KR20190045247A - 고분자 화합물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성을 개선할 수 있는 고분자 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 고분자 화합물은, 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위와, 하기 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 갖는 고분자 화합물이다.

Description

고분자 화합물
본 발명은, 고분자 화합물, 특히, 친수성의 부재에 대하여 접착성을 부여할 수 있는 고분자 화합물에 관한 것이다.
친수성의 부재와 소수성의 부재를 갖는 적층 구조로서, 예를 들면 액정 디스플레이(liquid crystal display: LCD) 및 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode: OLED) 등의 화상 표시 장치에 있어서는, 폴리바이닐알코올(PVA)계 수지에 아이오딘 착체 등의 2색성 색소를 흡착 배향시킨 편광자의 편면 또는 양면에, 광학 필름을 첩합시킨 적층 구조(이른바 편광판)를 이용하는 것이 알려져 있다.
편광판에 이용하는 광학 필름으로서는, 트라이아세틸셀룰로스(TAC) 등의 지지체 상에 액정성 화합물을 배향시키고, 그 배향 상태를 고정화한 광학 이방성층(위상차층)을 갖는 광학 필름이 알려져 있다.
또, 이와 같은 광학 필름을 이용한 편광판은, 편광자와, 광학 필름의 지지체를 폴리바이닐알코올계 등의 접착제를 이용하여 첩합한 구성이 일반적이었다.
최근, 편광판의 광시야각화 및 박형화 등의 관점에서, 편광자와 광학 필름의 광학 이방성층을 첩합하는 구성이나, 편광자와 광학 필름의 광학 이방성층을 첩합한 후에 지지체를 박리한 구성이 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 등 참조).
특허문헌 1: 국제 공개공보 제2014/199934호
본 발명자들은, 특허문헌 1 등에 기재된 편광자와 광학 필름의 광학 이방성층을 첩합에 대하여 검토한바, 소수성 부재로서의 광학 이방성층과, 친수성 부재로서의 편광자와의 접착성에 개선의 여지가 있는 것을 밝혔다.
따라서, 본 발명은, 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성을 개선할 수 있는 고분자 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 소수성의 부재의 형성 재료로서, 소정의 2종 이상의 반복 단위를 갖는 고분자 화합물을 이용함으로써, 형성되는 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성이 양호해지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 달성할 수 있는 것을 발견했다.
[1] 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위와, 하기 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 갖는 고분자 화합물.
[화학식 1]
Figure pct00001
여기에서, 식 (I) 중, R1은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. X1은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR2-, -NR2COO-, -CR2N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R2는, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -X1-P1을 나타낸다. P1은, 중합성기를 나타낸다.
또, 식 (II) 중, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 치환 혹은 무치환의 지방족 탄화 수소기, 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기를 나타내며, R11 및 R12는, 알킬렌 연결기, 아릴렌 연결기, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 연결기를 개재하여 서로 연결하고 있어도 된다. X10은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR13-, -NR13COO-, -CR13N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.
[2] 식 (I) 중의 P1로 나타나는 중합성기가, 하기 식 (P-1)~(P-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인, [1]에 기재된 고분자 화합물.
[화학식 2]
Figure pct00002
여기에서, 식 (P-1)~(P-7) 중, *는, X1과의 결합 위치를 나타낸다. R3은, 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타내고, 2개의 R3은, 동일해도 되고 달라도 되며, 서로 연결하여 환 구조를 형성하고 있어도 된다.
[3] 식 (I) 중의 P1로 나타나는 중합성기가, 하기 식 (P-1)~(P-3)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인, [1]에 기재된 고분자 화합물.
[화학식 3]
Figure pct00003
여기에서, 식 (P-1)~(P-3) 중, *는, X1과의 결합 위치를 나타낸다.
[4] 식 (I) 중의 R1이, 수소 원자 또는 메틸기이며, 식 (I) 중의 X1이, -O-, -COO-, -OCO-, 및 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기인, [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 고분자 화합물.
[5] 하기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 더 갖는, [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 고분자 화합물.
[화학식 4]
Figure pct00004
여기에서, 식 (III) 중, R20은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. R21은, 탄소수 4~20의 알킬기, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자에 의하여 치환된 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -Si(Ra3)(Ra4)O-를 포함하는 1가의 유기기를 나타내고, Ra3 및 Ra4는, 각각 독립적으로 알킬기, 할로알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. L20은, -O-, -COO-, -OCO-, 2가의 지방족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타낸다.
[6] 식 (III) 중의 R21이, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자에 의하여 치환된 탄소수 1~20의 알킬기인, [5]에 기재된 고분자 화합물.
[7] 식 (III)으로 나타나는 반복 단위가, 하기 식 (IV)로 나타나는 반복 단위인, [6]에 기재된 고분자 화합물.
[화학식 5]
Figure pct00005
여기에서, 식 (IV) 중, R20은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. ma 및 na는, 각각 독립적으로 0~19의 정수를 나타낸다. 단, ma 및 na는, 합계하여 0~19의 정수를 나타낸다. X21은, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타낸다.
[8] 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~50질량%이고, 식 (II)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 5~50질량%이며, 식 (III)으로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~60질량%인, [5] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 고분자 화합물.
본 발명에 의하면, 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성을 개선할 수 있는 고분자 화합물을 제공할 수 있다.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
또, "(메트)아크릴레이트"는, "아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 어느 한쪽 또는 양쪽 모두"의 의미로 사용된다. (메트)아크릴산, (메트)아크릴아마이드, 및 (메트)아크릴로일기 등에 대해서도 동일하다.
[고분자 화합물]
본 발명의 고분자 화합물은, 후술하는 식 (I)로 나타나는 반복 단위와, 후술하는 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 갖는 공중합체이다.
본 발명에 있어서는, 상술한 바와 같이, 후술하는 식 (I)로 나타나는 반복 단위와 후술하는 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 갖는 고분자 화합물을 이용함으로써, 형성되는 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성이 양호해진다.
이것은, 상세하게는 분명하지 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 추측하고 있다.
즉, 공중합체에 포함되는 식 (I)로 나타나는 반복 단위가, 소수성 부재의 매트릭스 성분(예를 들면, 중합성기를 갖는 액정성 화합물 등)과의 가교 반응에 기여하고, 또한 공중합체에 포함되는 식 (II)로 나타나는 반복 단위가, 친수성 부재(예를 들면, 편광자 등)의 표면과의 친화성에 기여함으로써, 접착성도 양호해진다고 생각된다.
이하, 본 발명의 고분자 화합물에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명의 고분자 화합물은, 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위(이하, "I 파트"라고도 약기함)와, 하기 식 (II)로 나타나는 반복 단위(이하, "II 파트"라고도 약기함)를 갖는 공중합체이다.
또, 본 발명의 고분자 화합물은, 하기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위(이하, "III 파트"라고도 약기함)를 갖고 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 고분자 화합물은, 하기 식 (V)로 나타나는 반복 단위(이하, "V 파트"라고도 약기함)를 갖고 있는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 고분자 화합물은, 주쇄 골격을 형성하는 중합 반응은 종료된 공중합체를 의도하고 있으며, 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 측쇄에 갖는 중합성기에 의하여, 분자 간 또는 다른 화합물(예를 들면, 액정성 화합물 등)과 가교를 형성할 수 있는 공중합체이다. 이로 인하여, 본 발명의 고분자 화합물은, 용제에 용해시켜 도포 용도에 사용하는 것도 가능하다.
[화학식 6]
Figure pct00006
<I 파트>
본 발명의 고분자 화합물이 갖는 I 파트는, 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위이다.
[화학식 7]
Figure pct00007
상기 식 (I) 중, R1은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내며, 그 중에서도, 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 메틸기가 더 바람직하다.
또, 상기 식 (I) 중, X1은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR2-, -NR2COO-, -CR2N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R2는, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -X1-P1을 나타낸다. 또한, R2가 -X1-P1인 경우의 P1은, 상기 (I) 중의 P1과 동일하게, 중합성기를 나타낸다.
여기에서, X1이 나타내는, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기로서는, 예를 들면 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~20의 알킬렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 3~20의 사이클로알킬렌기(예를 들면, 사이클로헥실렌기) 등을 들 수 있으며, 그 중에서도, 탄소수 1~15의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기가 더 바람직하다.
또, X1이 나타내는, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2가의 방향족 탄화 수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 2가의 방향족 복소환기를 들 수 있다. 2가의 방향족 탄화 수소기로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 트라이페닐렌환, 플루오렌환 등의 방향족 탄화 수소환의 환 구조를 구성하는 2개의 탄소 원자로부터 수소 원자를 각각 1개씩 제거하여 얻어지는 기를 들 수 있으며, 그 중에서도, 벤젠환 또는 나프탈렌환의 환 구조를 구성하는 2개의 탄소 원자로부터 수소 원자를 각각 1개씩 제거하여 얻어지는 페닐렌기 또는 나프틸렌기가 바람직하다. 한편, 2가의 방향족 복소환기로서는, 퓨란환, 피롤환, 싸이오펜환, 피리딘환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환, 옥사다이아졸환, 싸이아졸로싸이아졸환, 페난트롤린환 등의 방향족 복소환의 환 구조를 구성하는 2개의 탄소 원자로부터 수소 원자를 각각 1개씩 제거하여 얻어지는 기를 들 수 있다.
2가의 지방족기 또는 2가의 방향족기가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면 할로젠 원자, 수산기, 아미노기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 탄소수 1~20의 알킬기, 카복실기, 사이아노기, -X1-P1, 또는 이들과 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR2-, -NR2COO-, -HC=CH- 및 -CR2N- 중 어느 1개 이상을 조합한 기 등을 들 수 있다. R2는, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -X1-P1을 나타낸다. 또한, R2가 -X1-P1인 경우의 P1은, 상기 (I) 중의 P1과 동일하게, 중합성기를 나타낸다.
상술한 R2가 나타내는, 탄소수 1~20의 알킬기는, 탄소수 1~6의 알킬기가 바람직하고, 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (I) 중, P1은, 중합성기를 나타낸다.
본 발명에 있어서는, 상기 식 (I) 중의 P1로 나타나는 중합성기가, 하기 식 (P-1)~(P-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인 것이 바람직하고, 그 중에서도, 하기 식 (P-1)~(P-3)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인 것이 보다 바람직하며, 하기 식 (P-1) 또는 (P-2)로 나타나는 중합성기가 더 바람직하다.
[화학식 8]
Figure pct00008
상기 식 (P-1)~(P-7) 중, *는, X1과의 결합 위치를 나타낸다. R3은, 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타내고, 2개의 R3은, 동일해도 되고 달라도 되며, 서로 연결하여 환 구조를 형성하고 있어도 된다.
또, R3이 나타내는, 탄소수 1~5의 알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 제조의 용이성, 경제성 및 라디칼 중합성의 관점에서, 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위는, 상기 식 (I) 중의 R1이, 수소 원자 또는 메틸기이며, 상기 식 (I) 중의 X1이, -O-, -COO-, -OCO-, 및 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기(바람직하게는, 탄소수 2~8의 알킬렌기)의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기인 반복 단위가 바람직하다.
상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위로서는, 구체적으로는 예를 들면, 하기 식으로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.
[화학식 9]
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
본 발명에 있어서는, 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 함유량은, 전체 반복 단위에 대하여 5~80질량%인 것이 바람직하고, 7~70질량%인 것이 보다 바람직하며, 10~50질량%인 것이 더 바람직하다.
<II 파트>
본 발명의 고분자 화합물이 갖는 II 파트는, 하기 식 (II)로 나타나는 반복 단위이다.
[화학식 10]
Figure pct00013
상기 식 (II) 중, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내며, 그 중에서도, 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 메틸기가 더 바람직하다.
또, 상기 식 (II) 중, X10은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR13-, -NR13COO-, -CR13N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.
여기에서, X10이 나타내는, 2가의 지방족기 및 2가의 방향족기로서는, 각각 상기 식 (I) 중의 X1에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있으며, 또 R13이 나타내는, 탄소수 1~20의 알킬기는, 상기 식 (I)에 관련하여 설명한 R2와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (II) 중, R11 및 R12는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 치환 혹은 무치환의 지방족 탄화 수소기, 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기를 나타내며, R11 및 R12는, 알킬렌 연결기, 아릴렌 연결기, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 연결기를 개재하여 서로 연결하고 있어도 된다.
R11 및 R12가 나타내는, 치환 혹은 무치환의 지방족 탄화 수소기로서는, 치환기를 갖고 있어도 되는, 알킬기, 알켄일기 또는 알카인일기를 들 수 있다.
알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트라이데실기, 헥사데실기, 옥타데실기, 에이코실기, 아이소프로필기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, 아이소펜틸기, 네오펜틸기, 1-메틸뷰틸기, 아이소헥실기, 2-메틸헥실기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 1-아다만틸기, 2-노보닐기 등의 직쇄상, 분기상, 또는 환상의 알킬기를 들 수 있다.
알켄일기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 바이닐기, 1-프로펜일기, 1-뷰텐일기, 1-메틸-1-프로펜일기, 1-사이클로펜텐일기, 1-사이클로헥센일기 등의 직쇄상, 분기상, 또는 환상의 알켄일기를 들 수 있다.
알카인일기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 에타인일기, 1-프로파인일기, 1-뷰타인일기, 1-옥타인일기 등을 들 수 있다.
R11 및 R12가 나타내는, 치환 혹은 무치환의 아릴기로서는, 예를 들면 1개부터 4개의 벤젠환이 축합환을 형성한 것, 벤젠환과 불포화 5원환이 축합환을 형성한 것을 들 수 있으며, 구체적으로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 인덴일기, 아세나프텐일기, 플루오렌일기, 피렌일기 등을 들 수 있다.
R11 및 R12가 나타내는, 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기로서는, 예를 들면 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 헤테로 원자를 1개 이상 포함하는 복소 방향환 상의 수소 원자를 1개 제거하고, 헤테로아릴기로 한 것을 들 수 있다.
질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 헤테로 원자를 1개 이상 포함하는 복소 방향환으로서는, 구체적으로는 예를 들면, 피롤, 퓨란, 싸이오펜, 피라졸, 이미다졸, 트라이아졸, 옥사졸, 아이소옥사졸, 옥사다이아졸, 싸이아졸, 싸이아다이아졸, 인돌, 카바졸, 벤조퓨란, 다이벤조퓨란, 싸이아나프텐, 다이벤조싸이오펜, 인다졸벤즈이미다졸, 안트라닐, 벤즈아이소옥사졸, 벤즈옥사졸, 벤조싸이아졸, 퓨린, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 트라이아진, 퀴놀린, 아크리딘, 아이소퀴놀린, 프탈라진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 나프티리딘, 페난트롤린, 프테리딘 등을 들 수 있다.
R11 및 R12가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 수소를 제거한 1가의 비금속 원자단을 들 수 있으며, 예를 들면 이하의 치환기군 Y로부터 선택된다.
(치환기군 Y)
할로젠 원자(-F, -Br, -Cl, -I), 하이드록실기, 알콕시기, 아릴옥시기, 머캅토기, 알킬싸이오기, 아릴싸이오기, 알킬다이싸이오기, 아릴다이싸이오기, 아미노기, N-알킬아미노기, N,N-다이알킬아미노기, N-아릴아미노기, N,N-다이아릴아미노기, N-알킬-N-아릴아미노기, 아실옥시기, 카바모일옥시기, N-알킬카바모일옥시기, N-아릴카바모일옥시기, N,N-다이알킬카바모일옥시기, N,N-다이아릴카바모일옥시기, N-알킬-N-아릴카바모일옥시기, 알킬설폭시기, 아릴설폭시기, 아실싸이오기, 아실아미노기, N-알킬아실아미노기, N-아릴아실아미노기, 유레이도기, N'-알킬유레이도기, N',N'-다이알킬유레이도기, N'-아릴유레이도기, N',N'-다이아릴유레이도기, N'-알킬-N'-아릴유레이도기, N-알킬유레이도기, N-아릴유레이도기, N'-알킬-N-알킬유레이도기, N'-알킬-N-아릴유레이도기, N',N'-다이알킬-N-알킬유레이도기, N',N'-다이알킬-N-아릴유레이도기, N'-아릴-N-알킬유레이도기, N'-아릴-N-아릴유레이도기, N',N'-다이아릴-N-알킬유레이도기, N',N'-다이아릴-N-아릴유레이도기, N'-알킬-N'-아릴-N-알킬유레이도기, N'-알킬-N'-아릴-N-아릴유레이도기, 알콕시카보닐아미노기, 아릴옥시카보닐아미노기, N-알킬-N-알콕시카보닐아미노기, N-알킬-N-아릴옥시카보닐아미노기, N-아릴-N-알콕시카보닐아미노기, N-아릴-N-아릴옥시카보닐아미노기, 폼일기, 아실기, 카복실기 및 그 공액 염기기, 알콕시카보닐기, 아릴옥시카보닐기, 카바모일기, N-알킬카바모일기, N,N-다이알킬카바모일기, N-아릴카바모일기, N,N-다이아릴카바모일기, N-알킬-N-아릴카바모일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 설포기(-SO3H) 및 그 공액 염기기, 알콕시설폰일기, 아릴옥시설폰일기, 설피나모일기, N-알킬설피나모일기, N,N-다이알킬설피나모일기, N-아릴설피나모일기, N,N-다이아릴설피나모일기, N-알킬-N-아릴설피나모일기, 설파모일기, N-알킬설파모일기, N,N-다이알킬설파모일기, N-아릴설파모일기, N,N-다이아릴설파모일기, N-알킬-N-아릴설파모일기, N-아실설파모일기 및 그 공액 염기기, N-알킬설폰일설파모일기(-SO2NHSO2(alkyl)) 및 그 공액 염기기, N-아릴설폰일설파모일기(-SO2NHSO2(aryl)) 및 그 공액 염기기, N-알킬설폰일카바모일기(-CONHSO2(alkyl)) 및 그 공액 염기기, N-아릴설폰일카바모일기(-CONHSO2(aryl)) 및 그 공액 염기기, 알콕시실릴기(-Si(Oalkyl)3), 아릴옥시실릴기(-Si(Oaryl)3), 하이드록시실릴기(-Si(OH)3) 및 그 공액 염기기, 포스포노기(-PO3H2) 및 그 공액 염기기, 다이알킬포스포노기(-PO3(alkyl)2), 다이아릴포스포노기(-PO3(aryl)2), 알킬아릴포스포노기(-PO3(alkyl)(aryl)), 모노알킬포스포노기(-PO3H(alkyl)) 및 그 공액 염기기, 모노아릴포스포노기(-PO3H(aryl)) 및 그 공액 염기기, 포스포노옥시기(-OPO3H2) 및 그 공액 염기기, 다이알킬포스포노옥시기(-OPO3(alkyl)2), 다이아릴포스포노옥시기(-OPO3(aryl)2), 알킬아릴포스포노옥시기(-OPO3(alkyl)(aryl)), 모노알킬포스포노옥시기(-OPO3H(alkyl)) 및 그 공액 염기기, 모노아릴포스포노옥시기(-OPO3H(aryl)) 및 그 공액 염기기, 사이아노기, 나이트로기, 아릴기, 알켄일기 및 알카인일기, 또 이들 치환기는, 가능하다면 치환기끼리, 또는 치환하고 있는 탄화 수소기와 결합하여 환을 형성해도 된다.
상기 식 (II) 중의 R11 및 R12는, 수소 원자이거나, 또는 알킬렌 연결기로 서로 연결되어 있는 것이 바람직하다.
상기 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 형성하는 단량체로서는, 구체적으로는 예를 들면, 하기 식 II-1~II-12로 나타나는 단량체를 들 수 있다.
[화학식 11]
Figure pct00014
Figure pct00015
본 발명에 있어서는, 상기 식 (II)로 나타나는 반복 단위의 함유량은, 전체 반복 단위에 대하여 3~80질량%인 것이 바람직하고, 4~70질량%인 것이 보다 바람직하며, 5~50질량%인 것이 더 바람직하다.
<III 파트>
본 발명의 고분자 화합물은, 친수성 부재와의 접착성이 보다 양호해지는 이유에서, 하기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위(III 파트)를 갖고 있는 것이 바람직하다.
여기에서, 접착성이 보다 양호해지는 이유는, III 파트를 갖고 있는 것에 의하여, 형성되는 소수성 부재의 공기 계면 측(친수성 부재와의 접착면 측)에 공중합체가 편재함으로써, 공중합체가 갖는 II 파트가 친수성 부재의 표면과 상호 작용하기 쉬워졌기 때문이라고 생각된다.
[화학식 12]
Figure pct00016
상기 식 (III) 중, R20은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내며, 그 중에서도, 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 메틸기가 더 바람직하다.
또, 상기 식 (III) 중, L20은, -O-, -COO-, -OCO-, 2가의 지방족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타낸다. 또한, -COO-는, R20이 결합한 탄소와 C=O가 결합하고, R21과 O가 결합하는 것을 나타내며, -OCO-는, R20과 결합한 탄소와 O가 결합하고, R21과 C=O가 결합하는 것을 나타낸다.
L20이 나타내는, 2가의 지방족기로서는, 2가의 지방족 쇄상기 또는 지방족 환상기를 들 수 있다. 2가의 지방족 쇄상기로서는, 탄소수 1~20의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1~10의 알킬렌기가 보다 바람직하다. 2가의 지방족 환상기로서는, 탄소수 3~20의 사이클로알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 3~15의 사이클로알킬렌기가 보다 바람직하다.
이들 중, L20으로서는, -COO-, 또는 -OCO-가 바람직하고, -COO-가 보다 바람직하다.
또, 상기 식 (III) 중, R21은, 탄소수 4~20의 알킬기, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자에 의하여 치환된 탄소수 1~20의 알킬기(이하, "플루오로알킬기"라고도 함), 또는 -Si(Ra3)(Ra4)O-를 포함하는 1가의 유기기를 나타내고, Ra3 및 Ra4는, 각각 독립적으로 알킬기, 할로알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.
본 발명에 있어서는, 친수성 부재와의 접착성이 더 양호해지는 이유에서, 상기 식 (III) 중의 R21이, 탄소수 1~20의 플루오로알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~18의 플루오로알킬기인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 2~15의 플루오로알킬기인 것이 더 바람직하다.
또, 불소 원자수는, 1~25인 것이 바람직하고, 3~21인 것이 보다 바람직하며, 5~21인 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 친수성 부재와의 접착성, 및 라디칼 중합성의 관점에서, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위가, 하기 식 (IV)로 나타나는 반복 단위인 것이 바람직하다.
[화학식 13]
Figure pct00017
상기 식 (IV) 중, R20은, 상기 식 (III) 중의 R20과 동일하게, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내고, 적합 양태도 동일하다.
또, 상기 식 (IV) 중, ma 및 na는, 각각 독립적으로 0~19의 정수를 나타낸다. 그 중에서도, 접착성 향상 및 원료 입수 등의 관점에서, ma는 1~8의 정수인 것이 바람직하고, 1~5의 정수인 것이 보다 바람직하다. 또, na는 1~15의 정수인 것이 바람직하고, 1~12의 정수인 것이 보다 바람직하며, 2~10의 정수인 것이 더 바람직하고, 5~7의 정수인 것이 가장 바람직하다. 단, ma 및 na는, 합계하여 0~19의 정수를 나타낸다.
또, 상기 식 (IV) 중, X21은, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, 불소인 것이 바람직하다.
상기 식 (III) 또는 (IV)로 나타나는 반복 단위를 형성하는 단량체로서는, 구체적으로는 예를 들면, 2,2,2-트라이플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로뷰틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로-3-메틸뷰틸)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로-5-메틸헥실)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로-7-메틸옥틸)에틸(메트)아크릴레이트, 1H,1H,3H-테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 1H,1H,7H-도데카플루오로헵틸(메트)아크릴레이트, 1H,1H,9H-헥사데카플루오로노닐(메트)아크릴레이트, 1H-1-(트라이플루오로메틸)트라이플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 1H,1H,3H-헥사플루오로뷰틸(메트)아크릴레이트, 3-퍼플루오로뷰틸-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-퍼플루오로헥실-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-퍼플루오로옥틸-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-(퍼플루오로-3-메틸뷰틸)-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-(퍼플루오로-5-메틸헥실)-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-(퍼플루오로-7-메틸옥틸)-2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
한편, 상기 식 (III) 중의 R21이 나타내는, -Si(Ra3)(Ra4)O-를 포함하는 1가의 유기기로서는, 실록세인 결합에서 유래하는 유기기이며, 하기 식 (VII)로 나타나는 화합물을 중합시켜 얻어지는 구조인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 14]
Figure pct00018
상기 식 (VII) 중, Ra1은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내고, 또 Ra5는, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내며, 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하다.
상기 식 (VII) 중, Ra3 및 Ra4는, 각각 독립적으로 알킬기, 할로알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.
알킬기로서는, 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.
할로알킬기로서는, 탄소수 1~10의 불소화 알킬기가 바람직하고, 예를 들면 트라이플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기 등을 들 수 있다.
아릴기로서는, 탄소수 6~20이 바람직하고, 예를 들면 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다.
이들 중, Ra3 및 Ra4는, 메틸기, 트라이플루오로메틸기 또는 페닐기가 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
상기 식 (VII) 중, m은, 10~1000의 정수를 나타내며, 20~500의 정수가 바람직하고, 30~200의 정수가 보다 바람직하다.
상기 식 (VII)로 나타나는 화합물로서는, 편말단 (메트)아크릴로일기 함유 폴리실록세인 매크로머(예를 들면, 사일라플레인 0721, 동 0725(이상, 상품명, JNC(주)제), AK-5, AK-30, AK-32(이상, 상품명, 도아 고세이(주)제), KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22-164C, X-22-5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS(이상, 상품명, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제)) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 갖는 경우의 함유량은, 전체 반복 단위에 대하여 2~80질량%인 것이 바람직하고, 5~70질량%인 것이 보다 바람직하며, 10~60질량%인 것이 더 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 친수성 부재와의 접착성이 보다 양호해지는 이유에서, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 갖고 있는 경우, 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~50질량%이며, 상기 식 (II)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 5~50질량%이고, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~60질량%인 것이 바람직하다.
<V 파트>
본 발명의 고분자 화합물은, 소수성 부재의 매트릭스 성분으로서 액정성 화합물을 이용한 경우의 배향성의 관점에서, 하기 식 (V)로 나타나는 반복 단위(V 파트)를 갖고 있는 것이 바람직하다.
[화학식 15]
Figure pct00019
상기 식 (V) 중, R30은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내며, 그 중에서도, 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하며, 수소 원자 또는 메틸기가 더 바람직하다.
상기 식 (V)로 나타나는 반복 단위를 형성하는 단량체로서는, 구체적으로는 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 상기 식 (V)로 나타나는 반복 단위를 갖는 경우의 함유량은, 전체 반복 단위에 대하여 1~60질량%인 것이 바람직하고, 2~40질량%인 것이 보다 바람직하며, 4~20질량%인 것이 더 바람직하다.
<그 외의 파트>
본 발명의 고분자 화합물은, 필요에 따라 상술한 식 (I) (II) (III) 및 (V)로 나타나는 반복 단위 이외의 다른 반복 단위를 갖고 있어도 된다.
다른 반복 단위를 형성하는 단량체로서는, PolymerHandbook 2nd ed., J. Brandrup, Wiley lnterscience(1975) Chapter 2Page 1~483에 기재된 것을 이용할 수 있다.
예를 들면, 아크릴산 에스터류, 메타크릴산 에스터류, 아크릴아마이드류, 메타크릴아마이드류, 알릴 화합물, 바이닐에터류, 바이닐에스터류 등으로부터 선택되는 부가 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 화합물 등을 들 수 있다.
구체적으로는, 이하의 단량체를 들 수 있다.
(아크릴산 에스터류)
아크릴산 에스터류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 프로필, 클로로에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 모노아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 메톡시벤질아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 퓨퓨릴아크릴레이트, 테트라하이드로퓨퓨릴아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(메타크릴산 에스터류)
메타크릴산 에스터류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 프로필, 클로로에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 모노메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 메톡시벤질메타크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 퓨퓨릴메타크릴레이트, 테트라하이드로퓨퓨릴메타크릴레이트, 에틸렌글라이콜모노아세트아세테이트 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
(아크릴아마이드류)
아크릴아마이드류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 아크릴아마이드, N-알킬아크릴아마이드(알킬기로서는 탄소수 1~3의 것, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기), N,N-다이알킬아크릴아마이드(알킬기로서는 탄소수 1~6의 것), N-하이드록시에틸-N-메틸아크릴아마이드, N-2-아세트아마이드에틸-N-아세틸아크릴아마이드 등을 들 수 있다.
(메타크릴아마이드류)
메타크릴아마이드류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 메타크릴아마이드, N-알킬메타크릴아마이드(알킬기로서는 탄소수 1~3의 것, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기), N,N-다이알킬메타크릴아마이드(알킬기로서는 탄소수 1~6의 것), N-하이드록시에틸-N-메틸메타크릴아마이드, N-2-아세트아마이드에틸-N-아세틸메타크릴아마이드 등을 들 수 있다.
(알릴 화합물)
알릴 화합물로서는, 구체적으로는 예를 들면, 알릴에스터류(예를 들면 아세트산 알릴, 카프로산 알릴, 카프릴산 알릴, 라우르산 알릴, 팔미트산 알릴, 스테아르산 알릴, 벤조산 알릴, 아세토아세트산 알릴, 락트산 알릴 등), 알릴옥시에탄올 등을 들 수 있다.
(바이닐에터류)
바이닐에터류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 알킬바이닐에터(예를 들면 헥실바이닐에터, 옥틸바이닐에터, 데실바이닐에터, 에틸헥실바이닐에터, 메톡시에틸바이닐에터, 에톡시에틸바이닐에터, 클로로에틸바이닐에터, 1-메틸-2,2-다이메틸프로필바이닐에터, 2-에틸뷰틸바이닐에터, 하이드록시에틸바이닐에터, 다이에틸렌글라이콜바이닐에터, 다이메틸아미노에틸바이닐에터, 다이에틸아미노에틸바이닐에터, 뷰틸아미노에틸바이닐에터, 벤질바이닐에터, 테트라하이드로퓨퓨릴바이닐에터 등을 들 수 있다.
(바이닐에스터류)
바이닐에스터류로서는, 구체적으로는 예를 들면, 바이닐아세테이트, 바이닐뷰티레이트, 바이닐아이소뷰티레이트, 바이닐트라이메틸아세테이트, 바이닐다이에틸아세테이트, 바이닐바레이트, 바이닐카프로에이트, 바이닐클로로아세테이트, 바이닐다이클로로아세테이트, 바이닐메톡시아세테이트, 바이닐뷰톡시아세테이트, 바이닐락테이트, 바이닐-β-페닐뷰티레이트, 바이닐사이클로헥실카복실레이트 등을 들 수 있다.
(이타콘산 다이알킬류)
이타콘산 다이알킬류로서는, 이타콘산 다이메틸, 이타콘산 다이에틸, 이타콘산 다이뷰틸 등을 들 수 있다.
(그 외)
그 외, 푸마르산의 다이알킬에스터류 또는 모노알킬에스터류; 다이뷰틸푸마레이트; 크로톤산, 이타콘산, 아크릴로나이트릴, 메타크릴로나이트릴, 말레일로나이트릴, 스타이렌, 스타이렌 매크로머(도아 고세이사제 AS-6S), 메틸메타크릴레이트 매크로머(도아 고세이사제 AA-6) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 다른 반복 단위를 갖는 경우의 함유량은, 전체 반복 단위에 대하여 1~50질량%인 것이 바람직하고, 1~30질량%인 것이 보다 바람직하며, 1~20질량%인 것이 더 바람직하다.
본 발명의 고분자 화합물의 중량 평균 분자량(Mw)은, 1000~200000이 바람직하고, 1500~100000이 보다 바람직하며, 3000~60000이 더 바람직하다.
본 발명의 고분자 화합물의 수평균 분자량(Mn)은, 500~40000이 바람직하고, 600~35000이 보다 바람직하며, 600~30000이 더 바람직하다.
본 발명의 고분자 화합물의 분산도(Mw/Mn)는, 1.00~12.00이 바람직하고, 1.00~11.00이 보다 바람직하며, 1.00~10.00이 더 바람직하다.
또한, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 하기의 조건에서 측정된 값이다.
<측정 조건>
[용리액] N-메틸-2-피롤리돈(NMP)
[장치명] EcoSEC HLC-8320GPC(도소사제)
[칼럼] TSKgel SuperAWM-H(도소사제)
[칼럼 온도] 40℃
[유속] 0.50ml/min
상술한 각 반복 단위를 갖는 본 발명의 고분자 화합물로서는, 구체적으로는 예를 들면, 하기 식 (A-1)~(A-22)로 나타나는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 16]
Figure pct00020
[화학식 17]
Figure pct00021
[화학식 18]
Figure pct00022
[화학식 19]
Figure pct00023
본 발명의 고분자 화합물은, 소수성 부재를 형성하기 위한 조성물의 전체 고형분을 100질량%로 한 경우에, 0.0001~40질량%의 비율로 이용하는 것이 바람직하고, 0.001~20질량%의 비율로 이용하는 것이 보다 바람직하며, 0.1~5질량%의 비율로 이용하는 것이 더 바람직하다.
[용도]
본 발명의 고분자 화합물은, 상술한 바와 같이, 소수성 부재와 친수성 부재와의 접착성을 개선하는 용도, 즉, 접착 부여제로서 유용하다.
또, 이와 같은 소수성 부재를 형성하는 조성물은, 본 발명의 고분자 화합물을 포함하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 다른 성분으로서는, 예를 들면 액정성 화합물, 잉크, 도료, 바인더 수지 등을 들 수 있으며, 그 중에서도, 액정성 화합물인 것이 바람직하다.
한편, 친수성 부재로서는, 예를 들면 편광자를 들 수 있으며, 특히, 폴리바이닐알코올계 수지(-CH2-CHOH-를 반복 단위로서 포함하는 폴리머. 특히, 폴리바이닐알코올 및 에틸렌-바이닐알코올 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개)를 포함하는 편광자를 적합하게 들 수 있다.
실시예
이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 절차 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.
〔합성예 1〕
<공중합체 A-5의 합성예>
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 및 질소 가스 도입관을 구비한 300밀리리터 3구 플라스크에, 사이클로헥산온 6.7g, 아이소프로판올 1.7g을 도입하고, 73℃까지 승온했다.
이어서, 2-(퍼플루오로헥실)에틸아크릴레이트 12.3g(29.3밀리몰), 4-(4-아크릴로일옥시뷰톡시)벤조일옥시페닐보론산 5.6g(14.7밀리몰), 아크릴산 2.1g(29.3밀리몰), 사이클로헥산온 26.4g, 아이소프로판올 6.6g, 및 아조 중합 개시제(V-601, 와코 준야쿠(주)제) 0.51g으로 이루어지는 혼합 용액을, 150분으로 적하가 완료되도록 등속으로 적하했다. 적하 완료 후, 90℃까지 승온하고, 추가로 4시간 교반을 계속했다.
이어서, 글리시딜메타크릴레이트 4.2g(29.3밀리몰), 테트라뷰틸암모늄 브로마이드 1.5g(4.7밀리몰), p-메톡시페놀 0.4g, 사이클로헥산온 16.2g, 아이소프로판올 4.1g을 도입하여, 80℃까지 승온하고, 8시간 교반을 계속하여, 하기 식 (A-5)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-5"라고 약기함)의 사이클로헥산온·아이소프로판올 용액 88.6g을 얻었다.
이 공중합체 A-5의 중량 평균 분자량(Mw)은, 60,300(젤 퍼미에이션 크로마토그래피(EcoSEC HLC-8320GPC(도소사제))에 의하여 용리액 NMP, 유속 0.50ml/min, 온도 40℃의 측정 조건에서 폴리스타이렌 환산으로 산출, 사용 칼럼은 TSKgel SuperAWM-H×3개(도소사제))이었다. 또, 얻어진 공중합체 A-5의 산가는 7.3이며, 카복실산의 잔존율은 5몰%였다.
[화학식 20]
Figure pct00024
〔합성예 2〕
<공중합체 A-7의 합성예>
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 및 질소 가스 도입관을 구비한 300밀리리터 3구 플라스크에, 사이클로헥산온 6.7g, 아이소프로판올 1.7g을 도입하고, 73℃까지 승온했다. 이어서, 2-(퍼플루오로헥실)에틸아크릴레이트 12.3g(29.3밀리몰), 4-(4-아크릴로일옥시뷰톡시)벤조일옥시페닐보론산 5.6g(14.7밀리몰), 아크릴산 2.1g(29.3밀리몰), 사이클로헥산온 26.4g, 아이소프로판올 6.6g, 및 아조 중합 개시제(V-601, 와코 준야쿠(주)제) 0.51g으로 이루어지는 혼합 용액을, 150분으로 적하가 완료되도록 등속으로 적하했다. 1,3-프로페인다이올 1.3g을 첨가한 후, 90℃까지 승온하고, 추가로 4시간 교반을 계속했다.
이어서, 글리시딜메타크릴레이트 4.2g(29.3밀리몰), 테트라뷰틸암모늄 브로마이드 1.5g(4.7밀리몰), p-메톡시페놀 0.4g, 사이클로헥산온 18.0g, 아이소프로판올 4.5g을 도입하여, 80℃까지 승온하고, 8시간 교반을 계속하여, 하기 식 (A-7a)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-7a"라고 약기함)의 사이클로헥산온·아이소프로판올 용액 91.9g을 얻었다.
이 공중합체 A-7a의 중량 평균 분자량(Mw)은 11,200(젤 퍼미에이션 크로마토그래피(EcoSEC HLC-8320GPC(도소사제))에 의하여 용리액 NMP, 유속 0.50ml/min, 온도 40℃의 측정 조건에서 폴리스타이렌 환산으로 산출, 사용 칼럼은 TSKgel SuperAWM-H×3개(도소사제))이었다. 또, 얻어진 공중합체 A-7a의 산가는 5.2이며, 카복실산의 잔존율은 3몰%였다.
[화학식 21]
Figure pct00025
〔다른 합성예〕
단량체 성분을 변경한 것 이외에는, 상술한 합성예 1 또는 2와 동일한 방법으로, 하기 식 (A-1)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-1"이라고 약기함), 하기 식 (A-4)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-4"라고 약기함), 하기 식 (A-7b)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-7b"라고 약기함), 하기 식 (A-7c)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-7c"라고 약기함), 하기 식 (A-11)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 A-11"이라고 약기함)를 합성했다.
[화학식 22]
Figure pct00026
Figure pct00027
Figure pct00028
Figure pct00029
Figure pct00030
〔비교 합성예 1〕
일본 공개특허공보 2005-248116호의 [0145] 단락에 기재된 방법에 따라, 하기 식으로 나타나는 공중합체 R-1을 합성했다.
[화학식 23]
Figure pct00031
〔비교 합성예 2~4〕
단량체 성분을 변경한 것 이외에는, 상술한 합성예 2와 동일한 방법으로, 하기 식 (R-2)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 R-2"라고 약기함), 하기 식 (R-3)으로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 R-3"이라고 약기함), 하기 식 (R-4)로 나타나는 공중합체(이하, "공중합체 R-4"라고 약기함)를 합성했다.
[화학식 24]
Figure pct00032
합성한 각 공중합체에 대하여, 식 (I), (II), (III) 및 (V)로 나타나는 반복 단위, 및 다른 반복 단위의 함유량(질량%)에 대하여, 하기 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00033
〔실시예 1~9 및 비교예 1~5〕
<광학 필름의 제작>
합성한 각 공중합체와, 하기 표 2~표 4에 나타내는 액정성 화합물 등을, 하기 표 2~표 4에 나타내는 질량부로 혼합하여, 액정 조성물을 조제했다.
또, 사이클로올레핀 폴리머 필름(JSR(주)제 상품명: 아톤 필름, Re=95nm, Rth=100nm, 막두께 25μm)의 편면을 방전량 125W·min/m2로 코로나 처리를 실시했다.
그 후, 코로나 처리를 실시한 면에, 조제한 각 액정 조성물을, #2.6의 와이어 바로 도포했다. 조성물의 용매의 건조, 및 액정성 화합물의 배향 숙성을 위하여, 70℃의 온풍으로 90초 가열했다.
이어서, 질소 퍼지하 산소 농도 100ppm으로 40℃에서 자외선 조사(300mJ/cm2)를 행하여, 액정성 화합물의 배향을 고정화하여, 광학 필름을 제작했다.
하기 표 2~표 4 중의 액정성 화합물, 배향 조제, 보론 화합물, 단량체, 중합 개시제 및 레벨링제는, 각각 이하에 나타내는 것을 이용했다.
·액정성 화합물 G1
하기 액정성 화합물 (RA)(RB)(RC)의 83:15:2(질량비)의 혼합물
[화학식 25]
Figure pct00034
·배향 조제 H1
[화학식 26]
Figure pct00035
·보론 화합물 J1
[화학식 27]
Figure pct00036
·단량체 K1: 비스코트#360(오사카 유키 가가쿠 고교 가부시키가이샤제)
·중합 개시제 L1: OXE-01(BASF사제)
·레벨링제 M1
[화학식 28]
Figure pct00037
<편광판의 제작>
(필름의 표면 처리)
셀룰로스아세테이트 필름(후지필름제, 후지탁 TD40UC)을 37℃로 조온(調溫)한 1.5mol/L의 수산화 나트륨 수용액(비누화액)에 1분간 침지한 후, 필름을 수세하고, 그 후, 0.05mol/L의 황산 수용액에 30초 침지한 후, 추가로 수세욕 처리를 행했다. 그리고, 에어나이프에 의한 탈수를 3회 반복하여, 물을 제거한 후에 70℃의 건조 존에 15초간 체류시켜 건조하여, 비누화 처리한 셀룰로스아세테이트 필름을 제작했다.
<편광자의 제작>
일본 공개특허공보 2001-141926호의 실시예 1에 따라, 2쌍의 닙롤 간에 주속차를 부여하고, 길이 방향으로 연신하여, 두께 12μm의 편광자를 제작했다.
<첩합>
제작한 각 광학 필름, 및 제작한 비누화 처리한 셀룰로스아세테이트 필름을 이용하여, 제작한 편광자를 사이에 둔 후, 하기 접착제를 이용하여, 편광자의 흡수축과 필름의 길이 방향이 평행이 되도록 롤 투 롤로 적층했다.
여기에서, 편광자의 한쪽 면은, 상기 광학 필름의 도포면이 편광자 측이 되도록 하고, 편광자의 다른 쪽 면은, 상기 셀룰로스아세테이트 필름으로 했다.
적층 후 70℃ 10분간의 건조에 의하여 경화시킴으로써 편광판을 제작했다.
(접착제)
폴리바이닐알코올(구라레제, PVA-117H) 3% 수용액
〔배향성〕
제작한 광학 필름의 광학 이방성층에 관하여, 광학 이방성층의 막두께 1μm에 대한 |Rth(550)|의 값을 계산하고, 하기의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 표 2~표 4에 나타낸다.
또한, 액정성 화합물이 동일하면, 배향성이 높은 것이, 액정층의 막두께 1μm에 대한 |Rth(550)|은 커진다.
따라서, 액정층의 막두께 1μm에 대한 |Rth(550)|으로, 배향성을 평가했다.
A: 120nm/μm 이상
B: 110nm/μm 이상 120nm/μm 미만
C: 100nm/μm 이상 110nm/μm 미만
D: 100nm/μm 미만
여기에서, 평가 결과가 A, B 및 C이면 실용상 문제가 없고, 평가가 A인 것이 바람직하다.
〔면 형상〕
제작한 광학 필름의 광학 이방성층의 면 형상 성능을, 각 편광판을 크로스 니콜로 중첩한 사이에 삽입한 상태로 관찰했다.
불균일의 정도를 육안으로 평가하고, 하기 A~D의 4단계로 평가했다. 결과를 하기 표 2~표 4에 나타낸다.
A: 불균일이 전혀 시인되지 않음
B: 약간 불균일이 시인되지만 신경쓰이지 않음
C: 불균일이 시인되지만 실용상 문제 없는 레벨
D: 불균일이 강하게 시인되어, 매우 신경이 쓰임
〔접착성〕
접착성은, JIS-K-5600-5-6-1에 기재된 크로스컷법으로 평가를 행했다.
제작한 편광판에 대하여, 광학 필름 표면에 1mm 간격으로 100개의 크로스컷을 넣고, 셀로판 테이프(니치반(주)제)로 밀착 시험을 행했다. 새로운 셀로판 테이프를 붙인 뒤에 박리하고, 이하의 기준으로 판정했다. 결과를 하기 표 2~표 4에 나타낸다. 또한, 크로스컷은, 광학 필름의 사이클로올레핀 폴리머 필름(지지체) 측으로부터, 편광자의 표면에 닿을 때까지 칼집을 넣어 제작했다.
A: 크로스컷 중 스퀘어의 박리가 일어나지 않음
B: 크로스컷 중 스퀘어의 박리가 없는 것이 50% 이상 100% 미만
C: 크로스컷 중 스퀘어의 박리가 없는 것이 20% 이상 50% 미만
D: 크로스컷 중 스퀘어의 박리가 없는 것이 20% 미만
여기에서, 평가 결과가 A, B 및 C이면 실용상 문제가 없고, 평가가 A인 것이 바람직하다.
[표 2]
Figure pct00038
[표 3]
Figure pct00039
[표 4]
Figure pct00040
표 2~표 4에 나타내는 결과로부터, 본 발명의 고분자 화합물을 배합하지 않는 경우는, 편광자와 광학 이방성층과의 접착성이 뒤떨어져, 배향성이나 면 형상도 뒤떨어지는 경우가 있는 것을 알 수 있었다(비교예 1~5).
이에 반하여, 본 발명의 고분자 화합물을 배합한 경우는, 배향성이 우수하고, 형성되는 광학 이방성층의 면 형상이 양호해져, 편광자와의 접착성도 양호해지는 것을 알 수 있었다(실시예 1~9).
특히, 실시예 3과 실시예 4와의 대비로부터, 상기 식 (V)로 나타나는 반복 단위(V 파트)를 갖고 있으면, 액정성 화합물의 배향성이 보다 양호해지는 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 5와 실시예 6과의 대비로부터, 상기 식 (VI)으로 나타나는 보론 화합물을 배합하면, 편광자와의 접착성이 보다 양호해지는 것을 알 수 있었다.
또, 실시예 7~9의 대비로부터, 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~50질량%이고, 상기 식 (II)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 5~50질량%이며, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~60질량%이면, 편광자와의 접착성이 보다 양호해지는 것을 알 수 있었다.

Claims (8)

  1. 하기 식 (I)로 나타나는 반복 단위와, 하기 식 (II)로 나타나는 반복 단위를 갖는 고분자 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00041

    여기에서, 상기 식 (I) 중, R1은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. X1은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR2-, -NR2COO-, -CR2N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R2는, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -X1-P1을 나타낸다. P1은, 중합성기를 나타낸다.
    또, 상기 식 (II) 중, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내고, R11 및 R12는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 치환 혹은 무치환의 지방족 탄화 수소기, 치환 혹은 무치환의 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환의 헤테로아릴기를 나타내며, R11 및 R12는, 알킬렌 연결기, 아릴렌 연결기, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 연결기를 개재하여 서로 연결하고 있어도 된다. X10은, 단결합, 또는 -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -CONR13-, -NR13COO-, -CR13N-, 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기, 치환 혹은 무치환의 2가의 방향족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R13은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 식 (I) 중의 P1로 나타나는 중합성기가, 하기 식 (P-1)~(P-7)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인, 고분자 화합물.
    [화학식 2]
    Figure pct00042

    여기에서, 상기 식 (P-1)~(P-7) 중, *는, X1과의 결합 위치를 나타낸다. R3은, 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타내고, 2개의 R3은, 동일해도 되고 달라도 되며, 서로 연결하여 환 구조를 형성하고 있어도 된다.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 식 (I) 중의 P1로 나타나는 중합성기가, 하기 식 (P-1)~(P-3)으로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 중합성기인, 고분자 화합물.
    [화학식 3]
    Figure pct00043

    여기에서, 상기 식 (P-1)~(P-3) 중, *는, X1과의 결합 위치를 나타낸다.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 식 (I) 중의 R1이, 수소 원자 또는 메틸기이며,
    상기 식 (I) 중의 X1이, -O-, -COO-, -OCO-, 및 치환 혹은 무치환의 2가의 지방족기의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기인, 고분자 화합물.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    하기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 더 갖는, 고분자 화합물.
    [화학식 4]
    Figure pct00044

    여기에서, 상기 식 (III) 중, R20은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. R21은, 탄소수 4~20의 알킬기, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자에 의하여 치환된 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 -Si(Ra3)(Ra4)O-를 포함하는 1가의 유기기를 나타내고, Ra3 및 Ra4는, 각각 독립적으로 알킬기, 할로알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. L20은, -O-, -COO-, -OCO-, 2가의 지방족기, 및 이들의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2가의 연결기를 나타낸다.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 식 (III) 중의 R21이, 적어도 1개의 수소 원자가 불소 원자에 의하여 치환된 탄소수 1~20의 알킬기인, 고분자 화합물.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위가, 하기 식 (IV)로 나타나는 반복 단위인, 고분자 화합물.
    [화학식 5]
    Figure pct00045

    여기에서, 상기 식 (IV) 중, R20은, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. ma 및 na는, 각각 독립적으로 0~19의 정수를 나타낸다. 단, ma 및 na는, 합계하여 0~19의 정수를 나타낸다. X21은, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타낸다.
  8. 청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~50질량%이고, 상기 식 (II)로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 5~50질량%이며, 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위의 함유량이 전체 반복 단위에 대하여 10~60질량%인, 고분자 화합물.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102273939B1 (ko) * 2017-07-13 2021-07-06 엔즈파이어 인더스트리 씨오. 엘티디. 리빙포어를 가지는 멸균 의료용 포장재
CN115244437A (zh) * 2020-03-09 2022-10-25 富士胶片株式会社 组合物、光学膜的制造方法及光学膜
CN116171288A (zh) * 2020-07-10 2023-05-26 富士胶片株式会社 含氟共聚物、组合物、光学膜、液晶膜、硬涂膜、偏振片
WO2022259893A1 (ja) * 2021-06-07 2022-12-15 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、ハードコートフィルム及びハードコートフィルムの製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014199934A1 (ja) 2013-06-10 2014-12-18 富士フイルム株式会社 偏光板および偏光板の製造方法ならびに偏光板の製造のための転写材料および転写材料
KR20160056911A (ko) * 2013-10-09 2016-05-20 후지필름 가부시키가이샤 편광판, 화상 표시 장치

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5566910A (en) * 1978-11-14 1980-05-20 Nippon Koonsutaac Kk Boron-containing polymer and its preparation
JP3427447B2 (ja) * 1993-11-05 2003-07-14 日本油脂株式会社 フッ素化フェニルボロン酸基含有重合体
JPH07304971A (ja) 1994-05-09 1995-11-21 Nippon Oil & Fats Co Ltd 糖応答性高分子材料
JPH08119822A (ja) * 1994-10-20 1996-05-14 Sogo Shika Iryo Kenkyusho:Kk 歯科用接着性根管充填材料
WO2006010268A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Basf Ag Polymeric boronic acid derivatives and their use for papermaking
JP4721747B2 (ja) * 2004-09-30 2011-07-13 富士フイルム株式会社 高分子膜、液晶配向膜、位相差板及び液晶表示装置
JP4694929B2 (ja) * 2004-09-30 2011-06-08 富士フイルム株式会社 重合性組成物、位相差板、高分子膜の作製方法、液晶表示装置
TWI431100B (zh) * 2006-11-30 2014-03-21 Senseonics Inc 抗氧化指示劑分子
JP2008225281A (ja) * 2007-03-15 2008-09-25 Fujifilm Corp 光学フィルム、及び偏光板
GB0808700D0 (en) * 2008-05-14 2008-06-18 Fujifilm Imaging Colorants Ltd Dispersion, ink, process, use and dispersant
JP5353603B2 (ja) * 2009-09-25 2013-11-27 富士ゼロックス株式会社 電気泳動粒子分散液、表示媒体、表示装置、及び電気泳動粒子
JP5622188B2 (ja) * 2010-01-05 2014-11-12 独立行政法人物質・材料研究機構 フェニルボロン酸系単量体及びフェニルボロン酸系重合体
US9290598B2 (en) * 2012-03-29 2016-03-22 Empire Technology Development Llc Dioxaborinane co-polymers and uses thereof
JP5944302B2 (ja) * 2012-04-13 2016-07-05 富士フイルム株式会社 位相差フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
US9963825B2 (en) * 2013-08-23 2018-05-08 Jack Fabbricante Apparatus and method for forming a continuous web of fibers
JP6186011B2 (ja) * 2014-01-23 2017-08-23 富士フイルム株式会社 偏光板および画像表示装置
TW201544573A (zh) * 2014-05-19 2015-12-01 Fujifilm Corp 波長轉換構件、背光單元、及液晶顯示裝置、以及波長轉換構件之製造方法及含有量子點之聚合性組成物
JP6159351B2 (ja) * 2014-05-19 2017-07-05 富士フイルム株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに波長変換部材の製造方法
JP6122812B2 (ja) * 2014-06-30 2017-04-26 富士フイルム株式会社 偏光板および画像表示装置
JP2016014770A (ja) * 2014-07-02 2016-01-28 富士フイルム株式会社 画像表示装置
JP6149078B2 (ja) * 2014-08-29 2017-06-14 富士フイルム株式会社 位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、積層体、組成物、偏光板および液晶表示装置
JP6412807B2 (ja) * 2015-01-19 2018-10-24 富士フイルム株式会社 偏光板及び液晶表示装置
US10683379B2 (en) * 2015-03-23 2020-06-16 Massachusetts Institute Of Technology Polymers, hydrogels, and uses thereof
JP6560999B2 (ja) 2016-03-09 2019-08-14 日東電工株式会社 硬化性樹脂組成物、偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
JP6857451B2 (ja) 2016-04-20 2021-04-14 日東電工株式会社 活性エネルギー線硬化型接着剤組成物、積層偏光フィルムおよびその製造方法、積層光学フィルムおよび画像表示装置
JP6868345B2 (ja) 2016-04-22 2021-05-12 日東電工株式会社 硬化性樹脂組成物、偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
JP6740144B2 (ja) * 2016-06-27 2020-08-12 富士フイルム株式会社 共重合体、及び組成物
JP6722602B2 (ja) * 2016-06-27 2020-07-15 富士フイルム株式会社 機能性膜を含む積層体、偏光板、及び表示装置
WO2018003664A1 (ja) * 2016-06-27 2018-01-04 富士フイルム株式会社 機能性膜、偏光板、及び表示装置
US9580532B1 (en) * 2016-07-12 2017-02-28 The Goodyear Tire & Rubber Company Functionalized elastomer via allylboration

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014199934A1 (ja) 2013-06-10 2014-12-18 富士フイルム株式会社 偏光板および偏光板の製造方法ならびに偏光板の製造のための転写材料および転写材料
KR20160056911A (ko) * 2013-10-09 2016-05-20 후지필름 가부시키가이샤 편광판, 화상 표시 장치

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