KR20200100182A - 디스플레이 패널, 디스플레이 스크린 및 디스플레이 단말기 - Google Patents

디스플레이 패널, 디스플레이 스크린 및 디스플레이 단말기 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 필름층에 패턴화된 구조를 구비하고, 적어도 제1 위치 및 상기 제1 위치와 서로 다른 제2 위치를 구비하며, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치는 예정된 조건을 만족시키는 디스플레이 패널을 제공한다. 제1 위치 및 제2 위치를 통과하는 필름층은 상기 관계를 만족시키기에 광선이 두 경로를 통해 디스플레이 패널에서 출사한 후, 위상차가 비교적 작다. 동일한 위상의 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 발생하는 위상차는 회절이 발생되는 중요한 원인 중의 하나이기에, 본 발명의 실시예의 방안을 사용하여 동일한 위상의 광선이 두 경로를 통과하여 디스플레이 패널을 통과한 후, 위상차가 미리 설정한 범위 내에 있고, 위상 차이로 인한 회절 현상을 줄이며, 디스플레이 패널 후방의 카메라가 감지하는 이미지 해상도를 향상시켜 디스플레이 패널 후방의 감광 소자가 선명하고 진실된 이미지를 얻을 수 있게 하고 풀 스크린 디스플레이를 실현하였다.

Description

디스플레이 패널, 디스플레이 스크린 및 디스플레이 단말기
본 발명은 디스플레이 기술 분야에 관한 것이고, 구체적으로 디스플레이 패널, 디스플레이 스크린 및 디스플레이 단말기에 관한 것이다.
디스플레이 단말기의 빠른 발전과 더불어 스크린 투 바디 비율에 대한 유저들의 요구들도 높아지고 있어, 업계에서 디스플레이 단말기의 풀 스크린 디스플레이에 대한 관심도 나날이 높아지고 있다. 풀 스크린은 통상적으로 슬롯팅 또는 천공의 방식을 이용하고, 예를 들어 애플사의 노치 디자인 스크린 등이 있으며, 모두 카메라, 센서 등 소자에 대응되는 디스플레이 스크린 영역에 슬롯팅하거나 천공을 진행한다. 카메라 기능 실현 시, 외부 광선은 디스플레이 스크린의 노치 또는 홀을 통해 디스플레이 스크린 하부의 카메라에 직사되어 카메라 기능을 실현한다. 그러나 노치 디자인 스크린 또는 홀 스크린은 모두 진정한 풀 스크린이 아니고, 따라서 업계에서 진정한 풀 스크린의 연구 개발이 시급하다.
이에 기반하여, 상기 기술적 문제를 겨냥하여 풀 스크린을 위한 디스플레이 패널, 디스플레이 스크린, 디스플레이 단말기를 제공할 필요가 있다.
이를 위해, 본 발명은 하기의 기술 방안을 제공한다.
본 발명은 기판 및 순차적으로 상기 기판에 마련되고 적어도 하나가 패턴화된 구조를 가지는 복수의 필름층을 포함하는 디스플레이 패널에 있어서, 상기 디스플레이 패널에 적어도 제1 위치 및 상기 제1 위치와 서로 다른 제2 위치를 구비하고, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층이 서로 다르며, 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 개수가 i이고, 각 필름층 두께가 각각 d1, d2 … di 이며, 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 수량은 j이고, 각 필름층 두께는 각각 D1, D2 … Dj이며, i, j는 자연수이고, 여기서, 상기 제1 위치와 제2 위치는 이하의 조건을 만족하며,
L1=d1*n1+d2*n2+…，
L2=D1*N1+D2*N2+…*Nj，
(m-δ)λ≤L1-L2≤(m+δ)λ
여기서, n1, n2 … ni는 각각 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이고, N1, N2 … Ni는 각각 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이며, n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj는 1~2사이의 상수이고, λ는 380~780nm 사이의 상수이며, m은 자연수이고, δ는 0~0.2 사이의 상수이다.
선택 가능하게, 상기 λ는 가시광선의 파장이고, 상기 n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj는 상기 가시광선의 파장에 대응되는 필름층의 굴절률이다.
선택 가능하게, 상기 L1-L2의 값이 0이다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode, AMOLED) 또는 패시브 매트릭스 유기발광 다이오드(Passive Matrix Organic Light-Emitting Diode, PMOLED) 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층 및 픽셀 제한층을 포함하며,
상기 제1 위치 또는 제2 위치를 통과하는 필름층은 각각 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층 및 기판을 포함하는 제1 경로, 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 제1 전극층과 기판을 포함하는 제2 경로 또는 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층 및 기판을 포함하는 제3 경로이다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 필름 패키지 방식을 적용하는 플렉시블 스크린 또는 하드 스크린이고, 상기 패키지층은 유기 재료 패키지층을 포함하는 필름 패키지층을 포함하며, 상기 제1 경로에서의 유기 재료 패키지층의 두께는 다른 경로에서의 유기 재료 패키지층의 두께보다 크다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 유리 파우더 패키지 방식을 적용하는 하드 스크린이고, 상기 패키지층은 진공 간극층 및 패키지 기판을 포함하며, 상기 제1 경로에서의 진공 간극층의 두께는 다른 경로에서의 진공 간극층의 두께보다 크다.
선택 가능하게, λ의 값의 범위는 500-600nm이고, 550nm인 것이 바람직하다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 단일층 회로 또는 복수층 회로이고 스캔 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 리셋 라인 중의 적어도 하나를 포함하는 전기 도선을 더 포함하며,
상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치를 통과하는 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 전기 도선 및 기판을 포함하는 제4 경로를 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선은 단일층 회로이고, 상기 전기 도선과 상기 제1 전극층은 동일층에 마련되며, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 서로 같고, 상기 제4 경로 및 상기 제2 경로에 포함되는 필름층 및 필름층의 두께가 서로 같거나 또는
상기 전기 도선은 복수층 회로이고, 상기 전기 도선 중 적어도 하나의 층 및 상기 제1 전극층은 동일층에 마련되며, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 서로 같거나 다르다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선은 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로를 포함하고, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제1 전극층이 동일층에 마련되는 이중층 회로이고, 상기 필름층은 평탄화층을 더 포함하며, 상기 제2 전도성 회로는 평탄화층과 상기 기판 사이에 마련되고, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제2 전도성 회로는 상기 제1 전극층과 재료가 서로 같으며, 상기 제4 경로는 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 상기 제1 전도성 회로 및/또는 상기 제2 전도성 회로, 기판을 포함한다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선이 상기 기판에서의 투영 및 상기 제1 전극층이 상기 기판에서의 투영이 일부 겹칠 경우, 상기 경로는 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층, 제2 전도성 회로 및 기판을 포함하는 제5 경로를 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되는 지지층 및 픽셀 회로를 제조하기 위한 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 구조층을 더 포함하며,
상기 지지층은 투명 구조이고, 상기 제2 경로, 상기 제3 경로 및 상기 제4 경로 중 적어도 하나는 지지층 및/또는 TFT구조층을 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되고 불투명 구조인 지지층, 상기 지지층의 하부에 마련되고 픽셀 회로를 제조하기 위한 TFT구조층을 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 제1 전극은 원형, 타원형 또는 아령형이다.
선택 가능하게, 상기 픽셀 제한층에 제1 유형 픽셀 개구를 포함하는 픽셀 개구가 형성되고, 상기 제1 유형 픽셀 개구가 상기 기판에서의 투영의 각변은 모두 서로 평행되지 않는 곡선이다.
선택 가능하게, 상기 제1 유형 픽셀 개구가 상기 기판에서의 투영은 원형 또는 타원형인 하나의 패턴 유닛 또는 복수의 서로 연통된 패턴 유닛이다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선은 연장 방향에서 굴곡되어 마련되고, 상기 제1 전극의 주위에는 상기 제1 전극의 에지를 따라 호형으로 연장되는 상기 전기 도선이 마련되어 있다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선이 연장 방향에서의 두 변은 모두 파봉이 서로 대향하여 마련되고 파곡도 서로 대향되는 웨이브 형이다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 PMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되고 투명 재료인 절연 기둥을 더 포함하며, 상기 경로는 제2 전극층, 절연 기둥, 픽셀 제한층 및 기판을 포함하는 제6 경로를 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 절연 기둥은 연장 방향에서 상기 기판에서 형성되는 그 투영이 상기 연장 방향에 수직되는 사이즈인 폭이 연속적으로 변화되거나 또는 비연속적으로 변화되고 연장 방향은 상기 기판에 평행되는 복수의 제1 유형 절연 기둥을 포함한다.
선택 가능하게, 상기 디스플레이 패널은 PMOLED 디스플레이 패널이고, 상기 제1 전극 또는 제2 전극이 연장 방향에서의 두 변은 모두 파봉이 대향하여 마련되고 파곡도 서로 대향되는 웨이브 형상이며, 바람직하게는 서로 인접하는 제1 전극 또는 제2 전극의 파봉 및 파곡은 피크치가 엇갈리게 마련된다.
선택 가능하게, 상기 필름층은 단일층 회로 또는 복수층 회로이고스캔 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 리셋 라인 중의 적어도 하나를 포함하는 전기 도선을 더 포함한다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선이 단일층 회로일 경우, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극은 동일층에 마련되거나, 또는 상기 전기 도선이 복수층 회로일 경우, 상기 전기 도선 중의 적어도 하나의 층 및 상기 제1 전극은 동일층에 마련되고, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 동일하거나 서로 다르다.
선택 가능하게, 상기 전기 도선이 상기 기판에서의 투영 및 상기 제1 전극층이 상기 기판에서의 투영과 일부 겹칠 경우, 상기 제1 위치 또는 제2 위치를 통과하는 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 발광 구조층, 제1 전극층, 전기 도선 및 기판을 포함하는 제7 경로를 더 포함한다.
선택 가능하게, 제1 위치 및 제2 위치에 대하여, 두 위치를 통과하는 필름층에 차이가 존재하는 하나 또는 복수의 필름층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치가 상기 조건을 만족시킨다.
본 발명의 실시예는 하부에 감광 소자를 설치할 수 있는 제1 표시 영역을 포함하는 적어도 하나의 표시 영역을 구비하고,
여기서 상기 제1 표시 영역에 상술한 실시예 중 어느 하나에 기재된 디스플레이 패널이 설치되어 있고, 상기 적어도 하나의 표시 영역 중 각 표시 영역은 모두 동적 화면 또는 정적 화면을 표시하는데 사용되는 디스플레이 스크린을 더 제공한다.
선택 가능하게, 상기 적어도 하나의 표시 영역은 제2 표시 영역을 더 포함하고, 상기 제1 표시 영역에 설치된 디스플레이 패널은 PMOLED 디스플레이 패널 또는 AMOLED 디스플레이 패널이 설치되고, 상기 제2 표시 영역에 설치된 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이다.
본 발명의 실시예는
제1 표시 영역의 하부에 위치하고, 상기 소자 영역에는 상기 제1 표시 영역을 투과하여 광선 채집을 진행하는 감광 소자가 마련되어 있는 소자 영역을 구비하는 디바이스 본체 및
상기 디바이스 본체를 커버하는 상기 실시예에 기재된 디스플레이 스크린을 포함하는 디스플레이 단말기을 더 제공한다.
선택 가능하게, 상기 소자 영역은 슬롯팅 영역이고, 상기 감광 소자는 카메라 및/또는 광 센서를 포함한다.
본 발명의 기술 방안은 하기의 장점을 가진다.
(1) 본 발명의 실시예에서 제공하는 디스플레이 패널에 있어서, 필름층에 패턴화된 구조를 구비하고, 상기 디스플레이 패널은 적어도 제1 위치 및 상기 제1 위치와 서로 다른 제2 위치를 구비하며, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치는 (m-0.2)λ＜L1- L2＜(m+0.2)λ조건을 만족시킨다. 제1 위치 및 제2 위치를 통과하는 필름층은 상기 관계를 만족하기에 광선이 두 경로를 통해 디스플레이 패널에서 출사된 후, 위상차가 비교적 작다. 동일한 위상의 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 발생하는 위상 차이는 회절이 발생되는 중요한 원인 중의 하나이기에, 본 발명의 실시예의 방안을 적용하면 동일한 위상의 광선이 두 경로를 통과하여 디스플레이 패널을 통과한 후, 위상차가 미리 설정한 범위 내에 있어 위상 차이로 인한 회절 현상을 줄여 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후, 상술한 회절로 인한 이미지의 왜곡이 비교적 작고, 디스플레이 패널 후방의 카메라의 감지 이미지의 해상도를 향상시킴으로써 디스플레이 패널 후방의 감광 소자가 선명하고 진실된 이미지를 얻을 수 있게 하고 풀 스크린 디스플레이를 실현하였다.
(2) 본 발명의 실시예에서 제공되는 디스플레이 패널에 있어서, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치는 각 경로에 광선이 입사하는 위치에 대응되고, 광선이 디스플레이 패널을 통과하는 경로는 복수의 경로이고, 경로의 수량은 디스플레이 패널에 수직되는 광선이 디스플레이 패널을 통과 시 통과하는 경로의 종류에 의해 결정되며, 서로 다른 경로가 포함하는 필름층은 서로 다르다. 따라서 복수의 경로가 존재할 경우, 입사 광선이 그 중 두 경로를 통과하여 형성되는 광학 거리 사이의 차이값과 입사 광선 파장의 정수배의 오차는 미리 설정한 범위 내에 있고, 이러한 경로를 통과하는 이러한 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후의 회절은 효과적으로 감소되며, 조건을 만족하는 경로가 많을수록 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후의 회절 현상이 더욱 약하다. 바람직한 방안으로서, 경로 중 광선이 임의의 두 경로를 통과한 후 형성되는 광학 거리 사이의 차이값과 입사 광선 파장의 정수배의 오차가 미리 설정한 범위 내에 있다. 이와 같이, 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 위상차이로 인한 위상차는 모두 해소됨으로써 회절 현상의 발생을 대폭 줄일 수 있다.
(3) 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 패널에 있어서 PMOLED일 수 있고, AMOLED일 수도 있으며, 디스플레이 패널의 필름층화 구조에 따라 서로 다르고, 광선이 디스플레이 패널 통과 시, 서로 다른 경로를 형성할 수 있으며, 그 중 하나의 경로 중 하나의 필름층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리와 다른 하나 또는 복수의 경로를 통과하는 광학 거리 사이의 차이값은 상기 관계를 만족시키며, 두께는 필요에 따라 조절되고, 두께가 성능 요구를 만족시키는 상황에서 조절이 불가할 경우, 당해 필름층의 재료를 조절하여 당해 필름층의 굴절률을 변경시킴으로써 상술한 목적을 실현할 수 있다.
(4) 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 패널은 우선적으로 픽셀 제한층의 두께 또는 상기 전극층의 두께를 조절할 수 있고, 픽셀 제한층의 두께는 다른 필름층의 두께보다 두꺼워 조절에 용이하고, 성능 요구를 만족시키는 전제 하에서, 픽셀 제한층의 두께의 조절을 통해 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절할 수 있다. 그 외, 픽셀 제한층의 재료의 조절을 통해 굴절률을 변경하고, 픽셀 제한층의 굴절률의 조절을 통해 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절함으로써 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후의 회절 현상을 줄일 수도 있다.
(5) 본 발명의 실시예는 상술한 실시예에 따른 디스플레이 패널을 사용하고 디스플레이 패널 하부에 카메라, 광민감성 소자 등 감광 소자를 설치하는 디스플레이 스크린 및 당해 디스플레이 스크린을 구비하는 디스플레이 단말기을 더 제공하고, 디스플레이 패널이 효과적으로 회절을 해소시킬 수 있기에 카메라 및 감광 소자는 더욱 진실된 입사 광선을 얻을 수 있다.
본 발명의 구체적인 실시 형태 또는 종래의 기술의 기술 방안을 더 명확하게 설명하기 위해, 이하에서는 구체적인 실시 형태 또는 종래의 기술의 설명에 필요되는 첨부 도면에 대해 간단히 소개하고, 이하에서 서술되는 첨부 도면은 본 발명의 일부 실시 형태이고, 본 분야에서 통상적인 지식을 가진 작업자에게 있어서 창조성 노동을 들이지 않은 전제 하에서 이러한 첨부 도면에 의해 다른 도면을 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광선이 디스플레이 패널을 통과하는 구조도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 구조도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 음극의 구조 개략도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 광선이 음극을 통과하는 구조 개략도이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 제1 유형 절연 기둥의 평면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1 유형 절연 기둥의 평면도이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 AMOLED 디스플레이 스크린의 양극의 평면도이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 AMOLED 디스플레이 스크린의 양극의 평면도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 AMOLED 디스플레이 스크린의 양극의 평면도이다.
도 15는 본 발명의 실시예에 따른 픽셀 제한층의 개구 투영의 평면도이다.
도 16은 본 발명의 다른 실시예에 따른 픽셀 제한층의 개구 투영 및 양극의 평면도이다.
도 17은 본 발명의 실시예에 따른 PMOLED 디스플레이 패널의 전극 패턴의 평면도이다.
도 18은 본 발명의 실시예에 따른 PMOLED 디스플레이 패널의 양극 및 음극 패턴의 평면도이다.
도 19는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PMOLED 디스플레이 패널의 양극 및 음극 패턴의 평면도이다.
도 20은 본 발명의 실시예에 따른 전기 도선이 제1 전극의 에지를 중심으로 호형으로 연장되는 평면도이다.
도 21은 본 발명의 실시예에 따른 불투명한 지지층이 타원형으로 마련된 평면도이다.
도 22는 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 스크린의 구조 개략도이다.
도 23은 본 발명의 실시예에 따른 단말기 구조의 개략도이다.
도 24는 본 발명의 실시예에 따른 디바이스 본체의 개략도이다.
본 발명의 설명에서, 용어 “중심”, “횡방향”, “상”, “하”, “좌”, “우”, “수직”, “수평”, “정부”, “저부”, “내” 및 “외” 등이 지시하는 방위 또는 위치 관계는 첨부 도면에 도시되는 방위 또는 위치 관계에 기초한 것이고, 본 발명을 설명하는데 편이하고 설명을 간소화하기 위한 것에 불과하며, 가르키는 장치 또는 소자가 반드시 특정된 방위를 가지거나, 특정된 방위로 구성되고 조작하는 것을 지시 또는 암시하는 것이 아님을 이해해야 하기에 본 발명에 대한 한정으로 이해해서는 아니된다. 그 외, 소자가 “다른 소자 상에 형성된다”고 기재할 경우, 이는 다른 소자에 직접 연결되거나 또는 동시에 중간 소자가 존재할 수 있다. 한 소자가 다른 소자에 “연결”된다고 간주될 경우, 이는 직접 다른 소자에 연결되거나 또는 동시에 중간 소자가 존재할 수 있다. 반대로, 소자가 “직접” 다른 소자”상”에 위치한다고 기재될 경우, 중간 소자가 존재하지 않는다.
배경 기술에서 소개한 바와 같이, 종래의 기술의 풀 스크린은 진정한 풀 스크린이 아니고, 연구 과정에서 디스플레이 패널을 직접 카메라 등 감광 소자에 커버할 경우, 우선 카메라 등 감광 소자 상부에 위치하는 디스플레이 패널이 높은 빛 투과율을 가져야 하는 발견하였으며, 발명자는 더 나아가, 카메라 등 감광 소자를 투명 디스플레이 패널 하부에 설치할 경우, 촬영을 통해 얻은 사진이 희미한 것을 발견하였다. 추가로, 발명자는 연구를 거쳐 이러한 문제가 발생되는 근본적인 원인은, 디스플레이 스크린 내에 패턴화된 필름층 구조가 존재하여 외부 광선이 이러한 패턴화된 필름층 구조를 통과한 후 회절 현상이 발생할 수 있어 사진이 희미한 것을 발견하였다.
추가로, 발명자는 패턴화 필름층이 존재하는 영역 및 패턴화 필름층이 존재하지 않는 영역은 서로 다른 단면 구조를 형성하기에 광선이 디스플레이 스크린을 입사되어 감광 소자에 도달 시, 통과하는 광로가 다른 것을 발견하였다. 광선이 투명 스크린의 서로 다른 영역을 통과 시, 서로 다른 필름층 구조는 굴절률 및 두께의 차이로 인해 광선에 대해 광학 거리 차이값이 생긴다. 광선이 이러한 서로 다른 영역을 통과한 후, 원래 동일한 위상의 광선들은 위상차가 생기고, 이러한 위상차는 회절이 발생되는 중요한 원인의 하나이며, 해당 위상차는 선명한 회절 현상을 초래할 수 있어 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 회절 무늬가 발생하여 촬영 화면이 왜곡되고 희미한 현상이 나타나게 된다.
그 외, 전자 디바이스의 디스플레이 스크린 본체 내에 존재하는 픽셀 개구, 전극, 전도 배선 등으로 인해, 외부 광선이 이러한 영역의 에지를 통과 시, 비교적 복잡한 회절 강도의 분포를 초래하여 회절 무늬가 발생되고, 더 나아가 카메라 등 감광 소자의 정상적인 작동에 영향을 미친다. 예를 들어, 투명 표시 영역 아래에 위치하는 카메라가 작동 시, 외부 광선이 디스플레이 스크린 내의 전도 재료 배선, 전극 에지 또는 픽셀 개구 에지를 통과한 후 비교적 선명한 회절이 발생하여 카메라를 통해 촬영한 화면이 왜곡되는 문제가 발생한다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시예는 기판(1) 및 순차적으로 상기 기판(1)에 마련되고 패턴화된 구조를 가지는 제1 필름층(2) 및 제1 필름층(2)에 마련되는 필름층인 제2 필름층(3)을 포함하는 디스플레이 패널을 제공한다. 제2 필름층은 패턴화된 구조를 구비하기에 당해 디스플레이 패널에서 제1 위치(A) 및 제1 위치(A)와 서로 다른 제2 위치(B)를 구비하고, 제1 위치(A) 및 제2 위치(B)에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층이 서로 다르며 도면의 경로(a) 및 경로(b)와 같다. 본 실시 형태에서 경로(a) 및 경로(b)에 포함되는 필름층은 서로 다르고, 경로(a)는 제2 필름층(3), 제1 필름층(2) 및 기판(1)을 포함하고, 경로(b)는 제2 필름층(3) 및 기판(1)을 포함한다. 여기서, 경로(a) 및 경로(b)는 하기의 조건을 만족시킨다.
기판(1), 제1 필름층(2), 제2 필름층(3)에 대응되는 필름층 계수는 n1, n2, n3이고, 기판(1)의 두께는 d1이며, 제1 필름층의 두께는 d2이고, 제2 필름층이 경로(a)에서의 거리는 da이며, 제2 필름층이 경로(b)에서의 거리는 db이고, 본 실시예에서, d2+da=db, La=n1*d1+n2*d2+n3*dn; Lb=n1*d1+n3*db; L=La-Lb이며, 하기의 조건을 만족시킨다.
(m-0.2)λ＜L＜(m+0.2)λ;
여기서, m은 자연수이고, λ는 거리 계수이며 값의 범위는 380~780mm이다.
본 실시예에서 필름층 계수는 n1, n2, n3이고, 기판(1), 제1 필름층(2), 제2 필름층(3)에 대응되며, λ는 가시광선의 파장이다.
본 실시 형태에 따른 디스플레이 패널에 있어서, 필름층이 패턴화된 구조를 구비하기에, 제1 위치(A) 및 제2 위치(B)에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층이 서로 다르고, 제1 위치(A) 및 제2 위치(B)는 광선이 수직으로 디스플레이 패널을 통과하는 두개의 위치에 대응되며, 두개의 광선이 통과하는 경로를 형성한다. 제1 필름층 및 제2 필름층의 두께를 합리적으로 설정하고 제1 필름층 및 제2 필름층의 필름층 계수를 합리적으로 선택하는 것을 통해 위치(A) 및 위치(B)가 상기 조건을 만족시키게 하고, 다시 말해서, 광선이 경로(a) 및 경로(b)에서 기판 표면에 수직으로 디스플레이 패널로 입사한 후, 두 경로 사이의 광학 거리의 차이값 및 광선의 파장이 상술한 조건을 만족시키며, 광선이 두 경로를 통과하고 디스플레이 패널에서 출사한 후, 그 위상차는 비교적 작다. 동일한 위상의 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 위상차가 발생되는 것은 회절 발생의 중요한 윈인 중의 하나이기에, 본 실시예의 방안을 이용하여, 동일한 위상의 광선이 두개의 경로를 통과하여 디스플레이 패널을 통과한 후 위상차가 비교적 작아 발생되는 회절 현상이 약하여 위상차로 인한 회절 현상을 줄였고 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 상술한 회절로 인한 이미지 왜곡이 발생되지 않고, 디스플레이 패널 후방의 카메라가 감지하는 이미지 해상도를 향상시켜 디스플레이 패널 후방의 감광 소자가 선명하고 진실된 이미지를 얻을 수 있게 하고 풀 스크린 디스플레이를 실현하였다.
일부 구체적인 실시 형태에서, La-Lb의 차이값이 0이 되도록 선택하고, 다시 말해서, 두개의 경로의 광학 거리가 0이고, 정수배에 비해 조작이 더 우수하고, 더욱 우수하게 실현할 수 있다.
기타 대체 가능한 실시 형태에서, 제1 위치 및 제2 위치를 통과하는 필름층의 수량은 실제 상황에 의해 결정되고, 예를 들어, 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 수량은 i이고, 각 필름층 두께는 각각 d1, d2 … di이며, 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 수량은 j이고, 각 필름층 두께는 각각 D1, D2 … Dj이며, i, j는 자연수이고, 여기서, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치는 하기의 조건을 만족시킨다.
L1=d1*n1+d2*n2+…+di*ni，
L2=D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj，
(m-0.2)λ≤L1-L2≤(m+0.2)λ,
여기서, n1, n2 … ni는 각각 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이고, N1, N2 … Ni는 각각 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이며, n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj의 값의 범위는 1~2이고, λ는 거리 계수이며, 값의 범위가 380~780nm이고, m은 자연수이다. 상술한 n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj의 값의 범위는 1~2이고, 투명 스크린 중 각 필름층의 굴절률의 값의 범위에 대응되며, 거리 계수 λ는 가시광선의 파장에 대응된다. 제1 위치를 통과하는 빛의 광학 거리는 L1이고, 제2 위치를 통과하는 빛의 광학 거리는 L2이며, 다시 말해서 광선이 제1 위치 및 제2 위치로부터 패널을 통과하는 광학 거리 사이의 차이값은 L1-L2이고, 상술한 조건에서 당해 광학 거리 사이의 차이값과 파장의 정수배의 오차는 미리 설정한 범위 내에 있으며 광선이 제1 위치 및 제2 위치로부터 패널을 통과한 후, 위상차가 비교적 작아 발생되는 회절 현상이 현저하지 않다.
제1 위치 및 제2 위치는 광선이 입사되는 임의의 위치에 대응될 수도 있고, 제1 위치 및 제2 위치를 통과하는 필름층이 서로 다르기만 하면 되며, 다른 실시 형태로서, 상술한 필름층은 하나 또는 복수의 필름층이 패턴화된 구조를 가지는 복수의 필름층일 수 있고, 이와 같이 광선이 수직으로 디스플레이 패널을 통과할 경우, 각 경로가 서로 다른 필름층을 포함하는 복수의 경로를 형성하며, 광선이 그 중 적어도 두개의 경로를 통과하는 광학 거리 사이의 차이값과 광선의 파장 사이에는 상술한 대응 관계가 존재함으로써 광선이 이러한 두개의 경로를 통과한 후의 회절 현상을 줄일 수 있다. 이러한 경로를 통과하는 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 발생되는 회절을 효과적으로 줄일 수 있고, 조건을 만족시키는 경로가 많을수록 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후의 회절 현상이 더 약하다. 보다 바람직한 형태로서, 상기 외부 입사 광선이 상기 기판 표면에 수직되는 방향으로 상기 디스플레이 패널에 입사되고, 상기 복수의 경로 중의 임의의 두개의 경로를 통과한 후, 얻은 광학 거리 사이의 차이값은 상술한 대응 관계를 모두 만족시킨다. 이와 같이, 광선이 디스플레이 패널을 통과한 후 위상차이로 인한 위상차는 모두 해소될 수 있어 회절 현상의 발생을 대폭 줄일 수 있다.
구체적인 실시 형태로서, 본 실시 형태에 따른 디스플레이 패널은 AMOLED 디스플레이 패널이고, 도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 디스플레이 패널은 기판(001), 적층(002), 평탄화층(003), 전기 도선(0041), 양극층(0042), 픽셀 제한층(005), 발광 구조층(006), 음극층(007)을 포함한다.
여기서, 소자의 투명도를 향상시키지 위해, 기판(001)은 유리 기판, 석영 기판 또는 플라스틱 기판 등 투명 기판인 강성 기판일 수 있고, P1 박막 등 플랙시블 기판일 수도 있다. 광선이 수직으로 모든 경로를 통과하는 것은 모든 기판에서 동일하기에 기판은 광선이 서로 다른 경로를 통과하는 광학 거리 사이의 차이값에 실질적 영향을 미치지 않는다.
기판(001)에는 픽셀 회로, 구체적으로, 하나 또는 복수의 스위치 소자 및 콘덴서 등 소자를 포함하는 적층(002)이 마련되어 있고, 필요에 따라 복수의 스위치 소자를 직렬 연결 또는 병렬 연결하고, 예를 들어 2T1C, 7TIC 등 픽셀 회로와 같으며, 본 실시예는 이에 대해 한정하지 않는다. 스위치 소자는 박막 트랜지스터 TFT일 수 있고, 박막 트랜지스터는 산화물 박막 트랜지스터 또는 저온 다결정 실리콘 박막 트랜지스터(Low Temperature Polycrystalline Silicon Thin Film Transistor, LTPS TFT)일 수 있으며, 바람직하게, 박막 트랜지스터는 인듐 갈륨 아연 산화물 박막 트랜지스터(Indium Gallium Zinc Oxide Thin Film Transistor, IGZO TFT)인 것이 바람직하다. 대체 가능한 다른 실시예에서, 스위치 소자는 금속 산화물 반도체 전계 효과 트랜지스터(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)일 수 있고, 절연 게이트 양극성 트랜지스터(Insulated Gate Bipolar Transistor, IGBT) 등 통상적으로 스위치 특성을 구비하는 다른 소자일 수도 있으며, 본 실시예에서 스위치 기능을 실현할 수 있고 디스플레이 패널에 집적될 수 있는 전자 소자는 모두 본 발명의 청구 범위 내에 포함된다.
픽셀 구동 회로는 여러가지 소자를 포함하기에, 소스 전극, 드레인 전극, 그리드 전극, 그리드 전극 절연층, 액티브 층, 층간 절연층 등을 포함하는 복수의 층 필름층 구조도 형성한다. 서로 다른 경로에서 광선이 통과하는 경로는 서로 다를 수 있고, 따라서 상기 픽셀 회로 중의 각 필름층의 두께 또는 굴절률의 조절을 통해 광선이 통과하는 경로의 광학 거리를 조절할 수 있다. 적층(002)의 각 경로 상의 필름층의 조절 외에 다른 필름층의 조절을 결합하여 공동으로 작용하여 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절할 수 있다.
적층(002)에 평탄화층(003)을 마련하고, 평탄화층(003)을 통해 하나의 평탄한 평면을 형성하여 전극 및 도선 등의 설치에 편이하다. 적층(002)에 패턴화된 구조를 구비하기에, 평탄화층(003)의 서로 다른 위치에서의 두께는 서로 다르고, 평탄화층의 서로 다른 위치의 두께 및 굴절률의 조절을 통해 서로 다른 경로의 광학 거리를 조절할 수 있다.
평탄화층(003)에는 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이 마련되어 있다. 도 2의 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)은 동일층이고, 다른 실시예에서 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)은 각각 제조되는 서로 다른 층일 수도 있으며, SCAN라인 및 EM라인을 포함할 수 있는 스캔 라인, Vdata인 데이터 라인, VDD 또는 VSS인 전원 라인, Vref인 리셋 라인 중의 적어도 하나를 포함한다. 전기 도선은 평탄화층에 마련되는 단일층 또는 복수층 도선일 수 있고 간격을 두고 설치되거나, 교차하여 마련되는 복수층일 수 있다. 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)은 일반적으로 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 또는 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO)일 수도 있으며, 또는 은을 도핑한 인듐 주석 산화물(Ag+ITO), 또는 은을 도핑한 인듐 아연 산화물(Ag+IZO)을 사용할 수 있다. ITO는 프로세스가 성숙되고 원가가 낮기에 전도성 재료는 바람직하게 인듐 아연 산화물을 사용한다. 더 나아가, 높은 빛 투과율을 확보하는 것에 기초하여, 각 전도 배선의 저항을 줄이기 위해, 투명 전도성 재료는 알루미늄을 도핑한 산화아연, 은을 도핑한 ITO 또는 은을 도핑한 IZO 등 재료일 수 있다.
양극층(0042) 및 전기 도선(0041)의 두께 및 굴절률은 모두 조절 가능하고, 두께 또는 굴절률 또는 두께 및 굴절률을 동시에 조절하여 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절하며, 이를 통해 다른 경로의 광학 거리와의 차이값이 상기 조건을 만족시키도록 한다. 양극층(0042)이 ITO 일 경우, 두께는 일반적으로 20nm~200nm이고, 당해 범위 내에서 ITO층의 두께를 조절할 수 있다. 전기 도선(0041) 및 양극층(0042)을 각각 제조할 경우, 두께 및 굴절률을 각각 조절할 수 있고, 전기 도선이 복수층이면, 각 층 도선의 두께 및/또는 굴절률을 각각 조절할 수도 있다. 동일층으로 형성되었으면, 동시에 전기 도선(0041) 및 양극층(0042)의 두께 및 굴절률을 조절할 수 밖에 없다.
본 실시 형태에서 전기 도선(0041) 및 양극층(0042)은 동일층에 마련되고, 다른 실시 형태에서 전기 도선(0041)이 복수층 회로일 경우, 전기 도선에는 상기 양극층과 동일층에 마련된 하나의 층의 전기 도선이 존재할 수 있으며 전기 도선 및 양극층의 재료는 서로 같을 수도 있고 서로 다를 수도 있다.
다른 실시 형태에서, 전기 도선은 이중층 회로일 수도 있고, 예를 들어 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로를 포함하며, 제1 전도성 회로는 양극층과 동일층에 마련되고 제2 전도성 회로는 평탄화층과 기판 사이에 마련되며, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제2 전도성 회로는 상기 제1 전극층(양극층)과 동일 재료이고, 패키지층, 제2 전극층(음극층), 픽셀 제한층, 상기 제1 전도성 회로, 기판은 하나의 광선의 경로를 형성하며, 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 제2 전도성 회로, 기판도 하나의 광선의 경로를 형성할 수 있고, 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로의 투영이 겹치는 부분에서, 패키지층, 제2 전극층(음극층), 픽셀 제한층, 제1 전도성 회로, 제2 전도성 회로, 기판도 하나의 광선의 경로를 형성할 수 있다.
구체적인 실시 형태에서, 상기 기판에서의 상기 전기 도선의 투영이 상기 기판에서의 상기 제1 전극층(양극층)의 투영과 일부 겹칠 경우, 광선이 통과하는 경로는 패키지층, 제2 전극층(음극층), 발광층, 제1 전극층(양극층), 제2 전도성 회로 및 기판을 포함할 수도 있다.
양극층(0042)에는 픽셀의 위치에 대해 위치 제한하는 픽셀 제한층(005)이 마련되어 있고 픽셀 제한층(005)에 픽셀 개구가 형성된다. 픽셀 제한층(005)의 두께는 비교적 크고 조절할 수 있는 범위가 크다. 일반적으로, 픽셀 제한층(005)의 두께는 0.3~3㎛이고, 당해 범위 내에서 픽셀 제한층(005)의 두께를 조절할 수 있다. 따라서 픽셀 제한층(005)의 두께의 조절을 통해 광학 거리가 상기 조건을 만족시키도록 하는 것이 바람직하다. 단독으로 픽셀 제한층(005)의 두께를 조절할 경우, 상기 요구를 만족시키지 못하면 픽셀 제한층(005)의 재료의 조절에 결부하여 그 굴절률을 조절할 수 있다. 픽셀 제한층의(005) 두께 및 굴절률을 동시에 조절하여 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절할 수도 있다.
일부 실시 형태에서, 픽셀 제한층(005)의 상부에는 생산 과정에서 마스크를 지지하기 위한 지지층(0051)이 설치되어 있다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 지지층(0051)이 투명 구조일 경우, 지지층(0051)을 통과하는 광선 경로에 관련하여 지지층(0051)의 두께 및 굴절률의 조절을 통해 당해 경로의 광학 거리를 조절할 수도 있다. 적층(002) 중의 픽셀 구동 회로의 구조가 비교적 복잡하여 각 필름층의 조절도 비교적 복잡하고, 지지층(0051)을 불투광 구조로 설치할 수도 있으며, 도 4에 나타낸 바와 같이, 블랙의 불투광 구조(블랙 불투광의 지지층Spacer, 또는 SPC로 약칭)를 사용하고, 블랙의 불투광 구조로 차폐하는 픽셀 회로 중의 하나 또는 복수의 TFT구조를 블랙의 지지층(0051)의 하부에 설치하고, 이를 통해 광선이 디스플레이 패널을 통과 시, 픽셀 회로 중의 복수의 필름층 구조를 통과하지 않게 되며, 해당 부분의 패턴화된 구조로 인한 회절 현상의 발생을 피하는 동시에 서로 다른 경로의 광학 거리를 조절하는 과정을 간소화 하였다.
픽셀 제한층(005)에는 픽셀 개구가 형성되고, 픽셀 개구 내 및 픽셀 제한층(005)의 상부에는 발광 구조층(006)이 마련되어 있고, 여기서 OLED(Organic Light-Emitting Diode, 유기발광 다이오드)를 사용한다. 일반적으로, 발광 구조층(006)은 광 추출층, 전자 주입층, 전자 전송층, 정공 차단층, 발광층, 정공 전송층, 정공 주입층을 포함한다. 발광층을 제외한 나머지 각 층은 전면에 마련되기에 나머지 각 층은 광선이 통과하는 경로의 광학 거리 사이의 차이값에 영향을 미치지 않는다. 발광층은 픽셀 개구 내에 마련되고, 서로 다른 발광 서브픽셀이 포함하는 발광층의 발광 재료는 서로 다르며, 적색 발광 재료, 청색 발광 재료, 녹색 발광 재료를 포함한다. 서로 다른 발광 서브픽셀에 있어서, 발광층의 발광 재료의 두께 또는 굴절률을 조절하거나, 또는 동시에 발광 재료의 두께 및 굴절률을 조절하여 광선이 당해 경로를 통과하는 광학 거리를 조절할 수 있다.
발광 구조층의 전체의 두께가 비교적 작기에 당해 발광층의 조절 가능 범위가 비교적 작고 일반적으로 다른 필름층과 배합하여 광학 거리를 조절하며 단독 조절을 통해 상기 요구를 만족시키기 어렵다.
발광 구조층(006)의 상부에는 음극층(007)이 마련되어 있다. 음극층은 전면에 마련되었기에 음극층은 광선이 통과하는 각 경로의 광학 거리 사이의 차이값에 실질적인 영향을 미치지 않는다. 도 5에 나타낸 바와같이, 음극층(007)의 상부에 광 추출층(008)이 더 마련될 수도 있소 일부 실시 형태에서는 광 추출층(008)을 생략할 수도 있다.
광 추출층(008)의 외측에는 패키지층이 마련되어 있다. 패키지층은 하드 스크린 패키지일 수 있고 유기 박막 패키지일 수도 있다. 도 5에서 디스플레이 패널은 유리 파우더 패키지(즉 Frit 패키지)방식을 이용한 하드 스크린이고 상기 패키지층은 낮은 진공 간극층(009) 및 패키지 기판(010)을 포함하며 진공 간극층에는 불활성 기체가 충진되어 있고 패키지 기판은 패키지 유리이다.
도 5에 나타낸 디스플레이 패널에서 광선이 당해 디스플레이 패널을 통과 시, 복수의 광로를 형성할 수 있다. 디스플레이 패널은 탑 발광 구조 및 바텀 발광 구조 두가지 서로 다른 방식을 구비하고, 당해 디스플레이 패널이 탑 발광 구조일 경우, 패키지의 일측이 밖으로 향하고 기판이 내부에 마련되며 카메라가 기판의 하부에 마련된다. 당해 디스플레이 패널이 바텀 발광 구조일 경우, 기판의 일측이 밖으로 향하고 패키지의 일측이 내부를 향하며 카메라가 패키지 유리의 하부에 마련된다. 당해 디스플레이 패널은 투명 디스플레이 패널이고, 디스플레이 패널의 하부에 마련된 카메라가 작동 시, 카메라 영역의 픽셀은 외부 광선의 통과에 편이하도록 발광하지 않는다.
탑 발광 구조 또는 바텀 발광 구조를 막론하고, 광선이 패널을 통과하는 경로는 모두 같다. 당해 실시예에서 탑 발광 구조를 예시로 설명하면, 광선이 패키지 유리(010)의 일측에서 디스플레이 스크린에 조사되고 광선이 디스플레이 패널을 통과 시, 여러 경로를 형성하고, 도 6에 나타낸 바와 같다.
경로(A)는 순차적으로 통과하는 패키지 기판(010), 진공 간극층(009), 광 추출층(008), 음극층(007), 발광 구조층(006), 양극층(0042), 평탄화층(003), 적층(002), 기판(001)을 포함한다.
경로(B)는 순차적으로 통과하는 패키지 유리층(010), 진공 간극층(009), 광 추출층(008), 음극층(007), 발광 구조층(006), 픽셀 제한층(005), 평탄화층(003), 적층(002), 기판(001)을 포함한다.
경로(C)는 순차적으로 통과하는 패키지 유리층(010), 진공 간극층(009), 광 추출층(008), 음극층(007), 발광 구조층(006), 픽셀 제한층(005), 전기 도선(0041), 평탄화층(003), 적층(002), 기판(001)을 포함한다.
경로(D)는 순차적으로 통과하는 경로(A)가 통과하는 패키지 유리층(010), 진공 간극층(009), 광 추출층(008), 음극층(007), 발광 구조층(006), 픽셀 제한층(005), 양극층(0042), 평탄화층(003), 적층(002), 기판(001)을 포함한다.
경로(A)의 낮은 진공 간극층의 두께는 다른 경로의 낮은 진공 간극층의 두께보다 크다.
경로(A)를 통과하는 광선의 광학 거리가 LA이고, 경로(B)를 통과하는 광선의 광학 거리가 LB이며, 경로(C)를 통과하는 광선의 광학 거리가 LC이면, 상기 하나 또는 복수의 필름층의 두께 또는 굴절률의 조절을 통해
(m-δ)λ＜LA-LB＜(m+δ)λ이고,
m은 정수이고, λ는 광선의 파장이며, δ는 0~0.2 사이의 상수이고, 예를 들어 0, 0.1, 0.15, 0.2 등 적합한 값을 선택할 수 있다. δ의 선택값이 작을수록 광선이 두개의 경로를 통과한 후의 위상차가 작다.
경로(A), 경로(B), 경로(C) 중 임의의 두개의 경로 사이의 광학 거리의 차는 모두 상기 관계를 만족시킨다.
δ가 0을 선택할 경우, 경로(A), 경로(B), 경로(C) 사이의 광학 거리 사이의 차이값은 파장의 정수배를 만족시킬 수 있다. 이와 같이, 광선이 경로(A), 경로(B), 경로(C)를 통과한 후, 입사되는 광선의 위상과 출사되는 광선의 위상 차이가 작고 회절 현상의 발생을 대폭 줄일 수 있다.
상기 광학 거리 LA, LB, LC의 계산 공식은 다음과 같다.
L=d1*n1+d2*n2+…i*ni이고，여기서, L은 광학 거리이고, i는 광선이 통과하는 경로 중 구조층의 수량이며, d1, d2, … , di는 광선이 통과하는 경로 중 각 구조층의 두께이고, n1, n2, … ,ni는 상기 광선이 통과하는 경로 중 각 구조층의 굴절률이다.
각 층의 두께 및 굴절률의 측정을 통해 각 경로의 광학 거리를 계산할 수 있다.
경로 중의 각 필름층의 조절을 통해 상술한 광학 거리 사이의 차이값의 요구를 만족시키도록 하기 위해, 우선 당해 층에서 광학 거리에 영향을 미치는 필름층이 어느 것인지를 확인해야 하고, 각 경로가 통과하는 필름층이 비교적 많지만, 광학 거리 사이의 차이값을 계산 시, 경로 중에 모두 동일한 필름층이 존재하고 필름층의 재료 및 두께가 모두 같으면 상기 두 경로 사이의 광학거리 사이의 차이값에 영향을 미치지 않는다. 오직 서로 다른 재료의 필름층, 또는 동일한 재료지만 두께가 서로 다른 필름층만이 광학 거리 사이의 차이값에 영향을 미친다.
구체적으로, 경로(A) 및 경로(B)에 있어서, 기판(001), 패키지 기판(010), 광 추출층(008), 음극층(007)은 동일한 재료이고, 두께도 동일하기에 고려할 필요가 없다. 경로(A) 및 경로(B)의 차이점은, 진공 간극층(009)(경로(A) 및 경로(B)에 모두 존재하지만 두께가 서로 다름), 픽셀 제한층(005)(경로(B)에 존재), 양극층(0042)(경로(A)에 존재)이고, 진공 간극층(009)이 경로(A) 및 경로(B)에서의 두께 차이는 경로(B)에서의 픽셀 제한층(005)의 두께와 같기에, 픽셀 제한층(005)의 두께를 조절하면 진공 간극층(009)이 경로(A) 및 경로(B)에서의 두께 차이도 조절된다. 보시다시피, 경로(A) 및 경로(B)에 영향을 미치는 주요 필름층은 양극층(0042) 및 픽셀 제한층(005)이다. 양극층(0042)의 두께 및/또는 굴절률의 조절, 또는 픽셀 제한층(005)의 두께 및/또는 굴절률의 조절, 또는 양극층(0042) 및 픽셀 제한층(005)을 동시에 조절하여 상기 경로(A) 및 경로(B)의 광학 거리 사이의 차이값과 파장의 정수배의 오차가 미리 설정한 범위 내에 있게 한다.
물론, 상기 경로(A) 및 경로(B)에서 발광 구조층(006)의 내부의 발광층도 서로 다르고, 픽셀 개구 내의 발광층 및 개구 외의 발광층도 서로 다르며, 발광층의 조절을 통해 경로의 광학 거리를 추가로 조절할 수도 있다. 그 외, 평탄화층(003) 및 적층(002)이 경로(A) 및 경로(B)에 위치하는 필름층 구조도 다를 수 있고 서로 다른 필름층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 광학 거리를 조절할 수도 있다. 무기 절연층(002)의 픽셀 회로의 구조가 복잡하기에, 블랙 지지층(0051)을 픽셀 회로의 스위치 소자의 상부에 마련하여 광선이 픽셀 회로를 통과하지 못하도록 하고 광선이 픽셀 회로의 성능에 영향을 미치는 것을 피하며, 동시에 픽셀 회로의 각 필름층의 존재로 인한 광선 회절 문제도 피할 수 있다.
경로(B) 및 경로(C)에 있어서, 포함되는 각 층에 대해 중복된 서술을 생략하고, 그 주요 차이점은 경로(C)에 전기 도선(0041)을 포함하고 경로(C)의 픽셀 제한층(005)의 두께가 경로(B)의 픽셀 제한층(005)의 두께와 서로 다르며, 경로(C)의 픽셀 제한층(005)의 두께와 경로(B)의 픽셀 제한층(005)의 두께의 차이는 전기 도선(0041)의 두께와 같기에, 전기 도선(0041)의 두께 및 굴절률의 조절을 통해 경로(B) 및 경로(C)의 광학 거리 사이의 차이값이 상술한 관계를 만족시킨다. 경로(C)의 전기 도선(0041)은 이중층 회로일 수도 있고, 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로를 포함하며, 상기 제1 전도성 회로는 상기 제1 전극과 동일층에 마련되고 상기 제2 전도성 회로는 평탄화층 및 상기 기판 사이에 마련되며, 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로의 두께 및 /굴절률의 조절을 통해 상기 외부 입사 광선이 경로(B) 및 경로(C)를 통과한 후 얻은 광학 거리 사이의 차이값과 상기 외부 입사 광선의 파장의 정수배의 오차가 미리 설정한 범위 내에 있어 광선이 두 경로를 통과한 후의 위상 차이가 비교적 작다.
경로(A) 및 경로(C)의 차이점은 패키지층, 픽셀 제한층(005), 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이고, 패키지층의 두께는 픽셀 제한층(005)의 두께에 의해 결정되기에, 픽셀 제한층(005)의 두께 또는 굴절률, 또는 동시에 픽셀 제한층(005)의 두께 및 굴절률을 조절할 수 있다. 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이 동일층일 경우, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)은 경로(A) 및 경로(C)의 광학 거리 사이의 차이값에 실질적 영향을 미치지 않고, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이 서로 다른 층일 경우, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 경로(A) 및 경로(C)의 광학 거리 사이의 차이값을 조절할 수도 있다.
경로(A) 및 경로(D)의 차이점은, 패키지층 및 픽셀 제한층(005)이고, 패키지층의 두께는 픽셀 제한층(005)의 두께에 의해 결정되기에, 픽셀 제한층(005)의 두께 또는 굴절률의 조절 또는 픽셀 제한층(005)의 두께 및 굴절률을 동시에 조절하여 경로(A) 및 경로(D)의 광학 거리 사이의 차이값을 조절할 수 있다.
경로(B) 및 경로(D)의 차이점은, 픽셀 제한층(005) 및 양극층(0042)이기에 픽셀 제한층(005) 및 양극층(0042)의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 경로(B) 및 경로(D)의 광학 거리 사이의 차이값을 조절할 수 있다.
경로(C) 및 경로(D)의 차이점은, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이고, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)이 동일층일 경우, 경로(A) 및 경로(C)에 대한 광학 거리는 서로 같고 광학 거리 사이의 차이값이 존재하지 않으며, 양극층(0042)과 전기 도선(0041)이 서로 다른층일 경우, 양극층(0042) 및 전기 도선(0041)의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 경로(C) 및 경로(D)의 광학 거리 사이의 차이값을 조절할 수도 있다.
지지층(0051)이 투명 구조일 경우, 경로(B), 경로(C), 경로(D)에 지지층(0051)을 더 포함할 수 있고, 경로(B), 경로(C), 경로(D)에 픽셀 회로를 형성하는 TFT구조층을 더 포함할 수 있으며, TFT구조층은 복수층을 포함하기에 구체적인 구조 설치에 따라 경로(B), 경로(C), 경로(D)에 TFT 구조의 서로 다른 층이 나타날 수 있다. 지지층(0051)은 픽셀 제한층에 마련되기에 경로(A)에 지지층(0051)이 존재하지 않는다.
상기 실시 형태에서 전기 도선은 단일층 전도성 회로 또는 복수층 전도성 회로일 수 있고, 상기 전기 도선은 스캔 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 리셋 라인 중의 적어도 하나를 포함하며, 여기서, 스캔 라인은 SCAN라인 및 EM라인을 포함할 수 있고, 데이터 라인은 Vdata이며, 전원 라인은 VDD 또는 VSS이고, 리셋 라인은 Vref이다. 다른 실시 형태에서, 전기 도선은 이중층 회로일 수도 있고, 예를 들어, 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로를 포함하며, 제1 전도성 회로는 양극층과 동일층에 마련되고, 제2 전도성 회로는 평탄화층과 기판 사이에 마련되며, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제2 전도성 회로는 상기 제1 전극층(양극층)과 동일 재료이고, 패키지층, 제2 전극층(음극층), 픽셀 제한층, 상기 제1 전도성 회로, 기판은 하나의 광선의 경로를 형성하며, 패키지층, 제2 전극층(음극층), 픽셀 제한층, 제2 전도성 회로, 기판도 하나의 광선의 경로를 형성할 수 있고, 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로의 투영이 겹치는 부분에서, 패키지층, 제2 전극층(음극층), 픽셀 제한층, 제1 전도성 회로, 제2 전도성 회로, 기판도 하나의 광선의 경로를 형성할 수 있다. 구체적인 실시 형태에서, 상기 기판에서의 상기 전기 도선의 투영이 상기 기판에서의 상기 제1 전극층(양극층)의 투영과 일부 겹칠 경우, 광선이 통과하는 경로는 패키지층, 제2 전극층(음극층), 발광층, 제1 전극층(양극층), 제2 전도성 회로 및 기판을 포함할 수도 있다.
도 6에 결부하여, 상술한 실시예에 기반하여, 본 발명의 다른 실시예에서 개시한 AMOLED 디스플레이 패널은 경로(A)의 양극층(0042)의 두께 및 경로(C)의 픽셀 제한층(005)의 두께의 조절을 통해 경로(A) 및 경로(C)의 광학 거리가 서로 같게 하는 것이 바람직하다.
상기 하드 패키지 방식 외에도 박막 패키지 방식을 이용할 수 있고, 도 7에 나타낸 바와 같이, 광 추출층(008)의 외측에 박막 패키지를 진행하여 박막 패키지층을 형성하고, 상기 박막 패키지층은 무기 재료 패키지층(012) 및 유기 재료 패키지층(011)을 포함하며, 무기 재료 패키지층(012)은 전면에 마련되고, 두께가 균일하기에 각 경로의 광학 거리 사이의 차이값에 대해 영향을 미치지 않는다. 유기 재료 패키지층(011)은 픽셀 개구를 충진하였고, 픽셀 개구를 충진한 후 하나의 전체층의 패키지층을 형성한다. 따라서 서로 다른 경로에서 유기 재료 패키지층의 두께는 서로 다르기에 상기 유기 재료 패키지층(011)이 상기 픽셀 개구 내에 위치하는 두께, 또는 상기 유기 재료 패키지층의 굴절률의 조절을 통해 광선이 통과하는 해당 경로의 광학 거리의 조절을 실현할 수 있다. 경로(A)의 유기 재료 패키지층의 두께는 다른 경로의 유기 재료 패키지층의 두께보다 크다.
상술한 바를 종합하여, 광선이 디스플레이 패널을 투과 시, 형성되는 경로는 복수개이고, 예를 들어, 상기 경로는 패키지층, 제2 전극층, 발광 구조층, 제1 전극층 및 기판을 포함하거나 및/또는 상기 경로는 패키지층, 제2 전극층, 발광 구조층, 픽셀 제한층 및 기판을 포함하거나 및/또는 상기 경로는 패키지층, 제2 전극층, 발광 구조층, 픽셀 제한층, 전기 도선 및 기판을 포함한다. 다른 위치의 복수의 전기 도선의 분포, 픽셀 회로의 분포 상황을 고려하여, 더 많은 경로를 형성할 수도 있다. 본 발명의 사상에 의하면, 각각 다른 경로에 차이점이 존재하는 하나 또는 복수의 필름층의 두께 및/또는 굴절률을 조절하기만 하면 적어도 두개의 경로의 광학 거리 사이의 차이값과 광선의 파장의 정수배의 오차가 미리 설정한 범위 내에 있는 것을 만족시키면 광선이 이러한 두개의 경로를 투과한 후의 회절을 감소할 수 있고, 조건을 만족시키는 경로가 많을수록 회절 현상을 더 효과적으로 줄일 수 있다. 선택 가능하게, 패키지층, 발광 구조층, 제1 전극층, 픽셀 제한층, 절연층, 전기 도선 중의 하나 또는 복수 층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 상기 광학 거리 사이의 하나 또는 복수의 차이값과 광선의 파장의 정수배가 미리 설정한 범위 내에 있도록 한다. 구체적인 조절 방식은 상술한 실시예에서 이미 각각 설명하였기에 여기서 중복된 서술을 생략하도록 한다.
상술한 실시예에 따른 AMOLED 디스플레이 스크린에 있어서, 횡방향에서 발생하는 회절을 더욱 줄이기 위해, 양극층의 전극, 픽셀 개구 및 도선의 형상의 조절을 통해 회절을 더욱 줄일 수 있다. AMOLED 디스플레이 스크린에서 양극(300)의 형상은 모두 도 12에 나타낸 원형이거나 또는 도 13에 나타낸 타원형, 또는 도 14에 나타낸 아령형으로 마련될 수 있고, 그 외, 양극은 다른 각 위치에서 서로 다른 곡률 반경을 구비하는 곡선으로 구성될 수도 있다. 광선이 슬롯, 작은 구멍 또는 디스크 등 장애물을 통과 시, 부동한 정도의 굴곡 확산 전파가 발생하기에 원래의 직선 전파에서 이탈하는 바 이러한 현상을 회절이라고 한다. 회절 과정에서, 회절 무늬의 분포는 장애물 사이즈의 영향을 받고, 예를 들어, 슬롯의 폭, 작은 구멍의 사이즈 등의 영향을 받으며, 동일한 폭을 구비한 위치에서 발생되는 회절 무늬의 위치는 일치하기에, 비교적 선명한 회절 효과가 나타난다. 양극 형상을 원형, 타원형 또는 아령형으로 변경하는 것을 통해 광선이 양극층 통과 시, 양극의 서로 다른 폭의 위치에서 서로 다른 위치 및 확산 방향을 가지는 회절 무늬를 나타낼 수 있어, 회절 효과를 약화시키고, 더 나아가 카메라를 당해 디스플레이 패널의 하부에 설치할 경우, 촬영을 통해 얻은 이미지가 비교적 높은 해상도를 갖는다.
회절을 더욱 줄이기 위해, 기판에서의 픽셀 제한층(005)의 개구의 투영의 각 변은 모두 서로 평행되지 않는 곡선이고, 다시 말해서, 개구는 각 방향에서 모두 변화되는 폭을 가지고 동일 위치에서 서로 다른 회절 확산 방향을 가지며, 외부 광선이 당해 개구 통과 시, 서로 다른 폭 위치에서 서로 다른 위치 및 확산 방향을 가지는 회절 무늬를 나타내고 비교적 현저한 회절 효과가 발생하지 않기에 당해 디스플레이 패널 하부에 설치된 감광 소자의 정상적인 작동을 확보할 수 있다.
관련 기술에서, 픽셀 제한층의 개구는 모두 픽셀 사이즈에 따라 직사각형 또는 정사각형으로 마련된다. 직사각형의 개구를 예를 들어, 직사각형에 서로 평행되는 두조의 변이 존재하기에 길이 및 폭 방향에서 모두 동일한 폭을 가진다. 따라서, 외부 광선이 당해 개구 통과 시, 길이 방향 또는 폭 방향의 다른 위치에서 모두 동일한 위치를 구비하고 확산 방향이 일치한 회절무늬가 발생되기에 현저한 회절 효과가 나타나서 당해 디스플레이 패널 하부에 위치하는 감광 소자가 정상적으로 작동할 수 없다. 본 실시예의 디스플레이 패널은 해당 문제를 효과적으로 해결할 수 있고 디스플레이 하부의 감광소자의 정상적인 작동을 확보한다.
선택 가능한 일 실시예에서, 기판에서의 개구의 투영의 각 변에 사용되는 곡선은 원형, 타원형 및 다른 변화되는 곡률을 구비하는 곡선 중의 적어도 하나이다. 개구의 각 변은 곡선이기에 광선이 개구 통과 시, 발생되는 회절 무늬가 한 방향으로만 확산되지 않고 360도로 확산되기에 회절이 현저하지 않아 비교적 양호한 회절 개선 효과를 가진다.
선택 가능한 일 실시예에서, 기판에서의 개구의 투영 패턴 유닛은 원형, 타원형 또는 아령형 또는 웨이브형이고, 양극(300)의 형상과 유사하기에, 도 12-14에서 나타낸 양극(300)의 형상을 참조하고 여기서 중복된 서술을 생략한다. 기판에서의 개구의 형상은 대응되는 발광 구조의 형상에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 발광 구조의 가로 세로비에 의해 개수를 결정할 수 있다. 일 실시예에서, 기판에서의 개구의 형상은 축 대칭 구조일 수도 있고 이를 통해 전체 디스플레이 패널의 각 픽셀이 일치한 개구률을 가지고 최종 디스플레이 효과에 영향을 미치지 않도록 확보한다. 도 12를 참조하여, 기판에서 개구의 투영이 하나의 원형일 경우, 대응되는 발광 구조의 형상은 가로 세로비가 1.5보다 작은 직사각형 또는 정사각형이고, 개구 투영의 대칭축은 상응한 발광 구조의 대칭축에 대응된다. 투영 중의 원의 직경은 발광 구조의 최소 폭보다 작다. 구체적으로, 투영의 원의 직경은 발광 구조의 형상 및 종합 개구률에 의해 결정될 수 있다. 결정 과정에서 관련 기술 중 개구의 사이즈를 결정하는 방법을 이용하여 결정할 수 있기에 여기서 중복된 서술을 생략한다. 픽셀 개구 및 양극 전극은 편심하여 마련될 수도 있고, 다시 말해서, 픽셀 개구의 원심과 양극 전극의 원심은 겹치지 않는다.
개구에 대응되는 서브픽셀의 가로 세로비는 1.5 내지 2.5 사이에 있다. 이 때, 개구 투영은 두 원형이 서로 연통되어 형성된 아령형이다. 두 원은 각각 대응되는 발광 구조의 길이 방향을 따라 분포된다. 일 실시예에서, 두 원 사이에는 양 변이 모두 곡선인 연결부가 존재하고, 광선이 연결부를 통과 시 각 방향으로 확산될 수도 있으며 이를 통해 회절 효과를 개선한다.
개구에 대응되는 발광 구조의 가로 세로비는 2.5보다 크다. 이 때, 개구 투영은 세개 이상의 원형이 서로 연통되어 형성된 웨이브형이다. 세개 이상의 원형은 각각 대응되는 발광 구조의 길이 방향을 따라 분포된다. 일 실시예에서, 투영에는 연결부가 더 형성되어 있다. 연결부는 곡선이고, 다시 말해서 세개 이상의 원형의 서로 교차되는 위치는 곡선 연결을 이용하여 광선이 연결부를 통과 시, 각 방향으로 확산될 수 있도록 확보하여 회절 효과를 개선한다.
개구에 대응되는 발광 구조의 가로 세로비가 1.5일 경우, 개구 투영은 하나의 원형일 수 있고, 2개의 원형이 서로 연통된 아령형일 수도 있다. 개구에 대응되는 발광 구조의 가로 세로비가 2.5일 경우, 투영은 두개의 원형이 서로 연통된 아령형이거나, 세개의 원형이 서로 연통된 웨이브형일 수 있으며 도 15에 나타낸 바와 같다. 양극층(0042)이 원형이고, 픽셀 개구(005)도 원형일 경우, 도 16에 나타낸 바와 같다.
또 다른 실시예에서, 디스플레이 패널은 PMOLED이고, PMOLED는 AMOLED와 구조가 다르기에 광선이 PMOLED를 통과 시, 서로 다른 경로를 형성할 수 있다. 도 8에 나타낸 바와 같이, PMOLED는 기판(110), 양극층(120), 픽셀 제한층(130), 절연 기둥(140), 발광 구조층(150), 음극층(160)을 포함하고, 양극층(120)은 복수의 제1 전극을 포함하며, 복수의 양극은 규칙적으로 기판(110)에 배열된다. 양극에 발광 구조층(150)이 형성되어 있고 발광 구조층(150)에 음극층(160)이 형성되어 있다. 절연 기둥(140)은 픽셀 제한층(130)에 형성되고 서로 인접하는 제1 전극 사이에 마련된다. 절연 기둥(140)은 서로 인접하는 두개의 서브픽셀 영역의 음극을 격리하기 위해 사용되며 도 8에 나타낸 바와 같이, 절연 기둥(140)는 역사다리 구조이고, 투명 포토레지스트와 같은 투명 재료이다. 절연 기둥(140)의 표면은 서로 인접하는 영역의 표면 높이보다 높기에 디스플레이 패널의 표면에 음극을 제조 시, 절연 기둥(140) 상부에 형성되는 음극과 서로 인접하는 픽셀 영역의 음극은 서로 연결되지 않기에 서로 인접한 픽셀 영역의 음극의 격리를 실현하고 최종적으로 각 서브픽셀 영역의 정상적인 구동을 확보한다. PMOLED에서 절연 기둥(140)을 더 포함하기에 광선이 통과하는 일부 경로에서 절연 기둥(140)을 더 포함한다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 경로(C)는 음극층(160), 절연 기둥(140), 픽셀 제한층(130) 및 기판(110)을 포함하고, 경로(D)는 음극층(160), 발광 구조층(150), 양극층(120) 및 기판(110)을 포함한다. 경로(C) 및 경로(D)에서, 서로 다른 필름층은 절연 기둥(140), 픽셀 제한층(130), 발광 구조층(150), 양극층(120)을 포함하고, 그 중의 하나 또는 복수층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 광선이 당해 경로(C) 및 경로(D)를 통과하는 광학 거리 사이의 차이값을 조절할 수 있다. 각 경로에서 차이가 존재하는 필름층의 두께 및/또는 굴절률의 조절을 통해 광선이 통과하는 광학 거리의 조절을 실현할 수 있다. 그 외의 경로의 조절 방식은 상기 실시예에서의 방식과 동일하기에 중복된 서술을 생략한다. 상술한 실시예의 경로(A), 경로(B), 경로(C), 경로(D)를 제1 경로, 제2 경로, 제3 경로, 제4 경로 등으로 부를 수도 있다.
구체적인 실시 형태로서, 상술한 광선은 가시 광선을 선택할 수 있고 광선의 파장이 380~780nm이며, 상기 광선의 파장은 500~600nm인 것이 바람직하고, 당해 범위 내의 광선(즉 녹색 광)은 사람의 눈에 비교적 민감하다. 사람의 눈은 녹색에 대해 가장 민감하기에 입사 광선은 녹색 광선을 기준으로 선택할 수 있고, 즉 각 경로의 광학 거리 조절 시, λ는 파장이 500~560nm인 녹색 광선을 선택할 수 있고, 예를 들어, 540nm, 550nm, 560m를 선택할 수 있다. 녹색 광선의 파장은 적색 및 청색 사이에 있기에 녹색 광선을 선택하면 적색 및 청색 광선을 겸하여 고려할 수 있다.
발명자는 추가적인 연구를 통해 외부 광선을 더 감소하기 위해 디스플레이 패널 영역 내의 패턴을 통과 시 가로 방향의 회절이 발생할 수 있어 이로 인해 회절 무늬가 나타나고 더 나아가 카메라 등 감광 소자의 정상적인 작동에 영향을 미치는 것을 발견하였다.
상기 원인으로 인한 회절 현상을 피하기 위해, 상기 절연 기둥(140)은 복수의 제1 유형 절연 기둥을 포함하고, 상기 제1 유형 절연 기둥의 연장 방향에서 상기 제1 유형 절연 기둥의 폭은 연속적으로 변화되거나 또는 비연속적으로 변화되며 상기 연장 방향은 상기 기판에 평행되고, 상기 폭은 상기 기판에서 형성되는 상기 제1 유형 절연 기둥의 투영이 상기 연장 방향에 수직되는 사이즈이다. 도 10은 일 실시예에 따른 제1 유형 절연 기둥의 구조 개략도이다. 제1 유형 절연 기둥의 연장 방향에서 제1 유형 절연 기둥의 폭은 연속적으로 변화된다. 외부 광선이 제1 유형 스프에서 칼럼을 통과 시, 다른 최대 폭 위치에서 발생되는 회절 무늬의 위치는 서로 다르기에 회절이 현저하지 않고 회절 개선의 효과를 실현한다. 도 11은 또 다른 실시예에 따른 제1 유형 절연 기둥의 평면도이고, 즉 그 탑면 구조 개략도이다. 이 때, 비직선 형상은 복수의 절선 구간의 에지가 서로 연결되어 형성되고 이로 인해 제1 유형 절연 기둥이 연장 방향에 따라 변화되는 폭을 가져 회절 효과를 개선하는 것을 확보한다. 본 실시예에서, 픽셀에 대한 영향을 줄이기 위해, 각 절선 구간의 개구는 서브픽셀 영역을 향해 마련되고 픽셀 개구율을 확보하는 동시에 필요한 밝기를 만족스럽게 확보한다. 다른 실시예에서, 각 픽셀 영역에 대응되는 절선 구간은 더 많은 절선 구간으로 구성되어 톱날 형상 에지를 형성할 수 있다.
회절을 더욱 줄이기하기 위해, PMOLED 중의 양극 및 음극의 형상은 연장 방향에서의 두 변이 모두 웨이브 형상이고, 상기 두 변의 파봉은 대향하여 마련되며 파곡도 서로 대향하고, 도 17에 나타낸 바와 같다. 더 나아가, 서로 인접하는 두 전극의 파봉 및 파곡을 교차하여 마련할 수도 있다.
양극 및 음극은 모두 스트립 형상의 웨이브형의 전극으로 마련될 수 있고, 도 18에 나타낸 바와 같이, 제2 전극(160)의 연장 방향과 제1 전극(120)의 연장 방향은 서로 수직되어 겹치는 영역에서 디스플레이 패널의 발광 영역을 형성하며, 여기서 제1 전극(120)은 양극이고, 제2 전극(160)은 음극이다. 본 실시예에서, 각 양극은 하나의 행/열 또는 복수의 행/열 서브픽셀을 구동하기 위해 사용된다. 일반적으로, 하나의 픽셀(또는 픽셀 유닛)은 적어도 적색, 녹색, 청색, 3개의 서브픽셀을 포함한다. 다른 실시예에서, 하나의 픽셀 유닛은 적색, 녹색, 청색, 백색 4개의 서브픽셀을 포함할 수도 있다. 서브픽셀의 분포 방식은 RGB 서브픽셀 병행 배열, V형 배열 및 PenTile 배열 등이 있다. 본 발명에서 모두 RGB 서브픽셀 병행 배열로 나타나는 픽셀 유닛을 예를 들어 설명한다. 본 실시예의 디스플레이 패널은 RGB 서브픽셀 병행 배열 외의 다른 배열 방식에도 적용될 수 있음을 이해할 수 있다. 다른 실시예에서, 각 음극에 대응되어 구동되는 픽셀 열수/행수는 M이고, 각 양극에 대응되는 픽셀의 열수/행수는 N이며, M은 3N 이상이어야 한다. 구체적으로, RGB 서브픽셀을 사용하여 하나의 픽셀 유닛을 구성하고, 음극에 대응되어 구동되는 서브픽셀의 열수/행수 M은 3N이다. 다른 실시예에서, RGBW 서브픽셀을 사용하여 하나의 픽셀 유닛을 구성하면 음극에 대응되어 구동되는 서브픽셀의 열수/행수 M은 4N이다. 다른 실시예에서 음극을 통해 열 서브픽셀을 구동하고 양극을 통해 행 서브픽셀을 구동할 수 있으며, 양자는 양극 및 음극의 분포 방향이 다를 뿐임을 이해할 수 있다.
도 19는 다른 실시예에 따른 PMOLED 디스플레이 패널의 음극 및 양극의 구조 개략도이다. 이때, 하나의 픽셀 유닛은 적색, 녹색, 청색 3개의 서브픽셀을 포함하기에 각 양극(120)은 일열의 픽셀 유닛을 구동하기 위해 사용되고, 각 음극(160)은 일행의 서브픽셀을 구동하기 위해 사용된다. 양극의 패턴은 도 17을 참조할 수 있고, 즉, 파봉(T)의 대향하는 위치의 폭(W1)은 30┢m~(A-X) ┢m이고, 파곡(B)의 대향하는 위치의 폭(W2)은 Xμm~W1이며, 최소 간격(D1)은 (A-W1)이고 최대 간격(D2)은 (A-W2)이다. X는 최소 공정 사이즈이다.
도 19를 참조하여, 음극의 두 변의 파봉이 대향하는 위치의 폭(W3)은 Xμm~((A-X)/3)μm이다. 다른 실시예에서 하나의 픽셀 유닛내의 서브픽셀이 N일 경우, 음극의 두 변의 파봉(T)의 대향 위치의 폭(W3)은 Xμm~((A-X)/N)μm이다. 본 실시예에서 음극의 두변의 파곡의 대향하는 위치의 폭(W4)은 Xμm~W1 이고, 최소 간격(D3)은 (A-W3)이며, 최대 간격(D4)은 (A-W4)이다. 여기서, A는 픽셀 사이즈이고, X는 최소 공정 사이즈이다. 상술한 실시예에서 서로 인접하는 전극의 간격은 모두 4μm~20μm 사이에 있다.
AMOLED 디스플레이 패널 및 PMOLED 디스플레이 패널에 있어서, 전기 도선은 연장 방향에서 굴곡되어 마련되고, 상기 제1 전극의 주위에는 상기 제1 전극의 에지를 따라 호형으로 연장되는 상기 전기 도선이 마련되며, 도 20에 나타낸 바와 같다. 상기 전기 도선은 연장 방향에서의 두 변은 모두 웨이브형이고, 상기 두 변의 파봉은 대향하여 마련되며 파곡도 대향하여 마련되고 도 17에 나타낸 바와 같다. 도 20에 나타낸 바와 같이, 투명한 전극 배선일 경우, 배선은 픽셀 전극의 크기에 따라 호형의 배선으로 설계되고, 기존의 직선에 비해 회절을 더 해소할 수 있다.
그 외, 디스플레이 패널에 불투명 블록이 존재할 경우, 불투명 영역을 원형 또는 타원형으로 설계하면 회절을 억제할 수도 있디. 따라서, 불투명한 지지층(0051)도 원형 또는 타원형으로 마련하고, 도 21에 나타낸 바와 같이, 지지층(0051)의 형상을 타원형으로 마련하는 것을 통해 회절을 더욱 줄인다.
도 22에 나타낸 바와 같이, 본 실시예는 모두 정적 또는 동적 화면을 표시하기 위한 제1 표시 영역(161) 및 제2 표시 영역(162)을 포함하는 디스플레이 스크린을 더 제공하고, 여기서, 제1 표시 영역(161)은 상기 임의의 실시예에서 설명한 디스플레이 패널을 사용하고 디스플레이 스크린의 상부에 위치한다. 상기 디스플레이 패널에서, 광선은 그 중의 적어도 두 개의 경로를 통해 디스플레이 패널을 통과한 후, 위상 차이가 발생하지 않고 회절 간섭을 줄였다. 광선이 디스플레이 패널의 모든 경로를 통과한 후, 위상이 모두 변화하지 않으면 위상 차이로 인한 회절 간섭을 피할 수 있고 스크린 하부의 카메라는 선명하고 진실된 이미지 정보를 얻을 수 있다.
대체 가능한 일 실시예에서, 디스플레이 스크린은 3개 심지어 더 많은 표시 영역을 더 포함할 수 있고, 예를 들어, 3개의 표시 영역(제1 표시 영역, 제2 표시 영역, 제3 표시 영역)을 포함하고, 제1 표시 영역은 상기 임의의 실시예에서 설명한 디스플레이 패널을 사용하며, 제2 표시 영역 및 제3 표시 영역이 사용하는 디스플레이 패널에 대해 본 실시예에서 한정하지 않고, PMOLED 디스플레이 패널일 수 있고 AMOLED 디스플레이 패널일 수도 있으며, 물론 본 실시예에 따른 디스플레이 패널일 수도 있다.
본 실시예는 디바이스 본체에 커버되는 상기 디스플레이 스크린을 포함하는 디스플레이 디바이스를 더 제공한다. 상기 디스플레이 디바이스는 모바일폰, 태블릿 PC, 텔레비전, 모니터, 개인 휴대 정보 단말기, ipod, 디지털 카메라, 내비게이션 등 디스플레이 기능을 구비한 제품 또는 부품일 수 있다.
도 23은 일 실시예에서의 디바이스 본체(810) 및 디시플레이 스크린(820)을 포함하는 디스플레이 단말기의 구조 개략도이다. 디스플레이 스크린(820)은 디바이스 본체(810)에 마련되고, 당해 디바이스 본체(810)와 서로 연결된다. 여기서, 디스플레이 스크린(820)은 정적 또는 동적 화면을 표시하기 위한 상기 임의의 실시예에서의 디스플레이 스크린을 사용할 수 있다.
도 24는 일 실시예에서의 디바이스 본체(810)의 구조 개략도이다. 본 발명의 실시예에서 디바이스 본체(810)에는 슬롯팅 영역(812) 및 비슬롯팅 영역(814)이 마련되어 있을 수 있다. 슬롯팅 영역(812)에는 카메라(930) 및 광센서 등과 같은 감광 소자가 설치될 수 있다. 이때, 디스플레이 스크린(820)의 제1 표시 영역의 디스플레이 패널은 슬롯팅 영역(812)에 대응되어 접합됨으로써, 상술한 카메라(930) 및 광센서 등과 같은 감광 소자들이 당해 제1 표시 영역을 투과하여 외부 광선을 수집하는 등 조작을 진행하도록 한다. 제1 표시 영역의 디스플레이 패널은 외부 광선이 당해 제1 표시 영역을 투과하여 발생되는 회절 현상을 효과적으로 개선할 수 있어, 디스플레이 디바이스의 카메라(930)를 통해 촬영되는 이미지의 품질을 효과적으로 개선하고, 촬영된 이미지가 회절로 인해 왜곡되는 것을 피할 수 있으며 이와 동시에 광센서가 외부 광선을 감지하는 정확도 및 민감도를 향상시킬 수 있다.
도면에 결부하여 본 발명의 실시예에 대해 설명했으나, 본 발명의 기술분야에 속하는 기술자들은 본 발명의 사상 및 범위를 초과하지 않는 전제 하에서, 본 발명에 대해 다양한 수정 및 변형이 가능하고, 이러한 수정 및 변형은 모두 특허 청구 범위에서 한정하는 범위 내에 속한다.

Claims (20)

  1. 기판 및 순차적으로 상기 기판에 마련되고 적어도 하나가 패턴화된 구조를 가지는 복수의 필름층을 포함하는 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 디스플레이 패널에 적어도 제1 위치 및 상기 제1 위치와 서로 다른 제2 위치를 구비하고, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층이 서로 다르며, 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 수량은 i이고, 각 필름층 두께는 각각 d1, d2 … di 이며, 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층 수량은 j이고, 각 필름층 두께는 각각 D1, D2 … Dj이며, i, j는 자연수이고, 여기서, 상기 제1 위치와 제2 위치는 이하의 조건을 만족하며,
    L1=d1*n1+d2*n2+…+di*ni，
    L2=D1*N1+D2*N2+…+Dj *Nj，
    (m-δ)λ≤L1-L2≤(m+δ)λ,
    여기서, n1, n2 … ni는 각각 상기 제1 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이고, N1, N2 … Ni는 각각 상기 제2 위치에서 상기 디스플레이 패널의 두께방향을 따라 통과하는 필름층에 대응되는 필름층 계수이며, n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj는 1~2 사이의 상수이고, λ는 380~780nm 사이의 상수이며, m은 자연수이고, δ는 0~0.2사이의 상수인 디스플레이 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 λ는 가시광선의 파장이고, 상기 n1, n2 … ni, N1, N2 … Nj는 상기 가시광선의 파장에 대응되는 필름층의 굴절률인, 디스플레이 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 L1-L2의 값이 0인, 디스플레이 패널.
  4. 제1항 또는 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드 또는 패시브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층 및 픽셀 제한층을 포함하며,
    상기 제1 위치 또는 제2 위치를 통과하는 필름층은 각각 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층 및 기판을 포함하는 제1 경로; 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 제1 전극층과 기판을 포함하는 제2 경로 또는 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층 및 기판을 포함하는 제3 경로인, 디스플레이 패널.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 필름 패키지 방식을 적용하는 플렉시블 스크린 또는 하드 스크린이고, 상기 패키지층은 유기 재료 패키지층을 포함하는 필름 패키지층을 포함하며, 상기 제1 경로에서의 유기 재료 패키지층의 두께는 다른 경로에서의 유기 재료 패키지층의 두께보다 큰, 디스플레이 패널.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 유리 파우더 패키지 방식을 적용하는 하드 스크린이고, 상기 패키지층은 진공 간극층 및 패키지 기판을 포함하며, 상기 제1 경로에서의 진공 간극층의 두께는 다른 경로에서의 진공 간극층의 두께보다 큰, 디스플레이 패널.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 액티브 매트릭스 유기 발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 전기 도선을 더 포함하며,
    상기 제1 위치 또는 상기 제2 위치를 통과하는 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 전기 도선 및 기판을 포함하는 제4 경로를 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 전기 도선은 단일층 회로이고, 상기 전기 도선과 상기 제1 전극층은 동일층에 마련되며, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 서로 같고, 상기 제4 경로 및 상기 제2 경로에 포함되는 필름층 및 필름층의 두께가 서로 같거나 또는
    상기 전기 도선은 복수층 회로이고, 상기 전기 도선 중 적어도 하나의 층 및 상기 제1 전극층은 동일층에 마련되며, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 서로 같거나 다른, 디스플레이 패널.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 전기 도선은 제1 전도성 회로 및 제2 전도성 회로를 포함하고, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제1 전극층이 동일층에 마련되는 이중층 회로이고, 상기 필름층은 평탄화층을 더 포함하며, 상기 제2 전도성 회로는 평탄화층과 상기 기판 사이에 마련되고, 상기 제1 전도성 회로 및 상기 제2 전도성 회로는 상기 제1 전극층과 재료가 서로 같으며, 상기 제4 경로는 패키지층, 제2 전극층, 픽셀 제한층, 상기 제1 전도성 회로 및/또는 상기 제2 전도성 회로, 기판을 포함하는, 디스플레이 패널.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 전기 도선이 상기 기판에서의 투영 및 상기 제1 전극층이 상기 기판에서의 투영이 일부 겹칠 경우, 상기 경로는 패키지층, 제2 전극층, 발광층, 제1 전극층, 제2 전도성 회로 및 기판을 포함하는 제5 경로를 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되는 지지층 및 픽셀 회로를 제조하기 위한 박막 트랜지스터 구조층을 더 포함하며,
    상기 지지층은 투명 구조이고, 상기 제2 경로, 상기 제3 경로 및 상기 제4 경로 중 적어도 하나는 지지층 및/또는 박막 트랜지스터 구조층을 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  12. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되고 불투명 구조인 지지층, 상기 지지층의 하부에 마련되고 픽셀 회로를 제조하기 위한 박막 트랜지스터 구조층을 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  13. 제4항에 있어서,
    상기 픽셀 제한층에 제1 유형 픽셀 개구를 포함하는 픽셀 개구가 형성되고, 상기 제1 유형 픽셀 개구가 상기 기판에서의 투영의 각변은 모두 서로 평행되지 않는 곡선인, 디스플레이 패널.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 전기 도선은 연장 방향에서 굴곡되어 마련되고, 상기 제1 전극의 주위에는 상기 제1 전극의 에지를 따라 호형으로 연장되는 상기 전기 도선이 마련되어 있는, 디스플레이 패널.
  15. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 패시브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 필름층은 픽셀 제한층에 마련되고 투명 재료인 절연 기둥을 더 포함하며, 상기 경로는 제2 전극층, 절연 기둥, 픽셀 제한층 및 기판을 포함하는 제6 경로를 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 절연 기둥은 연장 방향에서 상기 기판에서 형성되는 그 투영이 상기 연장 방향에 수직되는 사이즈인 폭이 연속적으로 변화되거나 또는 비연속적으로 변화되고 연장 방향은 상기 기판에 평행되는 복수의 제1 유형 절연 기둥을 포함하는, 디스플레이 패널.
  17. 제4항에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 패시브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이고, 상기 제1 전극 또는 제2 전극이 연장 방향에서의 두 변은 모두 파봉이 서로 대향하여 마련되고 파곡도 서로 대향되는 웨이브 형상이며, 서로 인접하는 제1 전극 또는 제2 전극의 파봉 및 파곡은 피크치가 엇갈리게 마련되는, 디스플레이 패널.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 필름층은 단일층 회로 또는 복수층 회로이고 스캔 라인, 데이터 라인, 전원 라인, 리셋 라인 중의 적어도 하나를 포함하는 전기 도선을 더 포함하고,
    상기 전기 도선이 단일층 회로일 경우, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극은 동일층에 마련되고,
    상기 전기 도선이 복수층 회로일 경우, 상기 전기 도선 중의 적어도 하나의 층 및 상기 제1 전극은 동일층에 마련되고, 상기 전기 도선 및 상기 제1 전극층의 재료는 동일하거나 서로 다르며,
    상기 전기 도선이 상기 기판에서의 투영 및 상기 제1 전극층이 상기 기판에서의 투영과 일부 겹칠 경우, 상기 제1 위치 또는 제2 위치를 통과하는 필름층은 패키지층, 제2 전극층, 발광 구조층, 제1 전극층, 전기 도선 및 기판을 포함하는 제7 경로를 더 포함하는, 디스플레이 패널.
  19. 하부에 감광 소자를 설치할 수 있는 제1 표시 영역을 포함하는 적어도 하나의 표시 영역을 구비하고,
    상기 제1 표시 영역에 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 기재된 디스플레이 패널이 설치되어 있고, 상기 적어도 하나의 표시 영역 중 각 표시 영역은 모두 동적 화면 또는 정적 화면을 표시하는데 사용되는, 디스플레이 스크린.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 표시 영역은 제2 표시 영역을 더 포함하고, 상기 제1 표시 영역에 설치된 디스플레이 패널이 패시브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널 또는 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널이며, 상기 제2 표시 영역에 설치된 디스플레이 패널이 액티브 매트릭스 유기발광 다이오드 디스플레이 패널인, 디스플레이 스크린.
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