸, 메톡시에톡시에틸, 메톡시에톡시에톡시에틸, 3-메톡시부틸, 2-메틸티오에틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 브로모메틸, 디브로모메틸, 트리브로모메틸, 디플루오로에틸, 트리클로로에틸, 디클로로디플루오로에틸, 펜타플루오로에틸, 헵타플루오로프로필, 노나플루오로부틸, 데카플루오로펜틸, 트리데카플루오로헥실, 펜타데카플루오로헵틸, 헵타데카플루오로옥틸, 메톡시메틸, 1,2-에폭시에틸, 메톡시에틸, 메톡시에톡시메틸, 메틸티오메틸, 에톡시에틸, 부톡시메틸, t-부틸티오메틸, 4-펜테닐옥시메틸, 트리클로로에톡시메틸, 비스(2-클로로에톡시)메틸, 메톡시시클로헥실, 1-(2-클로로에톡시)에틸, 1-메틸-1-메톡시에틸, 에틸디티오에틸, 트리메틸실릴에틸, t-부틸디메틸실릴옥시메틸, 2-(트리메틸실릴)에톡시메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 에틸옥시카르보닐메틸, 에틸카르보닐메틸, t-부톡시카르보닐메틸, 아크릴로일옥시에틸, 메타크릴로일옥시에틸, 2-메틸-2-아다만틸옥시카르보닐메틸, 아세틸에틸, 2-메톡시-1-프로페닐, 하이드록시메틸, 2-하이드록시에틸, 1-하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필, 3-하이드록시부틸, 4-하이드록시부틸, 1,2-디하이드록시에틸 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로는, 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, s-부틸옥시, t-부틸옥시, 이소부틸옥시, 펜틸옥시, 이소아밀옥시, t-아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 시클로헥실메틸옥시, 테트라하이드로푸라닐옥시, 테트라하이드로피라닐옥시, 2-메톡시에틸옥시, 3-메톡시프로필옥시, 4-메톡시부틸옥시, 2-부톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에틸옥시, 메톡시에톡시에톡시에틸옥시, 3-메톡시부틸옥시, 2-메틸티오에틸옥시, 트리플루오로메틸옥시 등을 들 수 있다.
R21, R22, R23, R24, R25, R26, R27, R28, R29, R30, R121, R122, R123, R124, R125, R126, R127, R128, R129, R130, R131, R132, R133, R134, R136, R137, R138, R139, R145, R146, R147, R148 및 R149로 나타내는 탄소 원자수 2~10의 에스테르기로는, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 이소프로필옥시카르보닐, 페녹시카르보닐, 아세톡시, 프로피오닐옥시, 부티릴옥시, 클로로아세틸옥시, 디클로로아세틸옥시, 트리클로로아세틸옥시, 트리플루오로아세틸옥시, t-부틸카르보닐옥시, 메톡시아세틸옥시, 벤조일옥시 등을 들 수 있다.
상기 일반식(2) 중의 pAnq-로 나타내는 q가의 음이온으로는, 상술한 음이온 [B]m-로서 든 것과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 광산발생제의 함유량은 원하는 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있고, 0.5질량부 이상 4질량부 이하인 것이 바람직하며, 특히, 1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 광산발생제의 함유량은 원하는 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량부 이상 4질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히, 1질량부 이상 3질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
4. 색소
상기 조성물은 필요에 따라 색소를 포함할 수 있다.
상기 조성물은 색소를 포함함으로써, 예를 들면, 광학 필터 형성용으로서 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 색소로는 안료, 염료 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 분산 안정성이 뛰어나다는 효과를 보다 효과적으로 발휘하는 관점에서는 상기 색소가 안료, 염료를 포함하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 염료를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 색소를 사용함으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장을 선택적으로 흡수할 수 있는 광학 필터를 용이하게 형성하는 것이 가능한 것이 되기 때문이다.
또한, 염료는 양이온 중합성 화합물과 조합하여 사용함으로써, 원하는 파장범위에 급준(急峻)한 흡수 피크를 가지는 경화물, 즉, 흡수 피크의 범위 폭이 좁은 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 안료로는 예를 들면, 니트로소 화합물; 니트로 화합물; 아조 화합물; 디아조 화합물; 크산텐 화합물; 퀴놀린 화합물; 안트라퀴논 화합물; 쿠마린 화합물; 프탈로시아닌 화합물; 이소인돌리논 화합물; 이소인돌린 화합물; 퀴나크리돈 화합물; 안탄트론 화합물; 페리논 화합물; 페릴렌 화합물; 디케토피롤로피롤 화합물; 티오인디고 화합물; 디옥사진 화합물; 트리페닐메탄 화합물; 퀴노프탈론 화합물; 나프탈렌테트라카르복실산; 아조 염료, 시아닌 염료의 금속착체 화합물; 레이크 안료; 퍼니스법, 채널법 또는 서멀법에 의해 얻어지는 카본 블랙, 혹은 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙 또는 램프 블랙 등의 카본 블랙; 상기 카본 블랙을 에폭시 수지로 조정 또는 피복한 것, 상기 카본 블랙을 미리 용매 중에서 수지로 분산 처리하고, 20~200㎎/g의 수지를 흡착시킨 것, 상기 카본 블랙을 산성 또는 알카리성 표면 처리한 것, 평균 입경이 8㎚ 이상이고 DBP 흡유량이 90㎖/100g 이하인 것, 950℃에서의 휘발분 중의 CO 및 CO2로부터 산출한 전체 산소량이 카본 블랙의 표면적 100㎡당 9㎎ 이상인 것; 흑연, 흑연화 카본 블랙, 활성탄, 탄소섬유, 카본 나노 튜브, 카본 마이크로 코일, 카본 나노혼, 카본 에어로겔, 풀러렌; 아닐린 블랙, 피그먼트 블랙 7, 티탄 블랙; 산화크롬그린, 밀로리블루, 코발트그린, 코발트블루, 망간계, 페로시안화물, 인산염 군청, 감청, 울트라마린, 세룰리안 블루, 비리디언, 에메랄드그린, 황산납, 황색납, 아연황, 벵갈라(적색 산화철(III)), 카드뮴레드, 합성 철흑, 엄버, 체질 안료 등의 유기 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 이들 안료는 단독으로, 혹은 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 안료로는 시판의 안료를 사용할 수도 있고, 예를 들면, 피그먼트 레드 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; 피그먼트 오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; 피그먼트 그린 7, 10, 36; 피그먼트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다.
상기 염료로는 안트라퀴논계 색소, 인디고이드계 색소, 알리자린계 색소, 아크리딘계 색소, 스틸벤계 색소, 티아졸계 색소, 나프톨계 색소, 퀴놀린계 색소, 니트로계 색소, 인다민계 색소, 옥사진계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소 등의 염료 등을 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 된다. 이와 같은 염료로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 것을 사용할 수 있다.
상기 염료는 분산 안정성이 뛰어나다는 효과를 보다 효과적으로 발휘하는 관점에서는, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 피로메텐계 색소, 아조계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 크산텐계 색소, 트리아릴메탄계 색소인 것이 바람직하고, 그 중에서도 시아닌계 색소, 테트라아자포르피린계 색소, 트리아릴메탄계 색소인 것이 바람직하다. 상기 염료를 사용함으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 원하는 파장을 선택적으로 흡수할 수 있는 광학 필터를 용이하게 형성할 수 있게 되기 때문이다.
또한, 상기 염료는 양이온 중합성 화합물과 조합하여 사용함으로써, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물, 즉, 흡수 피크의 범위 폭이 좁은 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
상기 테트라아자포르피린계 색소로는 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 되는데, 하기 일반식(1)로 나타내는 색소를 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소는 양이온 중합성 화합물과 조합하여 사용함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어짐과 함께, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물, 즉, 흡수 피크의 범위 폭이 좁은 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00023
(식(1) 중 R1~R8은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 아미노기, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 또는 이들 기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기를 나타내고, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은, 서로 연결되어 피롤환의 탄소 원자를 포함하는 지환 구조를 형성하고 있어도 된다. 단, R1~R8 모두가 수소 원자인 것은 아니다. M은, 2개의 수소 원자, 2개의 1가의 금속 원자, 2가의 금속 원자, 또는 3가 혹은 4가의 금속 화합물을 나타낸다.)
상기 R1~R8은 동일해도 되고, 달라도 된다.
예를 들면, R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8은 각각 동일한 기여도 되고, 각각 다른 종류의 기여도 된다.
상기 R1~R8로 나타내는 할로겐 원자로는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 아미노기는, 제1급 아미노기, 제2급 아미노기 및 제3급 아미노기 중 어느 것이어도 된다.
제2급 아미노기 및 제3급 아미노기로는 각각 아미노기의 수소 원자의 1개 또는 2개가 탄소 원자수 1~30의 알킬기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 제2급 아미노기로는 예를 들면, 아미노기, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-n-부틸아미노기, N-시클로헥실아미노기, N-n-옥틸아미노기, N-n-데실아미노기, N-벤질아미노기, N-페닐아미노기, N-(3-메틸페닐)아미노기, N-(4-메틸페닐)아미노기, N-(4-n-부틸페닐)아미노기, N-(4-메톡시페닐)아미노기, N-(3-플루오로페닐)아미노기, N-(4-클로로페닐)아미노기, N-(1-나프틸)아미노기, N-(2-나프틸)아미노기를 들 수 있다.
상기 제3급 아미노기로는, N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디-n-부틸아미노기, N,N-디-n-헥실아미노기, N,N-디-n-옥틸아미노기, N,N-디-n-데실아미노기, N,N-디-n-도데실아미노기, N-메틸-N-에틸아미노기, N-에틸-N-n-부틸아미노기, N-메틸-N-페닐아미노기, N-에틸-N-페닐아미노기, N-n-부틸-N-페닐아미노기, N-벤질-N-페닐아미노기, N,N-디페닐아미노기, N,N-디(3-메틸페닐)아미노기, N,N-디(4-메틸페닐)아미노기, N,N-디(4-에틸페닐)아미노기, N,N-디(4-tert-부틸페닐)아미노기, N,N-디(4-n-헥실페닐)아미노기, N,N-디(4-메톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-에톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-n-부톡시페닐)아미노기, N,N-디(4-n-헥실옥시페닐)아미노기, N,N-디(1-나프틸)아미노기, N,N-디(2-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(3-메틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-메틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-옥틸페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-메톡시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-에톡시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-n-헥실옥시페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-플루오로페닐)아미노기, N-페닐-N-(1-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(2-나프틸)아미노기, N-페닐-N-(3-페닐페닐)아미노기, N-페닐-N-(4-페닐페닐)아미노기, N-카르바졸릴기, N-페녹사디일기, N-페노티아디일기 등도 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기는, 탄소 원자수 1~12의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하다. 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기여도 된다.
상기 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는, 보다 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 2,4-디메틸펜틸기, 시클로헥실메틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, 2,5-디메틸헥실기, 2,5,5-트리메틸헥실기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 2,6-디메틸-4-헵틸기, 3,5,5-트리메틸헥실기, n-데실기, 4-에틸옥틸기, n-운데실기, 1-메틸데실기, n-도데실기, 1,3,5,7-테트라메틸옥틸기, n-트리데실기, 1-헥실헵틸기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-에이코실기, n-트리코실기, n-테트라코실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 알킬기를 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 알킬기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 예를 들면, 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 불소, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥타노일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일, 옥살로일, 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 설파모일아미노, N,N-디메틸아미노설포닐아미노, 메틸설포닐아미노, 부틸설포닐아미노, 페닐설포닐아미노 등의 아미노기 함유기; 설폰아미드기, 설포닐기, 시아노기, 설포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 설폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 설포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수소 원자를 치환하는 치환기는 상술한 알킬기, 후술할 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 헤테로아릴기 등이어도 된다.
이와 같은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기로는 예를 들면, 아르알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기, 아릴옥시알킬기, 아르알킬옥시알킬기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등을 들 수 있다.
상기의 아르알킬기로는, 벤질기, α-메틸벤질기, α-에틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, α-페닐벤질기, α,α-디페닐벤질기, 페네틸기, α-메틸페네틸기, β-메틸페네틸기, α,α-디메틸페네틸기, 4-메틸페네틸기, 4-메틸벤질기, 3-메틸벤질기, 2-메틸벤질기, 4-에틸벤질기, 2-에틸벤질기, 4-이소프로필벤질기, 4-tert-부틸벤질기, 2-tert-부틸벤질기, 4-tert-펜틸벤질기, 4-시클로헥실벤질기, 4-n-옥틸벤질기, 4-tert-옥틸벤질기, 4-페닐벤질기, 4-(4'-메틸페닐)벤질기, 4-(4'-tert-부틸페닐)벤질기, 4-(4'-메톡시페닐)벤질기, 4-메톡시벤질기, 3-메톡시벤질기, 2-에톡시벤질기, 4-n-부톡시벤질기, 4-n-헵틸옥시벤질기, 3,4-디메톡시벤질기, 4-플루오로벤질기, 2-플루오로벤질기, 4-클로로벤질기, 3-클로로벤질기, 2-클로로벤질기, 3,4-디클로로벤질기, 2-푸르푸릴기, 1-나프틸메틸기, 2-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알킬기로는, 플루오로메틸기, 3-플루오로프로필기, 6-플루오로헥실기, 8-플루오로옥틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필기, 1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실기, 6-플루오로헥실기, 4-플루오로시클로헥실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥사데실기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로-n-프로필기, 퍼플루오로-n-펜틸기, 퍼플루오로-n-헥실기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필기, 디클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 3-클로로프로필기, 4-클로로시클로헥실기, 7-클로로헵틸기, 8-클로로옥틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알킬기로는, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, n-부톡시메틸기, n-펜틸옥시메틸기, n-헥실옥시메틸기, (2-에틸부틸옥시)메틸기, n-헵틸옥시메틸기, n-옥틸옥시메틸기, n-데실옥시메틸기, n-도데실옥시메틸기, 2-메톡시에틸기, 2-에톡시에틸기, 2-n-프로폭시에틸기, 2-이소프로폭시에틸기, 2-n-부톡시에틸기, 2-n-펜틸옥시에틸기, 2-n-헥실옥시에틸기, 2-(2'-에틸부틸옥시)에틸기, 2-n-헵틸옥시에틸기, 2-n-옥틸옥시에틸기, 2-(2'-에틸헥실옥시)에틸기, 2-n-데실옥시에틸기, 2-n-도데실옥시에틸기, 2-n-테트라데실옥시에틸기, 2-시클로헥실옥시에틸기, 2-메톡시프로필기, 3-메톡시프로필기, 3-에톡시프로필기, 3-n-프로폭시프로필기, 3-이소프로폭시프로필기, 3-n-부톡시프로필기, 3-n-펜틸옥시프로필기, 3-n-헥실옥시프로필기, 3-(2'-에틸부톡시)프로필기, 3-n-옥틸옥시프로필기, 3-(2'-에틸헥실옥시)프로필기, 3-n-데실옥시프로필기, 3-n-도데실옥시프로필기, 3-n-테트라데실옥시프로필기, 3-시클로헥실옥시프로필기, 4-메톡시부틸기, 4-에톡시부틸기, 4-n-프로폭시부틸기, 4-이소프로폭시부틸기, 4-n-부톡시부틸기, 4-n-헥실옥시부틸기, 4-n-옥틸옥시부틸기, 4-n-데실옥시부틸기, 4-n-도데실옥시부틸기, 5-메톡시펜틸기, 5-에톡시펜틸기, 5-n-프로폭시펜틸기, 5-n-펜틸옥시펜틸기, 6-메톡시헥실기, 6-에톡시헥실기, 6-이소프로폭시헥실기, 6-n-부톡시헥실기, 6-n-헥실옥시헥실기, 6-n-데실옥시헥실기, 4-메톡시시클로헥실기, 7-메톡시헵틸기, 7-에톡시헵틸기, 7-이소프로폭시헵틸기, 8-메톡시옥틸기, 8-에톡시옥틸기, 9-메톡시노닐기, 9-에톡시노닐기, 10-메톡시데실기, 10-에톡시데실기, 10-n-부톡시데실기, 11-메톡시운데실기, 11-에톡시운데실기, 12-메톡시도데실기, 12-에톡시도데실기, 12-이소프로폭시도데실기, 14-메톡시테트라데실기, 테트라하이드로푸르푸릴기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 알콕시알콕시알킬기로는 (2-메톡시에톡시)메틸기, (2-에톡시에톡시)메틸기, (2-n-부틸옥시에톡시)메틸기, (2-n-헥실옥시에톡시)메틸기, (3-메톡시프로필옥시)메틸기, (3-에톡시프로필옥시)메틸기, (3-n-부틸옥시프로필옥시)메틸기, (3-n-펜틸옥시프로필옥시)메틸기, (4-메톡시부틸옥시)메틸기, (6-메톡시헥실옥시)메틸기, (10-에톡시데실옥시)메틸기, 2-(2'-메톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-에톡시에톡시)에틸기, 2-(2'-n-부톡시에톡시)에틸기, 3-(2'-에톡시에톡시)프로필기, 3-(2'-메톡시프로필옥시)프로필기, 3-(2'-이소프로필옥시프로필옥시)프로필기, 3-(3'-메톡시프로필옥시)프로필기, 3-(3'-에톡시프로필옥시)프로필기 등을 들 수 있다.
상기 아릴옥시알킬기로는, 페닐옥시메틸기, 4-메틸페닐옥시메틸기, 3-메틸페닐옥시메틸기, 2-메틸페닐옥시메틸기, 4-에틸페닐옥시메틸기, 4-n-프로필페닐옥시메틸기, 4-n-부틸페닐옥시메틸기, 4-tert-부틸페닐옥시메틸기, 4-n-헥실페닐옥시메틸기, 4-n-옥틸페닐옥시메틸기, 4-n-데실페닐옥시메틸기, 4-메톡시페닐옥시메틸기, 4-에톡시페닐옥시메틸기, 4-부톡시페닐옥시메틸기, 4-n-펜틸옥시페닐옥시메틸기, 4-플루오로페닐옥시메틸기, 3-플루오로페닐옥시메틸기, 2-플루오로페닐옥시메틸기, 3,4-디플루오로페닐옥시메틸기, 4-클로로페닐옥시메틸기, 2-클로로페닐옥시메틸기, 4-페닐페닐옥시메틸기, 1-나프틸옥시메틸기, 2-나프틸옥시메틸기, 2-푸릴옥시메틸기, 1-페닐옥시에틸기, 2-페닐옥시에틸기, 2-(4'-메틸페닐옥시)에틸기, 2-(4'-에틸페닐옥시)에틸기, 2-(4'-n-헥실페닐옥시)에틸기, 2-(4'-메톡시페닐옥시)에틸기, 2-(4'-n-부톡시페닐옥시)에틸기, 2-(4'-플루오로페닐옥시)에틸기, 2-(4'-클로로페닐옥시)에틸기, 2-(4'-브로모페닐옥시)에틸기, 2-(1'-나프틸옥시)에틸기, 2-(2'-나프틸옥시)에틸기, 2-페닐옥시프로필기, 3-페닐옥시프로필기, 3-(4'-메틸페닐옥시)프로필기, 3-(2'-나프틸옥시)프로필기, 4-페닐옥시부틸기, 4-(2'-에틸페닐옥시)부틸기, 4-페닐옥시펜틸기, 5-페닐옥시펜틸기, 5-(4'-tert-부틸페닐옥시)펜틸기, 6-페닐옥시헥실기, 6-(2'-클로로페닐옥시)헥실기, 8-페닐옥시옥틸기, 10-페닐옥시데실기, 10-(3'-메틸페닐옥시)데실기 등을 들 수 있다.
상기 아르알킬옥시알킬기로는, 벤질옥시메틸기, 페네틸옥시메틸기, 4-메틸벤질옥시메틸기, 3-메틸벤질옥시메틸기, 4-n-프로필벤질옥시메틸기, 4-n-옥틸벤질옥시메틸기, 4-메톡시벤질옥시메틸기, 4-에톡시벤질옥시메틸기, 4-n-부톡시벤질옥시메틸기, 4-플루오로벤질옥시메틸기, 3-플루오로벤질옥시메틸기, 2-플루오로벤질옥시메틸기, 4-클로로벤질옥시메틸기, 4-페닐벤질옥시메틸기, 2-벤질옥시에틸기, 2-페네틸옥시에틸기, 2-(4'-메틸벤질옥시)에틸기, 2-(2'-메틸벤질옥시)에틸기, 2-(4'-플루오로벤질옥시)에틸기, 2-(4'-클로로벤질옥시)에틸기, 3-벤질옥시프로필기, 3-(4'-메톡시벤질옥시)프로필기, 4-벤질옥시부틸기, 4-(4'-페닐벤질옥시)부틸기, 5-(4'-메틸벤질옥시)펜틸기, 6-벤질옥시헥실기, 8-벤질옥시옥틸기 등을 들 수 있다.
상기의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기로는, 플루오로메틸옥시메틸기, 3-플루오로-n-프로필옥시메틸기, 6-플루오로-n-헥실옥시메틸기, 트리플루오로메틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시메틸기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실옥시메틸기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실옥시메틸기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필옥시메틸기, 3-클로로-n-프로필옥시메틸기, 2-(8-플루오로-n-옥틸옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)에틸기, 2-(1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시)에틸기, 2-(6-플루오로-n-헥실옥시)에틸기, 2-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시)에틸기, 3-(4-플루오로시클로헥실옥시)프로필기, 3-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)프로필기, 3-(1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실옥시)프로필기, 4-(퍼플루오로-n-헥실옥시)부틸기, 4-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)부틸기, 6-(2-클로로에틸옥시)헥실기, 6-(1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시)헥실기 등의 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시알킬기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 탄소 원자수 1~12의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기인 것이 바람직하다. 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 1~30의 알콕시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기여도 된다.
상기 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, n-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 3,3-디메틸부틸옥시기, 2-에틸부틸옥시기, 시클로헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, n-노닐옥시기, n-데실옥시기, n-운데실옥시기, n-도데실옥시기, n-트리데실옥시기, n-테트라데실옥시기, n-펜타데실옥시기, n-헥사데실옥시기, n-헵타데실옥시기, n-옥타데실옥시기, n-에이코실옥시기, n-트리코실옥시기, n-테트라코실옥시기 등을 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 알콕시기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는, 상기 알킬기 중의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기로는, 보다 구체적으로는 아르알킬옥시기, 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기 등을 들 수 있다.
상기 아르알킬옥시기로는, 벤질옥시기, α-메틸벤질옥시기, α-에틸벤질옥시기, α,α-디메틸벤질옥시기, α-페닐벤질옥시기, α,α-디페닐벤질옥시기, 페네틸옥시기, α-메틸페네틸옥시기, β-메틸페네틸옥시기, α,α-디메틸페네틸옥시기, 4-메틸페네틸옥시기, 4-메틸벤질옥시기, 3-메틸벤질옥시기, 2-메틸벤질옥시기, 4-에틸벤질옥시기, 2-에틸벤질옥시기, 4-이소프로필벤질옥시기, 4-tert-부틸벤질옥시기, 2-tert-부틸벤질옥시기, 4-tert-펜틸벤질옥시기, 4-시클로헥실벤질옥시기, 4-n-옥틸벤질옥시기, 4-tert-옥틸벤질옥시기, 4-페닐벤질옥시기, 4-(4'-메틸페닐)벤질옥시기, 4-(4'-tert-부틸페닐)벤질옥시기, 4-(4'-메톡시페닐)벤질옥시기, 4-메톡시벤질옥시기, 3-메톡시벤질옥시기, 2-에톡시벤질옥시기, 4-n-부톡시벤질옥시기, 4-n-헵틸옥시벤질옥시기, 3,4-디메톡시벤질옥시기, 4-플루오로벤질옥시기, 2-플루오로벤질옥시기, 4-클로로벤질옥시기, 3-클로로벤질옥시기, 2-클로로벤질옥시기, 3,4-디클로로벤질옥시기, 2-푸르푸릴옥시기, 1-나프틸메틸옥시기, 2-나프틸메틸옥시기 등을 들 수 있다.
상기 직쇄, 분기 또는 환상의 할로게노알콕시기로는, 플루오로메틸옥시기, 3-플루오로프로필옥시기, 6-플루오로헥실옥시기, 8-플루오로옥틸옥시기, 트리플루오로메틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로에틸옥시기, 2,2,2-트리플루오로에틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시기, 1,1,3-트리하이드로-퍼플루오로-n-프로필옥시기, 2-하이드로-퍼플루오로-2-프로필옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-부틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-펜틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥실옥시기, 6-플루오로헥실옥시기, 4-플루오로시클로헥실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-옥틸옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-도데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-테트라데실옥시기, 1,1-디하이드로-퍼플루오로-n-헥사데실옥시기, 퍼플루오로에틸옥시기, 퍼플루오로-n-프로필옥시기, 퍼플루오로-n-펜틸옥시기, 퍼플루오로-n-헥실옥시기, 2,2-비스(트리플루오로메틸)프로필옥시기, 디클로로메틸옥시기, 2-클로로에틸옥시기, 3-클로로프로필옥시기, 4-클로로시클로헥실옥시기, 7-클로로헵틸옥시기, 8-클로로옥틸옥시기, 2,2,2-트리클로로에틸옥시기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 탄소 원자수 6~20의 아릴기인 것이 바람직하고, 특히, 탄소 원자수 6~16의 아릴기인 것이 바람직하다. 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 R1~R8은, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 및 상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 예를 들면, 페닐기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-에틸페닐기, 4-n-프로필페닐기, 4-이소프로필페닐기, 4-n-부틸페닐기, 4-이소부틸페닐기, 4-tert-부틸페닐기, 4-n-펜틸페닐기, 4-이소펜틸페닐기, 4-tert-펜틸페닐기, 4-n-헥실페닐기, 4-시클로헥실페닐기, 4-n-헵틸페닐기, 4-n-옥틸페닐기, 4-n-노닐페닐기, 4-n-데실페닐기, 4-n-운데실페닐기, 4-n-도데실페닐기, 4-n-테트라데실페닐기, 4-n-헥사데실페닐기, 4-n-옥타데실페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기, 2,3,5,6-테트라메틸페닐기, 5-인다닐기, 1,2,3,4-테트라하이드로-5-나프틸기, 1,2,3,4-테트라하이드로-6-나프틸기, 2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 3-에톡시페닐기, 4-에톡시페닐기, 4-n-프로폭시페닐기, 4-이소프로폭시페닐기, 4-n-부톡시페닐기, 4-이소부톡시페닐기, 4-n-펜틸옥시페닐기, 4-n-헥실옥시페닐기, 4-시클로헥실옥시페닐기, 4-n-헵틸옥시페닐기, 4-n-옥틸옥시페닐기, 4-n-노닐옥시페닐기, 4-n-데실옥시페닐기, 4-n-운데실옥시페닐기, 4-n-도데실옥시페닐기, 4-n-테트라데실옥시페닐기, 4-n-헥사데실옥시페닐기, 4-n-옥타데실옥시페닐기, 2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,5-디에톡시페닐기, 2-메톡시-4-메틸페닐기, 2-메톡시-5-메틸페닐기, 3-메톡시-4-메틸페닐기, 2-메틸-4-메톡시페닐기, 3-메틸-4-메톡시페닐기, 3-메틸-5-메톡시페닐기, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기, 2-클로로페닐기, 3-클로로페닐기, 4-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 4-트리플루오로메틸페닐기, 3-트리플루오로메틸페닐기, 2,4-디플루오로페닐기, 3,5-디플루오로페닐기, 2,4-디클로로페닐기, 3,4-디클로로페닐기, 3,5-디클로로페닐기, 2-메틸-4-클로로페닐기, 2-클로로-4-메틸페닐기, 3-클로로-4-메틸페닐기, 2-클로로-4-메톡시페닐기, 3-메톡시-4-플루오로페닐기, 3-메톡시-4-클로로페닐기, 3-플루오로-4-메톡시페닐기, 4-페닐페닐기, 3-페닐페닐기, 2-페닐페닐기, 4-(4'-메틸페닐)페닐기, 4-(4'-메톡시페닐)페닐기, 3,5-디페닐페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 4-에톡시-1-나프틸기, 6-n-부틸-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-에톡시-2-나프틸기, 2-푸릴기, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기, 4-아미노페닐기, 3-아미노페닐기, 2-아미노페닐기, 4-(N-메틸아미노)페닐기, 3-(N-메틸아미노)페닐기, 4-(N-에틸아미노)페닐기, 2-(N-이소프로필아미노)페닐기, 4-(N-n-부틸아미노)페닐기, 2-(N-n-부틸아미노)페닐기, 4-(N-n-옥틸아미노)페닐기, 4-(N-n-도데실아미노)페닐기, 4-N-벤질아미노페닐기, 4-N-페닐아미노페닐기, 2-N-페닐아미노페닐기, 4-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 3-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 2-(N,N-디메틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디에틸아미노)페닐기, 2-(N,N-디에틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디-n-부틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디-n-헥실아미노)페닐기, 4-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)페닐기, 4-(N,N-디에틸아미노)-1-나프틸기, 4-피롤리디노페닐기, 4-피페리디노페닐기, 4-모르폴리노페닐기, 4-피롤리디노-1-나프틸기, 4-(N-벤질-N-메틸아미노)페닐기, 4-(N-벤질-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-메틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-에틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N-n-부틸-N-페닐아미노)페닐기, 4-(N,N-디페닐아미노)페닐기, 2-(N,N-디페닐아미노)페닐기, 4-〔N,N-디(4'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(3'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-에틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-tert-부틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-헥실페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-메톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-에톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-부톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(4'-n-헥실옥시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(1'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N,N-디(2'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(3'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-메틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-옥틸페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-메톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-에톡시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-n-헥실옥시페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-플루오로페닐)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(1'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(2'-나프틸)아미노〕페닐기, 4-〔N-페닐-N-(4'-페닐페닐)아미노〕페닐기, 4-(N,N-디페닐아미노)-1-나프틸기, 6-(N,N-디페닐아미노)-2-나프틸기, 4-(N-카르바졸릴)페닐기, 4-(N-페녹사디일)페닐기 등을 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 6~16의 아릴옥시기인 것이 바람직하다. 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는, 아릴옥시기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 예를 들면, 페녹시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 3-에틸페닐옥시기, 4-에틸페닐옥시기, 4-n-프로필페닐옥시기, 4-이소프로필페닐옥시기, 4-n-부틸페닐옥시기, 4-이소부틸페닐옥시기, 4-tert-부틸페닐옥시기, 4-n-펜틸페닐옥시기, 4-이소펜틸페닐옥시기, 4-tert-펜틸페닐옥시기, 4-n-헥실페닐옥시기, 4-시클로헥실페닐옥시기, 4-n-헵틸페닐옥시기, 4-n-옥틸페닐옥시기, 4-n-노닐페닐옥시기, 4-n-데실페닐옥시기, 4-n-운데실페닐옥시기, 4-n-도데실페닐옥시기, 4-n-테트라데실페닐옥시기, 4-n-헥사데실페닐옥시기, 4-n-옥타데실페닐옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5,6-테트라메틸페닐옥시기, 5-인다닐옥시기, 1,2,3,4-테트라하이드로-5-나프틸옥시기, 1,2,3,4-테트라하이드로-6-나프틸옥시기 등을 들 수 있다.
치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴옥시기로는 2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 3-에톡시페닐옥시기, 4-에톡시페닐옥시기, 4-n-프로폭시페닐옥시기, 4-이소프로폭시페닐옥시기, 4-n-부톡시페닐옥시기, 4-이소부톡시페닐옥시기, 4-n-펜틸옥시페닐옥시기, 4-n-헥실옥시페닐옥시기, 4-시클로헥실옥시페닐옥시기, 4-n-헵틸옥시페닐옥시기, 4-n-옥틸옥시페닐옥시기, 4-n-노닐옥시페닐옥시기, 4-n-데실옥시페닐옥시기, 4-n-운데실옥시페닐옥시기, 4-n-도데실옥시페닐옥시기, 4-n-테트라데실옥시페닐옥시기, 4-n-헥사데실옥시페닐옥시기, 4-n-옥타데실옥시페닐옥시기, 2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디에톡시페닐옥시기, 2-메톡시-4-메틸페닐옥시기, 2-메톡시-5-메틸페닐옥시기, 3-메톡시-4-메틸페닐옥시기, 2-메틸-4-메톡시페닐옥시기, 3-메틸-4-메톡시페닐옥시기, 3-메틸-5-메톡시페닐옥시기 등도 들 수 있다.
또한, 2-플루오로페닐옥시기, 3-플루오로페닐옥시기, 4-플루오로페닐옥시기, 2-클로로페닐옥시기, 3-클로로페닐옥시기, 4-클로로페닐옥시기, 4-브로모페닐옥시기, 4-트리플루오로메틸페닐옥시기, 3-트리플루오로메틸페닐옥시기, 2,4-디플루오로페닐옥시기, 3,5-디플루오로페닐옥시기, 2,4-디클로로페닐옥시기, 3,4-디클로로페닐옥시기, 3,5-디클로로페닐옥시기, 2-메틸-4-클로로페닐옥시기, 2-클로로-4-메틸페닐옥시기 등도 들 수 있다.
더욱이, 3-클로로-4-메틸페닐옥시기, 2-클로로-4-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시-4-플루오로페닐옥시기, 3-메톡시-4-클로로페닐옥시기, 3-플루오로-4-메톡시페닐옥시기, 4-페닐페닐옥시기, 3-페닐페닐옥시기, 2-페닐페닐옥시기, 4-(4'-메틸페닐)페닐옥시기, 4-(4'-메톡시페닐)페닐옥시기, 3,5-디페닐페닐옥시기, 1-나프틸옥시기, 2-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 4-에톡시-1-나프틸옥시기, 6-n-부틸-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-에톡시-2-나프틸옥시기 등도 들 수 있다.
상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 예를 들면, 헤테로 원자로서, 질소 원자, 산소 원자, 또는 황 원자를 적어도 하나 이상 포함하는 방향족 헤테로환을 들 수 있다.
또한, 상기 R1~R8은 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기 중의 수소 원자가 치환기로 치환된 기, 즉, 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기여도 된다.
상기 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는, 헤테로아릴기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 치환기로 치환되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 수소 원자를 치환하는 치환기로는 상기 알킬기의 수소 원자를 치환하는 치환기로서 든 것 등을 들 수 있다.
상기 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기, 즉, 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 6~30의 헤테로아릴기, 및 치환기를 가지는 탄소 원자수 2~30의 헤테로아릴기로는 예를 들면, 푸라닐기, 피롤릴기, 3-피롤리노기, 피라졸릴기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 티아졸릴기, 1,2,3-옥사디아졸릴기, 1,2,3-트리아졸릴기, 1,2,4-트리아졸릴기, 1,3,4-티아디아졸릴기, 피리디닐기, 피리다지닐기, 피리미디닐기, 피라지닐기, 피페라지닐기, 트리아지닐기, 벤조푸라닐기, 인돌릴기, 티오나프세닐기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조트리아졸-2-일기, 벤조트리아졸-1-일기, 푸리닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기, 쿠마리닐기, 신놀리닐기, 퀴녹살리닐기, 디벤조푸라닐기, 카르바졸릴기, 페난트로닐릴기, 페노티아지닐기, 플라보닐기, 프탈이미드기, 나프틸이미드기 등을 들 수 있다.
상기 R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 또는 R7과 R8이 서로 연결되어 형성하는 지환 구조로는, R1 등이 결합해 있는 피롤환의 탄소 원자를 포함하여 형성된, 탄소 원자수 3~20의 지환식 탄화수소기를 들 수 있고, 예를 들면, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 디메틸시클로헥산, t-부틸시클로헥산, 시아노시클로헥산, 디클로로시클로헥산 등의 지환 구조를 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 R1~R8은, 수소 원자, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 또는 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 6~30의 아릴기인 것이 바람직하다. 상술한 기임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
R1과 R2, R3과 R4, R5와 R6 및 R7과 R8의 조합으로는, 원하는 파장의 광을 흡수할 수 있는 것이라면 어떤 조합이어도 되는데, 구체적으로는 (i) 수소 원자와 알킬기의 조합, (ii) 알킬기와 알콕시기의 조합, (iii) 알킬기와 아릴기의 조합 등인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, R1, R3, R5 및 R7은 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
더욱이, R2, R4, R6 및 R8은 다른 기여도 되는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 (i)의 조합으로는 수소 원자와, 치환기를 가지지 않거나 혹은 치환기를 가지는 탄소 원자수 1~30의 알킬기의 조합이 바람직하고, 수소 원자와 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 1~10의 알킬기의 조합이 보다 바람직하며, 특히, 수소 원자와 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 2~5의 알킬기의 조합이 바람직하다. 상술한 조합임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 R1, R3, R5 및 R7이 수소 원자이며, 또한 R2, R4, R6 및 R8이 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기 등의 치환기를 가지지 않는 탄소 원자수 3~5의 분기의 알킬기인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 M으로 나타내는 2가의 금속 원자로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 금속 원자를 들 수 있다. 구체적으로는, Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Pb, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Pb 등을 들 수 있다.
M으로 나타내는 1가의 금속 원자로는 예를 들면, Na, K, Li 등을 들 수 있다.
또한, M으로 나타내는 3가 혹은 4가의 금속 화합물로는 예를 들면, 주기율표 제3족~제15족에 속하는 3가 또는 4가의 금속, 할로겐화물, 수산화물 및 산화물 등을 들 수 있다. 상기 금속 화합물로는, 구체적으로는 AlCl, AlOH, InCl, FeCl, MnOH, SiCl2, SnCl2, GeCl2, Si(OH)2, Si(OCH3)2, Si(OPh)2, Si(OSiCH3)2, Sn(OH)2, Ge(OH)2, VO, TiO 등을 들 수 있다.
상기 M으로는 그 중에서도 Cu, Zn, Co, Ni, Pb, Pd, Pt, Mn, VO, TiO인 것이 바람직하고, 특히, Cu, Co, Ni, Pd, VO인 것이 바람직하다.
상기 일반식(1)로 나타내는 테트라아자포르피린계 색소로는 보다 구체적으로는, 일본 공개특허공보 특개2017-68221호에 기재된 일반식(1)의 구체예로서 들고 있는 것과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소의 제조 방법으로는 공지의 방법을 이용할 수 있고, 예를 들면, J. Gen. Chem. USSR vol.47, 1954-1958(1977)에 기재되어 있는 방법에 준하여 제조할 수 있다.
상기 테트라아자포르피린계 색소의 시판품으로는 예를 들면, PD-311S, PD-320, NC-35, SNC-8(이상, 야마모토 카세이 가부시키가이샤 제품), FDG-004, FDG-007(이상, 야마다 가가쿠 고교 가부시키가이샤) 등을 들 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소로는, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 하기 일반식(301)로 나타내는 색소를 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 트리아릴메탄계 색소는, 양이온 중합성 화합물과 조합하여 사용함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어짐과 함께, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물, 즉, 흡수 피크의 범위 폭이 좁은 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00024
(식 중 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 수산기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R311, R312, R313, R314, R315 및 R316은, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 나타내거나, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기 혹은 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 페닐기 혹은 상기 페닐기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기, 또는 벤질기 혹은 상기 벤질기 중의 수소 원자가 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 비닐기로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316은, 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되며,
R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316은, 연결되어 3~6원환의 복소환을 형성하고 있어도 되고,
R303과 R304 및 R307과 R308은, 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 통해 연결되어 환을 형성하고 있어도 되며,
R304와 R305, R306과 R307은, 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되고,
X는, 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR317R318, CO, NR319, PR320 또는 SO2를 나타내며,
R317 및 R318은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기, 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 혹은 상기 알콕시기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내고,
R319 및 R320은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기 혹은 상기 알킬기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 나타내며,
Anq1-는 q1가의 음이온을 나타내고, q1은 1 또는 2를 나타내며, p1은 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는, 기 중의 수소 원자가 시아노기, 니트로기, 수산기, 할로겐 원자로 치환되어 있는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는, 상기 탄소 원자수 1~8의 알킬기 중의 수소 원자의 일부 또는 전부가 시아노기, 니트로기, 수산기, 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 알콕시기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316 그리고 X가 CR317R318로 나타내질 때의 R317 및 R318, X가 NR319로 나타내질 때의 R319, X가 PR320으로 나타내질 때의 R320으로 나타내는, 기 중의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환되어 있는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로는, 상기 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 중의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있는 기를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309, R310, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316으로 나타내는 할로겐 원자로는, 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R311, R312, R313, R314, R315 및 R316으로 나타내는 탄소 원자수 1~4의 알킬기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R301과 R311, R302와 R312, R305와 R313, R306과 R314, R309와 R315 및 R310과 R316이 연결되어 형성할 수 있는 6원환으로는, 피페리딘환, 피리딘환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환 등을 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R311과 R312, R313과 R314, 및 R315와 R316이 연결되어 형성할 수 있는 3~6원환의 복소환으로는, 피페리딘환, 피페라진환, 피롤리딘환, 모르폴린환, 티오모르폴린환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 이미다졸환, 옥사졸환, 이미다졸리딘환, 피라졸리딘환, 이소옥사졸리딘환, 이소티아졸리딘환 등을 들 수 있다.
상기 일반식(301)에서의 R304와 R305, R306과 R307이 연결되어 형성할 수 있는 6원환으로는 벤젠환을 들 수 있고, 이들 환은 다른 환과 축합되어 있거나, 치환되어 있어도 상관없다.
상기 일반식(301) 중의 Anq1-로 나타내는 음이온으로는 예를 들면, 1가의 음이온 또는 2가의 음이온을 들 수 있다.
예를 들면 1가의 음이온으로는 염화물 이온, 브롬화물 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온 등의 할로겐화물 이온; 과염소산 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온 등의 무기계 음이온; 메탄설폰산 이온, 도데실설폰산 이온, 벤젠설폰산 이온, 톨루엔설폰산 이온, 트리플루오로메탄설폰산 이온, 나프탈렌설폰산 이온, 디페닐아민-4-설폰산 이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠설폰산 이온, 2-아미노-5-니트로벤젠설폰산 이온, 프탈로시아닌설폰산 이온, 중합성 치환기를 가지는 설폰산 이온, 일본 공개특허공보 특개평10-235999호, 일본 공개특허공보 특개평10-337959호, 일본 공개특허공보 특개평11-102088호, 일본 공개특허공보 특개2000-108510호, 일본 공개특허공보 특개2000-168223호, 일본 공개특허공보 특개2001-209969호, 일본 공개특허공보 특개2001-322354호, 일본 공개특허공보 특개2006-248180호, 일본 공개특허공보 특개2006-297907호, 일본 공개특허공보 특개평8-253705호, 일본 공표특허공보 특표2004-503379호, 일본 공개특허공보 특개2005-336150호, 국제공개공보 WO2006/28006 등에 기재된 설폰산 이온 등의 유기 설폰산계 음이온; 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온 등의 유기 인산계 음이온, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산설폰산 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)카르보 음이온 등을 들 수 있다.
2가의 음이온으로는 예를 들면, 벤젠디설폰산 이온, 나프탈렌디설폰산 이온 등을 들 수 있다. 또한, 여기(勵起) 상태에 있는 활성 분자를 탈(脫)여기시키는(??칭시키는) 기능을 가지는 ??처 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 설폰산기 등의 음이온성 기를 가지는 페로센, 루테오센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등도 필요에 따라 사용할 수 있다.
또한, p1은 분자 전체에서 전하가 중성이 되도록 선택된다.
상기의 ??처 음이온으로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개소60-234892호, 일본 공개특허공보 특개평5-43814호, 일본 공개특허공보 특개평5-305770호, 일본 공개특허공보 특개평6-239028호, 일본 공개특허공보 특개평9-309886호, 일본 공개특허공보 특개평9-323478호, 일본 공개특허공보 특개평10-45767호, 일본 공개특허공보 특개평11-208118호, 일본 공개특허공보 특개2000-168237호, 일본 공개특허공보 특개2002-201373호, 일본 공개특허공보 특개2002-206061호, 일본 공개특허공보 특개2005-297407호, 일본 공고특허공보 특공평7-96334호, 국제공개공보 WO98/29257 등에 기재된 바와 같은 음이온을 들 수 있다.
상기 일반식(301) 중의 Anq1-로 나타내는 음이온으로는, 1가의 유기 설폰산계 음이온, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄설포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산설폰산 이온, 벤젠디설폰산 이온 또는 나프탈렌디설폰산 이온이 내열성의 점에서 바람직하고, 비스트리플루오로메틸설포닐이미드 이온이 더 바람직하다.
상기 음이온으로는 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물이 얻어진다는 관점에서는 상기 무기계 음이온인 것이 바람직하다.
상기 일반식(301)로 나타내는 화합물의 양이온 부분의 구체예로는 국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 화합물 No.1~No.62를 들 수 있다.
본 발명에서는 용매에 대한 용해성의 점에서, R311, R312, R313, R314, R315 및 R316이, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 또는 상기 알킬기 중의 수소 원자가 극성 기, 특히 수산기로 치환되어 있는 기인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 보다 바람직하며, 특히, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, n-헥실기 등의 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하며, 그 중에서도 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 탄소 원자수 1~5의 직쇄의 알킬기인 것이 바람직하다. 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지며, 흡수 피크의 반값폭을 좁은 것으로 할 수 있기 때문이다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지며, 흡수 피크의 반값폭을 좁은 것으로 할 수 있는 관점에서, R301, R302, R303, R304, R305, R306, R307, R308, R309 및 R310이, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 수산기 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자 또는 할로겐 원자인 것이 바람직하다.
본 발명에서는 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 범위에 급준한 흡수 피크를 가지며, 흡수 피크의 반값폭을 좁은 것으로 할 수 있는 관점에서, R304, R307이 할로겐 원자이며, R301, R302, R303, R305, R306, R308, R309 및 R310이 수소 원자인 것이 바람직하다.
또한, X는 입수 용이성의 점에서, 산소 원자 또는 황 원자인 것이 바람직하다.
상기 일반식(301)로 나타내는 화합물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 방법과 동일한 방법을 사용할 수 있다.
상기 시아닌계 색소로는 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 되고, 예를 들면, 하기 일반식(401)로 나타내는 색소를 바람직하게 들 수 있다.
상기 시아닌계 색소는 양이온 중합성 화합물과 조합하여 사용함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어짐과 함께, 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 경화물, 즉, 흡수 피크의 범위 폭이 좁은 경화물을 얻는 것이 용이해지기 때문이다.
Figure pct00025
(식 중 환A 및 A'는 각각 독립적으로, 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,
R411 및 R411'는, 각각 독립적으로 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
X411 및 X411'는, 각각 독립적으로 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR423R424-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기 또는 -NR425-를 나타내고,
R423, R424 및 R425는, 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 메탈로세닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
Y411 및 Y411'는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 혹은 메탈로세닐기로 치환되어 있는 경우가 있는 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 혹은 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
Q는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬을 구성하고, 사슬 중에 환 구조를 포함하고 있는 경우가 있는 연결기를 나타내며,
r2 및 r2'는, 0 또는 환A 및 환A'에서 치환 가능한 수를 나타내고,
Anq2-는 q2가의 음이온을 나타내고, q2는 1 또는 2를 나타내며, p2는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411', X411, X411', R423, R424, R425, Q, RR'로 나타내는 기로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-095558호에 기재된 R11, R11', Y11, Y11', X11, X11', R23, R24 및 R25, Q, RR'로 나타내는 관능기와 동일한 관능기를 사용할 수 있다.
예를 들면, 상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 할로겐 원자로는, 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아미노기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 아미노기를 사용할 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아미드기로는, 포름아미드, 아세트아미드, 에틸아미드, 이소프로필아미드, 부틸아미드, 옥틸아미드, 노닐아미드, 데실아미드, 운데실아미드, 도데실아미드, 헥사데실아미드, 옥타데실아미드, (2-에틸헥실)아미드, 벤즈아미드, 트리플루오로아세트아미드, 펜타플루오로벤즈아미드, 디포름아미드, 디아세트아미드, 디에틸아미드, 디이소프로필아미드, 디부틸아미드, 디옥틸아미드, 디노닐아미드, 디데실아미드, 디운데실아미드, 디도데실아미드, 디(2-에틸헥실)아미드, 디벤즈아미드, 디트리플루오로아세트아미드, 디펜타플루오로벤즈아미드 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 메탈로세닐기로는, 페로세닐, 니켈로세닐, 지르코노세닐, 티타노세닐, 하프노세닐 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기와 동일한 기를 사용할 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는, 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀, 페로세닐메틸, 페로세닐프로필 등을 들 수 있다.
상기 일반식(401)에서의 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는, 상기 R1~R8로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 등의 기는, 상기 기 중의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 또는 메탈로세닐기로 치환되어 있는 경우가 있다.
R411, R411', Y411, Y411', R423, R424 및 R425로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기의 수소 원자를 치환해도 되는 할로겐 원자, 아미노기, 아미드기 및 메탈로세닐기로는, R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
또한, 상기 R411, R411', Y411, Y411' 그리고 X411 및 X411' 중의 R423, R424 및 R425에서의 아릴알킬기 및 알킬기 등의 기는, 상기 기 중의 메틸렌기의 1개 또는 2개 이상이, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 이중결합으로 치환되어 있는 경우가 있다.
상기 일반식(401)에서, X411 및 X411'로 나타내는 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기로는, 시클로프로판-1,1-디일, 시클로부탄-1,1-디일, 2,4-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 3,3-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 시클로펜탄-1,1-디일, 시클로헥산-1,1-디일 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 R411, R411'가 니트로기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 Y411, Y411'가 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 2~7의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히, 탄소 원자수 4~6의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
또한, 상기 Y411, Y411'가 알킬기인 경우, 직쇄의 알킬기여도 되지만, 분기의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-메틸부틸기, 2-메틸부틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 3,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기 등의 탄소 원자수 4~6의 분기의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 X411 및 X411'가 -CR423R424-인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 R423, R424 및 R425가, 탄소 원자수 1~8의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하며, 특히 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등의 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는, 상기 환A 및 환A'가 벤젠환 또는 나프탈렌환인 것이 바람직하고, 그 중에서도 벤젠환인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 일반식(401)에서의 Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬을 구성하고, 사슬 중에 환 구조를 포함하는 경우가 있는 연결기로는, 하기 (Q-1)~(Q-11)로 나타내는 기가 제조가 용이하기 때문에 바람직하다. 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬에서의 탄소 원자수에는 메틴 사슬 및 메틴 사슬 중에 포함되는 환 구조를 추가로 치환하는 기의 탄소 원자(예를 들면, 연결기(Q-1)~(Q-11)에서의 양 말단의 탄소 원자, Z' 또는 R14~R19가 탄소 원자를 포함하는 경우에는 그 탄소 원자)를 포함하지 않는다.
Figure pct00026
(식 중 R14, R15, R16, R17, R18, R19 및 Z'는, 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기를 나타내고, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기의 수소 원자는, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 -NRR'로 치환되어 있어도 되며, -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중의 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되고,
R 및 R'는 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기를 나타내며,
*는 결합 부분을 나타낸다.)
상기 R14, R15, R16, R17, R18, R19 및 Z'로 나타내는 할로겐 원자, 아릴기, 아릴알킬 또는 알킬기로는, R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있고, R 및 R'로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 또는 알킬기로는 R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬의 수소 원자를 치환하고 있어도 되는 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기, 및 할로겐 원자로는, R411 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있고, 이들 아릴기, 아릴알킬기, 알킬기의 수소 원자를 치환해도 되는 할로겐 원자로는 R11 등의 설명에서 예시한 것을 들 수 있다.
본 발명에서는 상기 Q로 나타내는, 탄소 원자수 1~9의 메틴 사슬이 상기 일반식(Q-1)로 나타내는 기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 Z'가 수소 원자, 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 일반식(401) 중의 Anq2-로 나타내는 q2가의 음이온으로는, 상기 Anq1-의 설명에서 예시한 음이온을 들 수 있다.
본 발명에서 사용되는 시아닌계 색소의 구체예로는 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2017-095558호에 기재된 화합물 No.1~104를 들 수 있다.
상기 색소의 함유량으로는, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물이 얻어지는 것이면 되고, 조성물의 용도 등에 따라 다른 것이지만, 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 10질량부 이하로 할 수 있다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 상기 조성물이 광학 필터 형성용인 경우, 상기 색소의 함유량은 조성물 100질량부 중에 0.01질량부 이상 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05질량부 이상 3질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 특히 0.10질량부 이상 2.0질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 색 조정이 용이한 것이 되기 때문이다.
5. 기타 증감제
상기 조성물은 상술한 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물 이외의 증감제(이하, 제2 증감제라고 칭하는 경우가 있음.)를 포함할 수 있다.
상기 제2 증감제로는, 조사된 광을 흡수하여, 광산발생제로부터의 산의 발생 효율을 향상시킬 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 벤조인 유도체, 벤조페논 유도체, 디옥산톤 유도체, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질, 플루오레논, 크산톤, 티오크산텐 화합물, 우라닐 화합물, 할로겐 화합물, 종래 공지의 라디칼 중합 개시제, 전이금속 화합물, 아민 화합물, 인 화합물, 복소환 화합물, 축합환 함유 화합물 외에, 알콕시기로 치환된 벤젠 등을 들 수 있다.
한편, 상기 제2 증감제로서 든 화합물들은 명확하게 분리할 수 없는 경우가 있다. 예를 들면, 벤조페논 유도체 등은 라디칼 중합 개시제에 해당하는 것이 포함되는 경우가 있다. 또한, 복소환 화합물 중에는 축합환 함유 화합물에 해당하는 것이 포함되는 경우가 있다.
상기 안트라센계 화합물로는, 안트라센 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면 아래 식(IIIa)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00027
(식 중 R201 및 R202는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 알킬기 또는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기를 나타내고, R203은 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)
R201, R202 및 R203으로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
R201 및 R202로 나타내는 탄소 원자수 2~12의 알콕시알킬기로는, 메톡시메틸, 메톡시에틸, 메톡시프로필, 에톡시에틸, 메톡시부틸, 에톡시프로필, 프로폭시에틸, 메톡시펜틸, 에톡시부틸, 프로폭시프로필, 부톡시에틸, 펜톡시에틸, 부톡시프로필, 헥속시에틸, 펜톡시프로필 등을 들 수 있다.
본 발명에서는 R201 및 R202가 탄소 원자수 2~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 관능기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 발명에서는 R203이 수소 원자인 것이 바람직하다.
상기 식(IIIa)로 나타내는 안트라센계 화합물의 구체예로는, 9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디프로폭시안트라센, 9,10-디이소프로폭시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 9,10-디펜틸옥시안트라센, 9,10-디헥실옥시안트라센, 9,10-비스(2-메톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(2-에톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(2-부톡시에톡시)안트라센, 9,10-비스(3-부톡시프로폭시)안트라센, 2-메틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디프로폭시안트라센, 2-에틸-9,10-디프로폭시안트라센, 2-메틸-9,10-디이소프로폭시안트라센, 2-에틸-9,10-디이소프로폭시안트라센, 2-메틸-9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디펜틸옥시안트라센, 2-에틸-9,10-디펜틸옥시안트라센, 2-메틸-9,10-디헥실옥시안트라센, 2-에틸-9,10-디헥실옥시안트라센 등을 들 수 있다.
상기 나프탈렌계 화합물로는 나프탈렌 구조를 가지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 아래 식(IIIb)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00028
(식 중 R204 및 R205는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~6의 알킬기를 나타낸다.)
R204 및 R205로 나타내는 탄소 원자수 1~6의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 그 중에서도 R204 및 R205가 탄소 원자수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 관능기임으로써, 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다. 또한, 상기 조성물은 내투습성 등도 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 식(IIIb)로 나타내는 나프탈렌계 화합물의 구체예로는, 4-메톡시-1-나프톨, 4-에톡시-1-나프톨, 4-프로폭시-1-나프톨4-부톡시-1-나프톨, 4-헥실옥시-1-나프톨, 1,4-디메톡시나프탈렌, 1-에톡시-4-메톡시나프탈렌, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,4-디프로폭시나프탈렌, 1,4-디부톡시나프탈렌 등을 들 수 있다.
상기 벤조인 유도체로는 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논 유도체로는, 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤 유도체로는, 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합 개시제로는, 광 라디칼 중합 개시제 및 열라디칼 중합 개시제를 들 수 있다.
상기 광 라디칼 중합 개시제로는 아세토페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 비스이미다졸계 화합물, 아크리딘계 화합물, 아실포스핀계 화합물, 옥심에스테르 화합물 등을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물로는 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, p-디메틸아미노아세토페논, p-터셔리부틸디클로로아세토페논, p-터셔리부틸트리클로로아세토페논, p-아지드벤잘아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤질계 화합물로는 벤질 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로는 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 미힐러케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설피드 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2-에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 비스이미다졸계 화합물로는, 헥사아릴비스이미다졸(HABI, 트리아릴-이미다졸의 이량체)을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,4,5,2',4',5'-헥사페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3-메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-비스이미다졸, 2,5,2',5'-테트라키스(2-클로로페닐)-4,4'-비스(3,4-디메톡시페닐)비스이미다졸, 2,2'-비스(2,6-디클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-니트로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-디-o-톨릴-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 2,2'-비스(2-에톡시페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸 및 2,2'-비스(2,6-디플루오로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐비스이미다졸, 5'-테트라(p-요오드페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸), 2,2'-비스(p-메틸티오페닐)-4,5,4',5'-디페닐-1,1'-비이미다졸, 비스(2,4,5-트리페닐)-1,1'-비이미다졸, 5,5'-테트라(p-클로르나프틸)비이미다졸 등이나 일본 공고특허공보 특공소45-37377호에 개시된 1,2'-, 1,4'-, 2,4'-로 공유결합되어 있는 호변 이성체, WO00/52529호 팸플릿에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.
상기 아크리딘계 화합물로는 아크리딘, 9-페닐아크리딘, 9-(p-메틸페닐)아크리딘, 9-(p-에틸페닐)아크리딘, 9-(p-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(p-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘, 9-(p-에톡시페닐)아크리딘, 9-(p-아세틸페닐)아크리딘, 9-(p-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(p-시아노페닐페닐)아크리딘, 9-(p-클로르디페닐)아크리딘, 9-(p-브로모페닐)아크리딘, 9-(m-메틸페닐)아크리딘, 9-(m-n-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-iso-프로필페닐)아크리딘, 9-(m-n-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-tert-부틸페닐)아크리딘, 9-(m-메톡시페닐)아크리딘, 9-(m-에톡시페닐)아크리딘, 9-(m-아세틸페닐)아크리딘, 9-(m-디메틸아미노페닐)아크리딘, 9-(m-디에틸아미노페닐)아크리딘, 9-(시아노페닐)아크리딘, 9-(m-클로르페닐)아크리딘, 9-(m-브로모페닐)아크리딘, 9-메틸아크리딘, 9-에틸아크리딘, 9-n-프로필아크리딘, 9-iso-프로필아크리딘, 9-시아노에틸아크리딘, 9-하이드록시에틸아크리딘, 9-클로로에틸아크리딘, 9-브로모아크리딘, 9-하이드록시아크리딘, 9-니트로아크리딘, 9-아미노아크리딘, 9-메톡시아크리딘, 9-에톡시아크리딘, 9-n-프로폭시아크리딘, 9-iso-프로폭시아크리딘, 9-클로로에톡시아크리딘, 4,6-비스(디메틸아미노)아크리딘, 10-아세트산아크리딘, 10-메틸아세테이트아크리딘, 3,6-디메틸아크리딘, 7,13-디메틸아크리딘, 7,13-비스(디메틸아미노)아크리딘, 3,6-디메틸-10-아세트산아크리딘, 3,5-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 7,13-디메틸-10-아세트산아크리딘, 7,13-디메틸-10-메틸아세테이트아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 2,7-디벤조일-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-하이드록시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시벤질)-9-페닐아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-메틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-페닐아크리딘, 2,7-비스(3,4-디메틸-벤조일)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘, 2,7-비스(α-아세톡시-4-tert-부틸벤질)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(3,4-디클로로페닐)아크리딘, 2,7-디메틸-9-(4-벤조일페닐)아크리딘, 2,7-비스(2-클로로벤조일)-9-(2-클로로페닐)아크리딘, 2-(α-하이드록시-3-브로모벤질)-6-메틸-9-(3-브로모페닐)아크리딘, 2,5-비스(4-tert-부틸벤조일)-9-(4-tert-부틸페닐)아크리딘, 1,4-비스(2,7-디메틸-9-아크리디닐)벤젠, 2,7-비스(α-페닐아미노카르보닐옥시-3,4-디메틸벤질)-9-(3,4-디메틸페닐)아크리딘 및 2,7-비스(3,5-디메틸-4-하이드록시-4'-플루오로디페닐메틸)-9-(4-플루오로페닐)아크리딘, 9,10-디하이드로아크리딘, 1-메틸아크리딘, 4-메틸아크리딘, 2,3-디메틸아크리딘, 1-페닐아크리딘, 4-페닐아크리딘, 1-벤질아크리딘, 4-벤질아크리딘, 1-클로로아크리딘, 2,3-디클로로아크리딘, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-프로필-2-클로로아크리딘-9(10H)-온, 10-부틸-2-클로로아크리딘-9(10H)-온1,2-비스(9-아크리디닐)에탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 1,4-비스(9-아크리디닐)부탄, 1,6-비스(9-아크리디닐)헥산, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(9-아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(9-아크리디닐)노난, 1,10-비스(9-아크리디닐)데칸, 1,11-비스(9-아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(9-아크리디닐)도데칸, 1,14-비스(9-아크리디닐)테트라데칸, 1,16-비스(9-아크리디닐)헥사데칸, 1,18-비스(9-아크리디닐)옥타데칸, 1,20-비스(9-아크리디닐)에이코산, 1,3-비스(9-아크리디닐)-2-티아프로판, 1,5-비스(9-아크리디닐)-3-티아펜탄7-메틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-에틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-프로필-벤조〔c〕아크리딘, 7-부틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥틸-벤조〔c〕아크리딘, 7-노닐-벤조〔c〕아크리딘, 7-데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-운데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-도데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-트리데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-테트라데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-펜타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헥사데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-헵타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-옥타데실-벤조〔c〕아크리딘, 7-노나데실-벤조〔c〕아크리딘, 1,1-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)메탄, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에탄, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)프로판, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)부탄, 1,5-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜탄, 1,6-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥산, 1,7-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵탄, 1,8-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥탄, 1,9-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노난, 1,10-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)데칸, 1,11-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)운데칸, 1,12-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)도데칸, 1,13-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)트리데칸, 1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,15-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)펜타데칸, 1,16-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헥사데칸, 1,17-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)헵타데칸, 1,18-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)옥타데칸, 1,19-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)노나데칸, 1,20-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에이코산, 7-페닐-벤조〔c〕아크리딘, 7-(2-클로르페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-메틸페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(4-니트로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 1,3-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 1,4-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)벤젠, 7-〔1-프로펜-3-일(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔1-에틸펜틸(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7-〔8-헵타데세닐(벤조〔c〕아크리딘)〕, 7,8-디페닐-1,14-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)테트라데칸, 1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 1-메틸-1,2-비스(7-벤조〔c〕아크리디닐)에틸렌, 7-스티릴-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-프로페닐)-벤조〔c〕아크리딘, 7-(1-펜테닐)-벤조〔c〕아크리딘, 9-(2-피리딜)아크리딘, 9-(3-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리딜)아크리딘, 9-(4-피리미디닐)아크리딘, 9-(2-피라지닐)아크리딘, 9(5-메틸-2-피라지닐)아크리딘, 9-(2-퀴놀리닐)아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(2-피리딜)-2-에틸아크리딘, 9-(3-피리딜)-2-메틸-아크리딘, 9-(3-피리딜)-2,4-디에틸-아크리딘, 3,6-디아미노-아크리딘설폰산염, 3,6-비스-(디메틸아미노)-아크리딘설폰산염, 3,6-디아미노-10-메틸-아크리디늄클로라이드, 9-아크리딘카르복실산 등을 들 수 있다.
상기 아실포스핀계 화합물로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드(LucirinTPO; BASF사 제품), 이소부티릴-메틸포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2-에틸헥사노일-페닐포스핀산메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, p-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, o-톨루일-페닐포스핀산메틸에스테르, 2,4-디메틸벤조일-페닐포스핀산메틸에스테르, p-3급부틸벤조일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 아크릴로일-페닐포스핀산메틸에스테르, 이소부티릴-디페닐포스핀옥사이드, 2-에틸헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, o-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, p-3급부틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 3-피리딜카르보닐-디페닐포스핀옥사이드, 아크릴로일-디페닐포스핀옥사이드, 벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-페닐포스핀산비닐에스테르, 아디포일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-디페닐포스핀옥사이드, p-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, 4-(3급부틸)-벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2-메틸-2-에틸헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-페닐포스핀산메틸에스테르 및 피발로일-페닐포스핀산이소프로필에스테르, 4-옥틸페닐포스핀옥사이드, 테레프탈로일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-시클로헥실카르보닐디페닐포스핀옥사이드, 버사토일-디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소부톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드(Irgacure819; BASF사 제품), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르-3,4,5-트리메톡시벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르-3,4,5-트리메톡시벤조일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메틸-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2-메톡시-1-나프토일)-4-에톡시페닐포스핀옥사이드, 비스(2-클로르-1-나프토일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디옥틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소프로폭시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디헥실옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2-프로폭시-4-메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-2,4-디이소펜틸옥시페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2,5-디메틸페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로르벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-비페닐릴포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-4-프로필페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-2-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일)-1-나프틸포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드(CGI403), 6-트리메틸벤조일-에틸-페닐-포스피네이트(SPEEDCURETPO-L; Lambson사 제품) 등을 들 수 있다.
상기 옥심에스테르 화합물로는, 예를 들면, 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸벤조일-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 1-〔9-에틸-6-벤조일-9H-카르바졸-3-일-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-〔9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-〔9-n-부틸-6-(2-에틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로피라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라하이드로푸라닐벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥소라닐)메톡시벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.
상기 열라디칼 중합 개시제로는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(메틸이소부티레이트), 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄) 등의 아조계 개시제; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 등의 과산화물계 개시제, 과황산암모늄, 과황산나트륨, 과황산칼륨 등의 과황산염 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
상기 전이금속 화합물은 전이금속을 함유하는 화합물이며, 전이금속으로는 Fe, Co, Ni, Cu, Cr, Ag 등을 들 수 있다.
상기 아민 화합물로는, 지방족 아민, 지환식 아민, 방향족 아민 등의 1급 아민, ２급 아민, 3급 아민을 사용할 수 있다.
상기 1급 아민으로는, 에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 이소부틸아민, 펜틸아민, 네오펜틸아민, 헥실아민, 옥틸아민, 노닐아민, 2-에틸헥실아민, 시클로헥실아민, 에탄올아민, 아닐린, p-메틸아닐린 등을 들 수 있다.
상기 2급 아민으로는 예를 들면 디에틸아민, 디프로필아민, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 메틸아닐린, 에틸아닐린, 디하이드록시에틸아민 등을 들 수 있다.
상기 3급 아민으로는, 트리메틸아민, 트리에틸아민, N,N-디메틸벤질아민, 트리페닐아민, 트리부틸아민, 트리옥틸아민, 트리도데실아민, 디부틸벤질아민, 트리나프틸아민, N-에틸-N-메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, N-페닐-N-메틸아닐린, N,N-디메틸-p-톨루이딘, N,N-디메틸-4-브로모아닐린, N,N-디메틸-4-메톡시아닐린, N-페닐피페리딘, N-(4-메톡시페닐)피페리딘, N-페닐-1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린, 6-벤질옥시-N-페닐-7-메톡시-1,2,3,4-테트라하이드로이소퀴놀린, N,N'-디메틸피페라진, N,N-디메틸시클로헥실아민, 2-디메틸아미노메틸페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 트리스(2-메톡시메톡시에틸)아민, 트리스{2-(2-메톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(2-메톡시에톡시메톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-메톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-에톡시에톡시)에틸}아민, 트리스{2-(1-에톡시프로폭시)에틸}아민, 트리스[2-{2-(2-하이드록시에톡시)에톡시}에틸]아민, 트리에탄올아민트리아세테이트 등을 들 수 있고, 그 중에서도 트리페닐아민 유도체가 바람직하다.
트리페닐아민 유도체로는 이하의 일반식(V)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00029
(식 중 R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
R211, R212, R213, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 및 R225로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는, 페닐기, 톨릴기, 3,4,5-트리메톡시페닐기, 4-제3부틸페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 메틸나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기 등을 들 수 있다.
경화성의 점에서, 식(V) 중의 3개의 벤젠환 중 어느 하나가 할로겐 원자를 가지고 있는 것이 바람직하고, 3개의 벤젠환이 모두 할로겐 원자를 가지고 있는 것이 특히 바람직하며, R213, R218 및 R223이 할로겐 원자인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 인 화합물로는, 포스핀옥사이드, 포스핀, 인산, 아인산, 포스폰산, 아포스폰산, 포스핀산, 아포스핀산, 인산에스테르, 아인산에스테르 등을 들 수 있다.
상기 복소환 화합물에서의 복소환은 단환 및 축합환 중 어느 것이어도 된다. 복소환 화합물로는, 카르바졸 유도체, 인돌 유도체, 피롤리돈 유도체, 피롤 유도체, 페난트리딘 유도체, 페녹사진 유도체, 페나진 유도체, 티아졸 유도체, 벤조티아졸 유도체, 옥사졸 유도체, 벤조옥사졸 유도체, 이소옥사졸 유도체, 벤조이소옥사졸 유도체, 푸란 유도체, 벤조푸란 유도체, 티오펜 유도체, 페노티아진 유도체, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체, 피리다진 유도체, 피페리딘 유도체, 피란 유도체, 피라졸린 유도체, 트리아진 유도체, 퀴놀린 유도체, 이소퀴놀린 유도체, 이미다졸 유도체, 인돌 유도체, 피롤리딘 유도체, 피페리돈 유도체, 디옥산 유도체, 디벤조디옥신 유도체 등을 들 수 있다.
상기의 복소환 화합물 중에서도, 질소 원자 또는 산소 원자를 함유하는 축합환 함유 화합물이 바람직하고, 특히 입수 용이성의 점 등에서 카르바졸 유도체, 디벤조디옥신 유도체가 바람직하며, 특히 경화성의 점에서 카르바졸 유도체가 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 카르바졸 유도체로는, 카르바졸 구조를 가지며, 또한 벤젠환에 결합하는 알콕시기를 가지지 않는 화합물을 들 수 있고, 하기 (VI)로 나타내는 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00030
(식 중 R226은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기를 나타낸다. R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 시아노기, 수산기, 카르복실기를 나타낸다.)
R226, R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 탄소 원자수 6~20의 아릴기의 예로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기 및 탄소 원자수 6~30의 아릴기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 R226이 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
본 개시에서는 R227, R228, R229, R230, R231, R232, R233 및 R234가, 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화성이 뛰어난 것이 되기 때문이다.
예를 들면, 디벤조디옥신 유도체로는 디벤조디옥신 구조를 가지는 것이면 되고, 이하의 일반식(VIII)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00031
(식 중 R268, R269, R270, R271, R272, R273, R274 및 R275는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다.)
R268, R269, R270, R271, R272, R273, R274 및 R275로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 축합환 함유 화합물로는, 상기의 복소환 화합물로서 예시한 축합환 함유 화합물 외에, 플루오렌 유도체, 크리센 유도체, 페난트렌 유도체, 피렌 유도체, 안트라퀴논 유도체, 페릴렌 유도체, 벤조안트라센 유도체, 나프타센 유도체, 트리페닐렌 유도체, 쿠마린 유도체 등을 들 수 있다. 축합환 함유 화합물로는 질소 원자 또는 산소 원자를 가지는 축합환 함유 화합물이 바람직하고, 또한 페릴렌 유도체가 흡수 파장역의 점에서 바람직하다.
페릴렌 유도체로는 이하의 일반식(IX)로 나타내는 것을 들 수 있다.
Figure pct00032
(식 중 R276, R277, R278, R279, R280, R281, R282, R283, R284, R285, R286 및 R287은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기를 나타낸다.)
R276, R277, R278, R279, R280, R281, R282, R283, R284, R285, R286 및 R287로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는, 상기 일반식(1) 중의 R1 등으로 나타내는 할로겐 원자 및 탄소 원자수 1~30의 알킬기 중 소정의 탄소 원자수를 충족하는 것을 사용할 수 있다.
상기 제2 증감제의 함유량으로는 양이온 중합성 화합물끼리의 중합을 촉진할 수 있는 것이면 되고, 상기 특정 증감제의 합계 100질량부에 대하여, 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 1질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.1질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
보다 구체적으로는, 제2 증감제로서, 안트라센계 화합물, 나프탈렌계 화합물, 복소환 화합물로서의 카르바졸 유도체, 벤조페논 유도체, 티오크산톤 유도체, 티오크산텐 화합물, 복소환 화합물로서의 페노티아진 유도체 및 아민 화합물로서의 트리페닐아민 화합물의 합계 함유량이, 상기 특정 증감제의 합계 100질량부에 대하여, 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 1질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.1질량부 이하인 것이 가장 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
6. 용제
상기 조성물은 필요에 따라 용제를 포함할 수 있다.
상기 용제는 조성물 중의 각 성분을 분산 또는 용해할 수 있는 것이다.
상기 용제는 상기 산발생제의 작용에 의해, 상기 양이온 중합성 화합물과 중합하지 않는 것이다.
따라서, 상온(25℃) 대기압하에서 액상이어도 상기 "2. 양이온 중합성 화합물"의 항에 기재되어 있는 양이온 중합성 화합물은 상기 용제에는 포함되지 않는다.
또한, 상기 용제는 상기 조성물의 각 성분을 분산 또는 용해하기 위해 사용되는 것이기 때문에, 상기 "1. 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물", "3. 광산발생제"에 기재된 광산발생제, "4. 색소"에 기재된 색소, "5. 기타 증감제"에 기재된 제2 증감제 등도 상온 대기압하에서 액상이어도 상기 용제에는 포함되지 않는다.
이와 같은 용제로는 물, 유기 용제 중 어느 것이나 사용할 수 있는데, 유기 용제를 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 유기 용제로는, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용제; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 석신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용제; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용제; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올, 디아세톤알코올 등의 알코올계 용제; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트, 1-t-부톡시-2-프로판올, 3-메톡시부틸아세테이트, 시클로헥사놀아세테이트 등의 에테르에스테르계 용제; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용제; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용제; 테레빈유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸 #310(코스모 마쓰야마 세키유(주)), 솔벳소 #100(엑손 가가쿠(주)) 등의 파라핀계 용제; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용제; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용제; 카르비톨계 용제, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 이황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸설폭시드, 물 등을 들 수 있고, 이들 용제는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용제로서 사용할 수 있다. 이들 중에서도 케톤류, 에테르에스테르계 용제 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등을 들 수 있고, 이들 용제는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용제로서 사용할 수 있다.
상기 유기 용제 중에서도 케톤류, 알코올계 용제, 에테르에스테르계 용제, 방향족계 용제 등인 것이 바람직하고, 그 중에서도 에테르에스테르계 용제, 알코올계 용제인 것이 바람직하다. 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
상기 용제의 함유량은 원하는 경화 감도 및 분산 안정성이 얻어지는 것이면 되고, 상기 조성물 100질량부 중에, 1질량부 이상 99질량부 이하로 할 수 있고, 10질량부 이상 80질량부 이하인 것이 바람직하며, 15질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량부 이상 40질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 함유량이 상술한 범위임으로써, 상기 조성물은 경화 감도 및 분산 안정성이 보다 뛰어난 것이 되기 때문이다.
7. 라디칼 중합성 화합물
상기 조성물은 필요에 따라 라디칼 중합성 화합물을 포함할 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물은 라디칼 중합성 기를 가지는 것이다.
상기 라디칼 중합성 기로는 라디칼에 의해 중합할 수 있는 것이면 되고, 예를 들면, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기 등의 에틸렌성 불포화기 등을 들 수 있다.
한편, 본 발명에서는, 비닐에테르기는 라디칼 중합성 기로서의 비닐기에는 해당되지 않는 것으로 한다.
상기 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 기를 1개 이상 가지는 것으로 할 수 있고, 라디칼 중합성 기를 1개 가지는 단관능 화합물, 라디칼 중합성 기를 2개 이상 가지는 다관능 화합물을 사용할 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물로는 산가를 가지는 화합물, 산가를 가지지 않는 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 산가를 가지는 화합물로는 예를 들면, 메타크릴산, 아크릴산 등의 카르복실기 등을 가지는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.
상기 산가를 가지지 않는 화합물로는, 우레탄아크릴레이트 수지, 우레탄메타크릴레이트 수지, 에폭시아크릴레이트 수지, 에폭시메타크릴레이트 수지, 아크릴산-2-하이드록시에틸, 메타크릴산-2-하이드록시에틸 등의 카르복실기 등을 가지지 않는 아크릴레이트 화합물, 메타크릴레이트 화합물을 들 수 있다.
상기 라디칼 중합성 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 라디칼 중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화기를 가지며, 산가를 가지는 화합물 및 에틸렌성 불포화기를 가지며, 산가를 가지지 않는 화합물을 조합하여 사용할 수 있다.
라디칼 중합성 화합물은 2종 이상을 혼합하여 사용하는 경우에는 그들을 미리 공중합하여 공중합체로 사용해도 된다.
이와 같은 라디칼 중합성 화합물 등으로는, 보다 구체적으로는 일본 공개특허공보 특개2016-176009호에 기재된 라디칼 중합성 화합물 등을 들 수 있다.
본 발명에서는, 반값폭이 좁은 광학 필터를 얻기 위해 사용한다는 관점에서는 상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량이 적은 것이 바람직하다.
상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물과 양이온 중합성 화합물과 광산발생제와 라디칼 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 1질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0질량부인 것, 즉, 라디칼 중합성 화합물을 포함하지 않는 것이 가장 바람직하다.
상기 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물과 양이온 중합성 화합물과 광산발생제와 라디칼 중합성 화합물의 합계 100질량부 중에, 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 5질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 1질량부 이하인 것이 더 바람직하고, 0.5질량부 이하인 것이 특히 바람직하며, 0질량부인 것, 즉, 라디칼 중합성 화합물을 포함하지 않는 것이 가장 바람직하다.
8. 첨가제
상기 조성물은 양이온 중합성 화합물, 광산발생제, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물, 디알콕시카르바졸 화합물, 색소, 기타 증감제, 용제, 라디칼 중합성 화합물 이외에도 필요에 따라 첨가제를 포함할 수 있다.
또한, 상기 첨가제로는 각종 첨가제를 들 수 있다.
이와 같은 첨가제로는 국제공개공보 WO2017/098996 등에 기재된 것과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 첨가제의 합계 함유량은, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 형성할 수 있으면 되는데, 예를 들면, 첨가제와, 양이온 중합성 화합물, 광산발생제, 알콕시벤젠 화합물 및 벤조카르바졸 화합물의 합계 100질량부 중에, 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 용이하게 얻을 수 있기 때문이다.
상기 첨가제의 합계 함유량은, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 형성할 수 있으면 되는데, 예를 들면, 첨가제와, 양이온 중합성 화합물, 광산발생제, 알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 100질량부 중에, 30질량부 이하인 것이 바람직하다. 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 용이하게 얻을 수 있기 때문이다.
9. 조성물
상기 조성물의 제조 방법으로는, 상기 각 성분을 원하는 양 포함하는 조성물을 형성할 수 있는 방법이면 되고, 공지의 혼합 수단을 이용하는 방법을 들 수 있다.
상기 제조 방법은, 용제를 준비하고, 용제 중에 양이온 중합성 화합물, 광산발생제, 특정 증감제 등을 혼합하면서, 순차 첨가하는 방법을 들 수 있다.
본 발명의 조성물의 용도로는, 광학 필터, 도료, 코팅제, 라이닝제, 접착제, 인쇄판, 절연 바니스, 절연 시트, 적층판, 프린트 기판, 반도체 장치용·LED 패키지용·액정 주입구용·유기 일렉트로 루미네선스(EL)용·광 소자용·전기절연용·전자부품용·분리막용 등의 봉지제(封止劑), 성형 재료, 퍼티, 유리 섬유 함침제, 필러, 반도체용·태양전지용 등의 패시베이션막, 층간 절연막, 보호막, 프린트 기판, 혹은 컬러TV, PC 모니터, 휴대정보단말, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 플라스마 표시 패널용 전극재료, 인쇄 잉크, 치과용 조성물, 광 조형용 수지, 액상 및 건조막 쌍방, 미소기계부품, 유리섬유 케이블 코팅, 홀로그래피 기록용 재료의 각종 용도를 들 수 있다.
상기 광학 필터로는, 광학 필터를 투과하는 광의 스펙트럼 형상의 변화가 요구되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 액정 표시 장치(LCD), 플라스마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), CCD 이미지 센서, CMOS 센서, 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치용, 분석 장치용, 반도체 장치 제조용, 천문관측용, 광 통신용, 안경 렌즈, 창문 등의 용도에 사용할 수 있다.
본 발명에서는, 상기 조성물이 광학 필터 형성용인 것이 바람직하고, 화상 표시 장치용의 광학 필터 형성용인 것이 보다 바람직하며, 화상 표시 장치의 색 조정 필터 형성용인 것이 더 바람직하고, 2종류의 발색의 가시광 사이의 겹침을 저감하는 화상 표시 장치의 색 조정 필터 형성용인 것이 가장 바람직하다. 상기 조성물은 상술한 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어나다는 효과를 보다 효과적으로 발휘할 수 있기 때문이다.
또한, 상기 조성물의 용도로는 플렉시블성이 요구되는 용도도 들 수 있다.
구체적으로는, 상기 조성물은 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치용의 광학 필터의 형성 등에 바람직하게 이용할 수 있다.
B. 경화물
다음으로, 본 발명의 경화물에 대해 설명한다.
본 발명의 경화물은 상술한 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 것이다.
상기 경화물은 상술한 조성물을 경화시킨 것이기 때문에, 예를 들면, 상기 조성물이, 색소를 포함하는 경우에 색소의 블리드 아웃 등이 적고, 색소의 분산 상태를 양호한 것으로 할 수 있다.
본 발명의 경화물은 상술한 조성물을 사용하는 것이다.
이하, 본 발명의 경화물에 대해 상세하게 설명한다.
한편, 상기 조성물에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 경화물은 통상 양이온 중합성 화합물 등의 중합성 화합물의 중합물을 포함하는 것이다.
상기 중합성 화합물의 중합물의 함유량은 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 양이온 중합성 화합물의 함유량과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 경화물의 평면에서 본 형상, 두께 등에 대해서는 상기 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 두께로는 예를 들면, 0.05㎛ 이상 300㎛ 이하 등으로 할 수 있다.
상기 경화물의 제조 방법으로는, 상기 조성물의 경화물을 원하는 형상이 되도록 형성할 수 있는 방법이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 제조 방법으로는 예를 들면, 후술할 "D. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있기 때문에, 여기서의 설명은 생략한다.
상기 경화물의 용도 등에 대해서는 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
C. 광학 필터
다음으로, 본 발명의 광학 필터에 대해 설명한다.
본 발명의 광학 필터는 상술한 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 광 흡수층이 상술한 조성물의 경화물을 포함함으로써, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 것이 된다. 또한, 경시 안정성이 뛰어난 것이 된다.
본 발명의 광학 필터는 상기 광 흡수층을 가지는 것이다.
이하, 본 발명의 광학 필터에 포함되는 광 흡수층에 대해 상세하게 설명한다.
1. 광 흡수층
상기 광 흡수층은 상술한 조성물의 경화물을 포함하는 것이다.
상기 광 흡수층에 포함되는 상기 경화물의 함유량은 통상 광 흡수층 100질량부 중에 100질량부이다. 즉, 상기 광 흡수층은 상기 경화물만으로 이루어지는 것으로 할 수 있다.
상기 경화물에 대해서는 상기 "B. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
본 발명에서, 상기 경화물은 통상 색소를 포함하는 것, 즉, 특정 증감제, 양이온 중합성 화합물 및 광산발생제와 함께, 색소를 포함하는 조성물을 사용하여 형성된 것이다.
상기 광 흡수층의 평면에서 본 형상, 면적 및 두께 등의 형상에 대해서는 광학 필터의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있다.
상기 광 흡수층의 형성 방법으로는 원하는 형상, 두께의 광 흡수층을 형성할 수 있는 것이면 되고, 공지의 도막의 형성 방법을 이용할 수 있다. 상기 형성 방법으로는 예를 들면, 후술할 "D. 경화물의 제조 방법"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
2. 광학 필터
상기 광학 필터는 상기 광 흡수층만 포함하는 것이어도 되고, 상기 광 흡수층 이외의 기타 층을 포함하는 것이어도 된다.
상기 기타 층으로는 투명 지지체, 밑칠층, 반사방지층, 하드코트층, 윤활층, 점착제층 등을 들 수 있다.
이와 같은 각 층의 내용 및 그 형성 방법 등에 대해서는 광학 필터에 일반적으로 사용되는 것으로 할 수 있고, 예를 들면, 일본 공개특허공보 특개2011-144280호, 국제공개공보 WO2016/158639 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 광 흡수층은 예를 들면, 상기 투명 지지체 및 임의의 각 층 사이를 접착하는 접착층 등으로서 사용되는 것이어도 상관없다.
또한, 그 때에는 상기 광학 필터는 접착층으로서의 광 흡수층의 표면에 밀착한, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 공지의 세퍼레이터 필름을 마련할 수도 있다.
상기 광학 필터는 화상 표시 장치용으로 사용하는 경우, 통상 디스플레이의 앞면에 배치할 수 있다. 예를 들면, 광학 필터를 디스플레이의 표면에 직접 붙여도 문제는 없고, 디스플레이 앞에 전면판이나 전자파 쉴드가 마련되어 있는 경우는, 전면판 또는 전자파 쉴드의 표측(외측) 또는 이측(디스플레이 측)에 광학 필터를 붙여도 상관없다.
상기 광학 필터는 예를 들면, 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재, 예를 들면, 컬러 필터, 편광판 등의 광학 부재으로 사용되는 것이어도 상관없다.
또한, 상기 광학 필터는 상기 화상 표시 장치에 포함되는 각 부재에 직접 적층되는 것이어도 상관없다.
D. 경화물의 제조 방법
다음으로, 본 발명의 경화물의 제조 방법에 대해 설명한다.
본 발명의 경화물의 제조 방법은 상술한 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명에 따르면, 상술한 조성물을 경화시키는 것이기 때문에, 예를 들면, 경화물의 형성이 용이한 것이 된다.
본 발명의 경화물의 제조 방법은 상기 경화하는 공정을 포함하는 것이다.
이하, 본 발명의 경화물의 제조 방법의 각 공정에 대해 상세하게 설명한다.
한편, 상기 조성물은 상기 "A. 조성물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있으므로, 여기서의 설명은 생략한다.
1. 경화하는 공정
상기 경화하는 공정은 상술한 조성물을 경화하는 공정이다.
상기 조성물의 경화 방법으로는, 광산발생제로부터 산을 발생시킴으로써, 양이온 중합성 화합물끼리를 중합할 수 있는 방법이면 된다.
상기 경화 방법으로는, 보다 구체적으로는 상기 조성물에 대하여 자외선 등의 에너지선을 조사하는 에너지선 조사 처리를 실시하는 방법을 이용할 수 있다.
상기 에너지선 및 에너지선으로의 폭로 시간으로는 국제공개공보 WO2013/172145 등에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
상기 에너지선의 에너지선원으로는, 초고, 고, 중, 저압 수은램프, 크세논램프, 카본 아크등, 메탈할라이드램프, 형광등, 텅스텐 램프, 엑시머램프, 살균등, 엑시머레이저, 질소 레이저, 아르곤이온 레이저, 헬륨카드뮴 레이저, 헬륨네온 레이저, 크립톤이온 레이저, 각종 반도체 레이저, YAG레이저, 발광 다이오드, CRT광원 등으로부터 얻어지는 2000옹스트롬에서 7000옹스트롬의 파장을 가지는 전자파 에너지나 전자선, X선, 방사선 등의 고에너지선 등을 들 수 있다.
상기 에너지선의 폭로 시간은 에너지선의 강도, 도막 두께나 양이온 중합성 화합물의 종류 등에 따라 다르지만, 예를 들면, 0.1초~10초 정도로 할 수 있다.
2. 기타 공정
상기 제조 방법은 필요에 따라 기타 공정을 가지는 것이어도 상관없다.
이와 같은 공정으로는 조성물을 경화하는 공정 전에 상기 조성물을 도포하는 공정 등을 들 수 있다.
조성물을 도포하는 방법으로는, 스핀 코터, 롤 코터, 바 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 각종의 인쇄, 침지 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다.
상기 기재로는, 경화물의 용도 등에 따라 적절히 설정할 수 있고, 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이, 플라스틱 등을 포함하는 것을 들 수 있다.
또한, 상기 경화물은 기재 상에서 형성된 후, 기재로부터 박리하여 사용해도 상관 없고, 기재로부터 다른 도착체에 전사하여 사용해도 상관없다.
3. 경화물
본 발명의 제조 방법에 의해 제조되는 경화물 및 용도 등에 대해서는 상기 "B. 경화물"의 항에 기재된 내용과 마찬가지로 할 수 있다.
본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 가지며, 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은 어떠한 것이어도 본 개시의 기술적 범위에 포함된다.
실시예
이하, 실시예 등을 들어 본 발명을 더 상세하게 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[제조예 1]
화합물 C-1의 제조 방법
2,7,12,17-테트라-tert-부틸-5,10,15,20-테트라아자-21H,23H-포르피린(알드리치 시약) 0.538g(1m㏖)과, 아세트산구리(II) 0.2g(1.1m㏖)과, DBU 0.52g(3.3m㏖)을 노멀펜타놀 10g과 혼합하고, 140℃에서 8시간 반응시켰다. 그 후, 잔사를 액체 크로마토그래피(클로로포름)로 정제하고, 감압 건조시켜서 목적물 C-1을 얻었다. 질량분석으로 목적물의 분자량인 것을 확인했다.
Figure pct00033
[제조예 2]
국제공개공보 WO2014/196464에 기재된 방법에 의해, 하기 식(C-5)로 나타내는 화합물을 얻었다.
Figure pct00034
[참고예 1~27 및 실시예 1~3]
하기 표 1 및 2에 기재된 배합에 따라, 양이온 중합성 화합물, 산발생제, 색소, 라디칼 중합성 화합물, 광 라디칼 개시제, 용제 및 첨가제를 배합하여 조성물을 얻었다.
또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.
한편, 표 중의 배합량은 각 성분의 질량부를 나타내는 것이다.
(양이온 중합성 화합물)
A1-1: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-523T)
A1-2: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 ED-506)
A1-3: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4100E)
A1-4: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4901)
A1-5: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4000)
A1-6: 지환족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(ADEKA사 제품 EP-4080E)
A1-7: 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 지환족 에폭시 화합물, 저분자량 화합물(다이셀사 제품 셀록사이드 2021P)
A1-8: 지방족 에폭시 화합물, 고분자량 화합물(다이셀사 제품 EHPE-3150)
A1-9: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 고분자량 화합물(니혼 카야쿠사 제품 NC-3000)
A1-10: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 고분자량 화합물(미쓰비시 가가쿠 가부시키가이샤 제품 JER1001)
A1-11: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(도아 고세이사 제품 OXT-101)
A1-12: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(도아 고세이사 제품 OXT-211)
A1-13: 지환족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A1-13)으로 나타내는 화합물)
Figure pct00035
(라디칼 중합성 화합물)
A2-1: 라디칼 중합성 화합물(니혼 카야쿠사 제품 카야라드 DPHA(디펜타에리트리톨펜타 및 헥사아크릴레이트의 혼합물))
(열가소성 수지)
A3-1: 열가소성 수지(메타크릴 수지, 스미토모 가가쿠사 제품 스미펙스 LG)
(산발생제)
B1-1: 광산발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-1)로 나타내는 화합물)
B1-2: 광산발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-2)로 나타내는 화합물)
B1-3: 광산발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-3)으로 나타내는 화합물)
B1-4: 광산발생제, 방향족 설포늄염(하기 식(B1-4)로 나타내는 화합물)
B1-5: 광산발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-150)
B1-6: 광산발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-100P)
B1-7: 광산발생제, 방향족 설포늄염(산아프로사 제품 CPI-210S)
B1-8: 열산발생제, 방향족 설포늄염(산신 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제품 SI-110)
Figure pct00036
(라디칼 개시제)
B2-1: 열 라디칼 개시제(1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤(IRGACURE 184))
(색소)
C-1: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=Cu)(제조예 1에서 제조된 상기 식(C-1)로 나타내는 화합물)
C-2: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(야마다 가가쿠 고교 제품 FDG-006)
C-3: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=바나듐)(야마모토 가세이사 제품 PD-320)
C-4: 시아닌, (하기 식(C-4)로 나타내는 화합물)
C-5: 트리아릴메탄계 색소, 일반식(301)로 나타내는 화합물(제조예 2에서 제조된 상기 식(C-5)로 나타내는 화합물)
Figure pct00037
(첨가제)
D-1: 레벨링제(도레 다우코닝사 제품 SH-29P Paint aditive)
D-2: 계면활성제(빅케미사 제품 BYK-333)
D-3: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-60)
D-4: 산화 방지제(ADEKA사 제품 AO-20)
D-5: 증감제(하기 식(D-5)로 나타내는 화합물)
D-6: 증감제(하기 식(D-6)으로 나타내는 화합물)
D-7: 증감제(하기 식(D-7)로 나타내는 화합물)
D-8: 증감제(하기 식(D-8)로 나타내는 화합물, 특정 증감제)
Figure pct00038
(용제)
E-1: 메틸에틸케톤(MEK)
E-2: 톨루엔
E-3: 디아세톤알코올
E-4: 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGM)
[평가]
각종의 측정에 대해서는 이하의 방법에 따라 실시했다.
평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장
이하의 방법에 의해 평가용 샘플을 준비하고, 니혼 분코 제품 가시자외 흡광도계 V-670을 이용하여 투과 스펙트럼을 측정하고, 450㎚~700㎚의 범위에서의 투과율의 최소값(투과율)과 그 때의 파장(최대 흡수 파장: λmax)을 얻었다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
(평가용 샘플의 제작 방법)
(1) 상기 조성물을 기재(도요보 제품 PET 필름 A9300, 100㎛)에 바 코트법으로 도포했다.
도막의 두께는 경화 후의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록 조정했다.
(2) 이어서, 오븐으로 도막을 80℃, 5분간의 조건으로 건조 처리하여 용제를 제거했다.
(3) 이어서, 각 실시예 및 비교예마다 이하의 경화 처리를 실시했다.
(3-1) 참고예 1~16, 참고예 18~23 및 실시예 1~3에서는, 건조 처리 후의 도막에 대하여 고압 수은램프를 이용하여 자외선을 700mJ/㎠ 조사하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-2) 참고예 17에서는, 오븐으로 건조 처리 후의 도막에 대하여, 100℃, 20분의 가열 처리를 실시하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-3) 참고예 24 및 참고예 26에서는, 오븐으로 건조 처리 후의 도막에 대하여, 120℃, 20분의 가열 처리를 실시하여 경화 처리를 실시하고, 평가용 샘플을 얻었다.
(3-4) 참고예 25 및 참고예 27에서는 건조 처리 후의 도막(기재가 달린 것)을 평가용 샘플로 했다.
평가 2. 경화물의 반값폭
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"에서 얻어진 투과 스펙트럼으로부터 반값((100%-최대 흡수 파장에서의 투과율(%))/2)을 산출했다.
이어서, 얻어진 투과 스펙트럼과, 반값의 산출 결과로부터 반값이 되는 파장을 최대 흡수 파장보다 장파장 측과, 단파장 측에서 각각 구하고, 양자의 파장 차의 절대값을 반값폭으로 산출했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
한편, 반값폭이 좁으면, 예를 들면, 경화물을 광학 필터로 사용했을 때에 각 색의 발광 강도의 저하를 억제할 수 있는 점에서 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 3. 택성(tackiness)
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의 제작 직후에서의, 표면의 택성을 촉진으로 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
++: 택프리(끈적거림 없음)
+: 끈적거림이 있지만, 12시간 방치 후에는 택프리(끈적거림 없음)
한편, 택성 평가가 "++"이면, 경화물은 경화 속도가 빠른 것을 나타낸다.
평가 4. 컬성
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝ 각으로 잘라내고, 육안으로 뒤로 젖혀짐이 있는지를 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
++: 뒤로 젖혀짐 없음
-: 뒤로 젖혀짐 있음
한편, 컬성 평가가 "++"이면, 경화물은 컬이 적고, 컬성이 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 5. 가요성
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플을 10㎝ 각으로 잘라내고, 직경 10㎜의 금속 막대에 둘러 감아서 크랙이 가지 않는지 아닌지를 육안으로 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
++: 크랙 없음
-: 크랙 있음
한편, 가요성 평가가 "++"이면, 경화물은 가요성이 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 6. 내용제성
상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의, 상기 조성물의 경화막에, 아세톤을 스며들게 한 면봉을 문지르고, 10번 왕복 후의 염료의 이염을 육안으로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
++: 이염 없음
-: 이염 있음
한편, 내용제성이 "++"이면, 경화물은 경시적인 색 변화가 적은 점에서 뛰어난 것을 나타낸다.
평가 7. 색소 단체(單體)의 최대 흡수 파장 및 반값폭
색소(C-1~C-5)를, 용해 후의 최대 흡수 파장에서의 투과율이 5% 정도(3% 이상 7% 이하)가 되도록, 클로로포름에 용해하여, 색소 용액을 조제했다.
이어서, 색소 용액을 석영 셀(광로 길이 10㎜, 두께 1.25㎜)에 충전하고, 분광 광도계(예를 들면, 니혼 분코 제품 가시자외 흡광도계 V-670)를 이용하여 투과율을 측정하고, 450㎚~700㎚의 범위에서의 투과율의 최소값(투과율)과 그 때의 파장(최대 흡수 파장: λmax)을 얻었다.
또한, 상기 평가 2과 동일한 방법에 의해, 반값폭(색소 단체 반값폭)을 산출했다.
결과를 하기 표 3에 나타낸다.
평가 8. 택성 2
실시예 1~16 및 18 그리고 실시예 19~26에 대해, 조사하는 자외선량을 700mJ/㎠에서 100mJ/㎠로 변경한 것 이외에는, 상기 "평가 1. 경화물의 최대 흡수 파장"과 동일한 방법으로 제작한 평가용 샘플의 제작 직후에서의, 표면의 택성을 촉진으로 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 1 및 2에 나타낸다.
++: 택프리(끈적거림 없음)
+: 끈적거림이 있지만, 12시간 방치 후에는 택프리(끈적거림 없음)
한편, 택성 평가가 "++"이면, 경화물은 경화 속도가 빠른 것을 나타낸다.
Figure pct00039
Figure pct00040
Figure pct00041
표 1~2 및 표 3으로부터, 참고예 1~19의 조성물은 550㎚ 이상 610㎚ 이하에 최대 흡수 파장을 가지는 것을 확인할 수 있었다.
참고예 1~19는, 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 참고예 24 및 참고예 26과 비교하여, 경화물의 반값폭과 색소단체 반값폭의 차가 작은 것을 확인할 수 있었다. 구체적으로는, 참고예 1~19에서는 반값폭의 차를 50㎚ 이하로 할 수 있었다. 이에 반하여, 참고예 24 및 참고예 26에서는 반값폭의 차가 50㎚보다 큰 것이 되었다. 즉, 실시예 1~19의 조성물은, 550㎚ 이상 610㎚ 이하의 파장범위 등의 원하는 파장범위에 급준한 흡수 피크를 가지는 것을 확인할 수 있었다.
또한, 표에는 기재하지 않았지만, 참고예 1의 색소의 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 참고예(참고예 1-1, 참고예 1-2, 참고예 1-3)와, 참고예 24의 색소의 함유량을 0.05질량부, 0.1질량부, 0.2질량부로 한 비교예(참고예 24-1, 참고예 24-2, 참고예 24-3)에 대해, 상기 "평가 2. 경화물의 반값폭"에 기재된 평가를 실시했다.
그 결과, 참고예 1-1~1-3은 각각 색소의 함유량이 동일한 양인 참고예 24-1~24-3보다도 경화물의 반값폭과 색소단체 반값폭의 차가 10㎚ 이상 작은 것을 확인할 수 있었다.
그 결과, 참고예 1~19의 조성물은 녹색발광 및 적색발광의 색 순도를 높이는 것이 가능하고, 화상 표시 장치의 색 재현성이 뛰어난 광학 필터에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.
참고예 1~19와 참고예 24 및 참고예 26의 컬 평가로부터, 참고예 1~19의 조성물은 경화 수축이 적고, 밀착성 등이 뛰어난 것이 되는 것이 추측되었다.
참고예 1~19와 참고예 24 및 참고예 26의 가요성 평가로부터, 참고예 1~19의 조성물은 가요성이 양호하고, 예를 들면, 플렉시블성을 가지는 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필터 등에 특히 유용한 것을 확인할 수 있었다.
참고예 1~19와 참고예 25 및 참고예 27의 내용제성의 평가로부터, 참고예 1~19의 조성물은 양이온 중합성 화합물을 포함함으로써, 3차원 가교된 도막을 형성할 수 있고, 색소의 유지 성능 등의 내구성이 뛰어난 경화물이 얻어지는 것을 확인할 수 있었다.
참고예 17과 다른 참고예의 비교로부터, 광산발생제는 열산발생제보다 경화 속도가 빠른 것을 확인할 수 있었다. 또한, 열산발생제를 사용함으로써, 경화 처리(가열 처리) 후에 다른 부재와의 맞붙임을 용이하게 할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
참고예 20~23 및 실시예 1~3과, 참고예 3 등과의 택성 2의 평가로부터, 증감제를 포함하는 조성물은 양이온 중합성 화합물로서 중합성이 뛰어난 A1-7의 함유량이 낮은 경우여도 뛰어난 경화성을 발휘할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
[실시예 101~138 및 비교예 101~111]
하기 표 4~7에 기재된 배합에 따라, 양이온 중합성 화합물, 광산발생제, 색소, 라디칼 중합성 화합물, 광 라디칼 개시제, 증감제, 용제 및 첨가제를 배합하고, 1시간 교반하여 조성물을 얻었다.
또한, 각 성분은 이하의 재료를 사용했다.
한편, 표 중의 배합량은 각 성분의 질량부를 나타내는 것이다.
[제조예 11]
빙냉하, NaH(41.6g, 1.04㏖)를 DMF 300㎖에 첨가하고, 벤조카르바졸(150.7g, 0.69㏖)의 DMF(600㎖) 용액을 적하하여 첨가했다.
이이서, 1-브로모-2-에틸헥산(267.9g, 1.38㏖)을 적하하여 첨가하고, 60℃로 승온하고 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 1300g의 얼음물에 반응액을 붓고, 염산을 사용하여 pH 3으로 조정하여, 클로로포름으로 추출했다. 유기층을 수세 후, 농축했다. 잔사를 에탄올/헥산으로 정석(晶析)하고, 목적물(하기 식(E11)로 나타내는 화합물)인 백색 결정을 얻었다. 질량 분석으로 목적물의 분자량인 것을 확인했다.
[제조예 12]
E15 합성예
빙냉하, NaH(41.6g, 1.04㏖)를 DMF 300㎖에 첨가하고, 7H-벤조[c]카르바졸(150.7g, 0.69㏖)의 DMF(600㎖) 용액을 적하하여 첨가했다.
이이서, 1-브로모-2-에틸헥산(267.9g, 1.38㏖)을 적하하여 첨가하고, 60℃로 승온하고 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 1300g의 얼음물에 반응액을 붓고, 염산을 사용하여 pH 3으로 조정하여, 클로로포름으로 추출했다. 유기층을 수세 후, 농축했다. 잔사를 톨루엔/헥산으로 컬럼 정제하고, 목적물(하기 식(E15)로 나타내는 화합물)인 투명 오일 형상물을 얻었다. NMR 분석으로 목적의 화합물인 것을 확인했다.
[제조예 13]
E16 합성예
빙냉하, NaH(41.6g, 1.04㏖)를 DMF 300㎖에 첨가하고, 11H-벤조[a]카르바졸(150.7g, 0.69㏖)의 DMF(600㎖) 용액을 적하하여 첨가했다.
이어서, 벤질브로마이드(17.8g, 0.104㏖)를 적하하여 첨가하고, 60℃로 승온하고 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 1300g의 얼음물에 반응액을 붓고, 염산을 사용하여 pH 3으로 조정하여, 클로로포름으로 추출했다. 유기층을 수세 후, 농축했다. 잔사를 에탄올/헥산으로 정석하고, 목적물(하기 식(E16)으로 나타내는 화합물)인 백색 결정을 얻었다. NMR 분석으로 목적의 화합물인 것을 확인했다.
[제조예 14]
E18 합성예
빙냉하, NaH(4.16g, 0.1㏖)를 DMF 30㎖에 첨가하고, 3,6-디메톡시-9H-카르바졸(15.7g, 0.069㏖)의 DMF(60㎖) 용액을 적하하여 첨가했다.
이어서, 브로모에탄(1.09g, 0.01㏖)을 적하하여 첨가하고, 60℃로 승온하고 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 130g의 얼음물에 반응액을 붓고, 염산을 사용하여 pH 3으로 조정하여, 클로로포름으로 추출했다. 유기층을 수세 후, 농축했다. 잔사를 에탄올로 정석하고, 목적물(하기 식(E18)로 나타내는 화합물)인 백색 결정을 얻었다. NMR 분석으로 목적의 화합물인 것을 확인했다.
[제조예 15]
E20 합성예
실온에서 하이드로퀴논(10.0g, 0.09㏖)과 수산화칼륨(20.4g, 0.364㏖)을 DMSO(80㎖)에 용해시켰다. 1-브로모-2-에틸헥산(32.5g, 0.182㏖)을 적하하여 첨가하고, 80℃로 승온하고 2일간 교반했다. 반응 종료 후, 디클로로에탄으로 추출하고, 수세 후, 유기층을 농축했다. 잔사를 아세트산에틸/헥산으로 컬럼 정제하고, 목적물(하기 식(E20)으로 나타내는 화합물)인 황색 오일 형상물을 얻었다. NMR 분석으로 목적의 화합물인 것을 확인했다.
(양이온 중합성 화합물)
A11: 시클로헥센옥사이드 구조를 가지는 지환식 에폭시 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A11)로 나타내는 화합물, 다이셀사 제품 셀록사이드 2021P, 일반식(5-1)로 나타내는 화합물)
A12: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A12)로 나타내는 화합물, 일반식(5-2)로 나타내는 화합물)
A13: 지방족 에폭시 화합물, 고분자량 화합물(하기 식(A13)으로 나타내는 화합물, 다이셀사 제품 EHPE-3150, 2,2-비스(하이드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물)
A14: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A14)로 나타내는 화합물, 일반식(5-2)로 나타내는 화합물)
A15: 지방족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A15)로 나타내는 화합물, n≒6, 일반식(5-1)로 나타내는 화합물)
A16: 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A16)으로 나타내는 화합물)
A17: 옥세탄 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A17)로 나타내는 화합물, 도아 고세이사 제품 OXT-211)
A18: 글리시딜페닐에테르, 방향족 에폭시 화합물, 글리시딜에테르형 화합물, 저분자량 화합물(하기 식(A18)로 나타내는 화합물)
Figure pct00042
(산발생제)
B11: 광산발생제, 방향족 설포늄염(상기 식(B1-4)로 나타내는 화합물 50질량%와, 하기 식(B11B)로 나타내는 화합물 50질량%의 혼합물의 프로필렌카보네이트 용액, 고형분 50%)
Figure pct00043
(색소)
C11: 테트라아자포르피린, 일반식(1)로 나타내는 화합물(M=Cu)(제조예 1에서 제조된 상기 식(C-1)로 나타내는 화합물)
C12: 시아닌, (상기 식(C-4)로 나타내는 화합물)
C13: 트리아릴메탄계 색소, 일반식(301)로 나타내는 화합물(제조예 2에서 제조된 상기 식(C-5)로 나타내는 화합물)
(첨가제)
D11: 레벨링제(도레 다우코닝사 제품 SH-29P Paint aditive)
(특정 증감제)
E11: 벤조카르바졸 화합물, 일반식(4-1)로 나타내는 화합물, 제조예 11에서 제조된 하기 식(E11)로 나타내는 화합물
E12: 알콕시벤젠 화합물, 일반식(3-1)로 나타내는 화합물, 하기 식(E12)로 나타내는 화합물
E13: 알콕시벤젠 화합물, 일반식(3-1)로 나타내는 화합물, 하기 식(E13)으로 나타내는 화합물
E14: 알콕시벤젠 화합물, 일반식(3-1)로 나타내는 화합물, 하기 식(E14)로 나타내는 화합물
E15: 증감제(일반식(4-3)으로 나타내는 화합물, 제조예 12에서 제조된 하기 식(E15)로 나타내는 화합물, 특정 증감제)
E16: 증감제(일반식(4-1)로 나타내는 화합물, 제조예 13에서 제조된 하기 식(E16)으로 나타내는 화합물, 특정 증감제)
E17: 증감제(일반식(1000-1)로 나타내는 화합물, 하기 식(E17)로 나타내는 화합물, 특정 증감제, TCI 제품 D4833(3,6-디메톡시-9H-카르바졸)
E18: 증감제(일반식(1000-1)로 나타내는 화합물, 제조예 14에서 제조된 하기 식(E18)로 나타내는 화합물, 특정 증감제)
E19: 증감제(일반식(3-1)로 나타내는 화합물, 하기 식(E19)로 나타내는 화합물, 특정 증감제, TCI 제품 D1065(1,4-비스(2-하이드록시에톡시)벤젠)
E20: 증감제(일반식(3-1)로 나타내는 화합물, 제조예 15에서 제조된 하기 식(E20)으로 나타내는 화합물, 특정 증감제)
Figure pct00044
(증감제)
F11: 안트라센 화합물, 하기 식(F11)로 나타내는 화합물
F12: 안트라센 화합물, 하기 식(F12)로 나타내는 화합물
F13: 나프탈렌 화합물, 하기 식(F13)으로 나타내는 화합물
F14: 카르바졸 화합물, 하기 식(F14)로 나타내는 화합물
F15: 카르바졸 화합물, 하기 식(F15)로 나타내는 화합물
F16: 벤조페논 화합물, 하기 식(F16)으로 나타내는 화합물
F17: 크산톤 화합물, 하기 식(F17)로 나타내는 화합물
F18: 티오크산텐 화합물, 하기 식(F18)로 나타내는 화합물
F19: 페노티아진카르바졸 화합물, 하기 식(F19)로 나타내는 화합물
F20: 트리페닐아민 화합물, 하기 식(F20)으로 나타내는 화합물
Figure pct00045
(용제)
G11: 디아세톤알코올(알코올계 용제)
G12: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA, 에테르에스테르계 용제)
[평가]
각종 측정에 대해서는 이하의 방법에 따라 실시했다.
평가 A1. 용해성
각 증감제 0.2g에 용제 5㎖를 첨가한 후, 셰이커를 이용하여 혼합했을 때의 용해에 소요되는 시간으로부터, 증감제의 용해성을 평가했다. 결과를 하기 표 4~7에 나타낸다.
++: 10분 이내에 용해
+: 10분 이상 30분 이내에 용해
-: 용해까지 30분 이상 소요되거나 용해되지 않음
한편, 증감제에 첨가한 용제는 실시예 및 비교예에서 사용한 용제와 동일하다.
용해까지 소요되는 시간이 짧을수록, 용제와의 상용성(相溶性)이 양호하고, 예를 들면, 수지 조성물과의 상용성이 뛰어나며, 분산 안정성이 뛰어나다고 판단할 수 있다.
평가 A2. 분산 안정성
실시예 및 비교예의 조성물의 제조 방법으로서, 특정 증감제(E11~E20) 및 비특정 증감제(F11~F20) 이외의 성분을 혼합하여 수지 조성물을 조제한 후, 특정 증감제 및 비특정 증감제를 첨가하고, 셰이커를 이용하여 혼합했다. 수지 조성물에 특정 증감제 및 비특정 증감제가 용해될 때까지의 시간을 측정하고, 분산 안정성을 평가했다. 결과를 하기 표 4~6에 나타낸다.
++: 15분 이내에 용해
+: 15분 이상 60분 이내에 용해.
-: 용해까지 60분 이상 소요되거나 용해되지 않음
용해까지 소요되는 시간이 짧을수록, 수지 조성물과 증감제의 상용성이 양호하고, 분산 안정성이 뛰어나다고 판단할 수 있다.
평가 A3. 경화 감도
실시예 및 비교예에서 얻어진 조성물을, 기재(유리기판, 10㎝ 각, 100㎛)에 도막의 두께가 3㎛가 되도록 스핀 코트법으로 도포한 후, 90℃ 1분 건조함으로써, 용제를 제거하고, 건조 도막을 얻었다.
이어서, 건조 도막에 대하여, 365㎚에 휘선을 가지는 LED광원을 사용한 노광을 실시하고, 도막 표면이 택프리가 되는 데에 필요로 하는 노광량을 측정하고, 하기 기준으로 평가를 실시했다. 결과를 하기 표 4~7에 나타낸다.
++: 300mJ/㎠ 미만
+: 300mJ/㎠ 이상 1200mJ/㎠ 미만
-: 1200mJ/㎠ 이상 또는 택프리가 되지 않음
택프리가 되는 데에 필요로 하는 노광량이 적을수록, 경화 감도가 뛰어나다고 판단할 수 있다.
평가A4. 내습열성
실시예 및 비교예에서 얻어진 조성물을, 기재(유리기판, 100㎛)에 도막의 두께가 3㎛가 되도록 바 코트법으로 도포한 후, 150℃ 10분 건조함으로써, 용제를 제거하고, 건조 도막을 얻었다.
이어서, 건조 도막에 대하여, 무전극 자외광 램프를 이용하여 1500mJ/㎠의 노광량이 되도록, 자외선 조사를 실시하고, 경화막을 얻었다.
얻어진 경화막을 기재에 적층한 상태로, 항온항습조 내에서 80℃, 80RH%의 조건하에서 24시간 보존한 후에 경화막 표면을 현미경 관찰했다.
경화막 표면의 1㎝×1㎝의 범위에서의, 색소에서 유래하는 석출물에 의해 덮이는 면적비율을 측정했다. 이 측정을 경화막 표면의 임의의 10군데에서 실시하고, 10군데의 평균을 구하고, 이하의 판단 기준으로 평가를 실시했다. 결과를 하기 표 4~7에 나타낸다.
++: 10% 미만
+: 10% 이상 30% 미만
-: 30% 이상
색소에서 유래하는 석출물에 의해 덮이는 면적 비율이 적을수록, 내습열성이 뛰어나다고 판단할 수 있다.
Figure pct00046
Figure pct00047
Figure pct00048
Figure pct00049
[정리]
상기 표 4~7로부터, 특정 증감제를 포함함으로써, 경화 감도 및 분산 안정성 양자가 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.
알콕시벤젠 화합물은, 알콕시기의 탄소 원자수가 1인 것은 탄소 원자수가 2~5인 것보다도 경화 감도 및 분산 안정성 양자가 뛰어난 것을 확인할 수 있었다.
본 발명에 따르면, 경화 감도 및 분산 안정성이 뛰어난 조성물을 제공할 수 있다.

Claims (11)

  1. 양이온 중합성 화합물과,
    광산발생제와,
    알콕시벤젠 화합물, 벤조카르바졸 화합물 및 디알콕시카르바졸 화합물에서 선택되는 적어도 하나의 화합물
    을 포함하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 알콕시벤젠 화합물이 하기 일반식(3-1)로 나타내는 화합물이며,
    상기 벤조카르바졸 화합물이 하기 일반식(4-1), (4-2) 또는 (4-3)으로 나타내는 화합물이고,
    상기 디알콕시카르바졸 화합물이 하기 일반식(1000-1)로 나타내는 화합물인 조성물.
    Figure pct00050

    (식 중 R11 및 R12는, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~30의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기를 나타낸다.)
    Figure pct00051

    (식 중 R155는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
    R156, R157, R158, R159, R160, R161, R162, R163, R164 및 R165는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
    Figure pct00052

    (식 중 R255는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
    R256, R257, R258, R259, R260, R261, R262, R263, R264 및 R265는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
    Figure pct00053

    (식 중 R355는 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
    R356, R357, R358, R359, R360, R361, R362, R363, R364 및 R365는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타낸다.)
    Figure pct00054

    (식 중 R1001은 수소 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 비닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고,
    R1002, R1003, R1004, R1005, R1006, R1007, R1008 및 R1009는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~30의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 1~30의 알콕시기, 시아노기, 수산기 또는 카르복실기를 나타내며,
    R1002, R1003, R1004 및 R1005 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이며, 또한 R1006, R1007, R1008 및 R1009 중 적어도 하나의 기가 탄소 원자수 1~30의 알콕시기이다.)
  3. 제2항에 있어서,
    상기 일반식(3-1) 중의 R11 및 R12가 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~3의 알킬기 또는 상기 알킬기의 수소 원자가 수산기 및 카르복실기 중 적어도 하나로 치환된 기이며,
    상기 일반식(4-1) 중의 R155가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이고,
    상기 일반식(4-2) 중의 R255가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이며,
    상기 일반식(4-3) 중의 R355가 탄소 원자수 3~15의 알킬기 또는 탄소 원자수 7~15의 아릴알킬기이고,
    상기 일반식(1000-1) 중의 R1001이 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~15의 알킬기인 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알콕시벤젠 화합물, 상기 벤조카르바졸 화합물 및 상기 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량이, 상기 광산발생제 100질량부에 대하여 5질량부 이상 90질량부 이하인 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알콕시벤젠 화합물, 상기 벤조카르바졸 화합물 및 상기 디알콕시카르바졸 화합물의 합계 함유량이, 상기 알콕시벤젠 화합물, 상기 벤조카르바졸 화합물 및 상기 디알콕시카르바졸 화합물과, 이들 이외의 증감제의 합계 100질량부 중에 50질량부 이상인 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 양이온 중합성 화합물이 지환식 에폭시 화합물을 포함하고,
    상기 지환식 에폭시 화합물의 함유량이, 상기 양이온 중합성 화합물 100질량부 중에 20질량부 이상인 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 추가로 색소를 포함하는 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 광학 필터 형성용인 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 조성물의 경화물.
  10. 제9항에 기재된 경화물을 포함하는 광 흡수층을 가지는 광학 필터.
  11. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화하는 공정을 포함하는 경화물의 제조 방법.
KR1020207031416A 2018-07-27 2019-06-28 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법 KR102746881B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018141724 2018-07-27
JPJP-P-2018-141724 2018-07-27
JP2018248687 2018-12-28
JPJP-P-2018-248687 2018-12-28
PCT/JP2019/025977 WO2020021969A1 (ja) 2018-07-27 2019-06-28 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210036864A true KR20210036864A (ko) 2021-04-05
KR102746881B1 KR102746881B1 (ko) 2024-12-27

Family

ID=69181452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207031416A KR102746881B1 (ko) 2018-07-27 2019-06-28 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7366900B2 (ko)
KR (1) KR102746881B1 (ko)
CN (1) CN112154167B (ko)
TW (1) TWI820164B (ko)
WO (1) WO2020021969A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113613894B (zh) * 2019-03-15 2022-12-30 日东电工株式会社 粘合片、粘合片的制造方法、中间层叠体的制造方法以及中间层叠体
JP2021066773A (ja) * 2019-10-18 2021-04-30 株式会社Adeka 組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
CN114222773B (zh) * 2020-02-04 2024-04-09 株式会社艾迪科 组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法
CN115836100B (zh) * 2020-10-30 2024-12-17 株式会社艾迪科 聚合性组合物、固化物及固化物的制造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020025991A1 (en) * 2000-04-04 2002-02-28 Crivello James V. Oligomeric and polymeric photosensitizers
JP2003096184A (ja) * 2001-07-17 2003-04-03 Mitsui Chemicals Inc 光硬化型樹脂組成物
JP2006259558A (ja) 2005-03-18 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US7241404B2 (en) 2003-04-09 2007-07-10 Nippon Shokubai Co., Ltd Resin composition, optical filter and plasma display
US7820254B2 (en) 2006-03-30 2010-10-26 Fujifilm Corporation Near infrared-absorbing dye-containing curable composition
JP2011190333A (ja) * 2010-03-13 2011-09-29 Kawasaki Kasei Chem Ltd 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000239648A (ja) * 1999-02-19 2000-09-05 Jsr Corp 光カチオン重合用光増感剤および光カチオン重合方法
KR20030007186A (ko) * 2001-07-17 2003-01-23 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 광 양이온성 경화가능 수지 조성물 및 그 용도
JP5556375B2 (ja) 2010-05-27 2014-07-23 川崎化成工業株式会社 光硬化性組成物
JP5963467B2 (ja) 2012-02-10 2016-08-03 ケミプロ化成株式会社 単分子でエキシプレックス発光を示す化合物を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
CN103930493A (zh) * 2012-05-15 2014-07-16 株式会社艾迪科 光固化性树脂组合物
TW201536873A (zh) * 2014-03-31 2015-10-01 Fujifilm Corp 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置
JP6832071B2 (ja) * 2016-03-25 2021-02-24 東京応化工業株式会社 着色感光性組成物、それによって得られる着色硬化物、表示素子及び着色硬化物の製造方法
JP7228343B2 (ja) 2017-10-06 2023-02-24 株式会社Adeka 組成物及び硬化性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020025991A1 (en) * 2000-04-04 2002-02-28 Crivello James V. Oligomeric and polymeric photosensitizers
JP2003096184A (ja) * 2001-07-17 2003-04-03 Mitsui Chemicals Inc 光硬化型樹脂組成物
US7241404B2 (en) 2003-04-09 2007-07-10 Nippon Shokubai Co., Ltd Resin composition, optical filter and plasma display
JP2006259558A (ja) 2005-03-18 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US7820254B2 (en) 2006-03-30 2010-10-26 Fujifilm Corporation Near infrared-absorbing dye-containing curable composition
JP2011190333A (ja) * 2010-03-13 2011-09-29 Kawasaki Kasei Chem Ltd 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物

Also Published As

Publication number Publication date
CN112154167B (zh) 2023-08-22
WO2020021969A1 (ja) 2020-01-30
TWI820164B (zh) 2023-11-01
JP7366900B2 (ja) 2023-10-23
JPWO2020021969A1 (ja) 2021-08-05
KR102746881B1 (ko) 2024-12-27
CN112154167A (zh) 2020-12-29
TW202012546A (zh) 2020-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102684570B1 (ko) 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법
KR102746881B1 (ko) 조성물, 경화물, 광학 필터 및 경화물의 제조 방법
TWI724015B (zh) 組合物
TWI628245B (zh) 彩色濾光片用色材分散液、色材、彩色濾光片、液晶顯示裝置及有機發光顯示裝置
TW201443164A (zh) 著色組成物、著色硬化膜及顯示元件
KR20230044432A (ko) 화합물
TW201406801A (zh) 硬化性組成物、硬化膜及顯示元件
TW201543149A (zh) 著色組成物、著色硬化膜及顯示元件
TW201341478A (zh) 著色劑、彩色濾光片用著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
KR20170088939A (ko) 컬러 필터용 색재 분산액, 컬러 필터용 착색 수지 조성물, 색재, 컬러 필터, 액정 표시 장치 및 발광 표시 장치
TW201224064A (en) Basic colorant, color composition, color filter and display element
WO2021044802A1 (ja) 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法
KR20160149168A (ko) 잔텐계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
CN107111024B (zh) 色材分散液、着色树脂组合物、色材、彩色滤光片
TWI617632B (zh) 感光性著色樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置暨發光顯示裝置
TW201527444A (zh) 著色組成物、著色硬化膜及顯示元件
JP7374567B2 (ja) 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法
KR20190077944A (ko) 잔텐계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
TW201333120A (zh) 著色劑、著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
TWI731909B (zh) 著色組合物
KR20240135796A (ko) 착색 조성물
TW201411282A (zh) 著色組成物、彩色濾光片及顯示元件
CN114072730A (zh) 组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法
CN110320750A (zh) 着色组合物、着色硬化膜及其应用、色素多聚体
KR102439577B1 (ko) 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20201030

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PG1501 Laying open of application
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20220503

Comment text: Request for Examination of Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20240315

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20241129

PG1601 Publication of registration