JP2000239648A - 光カチオン重合用光増感剤および光カチオン重合方法 - Google Patents
光カチオン重合用光増感剤および光カチオン重合方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光酸発生剤としてオニウム塩を用いた光カチ
オン重合に有用な光増感剤を提供すること。 【解決手段】 式(1)または式(2)で表されるカル
バゾール化合物を用いる。 【化1】 【化2】 ((式(1)および式(2)において、Rは、互いに独
立してフッ素、塩素、臭素、水酸基、メルカプト基、ニ
トロ基または炭素数1〜19の1価の有機基を示し、k
およびk’は互いに独立して0〜4の整数を、mおよび
m’は互いに独立して0〜2の整数を示し、Yおよび
Y’は互いに独立して炭素数1〜18の1価の有機基で
ある。)
オン重合に有用な光増感剤を提供すること。 【解決手段】 式(1)または式(2)で表されるカル
バゾール化合物を用いる。 【化1】 【化2】 ((式(1)および式(2)において、Rは、互いに独
立してフッ素、塩素、臭素、水酸基、メルカプト基、ニ
トロ基または炭素数1〜19の1価の有機基を示し、k
およびk’は互いに独立して0〜4の整数を、mおよび
m’は互いに独立して0〜2の整数を示し、Yおよび
Y’は互いに独立して炭素数1〜18の1価の有機基で
ある。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光カチオン重合法に
関し、さらに詳しくは特定のカルバゾール化合物からな
る光増感剤およびこれを用いる重合方法に関する。
関し、さらに詳しくは特定のカルバゾール化合物からな
る光増感剤およびこれを用いる重合方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光照射によりカチオン重合を開始する光
カチオン重合系は、酸素の影響を受けないこと、光照射
後の加熱により有効なポストキュアーができること、多
種多様なモノマーの重合が可能であることなどの利点が
あることが知られている。光カチオン重合についてはク
リベロが総説にまとめている (J.V.Crivello:Advancesi
n Polymer Science,Vol.62,1,1984)。光カチオン重合の
利用に関しては米国特許3,466,374号やベルギ
ー特許828,842号(1975)が知られている。
光カチオン重合の重合開始剤として通常光酸発生剤が用
いられる。光酸発生剤は、光、主として紫外線、可視光
線などの照射を受けてカチオン重合を開始する。光酸発
生剤は、その種類により、重合を開始する光の波長や必
要照射量が異なるが、紫外線、特に250nmから35
0nm未満の波長の紫外線を吸収して重合を開始するも
のが多い。
カチオン重合系は、酸素の影響を受けないこと、光照射
後の加熱により有効なポストキュアーができること、多
種多様なモノマーの重合が可能であることなどの利点が
あることが知られている。光カチオン重合についてはク
リベロが総説にまとめている (J.V.Crivello:Advancesi
n Polymer Science,Vol.62,1,1984)。光カチオン重合の
利用に関しては米国特許3,466,374号やベルギ
ー特許828,842号(1975)が知られている。
光カチオン重合の重合開始剤として通常光酸発生剤が用
いられる。光酸発生剤は、光、主として紫外線、可視光
線などの照射を受けてカチオン重合を開始する。光酸発
生剤は、その種類により、重合を開始する光の波長や必
要照射量が異なるが、紫外線、特に250nmから35
0nm未満の波長の紫外線を吸収して重合を開始するも
のが多い。
【0003】光カチオン重合用増感剤は、開始剤の種類
に応じて多数報告されている。例えば、アクリジンオレ
ンジ、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、セトフラ
ビンTなどの色素、ペリレン、ピレン、アントラセン、
フェノチアジン、1,2−ベンズアントラセン、コロネ
ンなどの芳香族化合物、チオキサントン、フルオレノ
ン、ベンゾフェノン、アントラキノンなどの芳香族カル
ボニル化合物が知られている。
に応じて多数報告されている。例えば、アクリジンオレ
ンジ、アクリジンイエロー、ベンゾフラビン、セトフラ
ビンTなどの色素、ペリレン、ピレン、アントラセン、
フェノチアジン、1,2−ベンズアントラセン、コロネ
ンなどの芳香族化合物、チオキサントン、フルオレノ
ン、ベンゾフェノン、アントラキノンなどの芳香族カル
ボニル化合物が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年電子工業技術の急
激な進歩により紫外線、近紫外線などの光源として種々
なものが実用化され、光カチオン重合の光照射装置とし
て利用可能になった。また、生産効率を高めるために光
カチオン重合の重合時間の短縮、すなわち、光硬化速度
の向上が望まれていた。光カチオン重合開始剤として開
発された芳香族オニウム塩の中、特にPF6 、AsF
6 、SbF6 などの非求核性アニオンを有する芳香族ス
ルホニウム塩または芳香族ヨードニウム塩は、光感受性
が大きく、光照射により強酸を発生することが知られて
いる。しかし、この重合開始剤は、波長が350nm未
満の紫外線により励起されて酸を発生するが、波長が3
50nm以上では酸を発生しないか、発生しても発生効
率が低かった。このため近年利用されるようになった波
長が350nm以上である比較的可視光線に近い波長の
Arレーザーでは十分な硬化感度が得られないという問
題があった。本発明の第一の目的は、350nm以上の
近紫外線でも十分な硬化感度が得られる新規な光増感剤
の提供にある。本発明の第二の目的は、この光増感剤を
用いた重合方法の提供にある。
激な進歩により紫外線、近紫外線などの光源として種々
なものが実用化され、光カチオン重合の光照射装置とし
て利用可能になった。また、生産効率を高めるために光
カチオン重合の重合時間の短縮、すなわち、光硬化速度
の向上が望まれていた。光カチオン重合開始剤として開
発された芳香族オニウム塩の中、特にPF6 、AsF
6 、SbF6 などの非求核性アニオンを有する芳香族ス
ルホニウム塩または芳香族ヨードニウム塩は、光感受性
が大きく、光照射により強酸を発生することが知られて
いる。しかし、この重合開始剤は、波長が350nm未
満の紫外線により励起されて酸を発生するが、波長が3
50nm以上では酸を発生しないか、発生しても発生効
率が低かった。このため近年利用されるようになった波
長が350nm以上である比較的可視光線に近い波長の
Arレーザーでは十分な硬化感度が得られないという問
題があった。本発明の第一の目的は、350nm以上の
近紫外線でも十分な硬化感度が得られる新規な光増感剤
の提供にある。本発明の第二の目的は、この光増感剤を
用いた重合方法の提供にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、式(1)また
は式(2)で表されるカルバゾール化合物の少なくとも
1種からなる光カチオン重合用光増感剤およびこの光増
感剤を用いた光カチオン重合方法を提供するものであ
る。
は式(2)で表されるカルバゾール化合物の少なくとも
1種からなる光カチオン重合用光増感剤およびこの光増
感剤を用いた光カチオン重合方法を提供するものであ
る。
【0006】
【化3】
【0007】
【化4】
【0008】(式(1)および式(2)において、R
は、互いに独立してフッ素、塩素、臭素、水酸基、メル
カプト基、ニトロ基またはC1 〜C19の1価の有機基を
示し、kおよびk’は互いに独立して0〜4の整数を、
mおよびm’は互いに独立して0〜2の整数を示し、Y
およびY’は独立してC1 〜C18の有機基である。)
は、互いに独立してフッ素、塩素、臭素、水酸基、メル
カプト基、ニトロ基またはC1 〜C19の1価の有機基を
示し、kおよびk’は互いに独立して0〜4の整数を、
mおよびm’は互いに独立して0〜2の整数を示し、Y
およびY’は独立してC1 〜C18の有機基である。)
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の光カチオン重合用
光増感剤およびこれを用いた光カチオン重合法について
詳細に説明する。本発明の光カチオン重合用光増感剤
(以下、「光増感剤」という。)は、式(1)または式
(2)で表されるカルバゾール化合物であり、式中の置
換基Rは、それぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、水酸
基、メルカプト基、ニトロ基またはC1 〜C19の1価
の有機基(本発明の記載において「Cn(nは数字)」
は、「炭素数n個」を意味する。)である。
光増感剤およびこれを用いた光カチオン重合法について
詳細に説明する。本発明の光カチオン重合用光増感剤
(以下、「光増感剤」という。)は、式(1)または式
(2)で表されるカルバゾール化合物であり、式中の置
換基Rは、それぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、水酸
基、メルカプト基、ニトロ基またはC1 〜C19の1価
の有機基(本発明の記載において「Cn(nは数字)」
は、「炭素数n個」を意味する。)である。
【0010】ここで、C1 〜C19の1価の有機基の例と
しては、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキ
ル基;C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルケニ
ル基;C6 〜C18の単環、縮合多環のアリール基;C7
〜C18の単環、縮合多環のアリールアルキル基;C1 〜
C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルコキシル基;C 6
〜C18の単環、縮合多環のアリールオキシ基;C1 〜C
18の直鎖状、分岐鎖状、環状の脂肪族;C7 〜C19の単
環、縮合多環の芳香族アシル基;C2 〜C19の直鎖状、
分岐鎖状、環状のアルコキシカルボニル基またはC7 〜
C19の単環、縮合多環のアリールオキシカルボニル基を
挙げることができ、これらの有機基は、フッ素、塩素、
臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良い。さらに、式
(1)、(2)において、YおよびY’はそれぞれ独立
に、C1 〜C18の1価の有機基であり、例えば、C1 〜C
18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキル基;C2 〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルケニル基;C6 〜C18
の単環、縮合多環のアリール基等を挙げることができ
る。
しては、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキ
ル基;C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルケニ
ル基;C6 〜C18の単環、縮合多環のアリール基;C7
〜C18の単環、縮合多環のアリールアルキル基;C1 〜
C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルコキシル基;C 6
〜C18の単環、縮合多環のアリールオキシ基;C1 〜C
18の直鎖状、分岐鎖状、環状の脂肪族;C7 〜C19の単
環、縮合多環の芳香族アシル基;C2 〜C19の直鎖状、
分岐鎖状、環状のアルコキシカルボニル基またはC7 〜
C19の単環、縮合多環のアリールオキシカルボニル基を
挙げることができ、これらの有機基は、フッ素、塩素、
臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良い。さらに、式
(1)、(2)において、YおよびY’はそれぞれ独立
に、C1 〜C18の1価の有機基であり、例えば、C1 〜C
18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキル基;C2 〜C18
の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルケニル基;C6 〜C18
の単環、縮合多環のアリール基等を挙げることができ
る。
【0011】さらに具体例を説明すれば、フッ素、塩
素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
アノ基、ニトロ基で置換されていても良いC1 〜C18の
直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基としては、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、シクロペンチ
ル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、シ
クロペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基、テトラデシル基、オクタデシル基、フルオロ
メチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、カ
ルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノメチル
基、ニトロメチル基、アジドメチル基等を挙げることが
できる。
素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シ
アノ基、ニトロ基で置換されていても良いC1 〜C18の
直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基としては、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、シクロペンチ
ル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、シ
クロペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ド
デシル基、テトラデシル基、オクタデシル基、フルオロ
メチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、カ
ルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノメチル
基、ニトロメチル基、アジドメチル基等を挙げることが
できる。
【0012】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルケ
ニル基としては、ビニル基、プロペニル基(アリル
基)、イソプロペニル基、ブテニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、
シクロヘキセニル基、1−オクテニル基、1−シクロヘ
キセニル基、トリフルオロエテニル基、1−クロロエテ
ニル基、4−ヒドロキシ−1−ブテニル基等を挙げるこ
とができる。フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC6 〜C18の単環、縮合多環アリール基とし
ては、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメリル
基、メシチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−
ピレニル基、p−クメニル基、o−フルオロフェニル
基、p−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基
等を挙げることができる。
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アルケ
ニル基としては、ビニル基、プロペニル基(アリル
基)、イソプロペニル基、ブテニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、
シクロヘキセニル基、1−オクテニル基、1−シクロヘ
キセニル基、トリフルオロエテニル基、1−クロロエテ
ニル基、4−ヒドロキシ−1−ブテニル基等を挙げるこ
とができる。フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC6 〜C18の単環、縮合多環アリール基とし
ては、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメリル
基、メシチル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−
ピレニル基、p−クメニル基、o−フルオロフェニル
基、p−メルカプトフェニル基、p−シアノフェニル基
等を挙げることができる。
【0013】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC7 〜C18の単環、縮合多環アリールアルキ
ル基としては、ベンジル基、p−トリルメチル基、2−
ナフチルメチル基、o−フルオロベンジル基、p−ヒド
ロキシベンジル基、フェネチル基、スチリル基、シンナ
ミル基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭素、
水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニ
トロ基で置換されていても良いC1 〜C18の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルコキシル基としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、ペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オク
チルオキシ基、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ
基、トリフルオロメトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、
カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シアノ
メトキシ基等を挙げることができる。
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC7 〜C18の単環、縮合多環アリールアルキ
ル基としては、ベンジル基、p−トリルメチル基、2−
ナフチルメチル基、o−フルオロベンジル基、p−ヒド
ロキシベンジル基、フェネチル基、スチリル基、シンナ
ミル基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭素、
水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニ
トロ基で置換されていても良いC1 〜C18の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルコキシル基としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、ペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オク
チルオキシ基、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ
基、トリフルオロメトキシ基、ヒドロキシメトキシ基、
カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シアノ
メトキシ基等を挙げることができる。
【0014】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC6 〜C18の単環、縮合多環アリールオキシ
基としては、フェノキシ基、1−ナフトキシ基、2−ナ
フトキシ基、5−ナフタセニル基、1−インデニルオキ
シ基、o−トリルオキシ基、2,3−キシリルオキシ
基、p−クメニルオキシ基、p−シクロヘキシルフェノ
キシ基、o−フルオロフェノキシ基、o−メルカプトフ
ェノキシ基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良いC1 〜C18の直鎖
状、分岐鎖状、環状脂肪族もしくはC7 〜C19の単環、
縮合多環芳香族アシル基としては、ホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、
イソバレリル基、ビバロイル基、ヘキサノイル基、ラウ
ロイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロヘ
キシルカルボニル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル
基、2−ナフトイル基、クロロアセチル基、ヒドロキシ
アセチル基、シアノアセチル基等を挙げることができ
る。
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC6 〜C18の単環、縮合多環アリールオキシ
基としては、フェノキシ基、1−ナフトキシ基、2−ナ
フトキシ基、5−ナフタセニル基、1−インデニルオキ
シ基、o−トリルオキシ基、2,3−キシリルオキシ
基、p−クメニルオキシ基、p−シクロヘキシルフェノ
キシ基、o−フルオロフェノキシ基、o−メルカプトフ
ェノキシ基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良いC1 〜C18の直鎖
状、分岐鎖状、環状脂肪族もしくはC7 〜C19の単環、
縮合多環芳香族アシル基としては、ホルミル基、アセチ
ル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、
イソバレリル基、ビバロイル基、ヘキサノイル基、ラウ
ロイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロヘ
キシルカルボニル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル
基、2−ナフトイル基、クロロアセチル基、ヒドロキシ
アセチル基、シアノアセチル基等を挙げることができ
る。
【0015】フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシ
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC2 〜C19の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコ
キシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、t−ブ
トキシカルボニル基、フルオロメトキシカルボニル基、
クロロメトキシカルボニル基、カルボメトキシカルボニ
ル基、シアノメトキシカルボニル基、ニトロメトキシカ
ルボニル基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良いC7 〜C19の単
環、縮合多環アリールオキシカルボニル基としては、フ
ェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル
基、2−ナフチルオキシカルボニル基、トリルオキシカ
ルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェ
ノキシカルボニル基、p−ヒドロキシフェノキシカルボ
ニル基、m−アジドフェノキシカルボニル基等を挙げる
ことができる。
ル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基で置換されて
いても良いC2 〜C19の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコ
キシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、t−ブ
トキシカルボニル基、フルオロメトキシカルボニル基、
クロロメトキシカルボニル基、カルボメトキシカルボニ
ル基、シアノメトキシカルボニル基、ニトロメトキシカ
ルボニル基等を挙げることができる。フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基で置換されていても良いC7 〜C19の単
環、縮合多環アリールオキシカルボニル基としては、フ
ェノキシカルボニル基、1−ナフチルオキシカルボニル
基、2−ナフチルオキシカルボニル基、トリルオキシカ
ルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェ
ノキシカルボニル基、p−ヒドロキシフェノキシカルボ
ニル基、m−アジドフェノキシカルボニル基等を挙げる
ことができる。
【0016】以上の中、好ましい置換基Rとしては、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
t−ブチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基、ナフトイル基等である。置換基Rの
数kおよびk’は、0〜4の整数であるが、光増感剤の
増感効果から0、1または2であることが好ましい。k
およびk’が2を超えると増感効果が劣る場合がある。
式(1)、式(2)のYおよびY’は、それぞれ独立に
C1 〜C18の1価の有機基であり、例えばC1 〜C18の
直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基;C2 〜C1 2の直鎖
状、分岐鎖状、環状のアルケニル基;C6 〜C12の単
環、縮合多環のアリール基を挙げることができる。さら
には、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−
ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチ
ル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、ヘプチル基、シクロペンチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、オクタ
デシル基等を挙げることができる。
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
t−ブチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基、ナフトイル基等である。置換基Rの
数kおよびk’は、0〜4の整数であるが、光増感剤の
増感効果から0、1または2であることが好ましい。k
およびk’が2を超えると増感効果が劣る場合がある。
式(1)、式(2)のYおよびY’は、それぞれ独立に
C1 〜C18の1価の有機基であり、例えばC1 〜C18の
直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基;C2 〜C1 2の直鎖
状、分岐鎖状、環状のアルケニル基;C6 〜C12の単
環、縮合多環のアリール基を挙げることができる。さら
には、C1 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状のアルキル
基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−
ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチ
ル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、ヘプチル基、シクロペンチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、オクタ
デシル基等を挙げることができる。
【0017】C2 〜C18の直鎖状、分岐鎖状、環状アル
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基(アリル
基)、イソプロペニル基、ブテニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、
シクロヘキセニル基、1−オクテニル基、1−シクロヘ
キセニル基等を挙げることができる。C6 〜C18の単
環、縮合多環アリール基とは、フェニル基、トリル基、
キシリル基、クメリル基、メシチル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、1−ピレニル基、p−クメニル基
等を挙げることができる。本発明で使用するカルバゾー
ル化合物のYまたはY’が水素原子の場合、カルバゾー
ル化合物が光で発生した酸を中和し、カチオン重合を阻
害するのでYおよびY’は水素原子以外の基である必要
がある。YおよびY’がC1 〜C12の1価の有機基であ
る場合、カルバゾール化合物による増感効果のみ得ら
れ、カチオン重合の阻害効果を排除できる。以上の中、
好ましい置換基YおよびY’は、メチル基、エチル基、
ビニル基等である。
ケニル基としては、ビニル基、プロペニル基(アリル
基)、イソプロペニル基、ブテニル基、2−メチル−1
−プロペニル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、
シクロヘキセニル基、1−オクテニル基、1−シクロヘ
キセニル基等を挙げることができる。C6 〜C18の単
環、縮合多環アリール基とは、フェニル基、トリル基、
キシリル基、クメリル基、メシチル基、1−ナフチル
基、2−ナフチル基、1−ピレニル基、p−クメニル基
等を挙げることができる。本発明で使用するカルバゾー
ル化合物のYまたはY’が水素原子の場合、カルバゾー
ル化合物が光で発生した酸を中和し、カチオン重合を阻
害するのでYおよびY’は水素原子以外の基である必要
がある。YおよびY’がC1 〜C12の1価の有機基であ
る場合、カルバゾール化合物による増感効果のみ得ら
れ、カチオン重合の阻害効果を排除できる。以上の中、
好ましい置換基YおよびY’は、メチル基、エチル基、
ビニル基等である。
【0018】本発明で使用するカルバゾール化合物とし
て次の化合物が例示される。N−メチルカルバゾール、
N−エチルカルバゾール(以下、「NEC」とい
う。)、N−プロピルカルバゾール、N−ブチルカルバ
ゾール、N−ビニルカルバゾール、1,3,6,8,9
−ペンタメチルカルバゾール、1,4,5,8,9−ペ
ンタメチルカルバゾール(以下、「NMPC」とい
う。)、3−ホルミル−N−エチルカルバゾール、N−
フェニルカルバゾール、N−エチル−3,6−ビス(ベ
ンゾイル)−カルバゾール(以下、「NEBC」とい
う。)、9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾー
ル(以下、「NEDC」という。)。上記のカルバゾー
ル化合物は、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用
することができる。これらのカルバゾールの一部の化学
式を次に示す。
て次の化合物が例示される。N−メチルカルバゾール、
N−エチルカルバゾール(以下、「NEC」とい
う。)、N−プロピルカルバゾール、N−ブチルカルバ
ゾール、N−ビニルカルバゾール、1,3,6,8,9
−ペンタメチルカルバゾール、1,4,5,8,9−ペ
ンタメチルカルバゾール(以下、「NMPC」とい
う。)、3−ホルミル−N−エチルカルバゾール、N−
フェニルカルバゾール、N−エチル−3,6−ビス(ベ
ンゾイル)−カルバゾール(以下、「NEBC」とい
う。)、9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾー
ル(以下、「NEDC」という。)。上記のカルバゾー
ル化合物は、1種単独で又は2種以上組み合わせて使用
することができる。これらのカルバゾールの一部の化学
式を次に示す。
【0019】
【化5】
【0020】本発明で使用する光酸発生剤は、光などの
エネルギー線を受けることによって、カチオン重合を開
始させる物質を放出することができる化合物である。こ
こで、光などのエネルギー線とは可視光線、紫外光線、
赤外光線、X線、α線、β線、γ線などを意味するが、
通常、紫外光線〜可視光線である。本発明では好ましく
は、波長300〜450nm、さらに好ましくは320
〜400nm、特に好ましくは330〜380nmの光
である。
エネルギー線を受けることによって、カチオン重合を開
始させる物質を放出することができる化合物である。こ
こで、光などのエネルギー線とは可視光線、紫外光線、
赤外光線、X線、α線、β線、γ線などを意味するが、
通常、紫外光線〜可視光線である。本発明では好ましく
は、波長300〜450nm、さらに好ましくは320
〜400nm、特に好ましくは330〜380nmの光
である。
【0021】本発明で使用する光酸発生剤の例として、
下記の一般式(3)で表される構造を有するオニウム塩
を挙げることができる。このオニウム塩は光を受けてル
イス酸を放出する。 [R1 aR2 bR3 cR4 dW]m+[MXn+m]m- (3) 〔式中、カチオンはオニウムイオンであり、WはS、S
e、Te、P、As、Sb、Bi、O,I、Br、Cl
または−N≡Nであり、R1、R2、R3およびR4は、同
一または異なる有機基であり、a、b、cおよびdは、
各々0〜3の整数であって、(a+b+c+d)はWの
価数に等しい。Mはハロゲン化物錯体[MXn+m]の中心
原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えば
B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、
In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Coなどで
ある。Xは、例えばF、Cl、Brなどのハロゲン原子
であり、mはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であ
り、nはMの原子価である。〕
下記の一般式(3)で表される構造を有するオニウム塩
を挙げることができる。このオニウム塩は光を受けてル
イス酸を放出する。 [R1 aR2 bR3 cR4 dW]m+[MXn+m]m- (3) 〔式中、カチオンはオニウムイオンであり、WはS、S
e、Te、P、As、Sb、Bi、O,I、Br、Cl
または−N≡Nであり、R1、R2、R3およびR4は、同
一または異なる有機基であり、a、b、cおよびdは、
各々0〜3の整数であって、(a+b+c+d)はWの
価数に等しい。Mはハロゲン化物錯体[MXn+m]の中心
原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えば
B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、
In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Coなどで
ある。Xは、例えばF、Cl、Brなどのハロゲン原子
であり、mはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であ
り、nはMの原子価である。〕
【0022】上記のオニウム塩中におけるアニオン[M
Xn+m]の具体例としては、テトラフルオロボレート(B
F4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキ
サフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオ
ロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチモネ
ート(SbCl6 -)等を挙げることができる。また、一
般式[(MXnOH)-]で表されるアニオンを有するオニ
ウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオ
ン(ClO4 -)、トリフルオロメタンスルフォン酸イオ
ン(CF3SO3 -)、フルオロスルフォン酸イオン(F
SO3 -)、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベ
ンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスル
フォン酸アニオンなどの他のアニオンを有するオニウム
塩を使用することもできる。
Xn+m]の具体例としては、テトラフルオロボレート(B
F4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、ヘキ
サフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフルオ
ロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチモネ
ート(SbCl6 -)等を挙げることができる。また、一
般式[(MXnOH)-]で表されるアニオンを有するオニ
ウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオ
ン(ClO4 -)、トリフルオロメタンスルフォン酸イオ
ン(CF3SO3 -)、フルオロスルフォン酸イオン(F
SO3 -)、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベ
ンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスル
フォン酸アニオンなどの他のアニオンを有するオニウム
塩を使用することもできる。
【0023】芳香族スルホニウム塩、とりわけPF6 、
AsF6 、SbF6 などの非求核性アニオンを有する芳
香族スルホニウム塩は光感受性が大きく、光照射により
強酸を発生することから光カチオン重合の重合開始剤と
して好ましい。このようなオニウム塩のうち、光酸発生
剤として特に有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であ
る。中でも、特開昭50−151996号公報、特開昭
50−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−
30899号公報、特開昭56−55420号公報、特
開昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳
香族オニウム塩、特開昭50−158698号公報など
に記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−842
8号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭5
7−192429号公報などに記載のオキソスルホキソ
ニウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の
芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655
号明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。ま
た、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素
化合物系開始剤なども挙げることができる。
AsF6 、SbF6 などの非求核性アニオンを有する芳
香族スルホニウム塩は光感受性が大きく、光照射により
強酸を発生することから光カチオン重合の重合開始剤と
して好ましい。このようなオニウム塩のうち、光酸発生
剤として特に有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であ
る。中でも、特開昭50−151996号公報、特開昭
50−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−
30899号公報、特開昭56−55420号公報、特
開昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳
香族オニウム塩、特開昭50−158698号公報など
に記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−842
8号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭5
7−192429号公報などに記載のオキソスルホキソ
ニウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の
芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655
号明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。ま
た、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素
化合物系開始剤なども挙げることができる。
【0024】光酸発生剤の具体例としては、ビス[4−
(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルフ
ォニオ)フェニル]スルファイドビスヘキサフルオロホ
スフェート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエ
チル)フェニル)スルフォニオ)フェニル]スルファイ
ドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4−(ジフ
ェニルスルフォニオ)フェニル]スルファイド ビスヘ
キサフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルス
ルフォニオ)フェニル]スルファイド ビスヘキサフル
オロアンチモネートが挙げられ、特に好ましくは、ビス
[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)
スルフォニオ)フェニル]スルファイドビスヘキサフル
オロアンチモネート、ビス[4−(ジフェニルスルフォ
ニオ)フェニル]スルファイド ビスヘキサフルオロア
ンチモネートが挙げられる。光酸発生剤として好適に使
用できる光酸発生剤の市販品としては、UVI−695
0、UVI−6970、UVI−6974、UVI−6
990(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプ
トマーSP−150、SP−151、SP−170、S
P−171、SP−172(以上、旭電化工業(株)
製)、Irgacure 261(チバスペシャルティ
ケミカルズ(株)製)、CI−2481、CI−262
4、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達
(株)製)、CD−1010、CD−1011、CD−
1012(以上、サートマー社製)、DTS−102、
DTS−103、NAT−103、NDS−103、T
PS−103、MDS−103、MPI−103、BB
I−103(以上、みどり化学(株)製)、PCI−0
61T、PCI−062T、PCI−020T、PCI
−022T(以上、日本化薬(株)製)などを挙げるこ
とができる。これらのうち、UVI−6970、UVI
−6974、アデカオプトマーSP−170、SP−1
71、SP−172、CD−1012、MPI−103
は、これらを含有してなる樹脂組成物に高い光硬化感度
を発現させることができることから特に好ましい。上記
の光酸発生剤は、1種単独でまたは2種以上組み合わせ
て使用することができる。
(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルフ
ォニオ)フェニル]スルファイドビスヘキサフルオロホ
スフェート、ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエ
チル)フェニル)スルフォニオ)フェニル]スルファイ
ドビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4−(ジフ
ェニルスルフォニオ)フェニル]スルファイド ビスヘ
キサフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルス
ルフォニオ)フェニル]スルファイド ビスヘキサフル
オロアンチモネートが挙げられ、特に好ましくは、ビス
[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)
スルフォニオ)フェニル]スルファイドビスヘキサフル
オロアンチモネート、ビス[4−(ジフェニルスルフォ
ニオ)フェニル]スルファイド ビスヘキサフルオロア
ンチモネートが挙げられる。光酸発生剤として好適に使
用できる光酸発生剤の市販品としては、UVI−695
0、UVI−6970、UVI−6974、UVI−6
990(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプ
トマーSP−150、SP−151、SP−170、S
P−171、SP−172(以上、旭電化工業(株)
製)、Irgacure 261(チバスペシャルティ
ケミカルズ(株)製)、CI−2481、CI−262
4、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達
(株)製)、CD−1010、CD−1011、CD−
1012(以上、サートマー社製)、DTS−102、
DTS−103、NAT−103、NDS−103、T
PS−103、MDS−103、MPI−103、BB
I−103(以上、みどり化学(株)製)、PCI−0
61T、PCI−062T、PCI−020T、PCI
−022T(以上、日本化薬(株)製)などを挙げるこ
とができる。これらのうち、UVI−6970、UVI
−6974、アデカオプトマーSP−170、SP−1
71、SP−172、CD−1012、MPI−103
は、これらを含有してなる樹脂組成物に高い光硬化感度
を発現させることができることから特に好ましい。上記
の光酸発生剤は、1種単独でまたは2種以上組み合わせ
て使用することができる。
【0025】本発明の光カチオン重合法で重合されるモ
ノマーは、通常の光カチオン重合で重合可能なものを使
用することができる。すなわち、次のようなカチオン重
合性モノマー、例えば、ビニルエーテル基含有化合物、
環状エーテル含有化合物、ラクトン類、環状カーボネー
ト、環状イミノエーテル、芳香族ビニルモノマー等が挙
げられる。前記環状エーテル含有化合物とは、グリシジ
ル基やエポキシシクロヘキシル基などのエポキシ基、オ
キセタニル基(オキサシクロブチル基)、オキサシクロ
ペンチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基等を1
または2以上含有する化合物である。これらの化合物の
中でもグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基、オキ
セタニル基を有する化合物が、硬化速度、硬化物の機械
的特性の点から好ましい。
ノマーは、通常の光カチオン重合で重合可能なものを使
用することができる。すなわち、次のようなカチオン重
合性モノマー、例えば、ビニルエーテル基含有化合物、
環状エーテル含有化合物、ラクトン類、環状カーボネー
ト、環状イミノエーテル、芳香族ビニルモノマー等が挙
げられる。前記環状エーテル含有化合物とは、グリシジ
ル基やエポキシシクロヘキシル基などのエポキシ基、オ
キセタニル基(オキサシクロブチル基)、オキサシクロ
ペンチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基等を1
または2以上含有する化合物である。これらの化合物の
中でもグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基、オキ
セタニル基を有する化合物が、硬化速度、硬化物の機械
的特性の点から好ましい。
【0026】グリシジル基含有化合物としては、例えば
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシ
ジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水
添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフ
ェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノール
Sジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグ
リシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ト
リメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族
多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキ
サイドを付加することにより得られるポリエーテルポリ
オールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基
酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールの
モノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、
ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイド
を付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリ
シジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類
等を挙げることができる。
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシ
ジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水
添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフ
ェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノール
Sジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグ
リシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ト
リメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族
多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキ
サイドを付加することにより得られるポリエーテルポリ
オールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基
酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールの
モノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、
ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイド
を付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリ
シジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類
等を挙げることができる。
【0027】これらのうち、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,4−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好まし
い。グリシジル基含有化合物として好適に使用できる市
販品としてはUVR−6216(ユニオンカーバイド社
製)、グリシドール、AOEX24、サイクロマーA2
00(以上、ダイセル化学工業(株)製)、エピコート
828、エピコート812、エピコート1031、エピ
コート872、エピコートCT508(以上、油化シェ
ル(株)製)、エポライトM−1230、エポライト4
0E、エポライト100E、エポライト200E、エポ
ライト400E、エポライト70P、エポライト200
P、エポライト1500NP、エポライト1600、エ
ポライト4000、エポライトFR−1500(以上、
共栄社化学(株)製)、KRM−2400、KRM−2
410、KRM−2408、KRM−2490、KRM
−2720、KRM−2750(以上、旭電化工業
(株)製)、アラルダイトDY022(長瀬チバ(株)
製)などを挙げることができる。
ジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,4−ブタ
ンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジ
オールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好まし
い。グリシジル基含有化合物として好適に使用できる市
販品としてはUVR−6216(ユニオンカーバイド社
製)、グリシドール、AOEX24、サイクロマーA2
00(以上、ダイセル化学工業(株)製)、エピコート
828、エピコート812、エピコート1031、エピ
コート872、エピコートCT508(以上、油化シェ
ル(株)製)、エポライトM−1230、エポライト4
0E、エポライト100E、エポライト200E、エポ
ライト400E、エポライト70P、エポライト200
P、エポライト1500NP、エポライト1600、エ
ポライト4000、エポライトFR−1500(以上、
共栄社化学(株)製)、KRM−2400、KRM−2
410、KRM−2408、KRM−2490、KRM
−2720、KRM−2750(以上、旭電化工業
(株)製)、アラルダイトDY022(長瀬チバ(株)
製)などを挙げることができる。
【0028】エポキシシクロヘキシル基含有化合物とし
ては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジ
オキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチル
シクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ
−6−メチルシクロヘキシル−3',4'−エポキシ−
6'−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレ
ンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、エチレン
グリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート)、ε−カプロラクトン変性
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチル
カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができ
る。
ては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジ
オキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチル
シクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ
−6−メチルシクロヘキシル−3',4'−エポキシ−
6'−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレ
ンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、エチレン
グリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート)、ε−カプロラクトン変性
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチル
カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができ
る。
【0029】これらのうち、3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、ε−カプロラクトン変性3,4
−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロ
ラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートが好ましく、特に3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル)アジペートなどが好まし
い。
キシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、ε−カプロラクトン変性3,4
−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロ
ラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレートが好ましく、特に3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル)アジペートなどが好まし
い。
【0030】エポキシシクロヘキシル基含有化合物の市
販品としては、UVR−6100、UVR−6105、
UVR−6110、UVR−6128、UVR−620
0、UVR−6216(以上、ユニオンカーバイド社
製)、セロキサイド2021、セロキサイド2021
P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セ
ロキサイド2085、エポリードGT−300、エポリ
ードGT−301、エポリードGT−302、エポリー
ドGT−400、エポリード401、エポリード403
(以上、ダイセル化学工業(株)製)、KRM−210
0、KRM−2110、KRM−2199(以上、旭電
化工業(株)製)などを挙げることができる。
販品としては、UVR−6100、UVR−6105、
UVR−6110、UVR−6128、UVR−620
0、UVR−6216(以上、ユニオンカーバイド社
製)、セロキサイド2021、セロキサイド2021
P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セ
ロキサイド2085、エポリードGT−300、エポリ
ードGT−301、エポリードGT−302、エポリー
ドGT−400、エポリード401、エポリード403
(以上、ダイセル化学工業(株)製)、KRM−210
0、KRM−2110、KRM−2199(以上、旭電
化工業(株)製)などを挙げることができる。
【0031】オキセタニル基含有化合物に含有されるオ
キセタニル基の数は1〜10、好ましくは1〜4、特に
好ましくは2である。
キセタニル基の数は1〜10、好ましくは1〜4、特に
好ましくは2である。
【0032】オキセタニル基含有化合物の具体例は次の
通りである。オキセタニル基を1個有する化合物:3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メ
タ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3
−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼ
ン、4−フルオロ−〔1−(3−エチル−3−オキセタ
ニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、4−メトキシ−〔1
−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン、〔1−(3−エチル−3−オキセタニルメト
キシ)エチル〕フェニルエーテル、イソブトキシメチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イ
ソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エ
チルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフル
フリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエ
チル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペ
ンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテルなど。
通りである。オキセタニル基を1個有する化合物:3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メ
タ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3
−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼ
ン、4−フルオロ−〔1−(3−エチル−3−オキセタ
ニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、4−メトキシ−〔1
−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕
ベンゼン、〔1−(3−エチル−3−オキセタニルメト
キシ)エチル〕フェニルエーテル、イソブトキシメチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イ
ソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エ
チルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペ
ンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフル
フリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタ
ニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエ
チル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテ
ル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2
−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペ
ンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメ
チル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−
3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテルなど。
【0033】オキセタニル基を2個以上有する化合物:
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナ
ン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパン
ジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオ
キセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス
[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]
エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレ
ン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナ
ン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパン
ジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオ
キセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセ
タニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス
[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]
エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニ
ルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラ
エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレ
ン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル
−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、
【0034】1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタ
ニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトー
ルペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラク
トン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクト
ン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロー
ルプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変
性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノー
ルF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル
等を挙げることができる。これらは単独でまたは2種以
上を組み合わせて使用することができる。
ニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス
(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペ
ンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキ
セタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトー
ルペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)
エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エ
チル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラク
トン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチ
ル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクト
ン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル
−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロー
ルプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニル
メチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス(3
−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変
性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニ
ルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビ
ス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、
PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−
オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノー
ルF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル
等を挙げることができる。これらは単独でまたは2種以
上を組み合わせて使用することができる。
【0035】ビニルエーテル基含有化合物としては、例
えばn−ブチルビニルエーテル、i−ブチルビニルエー
テル、t−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニ
ルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、1,4
−ブタンジオールビニルエーテル、エチレングリコール
ジビニルエーテル、エチレングリコールnモノビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プ
ロピレングリコールジビニルエーテル、ビスフェノール
Aジビニルエーテル、ウレタンポリビニルエーテル等を
挙げることができる。
えばn−ブチルビニルエーテル、i−ブチルビニルエー
テル、t−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニ
ルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、1,4
−ブタンジオールビニルエーテル、エチレングリコール
ジビニルエーテル、エチレングリコールnモノビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プ
ロピレングリコールジビニルエーテル、ビスフェノール
Aジビニルエーテル、ウレタンポリビニルエーテル等を
挙げることができる。
【0036】ラクトン類としては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バ
レロラクトン等を挙げることができる。環状カーボネー
トとしてはエチレンカーボネート、プロピレンカーボネ
ート、2、2−ジメチルプロピレンカーボネート等を挙げ
ることができる。環状イミノエーテルとしてはメチルオ
キサゾリン、エチルオキサゾリン、プロピルオキサゾリ
ン、フェニルオキサゾリン、ビニルオキサゾリン等のオ
キサゾリン類等を挙げることができる。芳香族ビニルモ
ノマーとしてはスチレン、ヒドロキシスチレン、エトキ
シスチレン、ブトキシスチレン、t−ブトキシスチレ
ン、エチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフ
タレン、ビニルアントラセン、ジビニルベンゼン等を挙
げることができる。上記のカチオン重合性化合物は、1
種単独で、または2種以上組み合わせて使用することが
できる。
ン、γ−ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バ
レロラクトン等を挙げることができる。環状カーボネー
トとしてはエチレンカーボネート、プロピレンカーボネ
ート、2、2−ジメチルプロピレンカーボネート等を挙げ
ることができる。環状イミノエーテルとしてはメチルオ
キサゾリン、エチルオキサゾリン、プロピルオキサゾリ
ン、フェニルオキサゾリン、ビニルオキサゾリン等のオ
キサゾリン類等を挙げることができる。芳香族ビニルモ
ノマーとしてはスチレン、ヒドロキシスチレン、エトキ
シスチレン、ブトキシスチレン、t−ブトキシスチレ
ン、エチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフ
タレン、ビニルアントラセン、ジビニルベンゼン等を挙
げることができる。上記のカチオン重合性化合物は、1
種単独で、または2種以上組み合わせて使用することが
できる。
【0037】本発明の方法において、光酸発生剤と光増
感剤カルバゾール化合物の使用量は、モノマー/光酸発
生剤/光増感剤からなる重合性組成物において、通常、
光酸発生剤は0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜
10重量%、更に好ましくは0.3〜5重量%であり、
光増感剤は、通常、0.001〜20重量%、好ましく
は0.01〜15重量%、更に好ましくは0.01〜1
0重量%である。光酸発生剤または光増感剤の含有割合
が上記範囲より過小である場合には、得られる樹脂組成
物の光硬化性が低下し、逆に、この含有割合が過大であ
る場合には、硬化物の性質が劣ることがある。
感剤カルバゾール化合物の使用量は、モノマー/光酸発
生剤/光増感剤からなる重合性組成物において、通常、
光酸発生剤は0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜
10重量%、更に好ましくは0.3〜5重量%であり、
光増感剤は、通常、0.001〜20重量%、好ましく
は0.01〜15重量%、更に好ましくは0.01〜1
0重量%である。光酸発生剤または光増感剤の含有割合
が上記範囲より過小である場合には、得られる樹脂組成
物の光硬化性が低下し、逆に、この含有割合が過大であ
る場合には、硬化物の性質が劣ることがある。
【0038】本発明の光カチオン重合法では、重合目的
に応じて、本発明の効果を阻害しない範囲において、本
発明のカルバゾール化合物以外の光増感剤、反応性希釈
剤、重合禁止剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活
性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、
無機充填剤、顔料、染料などなどを含有させることがで
きる。本発明のカルバゾール以外の光増感剤としては、
チオキサントン、チオキサントンの誘導体、アントラキ
ノン、アントラキノンの誘導体、アントラセン、アント
ラセンの誘導体、ペリレン、ペリレンの誘導体、ベンゾ
フェノン、ベンゾインイソプロピルエーテルなどが挙げ
られる。また反応性希釈剤としては、ビニルエーテル
類、ビニルスルフィド類、ビニルウレタン類、ウレタン
アクリレート類、ビニルウレア類等を挙げることができ
る。
に応じて、本発明の効果を阻害しない範囲において、本
発明のカルバゾール化合物以外の光増感剤、反応性希釈
剤、重合禁止剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活
性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、
無機充填剤、顔料、染料などなどを含有させることがで
きる。本発明のカルバゾール以外の光増感剤としては、
チオキサントン、チオキサントンの誘導体、アントラキ
ノン、アントラキノンの誘導体、アントラセン、アント
ラセンの誘導体、ペリレン、ペリレンの誘導体、ベンゾ
フェノン、ベンゾインイソプロピルエーテルなどが挙げ
られる。また反応性希釈剤としては、ビニルエーテル
類、ビニルスルフィド類、ビニルウレタン類、ウレタン
アクリレート類、ビニルウレア類等を挙げることができ
る。
【0039】本発明の光カチオン重合方法における反応
条件は、通常の光カチオン重合に準じる。重合溶媒は、
無くてもよいが使用する場合は、塩基性溶媒やプロトン
性溶媒を除く有機溶媒、例えば脂肪族炭化水素、脂環族
炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、エステ
ル等である。重合温度は特に限定されないが、通常0℃
〜80℃の範囲である。重合反応の雰囲気は、乾燥した
空気中または窒素ガス中である。
条件は、通常の光カチオン重合に準じる。重合溶媒は、
無くてもよいが使用する場合は、塩基性溶媒やプロトン
性溶媒を除く有機溶媒、例えば脂肪族炭化水素、脂環族
炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、ケトン、エステ
ル等である。重合温度は特に限定されないが、通常0℃
〜80℃の範囲である。重合反応の雰囲気は、乾燥した
空気中または窒素ガス中である。
【0040】本発明は、新規な光増感剤とこれを用いた
光カチオン重合方法を提供するものである。本発明は光
カチオン重合による硬化性樹脂組成物を、比較的波長が
大きい紫外線の照射によっても短時間で重合させ、硬化
できる。このため、例えば、成形樹脂、光造形用樹脂、
光ファイバーコート剤、レンズシート等の光学部材、封
止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用
感光性樹脂、カラーフィルター用レジスト、プリント基
板用レジスト、半導体用フォトレジスト、オーバーコー
ト材、接着剤、粘着剤、離型剤等の分野において良好な
物性を持った硬化物を得るために使用される。
光カチオン重合方法を提供するものである。本発明は光
カチオン重合による硬化性樹脂組成物を、比較的波長が
大きい紫外線の照射によっても短時間で重合させ、硬化
できる。このため、例えば、成形樹脂、光造形用樹脂、
光ファイバーコート剤、レンズシート等の光学部材、封
止剤、歯科用重合レジン、印刷インキ、塗料、印刷版用
感光性樹脂、カラーフィルター用レジスト、プリント基
板用レジスト、半導体用フォトレジスト、オーバーコー
ト材、接着剤、粘着剤、離型剤等の分野において良好な
物性を持った硬化物を得るために使用される。
【0041】
【実施例】以下、本発明の実施例を挙げて、本発明の実
施の形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。 実施例1 下記表1に示した割合でカチオン重合性化合物として
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキシルヘキサンカルボキシレート(ユ
ニオンカーバイド社製 UVR−6110)(以下,
「A1」という。)、光酸発生剤としてビス[4−(ジ
(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルフォニ
オ)フェニル]スルファイドビスヘキサフルオロアンチ
モネート(ユニオンカーバイド社製 UVI−697
0)(以下、「B1」という。)および光増感剤として
9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾール(NE
DC)(以下、「C1」という。)を混合した樹脂組成
物を調製した。
施の形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。 実施例1 下記表1に示した割合でカチオン重合性化合物として
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−
エポキシシクロヘキシルヘキサンカルボキシレート(ユ
ニオンカーバイド社製 UVR−6110)(以下,
「A1」という。)、光酸発生剤としてビス[4−(ジ
(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルフォニ
オ)フェニル]スルファイドビスヘキサフルオロアンチ
モネート(ユニオンカーバイド社製 UVI−697
0)(以下、「B1」という。)および光増感剤として
9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾール(NE
DC)(以下、「C1」という。)を混合した樹脂組成
物を調製した。
【0042】感度の評価 上記の樹脂組成物を厚さ0.2mmのPETフィルム上
に、厚さ200μmに塗布した。この塗布面に、500
Wの高圧水銀灯を光源とするスポットUV照射装置(株
式会社オーク製作所製 HMW−725−B)を用い、
朝日分光株式会社製i線フィルター(中心波長365n
m、半値幅4〜7nm)を通して、樹脂組成物を塗布し
た基板上5cmの高さから10秒間照射した。 露光部
分の樹脂組成物が、良好な強度を有する膜に固化した場
合の感度を良好、固化しないか、固化しても生成した膜
がゲル状で強度が低い場合、感度を不良とした。実施例
1の樹脂組成物の未露光部分が液状のままであったのに
対し、樹脂組成物の露光部分は良好な強度を有する膜と
なり、この樹脂組成物が良好な感度を有していることが
示された。
に、厚さ200μmに塗布した。この塗布面に、500
Wの高圧水銀灯を光源とするスポットUV照射装置(株
式会社オーク製作所製 HMW−725−B)を用い、
朝日分光株式会社製i線フィルター(中心波長365n
m、半値幅4〜7nm)を通して、樹脂組成物を塗布し
た基板上5cmの高さから10秒間照射した。 露光部
分の樹脂組成物が、良好な強度を有する膜に固化した場
合の感度を良好、固化しないか、固化しても生成した膜
がゲル状で強度が低い場合、感度を不良とした。実施例
1の樹脂組成物の未露光部分が液状のままであったのに
対し、樹脂組成物の露光部分は良好な強度を有する膜と
なり、この樹脂組成物が良好な感度を有していることが
示された。
【0043】実施例2〜7 下記表1に示した割合でカチオン重合性化合物、光酸発
生剤およびカルバゾール化合物を混合した後、実施例1
と同様の方法で塗布し、露光を行なったところ、いずれ
の樹脂組成物も未露光部分が液状のままであったのに対
し、露光部分は良好な強度を有する膜となり、これらの
樹脂組成物が良好な感度を有していることが示された。
生剤およびカルバゾール化合物を混合した後、実施例1
と同様の方法で塗布し、露光を行なったところ、いずれ
の樹脂組成物も未露光部分が液状のままであったのに対
し、露光部分は良好な強度を有する膜となり、これらの
樹脂組成物が良好な感度を有していることが示された。
【0044】比較例1 表1に示すように、本発明のカルバゾール化合物を含ま
ない組成としたこと以外は実施例1と同様にして樹脂組
成物を調製し、実施例1と同じ条件で塗布し、露光を行
なった。この樹脂組成物は未露光部、露光部共に液状の
ままで固形の膜を形成する事ができず、感度が不良であ
ることが示された。
ない組成としたこと以外は実施例1と同様にして樹脂組
成物を調製し、実施例1と同じ条件で塗布し、露光を行
なった。この樹脂組成物は未露光部、露光部共に液状の
ままで固形の膜を形成する事ができず、感度が不良であ
ることが示された。
【0045】比較例2 本発明のカルバゾール化合物以外のカルバゾールとし
て、9−アザフルオレン(CAS[86-74-8]、以下、
「CR1」という。)すなわち式(1)におけるYが水
素原子、kは0である化合物を用いたこと以外は実施例
1と同様の割合でカチオン重合性化合物、光酸発生剤お
よびカルバゾール化合物を混合した後、実施例1と同様
の方法で塗布し、露光を行なったところ、この樹脂組成
物は未露光部、露光部共に液状のままで固形の膜を形成
することができず、感度が不良であることが示された。
て、9−アザフルオレン(CAS[86-74-8]、以下、
「CR1」という。)すなわち式(1)におけるYが水
素原子、kは0である化合物を用いたこと以外は実施例
1と同様の割合でカチオン重合性化合物、光酸発生剤お
よびカルバゾール化合物を混合した後、実施例1と同様
の方法で塗布し、露光を行なったところ、この樹脂組成
物は未露光部、露光部共に液状のままで固形の膜を形成
することができず、感度が不良であることが示された。
【0046】比較例3 カルバゾール化合物として3−アミノ−N−エチルカル
バゾール(略称NEAC)(以下、「CR2」とい
う。)を用い、表1に示すカチオン重合性化合物及び光
酸発生剤を混合した後、実施例1と同様の方法で塗布
し、露光を行なったところ、露光部の樹脂組成物は柔ら
かいゲル状に固化したが膜強度は十分でなく、感度が不
良であることが示された。
バゾール(略称NEAC)(以下、「CR2」とい
う。)を用い、表1に示すカチオン重合性化合物及び光
酸発生剤を混合した後、実施例1と同様の方法で塗布
し、露光を行なったところ、露光部の樹脂組成物は柔ら
かいゲル状に固化したが膜強度は十分でなく、感度が不
良であることが示された。
【0047】
【表1】
【0048】表の説明: カチオン重合性化合物: A1: 3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,
4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート A2: 1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル A3: 1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメ
トキシ)メチル]ベンゼン
4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート A2: 1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル A3: 1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメ
トキシ)メチル]ベンゼン
【0049】光酸発生剤: B1:ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)
フェニル)スルフォニオ)フェニル]スルファイドビス
ヘキサフルオロアンチモネート(ユニオンカーバイド社
製 UVI−6970) [((HOC2H4O−C6H4 −)2S+−C6H4−)2S](Sb
F6 -)2 本発明のカルバゾール化合物: C1: 9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾー
ル(NEDC) C2: N−エチル−3,6−ビス(ベンゾイル)−カ
ルバゾール(NEBC) C3:1,4,5,8,9−ペンタメチルカルバゾール
(NMPC) C4:N−エチルカルバゾール(NEC) 本発明以外のカルバゾール化合物: CR1: カルバゾール CR2: 3−アミノ−N−エチルカルバゾール(NE
AC)
フェニル)スルフォニオ)フェニル]スルファイドビス
ヘキサフルオロアンチモネート(ユニオンカーバイド社
製 UVI−6970) [((HOC2H4O−C6H4 −)2S+−C6H4−)2S](Sb
F6 -)2 本発明のカルバゾール化合物: C1: 9,9’−ジエチル−3,3’−ジカルバゾー
ル(NEDC) C2: N−エチル−3,6−ビス(ベンゾイル)−カ
ルバゾール(NEBC) C3:1,4,5,8,9−ペンタメチルカルバゾール
(NMPC) C4:N−エチルカルバゾール(NEC) 本発明以外のカルバゾール化合物: CR1: カルバゾール CR2: 3−アミノ−N−エチルカルバゾール(NE
AC)
【0050】
【発明の効果】本発明は、光カチオン重合用増感剤とし
て特定な構造を有するカルバゾール化合物を提供する。
光酸発生剤と併用することにより、アルゴンレーザーな
どによる350nm以上の近紫外線領域においても増感
剤として作用し、近紫外線での光重合を可能にする。
て特定な構造を有するカルバゾール化合物を提供する。
光酸発生剤と併用することにより、アルゴンレーザーな
どによる350nm以上の近紫外線領域においても増感
剤として作用し、近紫外線での光重合を可能にする。
フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB01 AB13 AB15 AB16 AB20 AC01 AC04 AC05 AC06 AD01 BC37 BD03 BD04 BD10 BE00 CA28 4J011 AA03 AC04 QA09 QA33 QA37 QA38 SA25 SA28 SA82 TA08 UA01 UA04 UA06 WA01 WA02 WA03 WA05 WA06 WA07 WA08
Claims (2)
- 【請求項1】 式(1)または式(2)で表されるカル
バゾール化合物の少なくとも1種からなる光カチオン重
合用光増感剤。 【化1】 【化2】 (式(1)および式(2)において、Rは、互いに独立
してフッ素、塩素、臭素、水酸基、メルカプト基、ニト
ロ基またはC1〜C19の1価の有機基を示し、kおよび
k’は互いに独立して0〜4の整数を、mおよびm’は
互いに独立して0〜2の整数である。YおよびY’はそ
れぞれ独立に、C1 〜C18の1価の有機基である。) - 【請求項2】 光増感剤として請求項1記載のカルバ
ゾール化合物を用いることを特徴とする光カチオン重合
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4186999A JP2000239648A (ja) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | 光カチオン重合用光増感剤および光カチオン重合方法 |
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ID=12620278
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005113043A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インク組成物、画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2005139275A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2006232889A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インクジェットインクセット、画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2008037980A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線酸発生組成物、酸の発生方法、および感エネルギー線硬化性組成物 |
WO2008126680A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
WO2011069943A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Uv-led curable compositions and inks |
WO2011069947A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
WO2011075555A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Dsm Ip Assets, B.V. | Led curable liquid resin compositions for additive fabrication |
WO2011091228A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-28 | Dsm Ip Assets B.V. | Liquid radiation curable resins capable of curing into layers with selective visual effects and methods for the use thereof |
CN102250115A (zh) * | 2011-05-13 | 2011-11-23 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 咔唑环衍生型芳香酮化合物、制备方法及其光引发剂 |
EP2502728A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-09-26 | DSM IP Assets B.V. | Lightweight and High Strength Three-Dimensional Articles Producible by Additive Fabrication Processes |
WO2015045426A1 (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Compounders for Enhancing Generation of Chemical Species |
WO2020021969A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 株式会社Adeka | 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法 |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP4186999A patent/JP2000239648A/ja active Pending
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005113043A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インク組成物、画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2005139275A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
US7455887B2 (en) | 2003-11-06 | 2008-11-25 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc. | Actinic ray curable ink-jet ink composition, image formation method employing the same, and ink-jet recording apparatus |
JP4595311B2 (ja) * | 2003-11-06 | 2010-12-08 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 活性光線硬化型インクジェットインク組成物、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2006232889A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 活性光線硬化型インクジェットインクセット、画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2008037980A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線酸発生組成物、酸の発生方法、および感エネルギー線硬化性組成物 |
WO2008126680A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
JP2008256980A (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
JP4564977B2 (ja) * | 2007-04-05 | 2010-10-20 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
WO2011069947A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
WO2011069943A1 (en) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Uv-led curable compositions and inks |
US8569393B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | UV-LED curable compositions and inks |
US8957224B2 (en) | 2009-12-07 | 2015-02-17 | Agfa Graphics Nv | Photoinitiators for UV-LED curable compositions and inks |
WO2011075555A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Dsm Ip Assets, B.V. | Led curable liquid resin compositions for additive fabrication |
WO2011084578A1 (en) | 2009-12-17 | 2011-07-14 | Dsm Ip Assets, B.V. | Substrate-based additive fabrication process |
WO2011091228A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-28 | Dsm Ip Assets B.V. | Liquid radiation curable resins capable of curing into layers with selective visual effects and methods for the use thereof |
EP2502728A1 (en) | 2011-03-23 | 2012-09-26 | DSM IP Assets B.V. | Lightweight and High Strength Three-Dimensional Articles Producible by Additive Fabrication Processes |
CN102250115A (zh) * | 2011-05-13 | 2011-11-23 | 深圳市有为化学技术有限公司 | 咔唑环衍生型芳香酮化合物、制备方法及其光引发剂 |
WO2015045426A1 (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Compounders for Enhancing Generation of Chemical Species |
US9952508B2 (en) | 2013-09-30 | 2018-04-24 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Compounders for enhancing generation of chemical species |
WO2020021969A1 (ja) * | 2018-07-27 | 2020-01-30 | 株式会社Adeka | 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法 |
JP7366900B2 (ja) | 2018-07-27 | 2023-10-23 | 株式会社Adeka | 組成物、硬化物、光学フィルタ及び硬化物の製造方法 |
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