CN110767714B - 透明阵列基板、透明显示面板、显示面板及显示终端 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种透明阵列基板、透明显示面板、显示面板及显示终端，该透明阵列基板包括：基板，设置于基板上的像素电路；设置于像素电路上的第一电极层，第一电极层包括多个第一电极；与像素电路均连接的扫描线和数据线，数据线和/或扫描线设置于第一电极层的下方，且数据线在基板上的投影为第一投影，扫描线在基板上的投影为第二投影，多个第一电极在基板上的投影为第三投影，第一投影与第三投影部分重合，和/或，第二投影与第三投影部分重合；第一电极、扫描线和数据线均为透明导电材料。本发明通过将数据线、扫描线与第一电极设置于不同层且其投影位于第一电极的边缘处，降低了衍射，同时增加第一电极的有效发光面积，可以增大开口率。

Description

透明阵列基板、透明显示面板、显示面板及显示终端

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种透明阵列基板、透明显示面板、显示面板及显示终端。

背景技术

随着显示终端的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，由于屏幕上方需要安装摄像头、传感器、听筒等元件，因此现有技术中屏幕上方通常会预留一部分区域用于安装上述元件，例如苹果手机iphoneX的前刘海区域，并不能实现全屏显示，影响了屏幕的整体一致性。

发明内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种透明阵列基板、透明显示面板、显示面板及显示终端。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种透明阵列基板，包括：基板，以及设置于所述基板上的像素电路；设置于所述像素电路上的第一电极层，所述第一电极层包括多个第一电极；与所述像素电路均连接的扫描线和数据线，其中，所述数据线和/或所述扫描线设置于所述第一电极层的下方，且所述数据线在所述基板上的投影为第一投影，所述扫描线在所述基板上的投影为第二投影，所述多个第一电极在所述基板上的投影为第三投影，所述第一投影与所述第三投影部分重合，和/或，所述第二投影与第三投影部分重合；所述第一电极、扫描线和数据线均为透明导电材料。

在其中一个实施例中，所述第一投影的至少一个边与所述第三投影的边缘重叠，和/或，所述第二投影的至少一个边与所述第三投影的边缘重叠；或者，所述第三投影的边缘落入所述第一投影和/或第二投影内；或者，所述第三投影被所述第一投影分割为两部分，或者，所述第三投影被所述第二投影分割为两部分，或者，所述第三投影被所述第一投影和所述第二投影同时分割为多个部分。

在其中一个实施例中，所述数据线位于所述扫描线与所述第一电极层之间，或者所述扫描线位于所述数据线与所述第一电极层之间；所述透明阵列基板还包括：设置于所述数据线与所述第一电极层之间的第一绝缘层；设置于所述扫描线与所述第一电极层之间的第二绝缘层。

在其中一个实施例中，所述数据线位于所述扫描线与所述第一电极层之间时，所述第一绝缘层为平坦化层，以使所述第一电极表面平整；所述扫描线位于所述数据线与所述第一电极层之间时，所述第二绝缘层为平坦化层，以使所述第一电极表面平整。

在其中一个实施例中，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的材料为透明绝缘材料。

在其中一个实施例中，所述数据线、所述扫描线与所述第一电极层材料相同。

在其中一个实施例中，所述第一电极的各个边均为曲线。

在其中一个实施例中，所述第一电极为圆形、椭圆形或者哑铃形。

在其中一个实施例中，所述扫描线沿第一方向延伸，所述数据线沿第二方向延伸，所述第一方向和第二方向相交，且所述扫描线和/或所述数据线在其延伸方向上的至少一条边为波浪形。

在其中一个实施例中，所述透明导电材料为氧化铟锡、或氧化铟锌、或掺杂银的氧化铟锡、或掺杂银的氧化铟锌。

在其中一个实施例中，所述透明导电材料的透光率大于80％。

在其中一个实施例中，还包括：设置于所述第一电极层上的像素限定层；所述像素限定层上具有多个开口，所述开口与所述第一电极为一一对应关系；所述像素限定层在所述基板上的投影为第四投影，所述第一投影与所述第三投影的重合区域落入所述第三投影和所述第四投影的重合区域内，和/或，所述第二投影与所述第三投影的重合区域落入所述第三投影和所述第四投影的重合区域内。

在其中一个实施例中，所述多个开口的形状为圆形、或椭圆形、或葫芦形、或哑铃形。

在其中一个实施例中，所述像素电路1T、或2T1C、或3T1C、或3T2C、或7T1C、或7T2C。

在其中一个实施例中，所述像素电路中的晶体管的数量为1个，所述晶体管包括第一端、第二端和控制端；所述扫描线与所述晶体管的控制端连接，所述数据线连接所述晶体管的第一端，所述第一电极连接所述晶体管的第二端。

根据第二方面，本发明实施例提供了一种透明显示面板，包括：如本发明第一方面中任一所述的透明阵列基板。

在其中一个实施例中，透明显示面板包括：依次设置在所述基板上的多个膜层，至少一个所述膜层具有图形化结构，所述透明显示面板上至少具有第一位置和不同于所述第一位置的第二位置，在所述第一位置和所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层不同，在所述第一位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为i，各膜层厚度分别为d1、d2……di，在所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为 j，各膜层厚度分别为D1、D2……Dj，i，j为自然数，其中所述第一位置和所述第二位置满足以下条件：

L1＝d1*n1+d2*n2+…+di*ni，

L2＝D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj，

(m－δ)λ≤L1－L2≤(m+δ)λ，

其中n1、n2…ni分别为与在所述第一位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，N1、N2…Ni分别为与在所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，n1、n2…ni、N1、N2…Nj为1～2之间的常数；λ为380～780nm之间的常数；m为自然数；δ为0～0.2之间的常数。

在其中一个实施例中，δ为0～0.1之间的常数；所述L1－L2的值为0。

在其中一个实施例中，所述透明显示面板为AMOLED显示面板或PMOLED显示面板，所述膜层包括封装层、第二电极层、发光层以及所述第一电极层和所述像素限定层；所述第一位置或第二位置经过的膜层分别为包括第一路径、第二路径、第三路径，其中，所述第一路径包括封装层、第二电极层、发光层、第一电极层和基板；所述第二路径包括封装层、第二电极层、像素限定层、第一电极层和基板；所述第三路径包括封装层、第二电极层、像素限定层和基板。

在其中一个实施例中，所述透明显示面板为采用薄膜封装方式的柔性屏或硬屏，所述封装层包括薄膜封装层，所述薄膜封装层包括有机材料封装层，所述第一路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中机材料封装层的厚度。

在其中一个实施例中，所述透明显示面板为采用玻璃粉封装方式的硬屏，所述封装层包括真空间隙层和封装基板，所述第一路径中的真空间隙层的厚度大于其他路径中的真空间隙层的厚度。

在其中一个实施例中，在所述透明显示面板的第一位置所对应的膜层中和/或第二位置所对应的膜层中设置有补偿层；外部入射光以垂直于所述基板表面的方向射入所述透明显示面板，并穿过所述第一路径、第二路径和第三路径后，得到的任意两条路径之间的光程的差值为所述外部入射光的波长的整数倍。

在其中一个实施例中，所述任意两条路径的光程之间的差值为0。

在其中一个实施例中，在所述透明显示面板的第一位置所对应的膜层中和/或第二位置所对应的膜层中设置有凹槽，所述凹槽内设置有补偿层。

在其中一个实施例中，所述补偿层的厚度小于或等于所述凹槽的深度；补偿层为透明材料层。

在其中一个实施例中，所述显示面板为采用薄膜封装方式的柔性屏或硬屏，所述封装层包括薄膜封装层，所述薄膜封装层包括有机材料封装层，所述补偿层的材料为所述有机封装材料，所述第一路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中机材料封装层的厚度。

根据第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板至少包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区和第二显示区用于显示动态或静态画面，所述第一显示区下方可设置感光器件；其中，在所述第一显示区设置有如本发明第二方面中任一所述的透明显示面板，所述第二显示区设置的显示面板为PMOLED显示面板或AMOLED显示面板或者如本发明第二方面中任一所述的透明显示面板。

根据第四方面，本发明实施例提供了一种显示终端，包括：设备本体，具有器件区；如本发明第四方面中所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。

优选地，所述感光器件包括摄像头和/或光线感应器。

本发明技术方案，具有如下优点：

(1)该透明阵列基板将数据线和/或扫描线设置于第一电极层的下方，且其在基板上的投影与多个第一电极的边缘在基板上的投影至少部分重叠；这样使得第一电极层中第一电极之间的间距变大，降低了衍射；通过将数据线、扫描线与第一电极设置于不同层且其投影位于第一电极的边缘处，降低了衍射，提高了位于该透明阵列基板下方的感光元件的感光效果；同时可以在避免衍射的基础上，还可以增大第一电极的有效发光面积，增大开口率，或者可以增大像素密度。

(2)本发明实施例中提供的透明显示面板，其膜层中具有图形化结构，所述显示面板上至少具有第一位置和不同于所述第一位置的第二位置，所述第一位置和所述第二位置满足以下条件(m－0.2)λ＜L1－L2＜(m+0.2)λ。由于第一位置和第二位置经过的膜层满足上述关系，当光线通过两条路径从显示面板射出后，其相位差较小。采用本实施例中的方案，相同相位的光线经两条路径穿过显示面板后，相位差在预设范围内，减小了相位差异导致的衍射现象，使得光线穿过显示面上述由于衍射导致的图像失真较小，提高了显示面板后方的摄像头感知图像的清晰度，使得显示面板后的感光元件能够获得清晰、真实的图像，实现了全面屏显示。

(3)本发明实施例中提供的透明显示面板，上述第一位置和所述第二位置对应每条路径光入射的位置，光穿过显示面板的路径为多条路径，路径的数量根据垂直显示面板的光线穿过显示面板时经过的路径的种类来确定，不同的路径包括的膜层不同。因此当存在多条路径时，入射光穿过其中两条路径形成的光程之间的差值与入射光波长的整数倍的误差在预设范围内，这些通过这些路径的光穿过显示面板后的衍射可以有效降低，满足条件的路径越多，光线穿过显示面板后的衍射现象就越弱。作为最优选的方案，所有的路径中光经过任意两个路径后形成的光程之间的差值与入射光波长的整数倍的误差在预设范围内。这样，光线穿过显示面板后由于相位差异导致的相位差就都可以消除了，可大大降低衍射现象的出现。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中透明阵列基板的一个具体示例的示意图；

图2为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图3为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图4为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图5为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图6为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图7为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图8为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图9为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图10为本发明实施例中透明阵列基板的第一电极的一个具体示例的示意图；

图11为本发明实施例中透明阵列基板的第一电极的另一个具体示例的示意图；

图12为本发明实施例中透明阵列基板的第一电极的另一个具体示例的示意图；

图13为本发明实施例中透明阵列基板的扫描线的一个具体示例的示意图；

图14为本发明实施例中透明阵列基板的扫描线的另一个具体示例的示意图；

图15为本发明实施例中透明阵列基板的扫描线的另一个具体示例的示意图；

图16为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图17为本发明实施例中透明阵列基板的另一个具体示例的示意图；

图18为本发明实施例中晶体管的一个具体示例的示意图；

图19为本发明实施例中透明阵列基板的制备方法的一个具体示例的流程图；

图20为本发明实施例中透明阵列基板的制备方法的另一个具体示例的流程图；

图21为本发明实施例中透明阵列基板的制备方法的另一个具体示例的流程图；

图22为本发明实施例中透明显示面板的一个具体示例的示意图；

图23为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图24为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图25为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图26为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图27为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图28为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图29为本发明实施例中透明显示面板的另一个具体示例的示意图；

图30为本发明实施例中显示面板的一个具体示例的示意图；

图31为本发明实施例中显示终端的一个具体示例的示意图；

图32为本发明实施例中设备本体的结构示意图。

附图标记：

1、基板；2、像素电路；21、第一绝缘层；22、第二绝缘层；3、平坦化层；4、第一电极层； 41、第三投影；M3、源漏层；5、扫描线；51、第二投影；6、数据线；61、第一投影；7、像素限定层；8、过桥结构；9、发光层；10、第二电极层；11、封装层；111、有机材料封装层；112、无机材料封装层；13、真空间隙层；14、隔离柱；301、凹槽；161、第一显示区；162、第二显示区；810、设备本体；812、器件区域；814、非器件区域；820、显示屏； 930、摄像头。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”以及“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，需要说明的是，当元件被称为“形成在另一元件上”时，它可以直接连接到另一元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以直接连接到另一元件或者同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

为了实现全面屏显示，需要显示屏达到一定的透明度，以满足摄像头等对透明度的需求。但是，发明人发现，将摄像头等感光元件设置在显示面板下方时，拍照得到的图像经常出现很大程度的模糊的问题。发明人研究发现，出现这个问题的原因在于，由于电子设备的显示屏体内存在导电走线，外部光线经过这些导电走线时会造成较为复杂的衍射强度分布，从而出现衍射条纹，进而会影响摄像头等感光器件的正常工作。例如，透明显示屏由于屏内的金属走线以及层内的pattern共同形成了类二围光栅，对入射光会形成衍射，从而使成像模糊，会有重影和彩边，此外，透明显示屏中各层薄膜存在折射率差异和pattern差异，也存在类二维光栅的衍射效应，光投过时会存在衍射，严重影响成像质量的问题，从而使得摄像头拍摄到的画面出现失真的问题。具体地，入射光穿过显示面板射出后，会形成多级次的衍射光，这些不同级次的衍射光进入摄像头等感光元件后，在感光元件内形成明暗条纹，进而使得摄像头拍照得到的图像出失真，严重影响成像质量。

本发明实施例提供一种透明阵列基板，如图1、图2和图3所示，该透明阵列基板包括：基板1，以及设置于基板1上的像素电路2；设置于像素电路2上的第一电极层4，第一电极层4包括多个第一电极；与像素电路2均连接的扫描线5和数据线6，其中，数据线6和/ 或扫描线5设置于第一电极层4的下方，且数据线6在基板1上的投影为第一投影61，扫描线5在基板1上的投影为第二投影51，多个第一电极在基板1上的投影为第三投影41，第一投影61与第三投影41部分重合，和/或，第二投影51与第三投影41部分重合；第一电极、扫描线5和数据线6均为透明导电材料。

在一实施例中，第一投影61与第三投影41部分重合，即数据线6在基板1上的投影与第一电极在基板1上的投影部分重合，如图2所示；并且第二投影51与第三投影41部分重合，即扫描线5在基板1上的投影51与第一电极在基板1上的投影41部分重合，如图3所示。当然，在其它实施例中，也可以仅是第一投影61与第三投影41部分重合，或者仅是第二投影51与第三投影41部分重合，在实际应用中可根据实际需要合理设置，本实施例仅作示意性说明，并不以此为限。

在一实施例中，基板1可以为刚性基板，如玻璃基板、石英基板或者塑料基板等透明基板；基板1也可为柔性基板，如PI薄膜等，以提高器件的透明度。

在一实施例中，如图1所示，扫描线5和数据线6均设置在第一电极层4下方的膜层中，将数据线6、扫描线5与第一电极设置于不同层中；当然，在其它实施例中，也可仅将数据线6和扫描线5中的任意一个设置于第一电极层4的下方。

在一实施例中，如图2所示或如图3所示，数据线位于第一电极的下方，相较于数据线和第一电极做在同一层，本实施例中的设置方式，第一电极的面积可以相对做的更大，增大第一电极的开口率，提高了阵列基板的发光效率；且数据线在基板上的投影与第一电极在基板上的投影部分重叠，和/或，扫描线在基板上的投影与第一电极在基板上的投影部分重叠；即数据线6在基板1上的投影，即第一投影61与第一电极在基板1上的投影，即第三投影 41部分重叠，或扫描线5在基板1上的投影，即第二投影51与第一电极在基板1上的投影，即第三投影41的部分重叠，能够在降低衍射的基础上，还可以增大第一电极的有效发光面积，可以增大第一电极的开口率，或可以增大像素密度。

在一实施例中，如图1所示，在基板1上使用氧化硅或氮化硅形成缓冲层，在缓冲层上设置像素电路2，该透明阵列基板还包括设置于像素电路2上的平坦化层3，平坦化层3使得设置在其上的第一电极层4更加平整。具体地，第一电极层4中的第一电极可以是阳极。

在一实施例中，第一投影61的至少一个边与第三投影41的边缘重叠，和/或，第二投影51的至少一个边与第三投影41的边缘重叠。具体地，如图2和图3所示，第一投影61 的一个边与第三投影41的边缘重叠，和/或第二投影51的一个边与第三投影41的边缘重叠。当然，在其它实施例中，也可以是第一投影61的另一个边与第三投影41的边缘重叠，如图4所示；或是第二投影51的一个边与第三投影41的边缘重叠，这样使得第一电极层中第一电极之间的间距变大，降低了衍射；同时，能够减少数据线和/或扫描线与第一电极在垂直方向上的类二维光栅的形成，进一步降低了衍射，提高了位于该透明阵列基板下方的感光元件的感光效果。并且，这样设置还可以相应地增加第一电极的有效面积，增大开口率，或者增大像素密度。在实际应用中，可根据实际需要合理设置。

在一实施例中，第三投影41的边缘落入第一投影61和/或第二投影51内，使得第一电极在基板上的投影的边缘在数据线和/或扫描线在基板上投影的区域内，降低衍射，优化成像效果。具体地，如图5和图6所示，第三投影41的边缘落入第一投影61内，和/或第三投影41的边缘落入第二投影51内。在实际应用中，可根据实际需要合理设置。

在一实施例中，第三投影41被第一投影61分割为两部分，或者第三投影41被第二投影51分割为两部分，或者，第三投影41被第一投影61和第二投影51同时分割为多个部分。第一投影、第二投影落入第三投影的内部且与第三投影的边缘不重合，第一投影、第二投影的边缘与第三投影的边缘之间具有一定的距离，使得第一投影、第二投影完全落入第三投影区域内，能够实现降低衍射的效果。

具体地，可以是如图7所示，第一投影61落入第三投影41的内部且第一投影61的边缘与第三投影41的边缘不重合，第三投影41被第一投影61分割为两部分；可以是如图8 所示，第二投影51落入第三投影41的内部且第二投影51的边缘与第三投影41的边缘不重合，第三投影41被第二投影51分割为两部分；还可以是如图9所示，第一投影61和第二投影51均落入第三投影41的内部且与第三投影41的边缘不重合，第三投影41被第一投影 61和第二投影51同时分割为多个部分。需要说明的是，本实施例中的第一投影、第二投影在第三投影中的具体位置仅作示意性说明，并不以此为限。还需要说明的是，本实施例中的第一电极的具体形状和排布方式仅作示意性说明，对其并不作任何限制，在实际应用过程中可根据实际需要合理设置。

在一实施例中，数据线6位于扫描线5与第一电极层4之间，或者扫描线5位于数据线 6与第一电极层4之间；透明阵列基板还包括：设置于数据线6与第一电极层4之间的第一绝缘层；设置于扫描线5与第一电极层4之间的第二绝缘层。数据线、扫描线和第一电极均由透明导电材料制成，通过绝缘层实现数据线与第一电极之间的电绝缘或者扫描线与第一电极之间的电绝缘。

具体地，如图1所示，透明阵列基板包括两个绝缘层，分别为第一绝缘层21和第二绝缘层22，扫描线5位于数据线6与第一电极层4之间。第二绝缘层22设置于数据线6与第一电极层4之间，第二绝缘层22上设置有扫描线5，扫描线5与第一电极层4之间设置有第一绝缘层21。将数据线和第一电极设置在同一层，这样制作的开口率较小，本发明实施例提供的透明阵列基板，通过将第一电极和扫描线、数据线设置在不同层，可以为后续制作像素时提供更大的区域进行设计，提高了开口率，降低衍射，进而提高该部分区域的显示效果以及拍摄效果。以上仅以此为举例，不以此为限，在其他实施例中，数据线、扫描线的具体位置可根据实际需要进行调整，并不以此为限。

在一具体实施方式中，数据线位于扫描线与第一电极层之间时，第一绝缘层为平坦化层，以使第一电极表面平整；采用平坦化层作为数据线与第一电极之间的绝缘层，使得后续制备在平坦化层上的第一电极表面平整，在第一电极上制备的发光结构层也相应地更加平整均匀，发光结构层的发光更加均匀，显示效果更佳；同时，节省一层绝缘层的制备，降低生产成本。当然，在另一具体实施方式中，扫描线位于数据线与第一电极层之间时，第二绝缘层为平坦化层，以使第一电极表面平整。

需要说明的是，本实施例中的数据线、扫描线位于平坦化层的下方，具体地，可以是位于平坦化层与像素电路之间，也可以是设置于像素电路层中；此种情况下，平坦化层兼具绝缘层的作用，且由于平坦化层的厚度较绝缘层厚，采用平坦化层作为绝缘层使得金属层间形成的寄生电容较小，耦合效应小，可以减少信号之间的串扰；例如，平坦化层的厚度为1um，绝缘层的厚度为300nm～500nm。在其它实施例中，还可以是数据线、扫描线均位于平坦化层和第一电极之间，此时，需要在数据线、扫描线以及第一电极的两者之间设置绝缘层。

在一实施例中，第一绝缘层和第二绝缘层的材料为透明绝缘材料；采用透明绝缘材料制备第一绝缘层和第二绝缘层，增加透明阵列基板的透明度，使得设置于该透明阵列基板下方的感光器件接收到的光线增加，提高了感光器件的灵敏度。

在一实施例中，数据线、所述扫描线与第一电极层材料相同，制备过程简单、便捷、易操作，并且生产成本较低。在一实施例中，为了最大化地提高透明阵列基板的整体透明度，第一电极层中的第一电极、数据线以及扫描线均采用透明导电材料制成，透明导电材料的透光率大于80％，从而使得整个阵列基板的透光率可以满足要求，阵列基板的透明度更高，使得设置于其下方的感光器件如摄像头的感光效果更好。

具体地，透明导电材料可为铟锡氧化物(ITO)，也可为铟锌氧化物(IZO)、或者掺杂银的氧化铟锡(Ag+ITO)、或者掺杂银的氧化铟锌(Ag+IZO)。由于ITO工艺成熟、成本低，导电材料优选为铟锌氧化物。进一步的，为了在保证高透光率的基础上，减小各导电走线的电阻，透明导电材料采用铝掺杂氧化锌、掺杂银的ITO或者掺杂银的IZO等材料。在其它可替换实施例中，透明导电材料也可采用现有技术中其它材料，根据实际需要合理设置即可，本实施例对此不作限定。在一可替换实施例中，第一电极层、数据线以及扫描线中的至少一个采用透明导电材料制成。

在一实施例中，第一电极的各个边均为曲线。具体地，第一电极的形状可为如图10所示的圆形，或者如图11所示的椭圆形，或者如图12所示的哑铃形，可以理解，第一电极还可以由其它各处具有不同曲率半径的曲线构成。由于光在穿过狭缝、小孔或者圆盘之类的障碍物时，会发生不同程度的弯散传播，从而偏离原来的直线传播，这种现象称之为衍射。衍射过程中，衍射条纹的分布会受到障碍物尺寸的影像，例如狭缝的宽度、小孔的尺寸等，具有相同宽度的位置处产生的衍射条纹的位置一致，从而会出现较为明显的衍射效应。通过将第一电极形状改为圆形、椭圆形或者哑铃形，可以确保光线经过第一电极层时，在第一电极的不同宽度位置处能够产生具有不同位置以及扩散方向的衍射条纹，从而弱化衍射效应，进而确保摄像头设置在该显示面板下方时，拍照得到的图形具有较高的清晰度。

在一实施例中，多个扫描线沿第一方向延伸，多个数据线沿第二方向延伸，第一方向和第二方向相交，且扫描线和/或数据线在其延伸方向上的至少一条边为波浪形。在一实施例中，扫描线在X方向上延伸，数据线在Y方向上延伸，数据线和扫描线在基板上的投影相互垂直，扫描线在其延伸方向上的两条边为波浪形，并且数据线在其延伸方向上的两条边也为波浪形，波浪形的数据线和扫描线能够产生具有不同位置以及扩散方向的衍射条纹，从而弱化衍射效应，进而确保摄像头设置在该显示面板下方时，拍照得到的图形具有较高的清晰度。

在一实施例中，由于扫描线为波浪形，相邻的扫描线间具有第一间距，第一间距连续变化或间断变化；扫描线的宽度连续变化或间断变化。宽度连续变化是指扫描线上任意两个相邻位置处的宽度不相同。图13中，扫描线的延伸方向为其长度方向。扫描线在延伸方向上宽度连续变化。而宽度间断变化是指：在扫描线上存在部分区域内相邻两个位置的宽度相同，而在部分区域内相邻两个位置的宽度不相同。在本实施例中，多个扫描线在基板上规则排布，因此，相邻两个扫描线之间的间隙在平行于扫描线的延伸方向上也呈现为连续变化或者间断变化。扫描线在延伸方向上，无论其宽度是连续变化还是间断变化都可以为周期性变化。

扫描线在延伸方向上的两条边均为波浪形，两条边的波峰相对设置，且波谷相对设置。如图13所示，延伸方向上的两条边的波峰T相对设置且波谷B相对设置，同一个扫描线波峰之间的宽度为W1，同一个扫描线波谷之间的宽度为W2，相邻两个扫描线波峰之间的间距为D1，相邻两个扫描线波峰之间的间距为D2。本实施例中，两条边均由同一圆弧形边相连而成。在其他的实施例中，两条边也可以均由同一椭圆形边相连而成，如图14所示。通过将扫描线的两边设置成由圆弧形或者椭圆形形成的波浪形，可以确保扫描线上产生的衍射条纹能够向不同方向扩散，进而不会产生较为明显的衍射效应。

在一实施例中，在波浪形的扫描线的波谷相对处形成有第一连接部，第一连接部可为直线或者曲线。如图15所示，第一连接部为条状，第一连接部为扫描线与开关器件电连接区域，即开关器件的控制端连接至第一连接部的位置。在其他的实施例中，连接部也可以采用其他不规则结构，如中间小两端大的形状，或者采用中间大两端小的形状。

在一实施例中，由于数据线为波浪形，相邻的数据线间具有第二间距，第二间距连续变化或间断变化；数据线的宽度连续变化或间断变化。数据线与扫描线类似，详见扫描线的具体描述，在此不再赘述。数据线可采用图13－15中的任意一种波浪形。数据线在延伸方向上的两条边均为波浪形，两条边的波峰相对设置，且波谷相对设置；数据线的波谷相对处形成有第二连接部，第二连接部为数据线与开关器件电连接区域，数据线与扫描线的设置类似，详见扫描线的设置。

透明阵列基板上的扫描线、数据线采用图13－15中的任意一种波浪形，可以确保在数据线和扫描线走线的延伸方向上，光线经过在不同宽度位置处以及相邻走线的不同间隙处时能够形成具有不同位置的衍射条纹，进而减弱衍射效应，以使得放置于显示面板下方的感光器件能够正常工作。

在一实施例中，如图16所示，数据线6和扫描线5设置于同一层，使用同一个掩膜板(mask)一次完成，减少工艺制作步骤，提高制作效率，同时可以为后续制作像素时提供更大的区域进行设计，所述数据线6在与所述扫描线5的交叠部分断开，断开部分通过过桥结构8连通，防止数据线6和扫描线5直接接触形成短路，过桥结构8可以通过在数据线6上开孔形成导电柱连入其他层，例如是源漏层M3，将数据线6的断开部分进行连通，源漏层 M3与数据线6之间设有绝缘层，可以防止短路。以上仅以此举例并不以此为限，在其他实施例中，可以是扫描线5在与所述数据线6的交叠部分断开，通过开孔形成导电柱连入其他层将扫描线5的断开部分进行连通。

在一实施例中，上述阵列基板，如图17所示，还包括：设置于第一电极层4上的像素限定层7；像素限定层7上具有多个开口，开口与第一电极为一一对应关系，像素限定层7 在基板上的投影为第四投影，第一投影与第三投影的重合区域落入第三投影和第四投影的重合区域内，和/或，第二投影与第三投影的重合区域落入第三投影和第四投影的重合区域内。

数据线和/或扫描线在基板上的投影与第一电极在基板上的投影的重合区域，在像素限定层和第一电极在基板上的投影的重合区域内。第一电极在制作过程中由于制作工艺自身限制使得其边缘有毛刺或者损伤，像素限定层通常将第一电极的边缘覆盖一部分区域，该覆盖区域称为包边区域，第三投影和第四投影的重合区域即为包边区域，像素限定层开口处不露出该包边区域上的第一电极，以使得后续制作在第一电极上的发光材料更加均匀，提高了发光材料的发光效果，而数据线、扫描线设置于包边区域，像素限定层遮挡住数据线和扫描线，进一步改善衍射效果，并且后续制作的发光结构层不覆盖第一电极的边缘处，使得发光结构层平坦，发光均匀。图17中以一个开口为示例进行说明，并不以此为限。

多个开口在基板上的投影的各边均为曲线，多个开口的形状可以为圆形、或椭圆形、或葫芦形、或哑铃型或其它具有变化曲率的曲线中的至少一种。传统的像素限定层上的开口均根据像素大小设置成长方形或者正方形。以长方形的开口为例进行说明，由于长方形存在两组相互平行的边，从而使得其在长度和宽度方向上均具有相同的宽度。因此，当外部光线经过该开口时，在长度方向或者宽度方向的不同位置均产生具有相同位置且扩散方向一致的衍射条纹，从而会出现明显的衍射效应，使得位于该透明阵列基板下方的感光元件无法正常工作。本实施例中，开口的各边为曲线，当光线经过开口时，产生的衍射条纹不会朝着一个方向扩散，而是朝着360度方向扩散，从而使得衍射极不明显，具有较佳的衍射改善效果。本实施例中的透明阵列基板可以很好的解决该问题，确保透明阵列基板下方的感光元件能够正常工作。

在一实施例中，像素电路包括2T1C、3T1C、或3T2C、或7T1T、或7T2C、或1T；如图 18所示，像素电路仅包括晶体管，作为开关器件，不包括存储电容等元件，像素电路中的晶体管的数量为1个，晶体管包括第一端2a、第二端2b和控制端2c，扫描线5与晶体管的控制端2c连接，数据线6连接晶体管的第一端2a，第一电极连接晶体管的第二端2b。像素电路2包括一个晶体管，晶体管与第一电极一一对应设置，数据线6与晶体管的第一端2a 连接，扫描线5与晶体管的控制端2c连接，多个子像素与多个晶体管一一对应，即一个子像素对应一个晶体管。数据线6连接晶体管的第一端2a，扫描线5连接晶体管的控制端，将像素电路2中的晶体管减少至一个，在工作过程中，扫描线5中仅需输入TFT的开关电压，而不需要输入OLED的负载电流，从而大大降低了扫描线的负载电流，使得本实施例中的扫描线5可以采用ITO等透明材料制作。并且数据线6在每一时刻仅需供应一个OLED像素的电流，负载也很小，因此，数据线6也可采用ITO等透明材料，从而提高了显示屏的透光率。

本实施例还提供一种透明阵列基板的制备方法，如图19所示，包括如下步骤S1－S2。

步骤S1：在基板上形成像素电路以及与像素电路均连接的扫描线和数据线。

在一实施例中，基板1可以为刚性基板，如玻璃基板、石英基板或者塑料基板等透明基板；基板1也可以为柔性基板，如PI薄膜等。

在一实施例中，在基板1上使用氧化硅或氮化硅形成缓冲层，在缓冲层上形成像素电路 2。

在一实施例中，如图16所示，数据线6和扫描线5设置于同一层，使用同一个掩膜版(mask)一次完成，减少工艺制作步骤，提高制作效率，同时可以为后续制作像素的时候有更大的区域可以设计，从而提高像素开口率。数据线6在与所述扫描线5的交叠部分断开，断开部分通过过桥结构8连通，防止数据线6和扫描线5直接接触形成短路。

本发明实施例中，在像素电路2上方形成的平坦化层3使得后续在在其上形成的第一电极层4更加平整。

步骤S2：在像素电路上形成第一电极层，第一电极层包括多个第一电极；第一电极层位于数据线和/或扫描线的上方，且数据线在基板上的投影为第一投影，扫描线在基板上的投影为第二投影，第一电极在基板上的投影为第三投影，第一投影与第三投影部分重合，和/ 或，第二投影与第三投影部分重合，第一电极、扫描线和数据线均为透明导电材料。本实施例中，第一电极层包括多个第一电极即多个阳极。

本实施例提供的透明阵列基板的制备方法，将阳极和数据线、扫描线设置在不同层，可以有效降低衍射，同时可以为后续制作像素的时提供更大的区域进行设计，从而提高了摄像头区域的开口率，同时将阳极、数据线和扫描线均采用透明导电材料使得透明阵列基板的透明度更高，提高了透明阵列基板的显示效果以及拍摄效果；并且将数据线和/或扫描线在基板上的投影与第一电极的边缘在基板上的投影至少部分重叠，使得第一电极层中第一电极之间的间距变大，降低了衍射。

在一实施例中，如图20所示，执行步骤S1可具体包括步骤S11－S13。

步骤S11：在基板上形成导电材料。

步骤S12：通过掩膜板对导电材料图案化，形成数据线和扫描线，数据线在与扫描线的交叠部分断开。

在实际应用中可以在制作像素电路的过程中的任意一层形成导电材料，利用掩膜板对导电材料图案化，一次形成数据线和扫描线，减少了工艺步骤，节约了成本。

步骤S13：通过形成过桥结构将数据线的断开部分连通。

在一具体实施例中，过桥结构可以通过在数据线上开孔形成导电柱连入其他层，例如是源漏层，将数据线的断开部分进行连通，源漏层与数据线之间设有绝缘层，可以防止短路。以上仅以此举例并不以此为限，在其他实施例中，可以是扫描线在与所述数据线的交叠部分断开，通过开孔形成导电柱连入其他层将扫描线的断开部分进行连通。

在一实施例中，在执行步骤S2之后，如图21所示，还包括步骤S3。

步骤S3：在第一电极层上形成像素限定层，像素限定层上具有多个开口，开口与第一电极为一一对应关系；像素限定层在基板上的投影为第四投影，第一投影与第三投影的重合区域落入第三投影和第四投影的重合区域内，和/或，第二投影与第三投影的重合区域落入第三投影和第四投影的重合区域内。

在本实施例中，在像素限定层7上形成多个开口，开口与电极为一一对应关系，多个开口在基板1上的投影为圆形、椭圆形和其它具有变化曲率的曲线中的至少一种。当光线经过开口时，产生的衍射条纹不会朝着一个方向扩散，而是朝着360度方向扩散，从而使得衍射极不明显，具有较佳的衍射改善效果。本实施例中的透明阵列基板可以很好的解决该问题，确保透明阵列基板下方的感光元件能够正常工作。

本实施例还提供一种透明显示面板，该透明显示面板包括如上述实施例中任意所提及的透明阵列基板。

进一步的，发明人发现，在有图案化膜层的区域和无图案化膜层的区域形成不同的剖面结构，因此光线射入显示屏到达感光元件时，经过的光路是不同。光线通过透明屏的不同区域时，不同的膜层结构由于折射率和厚度的差异，对光线产生光程之间的差值。当光线穿过这些不同的区域后，原本是相同相位的光线就会产生相位差异，这个相位差异是产生衍射的重要原因之一，该相位差异会造成明显的衍射现象，导致光线穿过显示面板后产生衍射条纹，使得拍照画面失真，出现模糊情况。

在一实施例中，该透明显示面板包括：依次设置在基板上的多个膜层，至少一个膜层具有图形化结构，透明显示面板上至少具有第一位置和不同于第一位置的第二位置，在第一位置和第二位置处沿透明显示面板的厚度方向经过的膜层不同，在第一位置处沿透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为i，各膜层厚度分别为d1、d2……di，在第二位置处沿透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为j，各膜层厚度分别为D1、D2……Dj，i，j为自然数，其中第一位置和第二位置满足以下条件：

L1＝d1*n1+d2*n2+…+di*ni，

L2＝D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj，

(m－δ)λ≤L1－L2≤(m+δ)λ，

其中n1、n2…ni分别为与在第一位置处沿透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，N1、N2…Ni分别为与在第二位置处沿透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，n1、n2…ni、N1、N2…Nj为1～2之间的常数；λ为380～780nm之间的常数；m为自然数；δ为0～0.2之间的常数。

由于第一位置和第二位置的膜层厚度不同，故在显示面板内形成可透光的多条路径，此处的每条路径所包括的膜层不同。本实施例中的路径是指外部入射光以垂直于基板表面的方向射入显示面板的路径，后续提到的光穿过显示面板的路径都指的是光垂直基板表面穿过时的路径。本实施方案中第一位置上的光穿过时的路径记为路径a，第二位置上的光穿过时的路径记为路径b，路径a和路径b包括的膜层不同。

光程等于介质折射率乘以光在介质中传播的路程。光程的计算公式为：光程＝折射率×路程。根据该计算公式，路径a的光程为L1＝d1*n1+d2*n2+…+di*ni，路径b的光程为L2＝ D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj，光穿过其中路径a和路径b的光程的差值L1－L2为光的波长的整数倍，具体地，光程的差值L1－L2的数值可以是在整数倍波长附近一个较小的范围内波动，如(m－δ)λ≤L1－L2≤(m+δ)λ。

需要说明的是，此处的光可以是可见光中的任一种单色光或者白光。上述的光可选择为可见光，光的波长为380纳米～780纳米，优选所述光的波长为500纳米～600纳米，该范围内的光线(即绿光)人眼比较敏感。由于人眼对绿色最敏感，入射光可选择以绿光为基准，即在调整经各路径的光程时，λ可以选择绿光的波长500纳米～560纳米，如540纳米、550纳米、560纳米。由于绿色光的波长在红色和蓝色之间，选择绿色光可以同时兼顾红色和蓝色光。

通过调整两条路径中存在差异的一个或多个膜层的厚度和/或折射率，以使外界入射光穿过两条路径后，得到的光程之间的差值为外界入射光的波长的整数倍。

上述透明显示面板，不同位置上的具有图形化结构的膜层不同，通过调整不同路径之间的光程的差值为光的波长的整数倍，当光线通过不同路径从显示面板射出后，其相位差为零，相同相位的光线经两条路径穿过透明显示面板后，相位仍然相同，不会产生相位差异，消除了相位差异导致的衍射现象，使得光线穿过透明显示面板后不会产生上述由于衍射导致的图像失真，提高了透明显示面板后方的摄像头感知图像的清晰度，使得透明显示面板后的感光元件能够获得清晰、真实的图像，实现了全面屏显示。

本实施例中，δ为0～0.1之间的常数；L1－L2的值为0，选择L1－L2的差值为0，也就是不同路径的光程为0，相较于整数倍，更好操作，更好实现。

作为其他的实施方式，上述膜层可以是多个膜层，其中的一个或多个膜层具有图形化结构，这样光垂直穿过的透明显示面板时，就会形成多条路径，每条路径所包括的膜层不同，光穿过其中至少两条路径的光程的差值为光的波长的整数倍，从而可以降低这光穿过这两条路径后的衍射现象。在进一步的方案中，可以存在多条路径如三条、四条、五条路径，其中任意两条路径形成的光程之间的差值是入射光波长的整数倍。这样，通过这些路径的光穿过透明显示面板后的衍射均可以有效降低，满足条件的路径越多，光线穿过透明显示面板后的衍射现象就越弱。作为进一步优选的方案，外部入射光以垂直于所述基板表面的方向射入透明显示面板，并穿过多条路径中的任意两条路径后，得到的光程的差值为外部入射光的波长的整数倍。这样，光线穿过显示面板后由于相位差异导致的相位差就都可以消除了，可大大降低衍射现象的出现。

在一实施例中，透明显示面板为AMOLED显示面板或PMOLED显示面板，膜层包括封装层、第二电极层、发光层以及第一电极层和像素限定层；第一位置或第二位置经过的膜层分别为包括第一路径、第二路径、第三路径，其中，第一路径包括封装层、第二电极层、发光层、第一电极层和基板；第二路径包括封装层、第二电极层、像素限定层、第一电极层和基板；第三路径包括封装层、第二电极层、像素限定层和基板。

在一实施例中，如图22所示，第一路径包括封装层11、第二电极层10、发光层9、第一电极层4和基板1；第二路径包括封装层11、第二电极层10、像素限定层7、第一电极层 4和基板1；第三路径包括封装层11、第二电极层10、像素限定层7和基板1；第四路径包括封装层11、第二电极层10、像素限定层7、第一电极层4、数据线6或扫描线5、以及基板1。

通过测量各层的厚度和折射率，可以计算出每条路径的光程。

为了通过调整路径中的各膜层，使其满足上述光程之间的差值的要求，首先需要确定该层中影响光程的膜层有哪些，虽然每条路径穿过的膜层较多，但是，计算光程之间的差值时，如果路径中都存在相同的膜层，膜层的材料和厚度均相同，则不会影响这两条路径之间的光程之间的差值。只有不同材料的膜层、或者相同材料但厚度不同的膜层，才会影响光程之间的差值。

具体地，对于第一路径和第二路径而言，封装层11、第二电极层10、第一电极层4和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第一路径与第二路径有区别的层在于第一路径中有发光层9和第二路径中有像素限定层7，通过调整发光层9的厚度和/或折射率，或者调整像素限定层7的厚度和/或折射率，或者同时调整发光层9和像素限定层7使得第一路径和第二路径的光程之间的差为波长的整数倍。

对于第一路径和第三路径而言，封装层11、第二电极层10和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第一路径与第三路径有区别的层在于第一路径中有发光层9和第一电极层4，第三路径中有像素限定层7，通过调整发光层9的厚度和/或折射率，或者调整第一电极层4的厚度和/或折射率，或者调整像素限定层7的厚度和/或折射率，或者同时调整发光层9、第一电极层4以及像素限定层7的至少两层使得第一路径和第三路径的光程之间的差为波长的整数倍。

对于第一路径和第四路径而言，封装层11、第二电极层10和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第一路径与第四路径有区别的层在于第一路径中有发光层9，第四路径中有像素限定层7、数据线6或者扫描线5，第一路径和第四路径中的平坦化层3的厚度不同，通过调整发光层9的厚度和/或折射率，或者调整像素限定层7的厚度和/或折射率，或者调整数据线6或者扫描线5的厚度和/或折射率，或者同时调整发光层9、数据线6 或者扫描线5以及像素限定层7的至少两层使得第一路径和第四路径的光程之间的差为波长的整数倍。

对于第二路径和第三路径而言，封装层11、第二电极层10和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第二路径与第三路径有区别的层在于第二路径中有第一电极层4，第二路径和第三路径中的像素限定层7的厚度不同，通过调整第一电极层4的厚度和/或折射率，或者调整像素限定层7的厚度和/或折射率，或者同时调整第一电极层4以及像素限定层7使得第二路径和第三路径的光程之间的差为波长的整数倍。

对于第二路径和第四路径而言，封装层11、第二电极层10、像素限定层7和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第二路径与第四路径有区别的层在于第四路径中有数据线6或者扫描线5，且第二路径和第四路径中的平坦化层3的厚度不同，通过调整数据线6或者扫描线5的厚度和/或折射率，或者调整平坦化层3的厚度和/或折射率，或者同时调整数据线6或者扫描线5以及平坦化层3使得第二路径和第四路径的光程之间的差为波长的整数倍。

对于第三路径和第四路径而言，封装层11、第二电极层10和基板1是相同的材料，且厚度相同，可以不用考虑。第三路径与第四路径有区别的层在于第四路径中有第一电极层4、数据线6或者扫描线5，且第三路径和第四路径中的平坦化层3和像素限定层7的厚度不同，通过调整数据线6或者扫描线5的厚度和/或折射率，或者调整第一电极层4的厚度和/或折射率，或者调整平坦化层3的厚度和/或折射率，或者调整像素限定层7的厚度和/或折射率，或者同时调整数据线6或者扫描线5、第一电极层4、像素限定层7以及平坦化层3中的至少两层使得第三路径和第四路径的光程之间的差为波长的整数倍。

根据本发明思路，只要调整各个不同路径中存在差异的一个或多个膜层的厚度和/或折射率，使其满足至少两条路径的光程之间的差值满足光的波长的整数倍，就可以降低光穿过这两条路径后的衍射，满足条件的路径越多，可以更好的降低衍射。可选地，通过调整封装层、发光层、第一电极层、像素限定层、平坦化层、数据线或者扫描线中的一个或多个层的厚度和/或折射率，以使所述光程之间的一个或多个差值为光的波长的整数倍。具体的调整方式上述实施例中已经分别介绍，在此不再赘述。

在一实施例中，透明显示面板为采用薄膜封装方式的柔性屏或硬屏，封装层包括薄膜封装层，薄膜封装层包括有机材料封装层，第一路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中有机材料封装层的厚度。通过调节有机材料封装层的厚度使得不同路径的光程之间的差值满足波长的整数倍，避免了相位差异造成的衍射。

封装层可以是硬屏封装，也可以是有机薄膜封装。图23中的显示面板为采用玻璃粉封装(即Frit封装)方式的硬屏，所述封装层包括真空间隙层13和封装层11，在真空间隙层13中填充有惰性气体，封装层为封装基板，封装基板为封装玻璃。硬屏封装适用于玻璃基板，形成硬屏的显示面板。

除上述硬封装的方式外，还可以采用薄膜封装的方式，如图24和图25所示，在第二电极层10的外侧进行薄膜封装，形成薄膜封装层，所述薄膜封装层包括无机材料封装层112和有机材料封装层111，无机材料封装层112是整面设置的，厚度均匀，因此对于各条路径的光程之间的差值没有影响。有机材料封装层111是填满像素开口的，填满像素开口后形成一个整层的封装层。因此在不同的路径中，有机材料封装层的厚度不同，故通过调整所述有机材料封装层111位于所述像素开口内的厚度，或所述有机材料封装层的折射率，能够实现调整光穿过该路径的光程。也可以同时调整有机材料封装层的厚度和折射率，或者结合其他方式共同调整。像素开口位置处路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中机材料封装层的厚度。

在另外的一个实施例中，透明显示面板为PMOLED，由于PMOLED与AMOLED结构不同，因此当光线穿过PMOLED时，会形成不同的路径。如图26所示，PMOLED包括基板1、第一电极层4、像素限定层7、隔离柱14、发光层9、第二电极层10，第一电极层4包括多个第一电极，第一电极为阳极，多个阳极规则排列在基板1上。阳极上形成发光层9，发光层9上形成第二电极层10，第二电极为阴极。隔离柱14形成在像素限定层7上，且设置在相邻第一电极之间。隔离柱14用于将相邻两个子像素区域的阴极间隔开来，如图26所示，隔离柱14 为倒梯形结构，为透明材料，如透明光刻胶。隔离柱14的表面会高于相邻区域的表面高度，因此在显示面板的表面制备阴极时，形成在隔离柱14上方的阴极与相邻的像素区域上的阴极是断开的，从而实现相邻子像素区域的阴极的隔离，最终确保各子像素区域能够正常被驱动。

由于在PMOLED中还包括隔离柱14，因此，在光线穿过的部分路径中，还会包括隔离柱 14。如图26所示，隔离柱位置处的路径C中包括第二电极层10、隔离柱14、像素限定层7和基板1，非隔离柱位置处的路径D中包括第二电极层10、发光层9、第一电极层4和基板 1。路径C和路径D中，不同的膜层包括隔离柱14、像素限定层7、发光层9、第一电极层4，通过调整其中一个或多个层的厚度和/或折射率，可以调整光穿过该路径C和路径D的光程之间的差值。在每条路径中，可以通过调整存在差异的膜层的厚度和/或折射率，实现对光穿过的光程的调整。其余的路径的调整方式与上述实施例中的相同，不再赘述。

本实施例中，还提供一种透明显示面板，在上述透明显示面板的膜层上形成凹槽301，如图27所示，在凹槽301内填充有补偿材料，所述透明显示面板内形成光穿过的多条路径，其中每条路径所穿过的结构层不同。由于凹槽301中设置有补偿材料，通过调整补偿材料的厚度或折射率，或者同时调整补偿材料的厚度和折射率，使得第一光程a与第二光程e的差值为光的波长的整数倍。补偿材料可以是有机透明材料，如光刻胶。

该实施方式中，通过在第二光程e的膜层上开设凹槽301，在凹槽301内填充补充材料的方式来调整光线穿过该路径的光程，从而使得该路径的光程与其他路径的光程之间的差值满足波长的整数倍，使得通过这两条路径后的光的相位差为0，避免了相位差异造成的衍射，从而提高了光线透过透明的显示面板后的清晰程度，降低了失真程度，满足透明屏下设置摄像头等感光元件的要求。

作为一些可选的实施方式，在开设凹槽时，根据需要调整光程的路径选择合适的位置，以及合适的深度，也可以预先开设一个较大深度的凹槽，在其内部填充材料时，填充材料的厚度根据需要进行设置。此处的凹槽根据需要设置一个或者多个，位置和数量根据需要合理设置，通过该方式，可以方便的调整每条路径上的光程，从而使得光程之间的差值满足要求。

作为一种优选的实施方案，通过在特定位置开设凹槽的方式，使得光线穿过显示面板内的任意两条路径的光程的差值为光的波长的整数倍。这样，光线通过显示面板后，所有路径都不会产生相位差，不会产生由于相位差异导致的衍射现象，从而降低衍射。

在具体的实施方式中，对于AMOLED显示面板来说，该凹槽301也可以是像素限定层中的像素开口，通过复用该像素开口，在其内部填充补偿材料，来调整光穿过该路径的光程。像素限定层形成的像素开口内，依次设置有发光结构层、阴极层、光取出层(可选)，这些膜层是通过蒸镀的方式制备的，像素开口底部和边缘均会蒸镀一层，在形成这些膜层之后，像素开口内仍具有一个凹槽301，凹槽301的深度等于像素开口的深度。在像素开口的凹槽301内设置补偿材料，补偿材料的厚度可以小于或等于凹槽301的深度。该方案中，通过复用该像素开口内形成的凹槽，调整光线穿过该路径的光程。凹槽内的补偿材料填充的厚度可以是小于所述凹槽的厚度。通过调整所述补偿材料的厚度或折射率，或者同时调整补偿材料的厚度和折射率，调整穿过该路径的光的光程，使得该光程与其他路径的光程的差值为光的波长的整数倍。

作为其他的实施方式，上述膜层可以是多个膜层，其中的一个或多个膜层具有图形化结构，这样光垂直穿过的透明显示面板时，就会形成多条路径，每条路径所包括的膜层不同，光穿过其中至少两条路径的光程的差值为光的波长的整数倍，从而可以降低这光穿过这两条路径后的衍射现象。在进一步的方案中，可以存在多条路径如三条、四条、五条路径，其中任意两条路径形成的光程之间的差值是入射光波长的整数倍。这样，这些通过这些路径的光穿过显示面板后的衍射均可以有效降低，满足条件的路径越多，光线穿过显示面板后的衍射现象就越弱。作为进一步优选的方案，所述外部入射光以垂直于所述基板表面的方向射入透明显示面板，并穿过多条路径中的任意两条路径后，得到的光程的差值为外部入射光的波长的整数倍。这样，光线穿过透明显示面板后由于相位差异导致的相位差就都可以消除了，可大大降低衍射现象的出现。

需要说明的是，凹槽可以是设置于第一位置的任一膜层中，也可以是设置于第二位置上的任一膜层中，本实施例仅作示意性说明，并不以此为限，在实际应用中可根据实际需要合理设置。

在一实施例中，采用薄膜封装的方式时，设置在像素开口的凹槽301内的补偿材料可以是封装材料，通过薄膜封装工艺进行，无需采用单独的加工工艺。如图28所示，薄膜封装层包括设置在发光层9外侧的无机材料封装层112和有机材料封装层111。由于无机材料封装层112是整层蒸镀的，所以在光穿过的各路径中厚度均相同，因此不会对光程之间的差值造成影响。由于有机材料封装层111多是通过喷墨打印或蒸发成膜的方式形成，不同区域的厚度可根据需要随意调整，因此封装时有机封装材料成膜后会流平填满凹槽301内，形成整面的有机材料封装层111。这样在凹槽内的有机材料作为补偿材料，凹槽被填平，补偿材料填充的厚度等于所述凹槽的厚度，通过填充的有机材料的厚度或折射率或同时调整厚度和折射率从而调整光线穿过该路径的光程。薄膜封装的方式适用于柔性基板。当然，在其它实施例中，也可在凹槽301内填充补充材料的方式来调整光线穿过该路径的光程，从而使得该路径的光程与其他路径的光程之间的差值满足波长的整数倍，使得通过这两条路径后的光的相位差为0，避免了相位差异造成的衍射，从而提高了光线透过透明的显示面板后的清晰程度，降低了失真程度，满足透明屏下设置摄像头等感光元件的要求。

在一实施例中，透明显示面板为采用玻璃粉封装方式的硬屏，所述封装层包括真空间隙层和封装基板，所述第一路径中的真空间隙层的厚度大于其他路径中的真空间隙层的厚度。

图29所述的显示面板中，采用硬封装层的方式，在凹槽301中填充补偿材料后，在发光层9和补偿材料的外侧形成真空间隙层13，最外侧是封装的封装层11。第一路径中的真空间隙层的厚度大于其他路径中的真空间隙层的厚度，使得该路径的光程与其他路径的光程之间的差值满足波长的整数倍，使得通过这两条路径后的光的相位差为0，避免了相位差异造成的衍射。硬屏封装适用于玻璃基板，形成硬屏的显示面板。

本实施例还提供一种显示面板，至少包括：第一显示区和第二显示区，第一显示区和第二显示区用于显示动态或静态画面，第一显示区下方可设置感光器件；其中，在第一显示区设置有上述任一实施例中所提及的透明显示面板，第二显示区设置的显示面板为PMOLED显示面板或AMOLED显示面板或上述任一实施例中所提及的透明显示面板。

由于第一显示区采用了前述实施例中的透明显示面板，因此具有较高的透明度、显示屏的整体一致性较好；并且当光线经过该显示区域时，不会产生较为明显的衍射效应，从而能够确保位于该第一显示区下方的感光器件能够正常工作。可以理解，第一显示区在感光器件不工作时，可以正常进行动态或者静态画面显示，而在感光器件工作时则需要处于不显示状态，从而确保感光器件能够透过该阵列基板正常进行光线采集。第一显示区的透明度得到明显提高，很好地解决了透明屏的走线和阴极电阻与透明度矛盾的问题，并且可以与正常显示屏的制作工艺兼容，生产成本较低。首先，数据线和/或扫描线以及第一电极不设置在同一层，可以有效降低衍射；并且，由于上述显示面板中，光线通过其中的至少两条路径穿过显示面板后，不会产生相位差异，降低了衍射干扰。如果光穿过显示面板中所有的路径后，相位都不发生变化，则可以避免相位差异导致的衍射干扰，屏幕下方的摄像头可以获得清晰、真实的图像信息。

在一实施例中，如图30所示，显示屏包括第一显示区161和第二显示区162，第一显示区161和第二显示区162均用于显示静态或者动态画面，其中，第一显示区161采用上述任一实施例中所提及的透明显示面板，第一显示区161位于显示屏的上部。

在一可替换实施例中，显示屏还可包括三个甚至更多个显示区域，如包括三个显示区域 (第一显示区域、第二显示区域和第三显示区域)，第一显示区域采用上述任一实施例中所提及的透明显示面板，第二显示区域和第三显示区域采用何种显示面板，本实施例对此不作限定，可以为PMOLED显示面板，也可为AMOLED显示面板，当然，也可以采用本实施例中的透明显示面板。

本实施例还提供一种显示终端，包括覆盖在设备本体上的上述显示屏。上述显示终端可以为手机、平板、电视机、显示器、掌上电脑、ipod、数码相机、导航仪等具有显示功能的产品或者部件。

图31为一实施例中的显示终端的结构示意图，该显示终端包括设备本体810和显示屏 820。显示屏820设置在设备本体810上，且与该设备本体810相互连接。其中，显示屏820 可以采用前述任一实施例中的显示面板制备的显示屏，用以显示静态或者动态画面。

图32为一实施例中的设备本体810的结构示意图。在本实施例中，设备本体810上可设有器件区域812以及非器件所在的非器件区域814。在器件区域812中可设置有诸如摄像头930以及光传感器、光线感应器等感光器件。此时，显示屏820的第一显示区的透明显示面板对应于器件区域812贴合在一起，以使得上述的诸如摄像头930及光传感器等感光器件能够透过该第一显示区对外部光线进行采集等操作。由于第一显示区中的透明显示面板能够有效改善外部光线透射该第一显示区所产生的衍射现象，从而可有效提升显示终端上摄像头 930所拍摄图像的质量，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。

虽然结合附图描述了本发明的实施例，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。

Claims (25)

1.一种透明显示面板，其特征在于，包括：基板以及依次设置在所述基板上的多个膜层，多个所述膜层包括：

设置于所述基板上的像素电路；

设置于所述像素电路上的第一电极层，所述第一电极层包括多个第一电极；

与所述像素电路均连接的扫描线和数据线，其中，所述数据线和/或所述扫描线设置于所述第一电极层的下方，且所述数据线在所述基板上的投影为第一投影，所述扫描线在所述基板上的投影为第二投影，所述多个第一电极在所述基板上的投影为第三投影，所述第一投影与所述第三投影部分重合，和/或，所述第二投影与第三投影部分重合；所述第一电极、扫描线和数据线均为透明导电材料；

其中，所述基板、像素电路、第一电极层、扫描线和数据线为透明阵列基板中的结构；

至少一个所述膜层具有图形化结构，所述透明显示面板上至少具有第一位置和不同于所述第一位置的第二位置，在所述第一位置和所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层不同，在所述第一位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为i，各膜层厚度分别为d1、d2……di，在所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层数量为j，各膜层厚度分别为D1、D2……Dj，i，j为自然数，其中所述第一位置和所述第二位置满足以下条件：

L1＝d1*n1+d2*n2+…+di*ni，

L2＝D1*N1+D2*N2+…+Dj*Nj，

(m-δ)λ≤L1-L2≤(m+δ)λ，

其中n1、n2…ni分别为与在所述第一位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，N1、N2…Ni分别为与在所述第二位置处沿所述透明显示面板的厚度方向经过的膜层相对应的膜层系数，L1为入射光穿过所述第一位置形成的光程，L2为入射光穿过所述第二位置形成的光程，n1、n2…ni、N1、N2…Nj为1～2之间的常数；λ为380～780nm之间的常数；m为自然数；δ为0～0.2之间的常数。

2.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，δ为0～0.1之间的常数；所述L1-L2的值为0。

3.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述透明显示面板为AMOLED显示面板或PMOLED显示面板，所述膜层包括封装层、第二电极层、发光层以及第一电极层和像素限定层；

所述第一位置或第二位置经过的膜层分别为包括第一路径、第二路径、第三路径，其中，

所述第一路径包括封装层、第二电极层、发光层、第一电极层和基板；

所述第二路径包括封装层、第二电极层、像素限定层、第一电极层和基板；

所述第三路径包括封装层、第二电极层、像素限定层和基板。

4.根据权利要求3所述的透明显示面板，其特征在于，所述透明显示面板为采用薄膜封装方式的柔性屏或硬屏，所述封装层包括薄膜封装层，所述薄膜封装层包括有机材料封装层，所述第一路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中有机材料封装层的厚度。

5.根据权利要求3所述的透明显示面板，其特征在于，所述透明显示面板为采用玻璃粉封装方式的硬屏，所述封装层包括真空间隙层和封装基板，所述第一路径中的真空间隙层的厚度大于其他路径中的真空间隙层的厚度。

6.根据权利要求3所述的透明显示面板，其特征在于，在所述透明显示面板的第一位置所对应的膜层中和/或第二位置所对应的膜层中设置有补偿层；

外部入射光以垂直于所述基板表面的方向射入所述透明显示面板，并穿过所述第一路径、第二路径和第三路径后，得到的任意两条路径之间的光程的差值为所述外部入射光的波长的整数倍。

7.根据权利要求6所述的透明显示面板，其特征在于，所述任意两条路径的光程之间的差值为0。

8.根据权利要求6所述的透明显示面板，其特征在于，在所述透明显示面板的第一位置所对应的膜层中和/或第二位置所对应的膜层中设置有凹槽，所述凹槽内设置有所述补偿层。

9.根据权利要求8所述的透明显示面板，其特征在于，所述补偿层的厚度小于或等于所述凹槽的深度；所述补偿层为透明材料层。

10.根据权利要求6所述的透明显示面板，其特征在于，所述显示面板为采用薄膜封装方式的柔性屏或硬屏，所述封装层包括薄膜封装层，所述薄膜封装层包括有机材料封装层，所述补偿层的材料为所述有机封装材料，所述第一路径中有机材料封装层的厚度大于其他路径中机材料封装层的厚度。

11.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述第一投影的至少一个边与所述第三投影的边缘重叠，和/或，所述第二投影的至少一个边与所述第三投影的边缘重叠；

或者，所述第三投影的边缘落入所述第一投影和/或第二投影内；

或者，所述第三投影被所述第一投影分割为两部分，或者，所述第三投影被所述第二投影分割为两部分，或者，所述第三投影被所述第一投影和所述第二投影同时分割为多个部分。

12.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述数据线位于所述扫描线与所述第一电极层之间，或者所述扫描线位于所述数据线与所述第一电极层之间；

所述透明阵列基板还包括：

设置于所述数据线与所述第一电极层之间的第一绝缘层；

设置于所述扫描线与所述第一电极层之间的第二绝缘层。

13.根据权利要求12所述的透明显示面板，其特征在于，所述数据线位于所述扫描线与所述第一电极层之间时，所述第一绝缘层为平坦化层，以使所述第一电极表面平整；所述扫描线位于所述数据线与所述第一电极层之间时，所述第二绝缘层为平坦化层，以使所述第一电极表面平整。

14.根据权利要求12所述的透明显示面板，其特征在于，所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的材料为透明绝缘材料。

15.根据权利要求14所述的透明显示面板，其特征在于，所述数据线、所述扫描线与所述第一电极层材料相同。

16.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述第一电极的各个边均为曲线。

17.根据权利要求16所述的透明显示面板，其特征在于，所述第一电极为圆形、椭圆形或者哑铃形。

18.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述扫描线沿第一方向延伸，所述数据线沿第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交，且所述扫描线和/或所述数据线在其延伸方向上的至少一条边为波浪形。

19.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述透明导电材料为氧化铟锡、或氧化铟锌、或掺杂银的氧化铟锡、或掺杂银的氧化铟锌。

20.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述透明导电材料的透光率大于80％。

21.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，还包括：设置于所述第一电极层上的像素限定层；所述像素限定层上具有多个开口，所述开口与所述第一电极为一一对应关系；所述像素限定层在所述基板上的投影为第四投影，所述第一投影与所述第三投影的重合区域落入所述第三投影和所述第四投影的重合区域内，和/或，所述第二投影与所述第三投影的重合区域落入所述第三投影和所述第四投影的重合区域内。

22.根据权利要求21所述的透明显示面板，其特征在于，所述多个开口的形状为圆形、或椭圆形、或葫芦形、或哑铃形。

23.根据权利要求1所述的透明显示面板，其特征在于，所述像素电路为1T、或2T1C、或3T1C、或3T2C、或7T1C、或7T2C。

24.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板至少包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区和第二显示区用于显示动态或静态画面，所述第一显示区下方可设置感光器件；

其中，在所述第一显示区设置有如权利要求1-23任一项所述的透明显示面板，所述第二显示区设置的显示面板为PMOLED显示面板、或AMOLED显示面板或如权利要求1-23任一项所述的透明显示面板。

25.一种显示终端，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

如权利要求24所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。

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