KR20190037621A - 전도성 접촉부 및 이를 포함하는 이방 전도성 시트 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 소자 등의 검사에 사용되는 테스트용 소켓 등에 사용되는 이방 전도성 시트에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 전도성 스프링 및 전도성 파우더를 구비한 복수의 접촉부와 인접한 접촉부들을 절연시키며 지지하는 절연부를 구비한 이방 전도성 시트에 관한 것이다. 본 발명은 검사 대상인 소자와 검사 장치 사이에 배치되어 상기 소자의 단자와 검사 장치의 접촉 패드를 서로 전기적으로 연결하는 이방 전도성 시트를 제공한다. 이방 전도성 시트는 상기 소자의 단자 및 검사 장치의 접촉 패드에 대응하는 위치에 배치되며, 두께 방향으로 전기 전도성을 갖는 복수의 접촉부와, 인접한 접촉부들을 서로 절연시키며, 접촉부들을 지지하는 절연부를 포함한다. 그리고 상기 접촉부는, 탄성 매트릭스와, 상기 탄성 매트릭스 내에 배치되는 전도성 스프링과, 상기 탄성 매트릭스의 두께방향으로 배열되는 다수의 전도성 입자들을 포함한다. 본 발명은 상기 전도성 입자들이 상기 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 고밀도로 배치되는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 전도성 입자들을 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 집중적으로 배치함으로써, 전도성 입자들의 양을 줄이면서도 접촉부의 전도성을 높일 수 있다는 장점이 있다.

Description

전도성 접촉부 및 이를 포함하는 이방 전도성 시트{Conductive contact and anisotropic conductive sheet with the same}
본 발명은 반도체 소자 등의 검사에 사용되는 테스트용 소켓 등에 사용되는 이방 전도성 시트에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 전도성 스프링 및 전도성 파우더를 구비한 복수의 접촉부와 인접한 접촉부들을 절연시키며 지지하는 절연부를 구비한 이방 전도성 시트에 관한 것이다.
반도체 소자가 제조되면, 제조된 반도체 소자에 대한 성능 검사가 필요하다. 반도체 소자의 검사에는 검사 장치의 접촉 패드와 반도체 소자의 단자를 전기적으로 연결하는 테스트용 소켓이 필요하다.
테스트용 소켓 중에서 전도성 파우더를 실리콘 고무의 길이 방향으로 배치한 접촉부와 인접한 접촉부들을 절연시키며 지지하는 절연부를 구비한 이방 전도성 시트를 구비한 테스트용 소켓은 기계적인 충격이나 변형을 흡수하여 유연한 접속이 가능하며, 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다.
도 1은 종래 기술의 테스트용 소켓의 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다. 종래 기술의 테스트용 소켓의 이방 전도성 시트(10)는 반도체 소자(1)의 단자(2)와 접촉하는 접촉부(11)와 인접한 접촉부(11)들을 절연시키며 지지하는 절연부(15)로 구성된다. 접촉부(11)의 상단부와 하단부는 각각 반도체 소자(1)의 단자(2)와 반도체 검사 장치(3)의 접촉 패드(4)와 접촉하여, 단자(2)와 접촉 패드(4)를 전기적으로 연결한다. 접촉부(11)는 실리콘 수지에 크기가 작은 구형의 전도성 입자(12)들을 혼합하여 굳힌 것으로서 전기가 흐르는 도체로 작용한다.
도시하지 않았으나, 이방 전도성 시트(10)의 주변부에는 금속 프레임이 결합된다. 금속 프레임에는 검사 장치(3)의 가이드 핀(미도시)에 대응하는 가이드 홀이 형성되어 있다. 가이드 핀과 가이드 홀은 테스트용 소켓을 검사 장치(3)에 대해서 정렬하는데 사용된다.
이방 전도성 시트(10)의 접촉부(11)는 반도체 소자(1)의 검사를 위한 접촉시 상하로 압력을 받는다. 접촉부(11)에 압력이 가해지면, 접촉부(11)의 양단부의 전도성 입자(12)는 아래로 밀려나고 중단부의 전도성 입자(12)는 옆으로 조금씩 밀려난다. 따라서 수많은 검사를 수행한 후에는 구형 전도성 입자(12)가 접촉부(11)에서 이탈하여, 이방 전도성 시트(10)의 전기적, 기계적인 특성이 떨어지는 문제점이 있다. 즉, 종래의 이방 전도성 시트(10)는 수명이 짧다는 문제가 있었다.
이러한 문제를 해결하기 위해서, 한국등록특허 제10-1493898호 등에는 도 2에 도시된 바와 같이, 실리콘 고무 매트릭스(21)의 내부에 전도성 스프링(23)을 배치하고, 전도성 스프링(23)이 배치된 공간 이외의 공간에는 전도성 입자(22)들을 배치하여 접촉부(20)를 형성하고, 인접한 접촉부(20)들을 실리콘 고무(25)를 이용하여 절연시키는 동시에 지지하는 반도체 테스트용 소켓이 개시되어 있다. 이러한 반도체 테스트용 소켓은 전도성 스프링에 의해서 수명이 연장되고, 전류용량이 증대된다는 장점이 있다.
일본등록특허 제04379949호 한국등록실용신안 제20-0312740호 한국등록특허 제10-1493898호 한국등록특허 제10-1566995호 한국등록특허 제10-1493901호
그런데 최근에는 반도체 소자의 단자 사이의 간격이 좁아지면서, 이방 전도성 시트에서 접촉부 사이의 간격도 좁아지고, 접촉부의 직경도 작아지고 있다. 접촉부의 직경이 작아지면, 접촉부에 포함되는 전도성 입자들의 크기와 양도 줄어들어야 한다. 따라서 전도성 입자들의 양을 줄이면서도 접촉부의 전도성을 높일 수 있는 방법이 필요하다.
본 발명은 이러한 요구에 대응하기 위한 것으로서, 전도성 입자들의 양을 줄이면서도 접촉부의 전도성을 높일 수 있는 이방 전도성 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 이방 전도성 시트 등에 장착되어, 소자의 단자 및 검사 장치의 접촉 패드를 전기적으로 연결하는 접촉부를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 검사 대상인 소자와 검사 장치 사이에 배치되어 상기 소자의 단자와 검사 장치의 접촉 패드를 서로 전기적으로 연결하는 이방 전도성 시트를 제공한다.
이방 전도성 시트는 상기 소자의 단자 및 검사 장치의 접촉 패드에 대응하는 위치에 배치되며, 두께 방향으로 전기 전도성을 갖는 복수의 접촉부와, 인접한 접촉부들을 서로 절연시키며, 접촉부들을 지지하는 절연부를 포함한다.
그리고 상기 접촉부는, 탄성 매트릭스와, 상기 탄성 매트릭스 내에 배치되는 전도성 스프링과, 상기 탄성 매트릭스의 두께방향으로 배열되는 다수의 전도성 입자들을 포함한다.
본 발명의 특징적 구성은, 상기 전도성 입자들이 상기 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 고밀도로 배치되는 것이다. 이러한 특징적인 구성에 의해서, 본 발명은 전도성 입자들의 양을 줄이면서도 접촉부의 전도성을 높일 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 상기 전도성 입자들이 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 상기 탄성 매트릭스의 양단부에 더 고밀도로 배치되는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트를 제공한다.
본 발명에 있어서, 상기 전도성 스프링은 코일 스프링일 수 있다.
또한, 추가적인 특징적 구성으로. 상기 절연부의 두께와 상기 접촉부의 길이의 비는 0.7 이상 0.9 미만일 수 있다. 이러한 특징적인 구성에 의해서, 검사시에 절연부가 반도체 소자와 접촉되는 것을 방지할 수 있기 때문에 반도체 소자가 오염되거나 반도체 소자와 절연부가 붙는 현상을 방지할 수 있다는 장점이 있다. 본 발명의 접촉부에는 전도성 스프링이 포함되어 있으므로, 절연부에 비해서 접촉부의 두께를 두껍게 하기가 용이하다.
또한, 상기 전도성 스프링은 중심에서 양단부로 진행할수록 지름이 커지는 모래시계 형태의 코일 스프링인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트를 제공한다. 이러한 특징적인 구성에 의해서, 접촉부가 두께 방향과 수직인 방향으로 좀 더 용이하게 휠 수 있어서 단자와 접촉 패드 사이에 오정렬이 발생할 경우에도 원활한 접속 상태를 유지할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명은 상기 탄성 매트릭스 내부에, 상기 전도성 스프링의 양단부 중 적어도 하나에 인접하여 배치되는 전도성 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트를 제공한다. 이러한 특징적인 구성에 의해서, 전도성 스프링의 상대적으로 날카로운 첨단부에 의해서 소자의 단자 및 검사 장치의 접촉 패드가 손상되는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 상기 전도성 플레이트의 중심부에는 관통구멍이 형성된 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트를 제공한다.
또한, 본 발명에 따르면, 탄성 매트릭스와, 상기 탄성 매트릭스 내에 배치되는 전도성 스프링과, 상기 탄성 매트릭스의 두께방향으로 배열되는 다수의 전도성 입자들을 포함하며, 상기 전도성 입자들은 상기 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 고밀도로 배치되는 전도성 접촉부가 제공된다.
본 발명은 전도성 입자들을 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변에 집중적으로 배치함으로써, 전도성 입자들의 양을 줄이면서도 접촉부의 전도성을 높일 수 있다는 장점이 있다. 좀 더 자세히 설명하면, 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변에 집중적으로 배치된 전도성 파우더가 전도성 스프링의 선재 사이의 공간을 채움으로써, 전도성 스프링에 의한 가늘고 긴 전도성 경로가 짧고 두꺼운 전도성 경로로 변경되어 접촉부의 전도성이 향상된다는 장점이 있다.
또한, 전도성 입자들이 집중되어, 접촉부의 단락에 의한 수명저하를 방지할 수 있다는 장점도 있다.
도 1과 2는 종래기술에 따른 테스트용 소켓의 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
도 4는 두께 방향으로 가해지는 압력에 따른 접촉부에 변화를 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상의 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다.
이방 전도성 시트(100)는 검사 장치(3)의 접촉 패드(4)와 반도체 소자(1)의 단자(2)를 전기적으로 연결하는 역할을 한다. 이방 전도성 시트(100)는 두께방향으로, 검사 장치(3)의 접촉 패드(4) 및 반도체 소자(1)의 단자(2)에 대응하는 위치에서는 전도성을 가진다. 그러나 두께방향과 직교하는 방향으로는 전도성을 가지지 않는다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 이방 전도성 시트(100)는 접촉부(110)와 절연부(115)를 포함한다. 접촉부(110)는 반도체 소자(1)의 단자(2) 및 검사 장치(3)의 접촉 패드(4)에 대응하는 위치에 각각 배치된다. 접촉부(110)는 두께 방향으로 전기 전도성을 갖는다.
접촉부(110)는 탄성 매트릭스(111), 전도성 스프링(113), 전도성 입자(112)들을 포함한다. 접촉부(110)는 절연부(115)와 일체로 형성되거나, 절연부(115)로부터 분리 가능하도록 형성할 수 있다. 절연부(115)로부터 분리 가능하도록 형성할 경우에는 불량이 발생한 접촉부(115)만 따로 교체할 수 있다는 장점이 있다.
본 실시예에서, 탄성 매트릭스(111)는 대체로 원기둥 형태이다. 탄성 매트릭스(111)는 전도성 스프링(113) 및 전도성 입자(112)들을 지지하는 역할을 한다. 또한, 측정시에 탄성 변형되면서 단자(2) 및 접촉 패드(4)에 가해지는 압력을 감소시키면서, 접촉부(110)를 단자(2) 및 접촉 패드(4)에 밀착시키는 역할을 한다.
탄성 매트릭스(111)는 다양한 종류의 고분자 물질로 형성할 수 있다. 예를 들어, 실리콘 고무로 이루어질 수 있다. 실리콘 고무는 액상 실리콘 고무를 경화하여 얻을 수 있다. 실리콘 고무의 경도는 10~40(shore A)가 적당하며, 신율은 300~700% 정도가 적정하다. 경도가 40을 초과할 경우, 소자(1)에 마이크로 다이 크랙(micro die crack)이 발생하게 될 우려가 있다. 또한, 신율이 300% 미만일 경우, 접촉부(110)의 수축 팽창시에 이에 대한 억제력으로 작용하게 되므로 하중 증가의 원인이 되며, 신율이 700% 이상일 경우 팽창 후 복원시 복원력이 약화될 우려가 있다.
전도성 스프링(113)은 전기 전도성이 우수한 물질로 이루어진다. 전도성 스프링(113)은 스테인리스 스틸, 알루미늄, 청동, 니켈, 금, 은, 팔라듐 등 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 또한, 전도성이 높은 도금 층을 구비할 수도 있다. 전도성 스프링(113)은 선재를 나선형으로 감아서 만든 원통형의 코일 스프링 형태일 수 있다. 전도성 스프링(113)은 그 외경이 탄성 매트릭스(111)의 지름과 같거나, 약간 작은 것이 바람직하다. 그리고 전도성 스프링(113)의 길이는 절연부(115)의 두께와 같거나, 절연부(115)의 두께에 비해서 길 수 있다.
전도성 스프링(113)의 외경은 반도체 소자(1)의 단자(2)의 크기에 비해 10% 정도 더 큰 것이 바람직하다. 외경이 이보다 작으면, 전기 전도도가 떨어지고 스프링 상수가 증가하여 하중 증가로 이어진다는 문제점이 있다. 외경이 이보다 더 크면, 인접 단자(2)에 간섭이 생길 수 있다.
또한, 스프링 상수는 30 이하가 적정한데, 스프링 상수가 30을 초과할 경우, 피측정물에 손상의 우려가 있다.
또한, 코일 스프링의 유효 권수는 0.128㎜당 1회 정도가 적정하며, 이보다 작은 경우, 스프링 상수가 올라가 하중을 증가시킬 우려가 있으며, 이를 초과하는 경우, 최대 작동범위가 감소하는 문제가 있다.
전도성 입자(112)들은 탄성 매트릭스(111)의 두께방향으로 배열된다. 전도성 입자(112)들은 전도성 스프링(113)과 함께 이방 전도성 시트(100)에 두께 방향으로 전도성을 부여한다. 반도체 소자(1)의 검사를 위해서 반도체 소자(1)의 단자(2)와 검사 장치(3)의 접촉 패드(4)가 가까워지는 방향으로 압력이 가해지면, 이들 사이에 배치되는 이방 전도성 시트(100)가 두께 방향으로 압축된다. 그리고 전도성 입자(112)들이 서로 가까워지면서 전기 전도도가 더욱 높아진다.
전도성 입자(112)들은 철, 구리, 아연, 크롬, 니켈, 은, 코발트, 알루미늄 등과 같은 단일 도전성 금속재 또는 이들 금속재료 둘 이상의 합금재로 구현될 수 있다. 또한, 전도성 입자(112)들은 코어 금속의 표면을 전도성이 뛰어난 금과 같은 금속으로 코팅하는 방법으로 구현할 수도 있다.
도 4는 두께 방향으로 가해지는 압력에 따른 접촉부에 변화를 나타낸 단면도이다. 도 3과 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에서, 전도성 입자(112)들은 탄성 매트릭스(111)에 골고루 배치되지 않으며, 위치별로 다른 밀도로 배치된다. 즉, 전기 전도성 스프링(113)을 이루는 선재의 주변부 즉, 선재의 둘레에 전도성 입자(112)들이 고밀도로 배치되어, 선재 사이의 공간을 채운다. 또한, 전도성 입자(112)들은 탄성 매트릭스(111)의 중심부에 비해 탄성 매트릭스(111)의 양단부에 더 고밀도로 배치된다. 결국, 전기 전도성 스프링(113)과 전도성 입자(112)들이 함께 대체로 원통 형태를 이루게 된다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 압력이 가해지면, 전도성 입자(112)들은 전도성 입자(112)들의 밀도가 낮은 탄성 매트릭스(111)의 중심부 방향으로 밀리면서, 압력이 낮을 때에는 서로 접촉하지 않던 전도성 입자(112)도 서로 접촉하여, 접촉면적이 더욱 증가한다. 그 결과 전기 전도도가 더욱 높아진다.
절연부(115)는 인접한 접촉부(110)들을 서로 절연시키는 역할을 한다. 또한, 접촉부(110)들을 지지하는 역할도 한다. 절연부(115)는 탄성력이 있는 절연 재료라면 특별한 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 실리콘, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, SBR, NBR 등 및 그들의 수소화합물과 같은 디엔형 고무로 구현될 수 있다. 또한, 스티렌부타디엔블럭, 코폴리머, 스티렌이소프렌블럭코폴리머 등 및 그들의 수소 화합물과 같은 블럭코 폴리머로 구현될 수도 있다. 또한, 클로로프렌, 우레탄 고무, 폴리에틸렌형 고무, 에피클로로히드린 고무, 에틸렌-프로필렌코폴리머, 에틸렌프로필렌디엔코폴리머 등으로 구현될 수도 있다.
도시하지 않았으나, 절연부(115)의 주변에는 금속 프레임이 결합될 수 있다. 금속 프레임은 검사 장치(3)에 설치된 가이드 핀이 삽입되는 가이드 홀이 형성되어 있다. 가이드 핀과 가이드 홀은 이방성 시트를 검사 장치(3)에 대해서 정렬하는데 사용된다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다. 본 실시예는 도 3에 도시된 실시예와 달리 절연부의 두께에 비해서 접촉부의 길이가 길다. 절연부(215)의 두께(t)와 접촉부(210)의 길이(l)의 비는 0.7 이상 0.9 미만일 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 접촉부(210)의 양단 모두 돌출될 수도 있으며, 양단 중 하나만 돌출될 수도 있다. 이러한 특징적인 구성을 가진 본 실시예는 검사시에 절연부가 반도체 소자와 접촉되는 것을 방지할 수 있기 때문에 반도체 소자가 오염되거나 반도체 소자와 절연부가 붙는 현상을 방지할 수 있다는 장점이 있다. 본 발명의 접촉부에는 전도성 스프링이 포함되어 있으므로, 절연부에 비해서 접촉부의 두께를 두껍게 하기가 용이하다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다. 본 실시예는 도 3에 도시된 실시예와 달리 모래시계 형태의 코일 스프링(313)을 사용한다. 본 실시예는 접촉부(310)가 두께 방향과 수직인 방향으로 좀 더 용이하게 휠 수 있어서 단자(2)와 접촉 패드(4) 사이에 오정렬이 발생할 경우에도 원활한 접속 상태를 유지할 수 있다는 장점이 있다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 이방 전도성 시트를 나타내는 도면이다. 본 실시예는 도 3에 도시된 실시예와 달리 코일 스프링(413)의 상단과 하단에 인접하여 설치되는 전도성 플레이트(416)들을 더 포함한다. 전도성 플레이트(416)들에는 관통구멍들이 각각 형성되어 있다. 관통구멍들은 전도성 입자(412)들과 탄성 매트릭스(411)가 통과할 수 있는 통로가 된다.
본 실시예는 코일 스프링(413)의 첨단부에 의해서 단자(2)와 접촉 패드(4)가 손상되는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 전도성 플레이트(416)들과 단자(2) 및 접촉 패드(4)가 직접 접촉하거나, 사이에 배치된 전도성 입자(412)들을 통해서 접촉하여 전류용량이 증대될 수 있다는 장점도 있다.
이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
예를 들어, 도 7에는 전도성 플레이트들이 코일 스프링의 양단에 모두 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 상단 또는 하단 중 한쪽에만 배치될 수도 있다.
1: 소자
2: 단자
3: 검사 장치
4: 접촉 패드
100, 200, 300: 이방 전도성 시트
110, 210, 310, 410: 접촉부
111, 211, 311, 411: 탄성 매트릭스
112, 212, 312, 412: 전도성 입자
113, 213, 313, 413: 전도성 스프링
115, 215, 315, 415: 지지부
416: 전도성 플레이트

Claims (13)

  1. 검사 대상인 소자와 검사 장치 사이에 배치되어 상기 소자의 단자와 검사 장치의 접촉 패드를 서로 전기적으로 연결하는 이방 전도성 시트로서, 상기 소자의 단자 및 검사 장치의 접촉 패드에 대응하는 위치에 배치되며, 두께 방향으로 전기 전도성을 갖는 복수의 접촉부와, 인접한 접촉부들을 서로 절연시키며, 접촉부들을 지지하는 절연부를 포함하는 이방 전도성 시트에 있어서,
    상기 접촉부는,
    탄성 매트릭스와, 상기 탄성 매트릭스 내에 배치되는 전도성 스프링과, 상기 탄성 매트릭스의 두께방향으로 배열되는 다수의 전도성 입자들을 포함하며,
    상기 전도성 입자들은 상기 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 고밀도로 배치되는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 입자들은 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 상기 탄성 매트릭스의 양단부에 더 고밀도로 배치되는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 스프링은 코일 스프링인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 절연부의 두께와 상기 접촉부의 길이의 비는 0.7 이상 0.9 미만인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 전도성 스프링은 중심에서 양단부로 진행할수록 지름이 커지는 모래시계 형태의 코일 스프링인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 탄성 매트릭스 내부에, 상기 전도성 스프링의 양단부 중 적어도 하나에 인접하여 배치되는 전도성 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 전도성 플레이트의 중심부에는 관통구멍이 형성된 것을 특징으로 하는 이방 전도성 시트.
  8. 탄성 매트릭스와, 상기 탄성 매트릭스 내에 배치되는 전도성 스프링과, 상기 탄성 매트릭스의 두께방향으로 배열되는 다수의 전도성 입자들을 포함하며,
    상기 전도성 입자들은 상기 전도성 스프링을 이루는 선재의 주변부에 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 고밀도로 배치되는 전도성 접촉부.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 전도성 입자들은 상기 탄성 매트릭스의 중심부에 비해 상기 탄성 매트릭스의 양단부에 더 고밀도로 배치되는 전도성 접촉부.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 전도성 스프링은 코일 스프링인 전도성 접촉부.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 전도성 스프링은 중심에서 양단부를 진행할수록 지름이 커지는 모래시계 형태의 코일 스프링인 전도성 접촉부.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 탄성 매트릭스 내부에, 상기 전도성 스프링의 양단부 중 적어도 하나에 인접하여 배치되는 전도성 플레이트를 더 포함하는 전도성 접촉부.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 전도성 플레이트의 중심부에는 관통구멍이 형성된 전도성 접촉부.
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