KR20180138472A - 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치 - Google Patents

테스트 회로를 포함하는 반도체 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20180138472A
KR20180138472A KR1020170078731A KR20170078731A KR20180138472A KR 20180138472 A KR20180138472 A KR 20180138472A KR 1020170078731 A KR1020170078731 A KR 1020170078731A KR 20170078731 A KR20170078731 A KR 20170078731A KR 20180138472 A KR20180138472 A KR 20180138472A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
test
pad
test circuit
switching
normal
Prior art date
Application number
KR1020170078731A
Other languages
English (en)
Inventor
김성진
윤대호
Original Assignee
에스케이하이닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이하이닉스 주식회사 filed Critical 에스케이하이닉스 주식회사
Priority to KR1020170078731A priority Critical patent/KR20180138472A/ko
Priority to US15/879,498 priority patent/US10935597B2/en
Priority to CN201810142207.0A priority patent/CN109100632A/zh
Publication of KR20180138472A publication Critical patent/KR20180138472A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2872Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation
    • G01R31/2879Environmental, reliability or burn-in testing related to electrical or environmental aspects, e.g. temperature, humidity, vibration, nuclear radiation related to electrical aspects, e.g. to voltage or current supply or stimuli or to electrical loads
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2884Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/282Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
    • G01R31/2831Testing of materials or semi-finished products, e.g. semiconductor wafers or substrates
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/319Tester hardware, i.e. output processing circuits
    • G01R31/31903Tester hardware, i.e. output processing circuits tester configuration
    • G01R31/31905Interface with the device under test [DUT], e.g. arrangements between the test head and the DUT, mechanical aspects, fixture
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/04Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
    • G01R1/0408Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
    • G01R1/0491Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets for testing integrated circuits on wafers, e.g. wafer-level test cartridge
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/2856Internal circuit aspects, e.g. built-in test features; Test chips; Measuring material aspects, e.g. electro migration [EM]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/3185Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning
    • G01R31/318505Test of Modular systems, e.g. Wafers, MCM's
    • G01R31/318511Wafer Test
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/34Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
    • H01L22/32Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors

Abstract

본 기술은 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치를 개시한다. 본 기술의 일 실시예에 따른 반도체 장치는 웨이퍼 테스트시 테스트 장비의 프로브와 접속되는 테스트 패드, 노말 모드시 전원 또는 신호가 전달되는 노말 패드, 및 상기 테스트 패드를 통해 인가되는 테스트 신호에 따라 기 설정된 테스트 동작을 수행하는 테스트 회로를 포함하되, 상기 테스트 회로는 상기 노말 패드의 아래에 배치될 수 있다.

Description

테스트 회로를 포함하는 반도체 장치{SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING TEST CIRCUIT}
본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼 테스트시 사용되는 테스트 회로에 대한 배치 구조를 개선한 반도체 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치의 집적회로(Integrated Circuit)는 반도체 웨이퍼 상에서 다이(die) 형태로 제조된 후 서로 분리되어 패키징된다. 이때, 불량 집적회로들을 패키징하는 비용이 발생하지 않도록 하기 위하여 웨이퍼 상태에서 집적회로들을 테스트하는 것이 바람직하다.
이러한 웨이퍼 테스트는 테스트 모드 신호가 하이 레벨이 되어 테스트 모드로 진입하면, 노말 패드와 별도로 구비된 테스트 패드에 프로브를 접촉시켜 테스트 패드를 통해 테스트 회로에 테스트 신호(test signal)를 전송하고, 그러한 테스트 신호에 따라 테스트 회로가 출력하는 신호들을 모니터링하는 일련의 과정들로 이루어진다.
종래에는 이러한 웨이퍼 테스트시 사용되는 테스트 회로를 반도체 장치의 메인 회로 영역에 형성한 후 반도체 장치의 테스트 모드시 패드 또는 입/출력 핀을 이용하여 테스트 회로의 EPM(Electric Parameter Monitor) 측정을 실시하였다.
그런데, 반도체 장치의 넷다이(netdie) 확보 및 PDN(Power Distribution Network) 특성 확보가 중요해지면서 반도체 장치 내부에 형성되는 테스트 회로의 면적 비중이 커지고 있다.
또한, 반도체 장치의 내부와 외부를 연결하는 패드를 사용함에 있어서, 반도체 장치의 전체 면적에서 패드가 차지하는 면적 비중이 크다. 그런데, 웨이퍼 테스트시 발생하는 프로브의 물리적 접촉에 의한 충격 때문에 패드의 아래에는 회로를 형성하지 않고 있다.
본 발명의 실시예는 웨이퍼 테스트시에 사용되는 테스트 회로의 배치 구조를 개선함으로써 넷다이를 최대로 확보할 수 있고 PDN 특성을 확보할 수 있는 반도체 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치는 웨이퍼 테스트시 테스트 장비의 프로브와 접속되는 테스트 패드, 노말 모드시 전원 또는 신호가 전달되는 노말 패드, 및 상기 테스트 패드를 통해 인가되는 테스트 신호에 따라 기 설정된 테스트 동작을 수행하는 테스트 회로를 포함하되, 상기 테스트 회로는 상기 노말 패드의 아래에 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예는 반도체 장치에서 웨이퍼 테스트를 위해 사용되는 테스트 회로의 배치 구조를 개선함으로써 넷다이를 최대로 확보할 수 있고 PDN 특성을 확보할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 장치의 구조를 나타내는 도면.
도 2는 도 1에서의 스위칭부와 스위칭 제어부의 구성을 예시적으로 보다 구체적으로 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 도면.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 장치의 구조를 나타내는 도면이다.
본 실시예에 따른 반도체 장치(반도체 칩)는 테스트 패드(12), 노말 패드(14), 테스트 회로(20), 전원 공급부(30), 스위칭부(40) 및 스위칭 제어부(50)를 포함한다.
테스트 패드(12)는 웨이퍼 테스트시 테스트 장비의 테스트용 프로브 카드 핀(Probe card Pin)과의 전기적인 접속을 위해 사용되는 패드이다. 즉, 테스트 패드(12)는 웨이퍼 상태에서 반도체 장치를 테스트하기 위한 용도로만 사용되며, 테스트가 완료된 후 패키징된 상태에서는 사용되지 않는다. 이러한 테스트 패드(12)는 메탈3(M3) 레이어에 형성될 수 있다. 테스트 패드(12)는 콘택(Contact)을 통해 하부의 메탈 라인들(M2, M1, M0)과 연결될 수 있다. 도 1에서는, 설명의 편의상, 하나의 테스트 패드(12)만을 예시적으로 도시하였으나 복수개의 테스트 패드들이 존재할 수 있다.
노말 패드(14)는 반도체 장치가 본래의 기능들을 정상적으로 수행하는 노말 모드시, 외부 전원을 공급받거나 신호(데이터)의 전달을 위한 패드이다. 즉, 노말 패드(14)는 웨이퍼 테스트시에는 사용되지 않는 패드이며, 패키징시 와이어 본딩 또는 범핑되는 패드이다. 이러한 노말 패드(14)도 메탈3(M3) 레이어에 형성될 수 있다. 노말 패드(14)와 테스트 회로(20) 사이에는 적어도 하나의 메탈 라인들(M2, M1, M0)이 형성될 수 있다.
테스트 회로(20)는 스위칭부(40)의 스위치(SW0)를 통해 테스트 패드(12)와 전기적으로 연결된다. 테스트 회로(20)는 테스트 패드(12)에 인가되는 테스트 신호를 스위칭부(40)를 통해 제공받으면, 그 테스트 신호에 따라 기 설정된 테스트 동작들을 수행하고 그에 따른 결과를 출력한다. 이러한 테스트 회로(20)는 테스트 패드(12)가 사용되는 웨이퍼 테스트시에만 사용되며, 노말 패드(14)가 사용되는 노말 동작에는 영향을 주지 않는 회로들이다. 특히, 본 실시예에서의 테스트 회로(20)는 노말 패드(14) 아래에 형성된다. 즉, 테스트 회로(20)는 노말 패드(14)의 아래에 있는 기판(액티브 영역, ISO) 및 메탈 라인들(M0, M1)을 이용하여 형성될 수 있다. 이때, 테스트 회로(20)는 전체 또는 일부가 노말 패드(14)와 수직한 방향으로 중첩되도록 노말 패드(14)의 아래에 배치될 수 있다.
전원 공급부(30)는 테스트 회로(20)에 동작 전원을 공급한다. 이러한 전원 공급부(30)는 스위칭부(40)의 스위치(SW1)를 통해 테스트 회로(20)와 선택적으로 연결되어 동작 전원을 공급한다.
스위칭부(40)는 스위칭 제어부(50)에서 출력되는 스위칭 신호(SS)에 따라 온/오프되어 테스트 회로(20)를 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)로부터 선택적으로 분리시킨다. 예컨대, 스위칭부(40)의 스위치들(SW0, SW1)은 스위칭 제어부(50)로부터 스위칭 신호(SS)가 활성화되어 출력되면 온 되며, 이 경우 테스트 회로(20)는 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)와 전기적으로 연결된다. 반면에, 스위칭부(40)는 스위칭 신호(SS)가 비활성화되면 오프 되며, 이 경우 테스트 회로(20)는 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)와 전기적으로 분리된다. 이러한 스위칭부(40)는 스위칭 신호(SS)에 따라 테스트 패드(12)와 테스트 회로(20) 사이를 선택적으로 연결시켜주는 제 1 스위치(SW0) 및 스위칭 신호(SS)에 따라 테스트 패드(12)와 전원 공급부(30) 사이를 선택적으로 연결시켜주는 제 2 스위치(SW1)를 포함할 수 있다.
스위칭 제어부(50)는 웨이퍼 테스트시에는 스위칭 신호(SS)를 출력하여 스위칭부(40)의 스위치들(SW0, SW1)을 온 시키고, 웨이퍼 테스트가 완료된 후 노말 모드시에는 스위칭 신호(SS)를 출력하지 않음으로써 스위칭부(40)의 스위치들(SW0, SW1)을 오프시킨다. 예컨대, 스위칭 제어부(50)는 웨이퍼 테스트 시에 생성되는 테스트 모드 신호(TMS)를 이용하여 스위칭 신호(SS)를 출력할 수 있다.
도 2는 도 1에서의 스위칭부(40)와 스위칭 제어부(50)에 대한 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 2에서와 같이, 스위칭부(40)의 스위치들(SW0, SW1)은 스위칭 신호(SS)에 따라 선택적으로 온/오프 되는 MOS 트랜지스터(예컨대, NMOS 트랜지스터)를 포함한다.
스위칭 제어부(50)는 테스트 모드 신호(TMS)가 입력되는 단자와 스위칭부(40)의 스위치들(SW0, SW1) 사이에 연결되는 퓨즈(fuse)를 포함할 수 있다. 이러한 퓨즈는 웨이퍼 테스트시에는 커팅되지 않은 상태로 존재하며, 웨이퍼 테스트 후에는 커팅된다.
따라서, 스위칭 제어부(50)는 웨이퍼 테스트시에는 테스트 모드 신호(TMS)를 그대로 전달하여 스위칭 신호(SS)로서 출력한다. 이에 따라, 스위치들(SW0, SW1)이 온 됨으로써, 테스트 회로(20)는 전원 공급부(30)로부터 동작 전원을 공급받고 테스트 패드(12)를 통해 인가받은 테스트 신호에 따라 테스트 동작을 수행한다.
반면에, 웨이퍼 테스트 후에는 더 이상 테스트 회로(30)가 필요하지 않으므로, 퓨즈를 커팅하여 테스트 모드 신호(TMS)의 전달 경로를 차단시킴으로써 스위칭 신호(SS)가 출력되지 않도록 하여 스위치들(SW0, SW1)을 오프시킨다. 이로써, 테스트 회로(20)는 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)와 전기적으로 분리시킨다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.
상술한 실시 예에서는 스위칭부(40)가 스위칭 신호(SS)에 따라 선택적으로 온/오프 되는 스위칭 소자 예컨대 MOS 트랜지스터로 이루어지는 경우를 설명하였으나, 본 실시 예에서와 같이 퓨즈로 스위칭부(60)를 형성할 수도 있다.
본 발명에서 스위칭부의 역할은 웨이퍼 테스트시에는 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)와 테스트 회로(20)를 전기적으로 연결시켜주고, 테스트가 종료되면 테스트 회로(20)를 테스트 패드(12) 및 전원 공급부(30)와 전기적으로 분리시키는 것이다.
따라서, 본 실시 예에서와 같이, 스위칭부(60)를 퓨즈로 형성하는 경우, 웨이퍼 테스트 후 웨이퍼 상태에서 스위칭부(60)의 퓨즈를 커팅함으로써 본래의 목적이 달성될 수 있다.
이러한 경우, 스위칭 제어부(50)가 형성되지 않을 수도 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시예에서는 웨이퍼 테스트시에만 사용되는 테스트 회로(20)를 다른 회로 구성들과 구분하여 웨이퍼 테스트시에는 사용되지 않는 노말 패드(14)의 아래에 배치시킨다.
이로써, 웨이퍼 테스트시에는 프로브와의 물리적 접촉에 의해 테스트 패드(12)에 가해지는 물리적 충격(stress)이 테스트 회로(20)에 전달되는 것을 최소화할 수 있다.
그리고, 종래에는 회로를 형성하지 않았었던 노말 패드(14)의 아래쪽 영역 즉 패드 영역에 웨이퍼 테스트시에만 일시적으로 사용되는 테스트 회로(10)를 형성하여 반도체 장치 내에서 회로를 구성하기 위해 필요했던 면적을 그만큼 줄일 수 있음으로써, 필요 면적을 최소화하여 넷다이를 최대로 확보할 수 있다. 또한, 웨이퍼 테스트 이후에는 테스트 회로(10)를 전기적으로 분리시킴으로써 PDN 특성을 확보할 수 있다.
이러한 테스트 회로(20)는 테스트 회로(20)를 노말 패드(14)의 아래에 형성하더라도, 웨이퍼 테스트 이외에는 필요하지 않은 구성이며 웨이퍼 테스트 이후에는 다른 회로 구성들과 전기적으로 분리시킴으로써, 패키징 공정시 와이어 본딩 등으로 인해 노말 패드(14)에 충격이 가해지더라도 반도체 장치의 동작에는 별다른 영향을 주지 않는다.
상술한 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
12 : 테스트 패드
14 : 노말 패드
20 : 테스트 회로
30 : 전원 공급부
40, 60 : 스위칭부
50 : 스위칭 제어부
SW0, SW1 : 스위치

Claims (10)

  1. 웨이퍼 테스트시 테스트 장비의 프로브와 접속되는 테스트 패드;
    노말 모드시 전원 또는 신호가 전달되는 노말 패드; 및
    상기 테스트 패드를 통해 인가되는 테스트 신호에 따라 기 설정된 테스트 동작을 수행하는 테스트 회로를 포함하되,
    상기 테스트 회로는
    상기 노말 패드의 아래에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    스위칭 신호에 따라 상기 테스트 패드와 상기 테스트 회로 사이를 선택적으로 전기적으로 연결시켜주는 제 1 스위치; 및
    상기 웨이퍼 테스트시 활성화되는 제어신호를 이용하여 상기 스위칭 신호를 출력하는 스위칭 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 스위칭 제어부는
    상기 웨이퍼 테스트시에는 상기 제어신호를 전달하여 상기 스위칭 신호로서 출력하고, 상기 노말 모드시에는 상기 제어신호의 전달을 차단하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 스위칭 제어부는
    상기 제어신호 입력단과 상기 제 1 스위치 사이에 연결되는 퓨즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 테스트 회로에 동작 전원을 공급하는 전원 공급부; 및
    상기 스위칭 신호에 따라 상기 전원 공급부와 상기 테스트 회로 사이를 선택적으로 전기적으로 연결시켜주는 제 2 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 테스트 회로는
    상기 테스트 회로의 일부 또는 전체가 상기 노말 패드의 하부면과 수직한 방향으로 상기 노말 패드와 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 노말 패드와 상기 테스트 회로 사이에 위치하는 메탈 라인들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    따라 상기 테스트 패드와 상기 테스트 회로 사이를 전기적으로 연결시켜주는 퓨즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  9. 제 1 패드;
    제 2 패드; 및
    상기 제 1 패드와 전기적으로 연결되되, 상기 제 2 패드 아래에 위치하는 스위칭 소자를 포함하는 반도체 장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 스위칭 소자는
    상기 제 2 패드의 하부면과 수직한 방향으로 상기 제 2 패드와 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
KR1020170078731A 2017-06-21 2017-06-21 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치 KR20180138472A (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170078731A KR20180138472A (ko) 2017-06-21 2017-06-21 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치
US15/879,498 US10935597B2 (en) 2017-06-21 2018-01-25 Semiconductor device including test circuit
CN201810142207.0A CN109100632A (zh) 2017-06-21 2018-02-11 包括测试电路的半导体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170078731A KR20180138472A (ko) 2017-06-21 2017-06-21 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180138472A true KR20180138472A (ko) 2018-12-31

Family

ID=64693038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170078731A KR20180138472A (ko) 2017-06-21 2017-06-21 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10935597B2 (ko)
KR (1) KR20180138472A (ko)
CN (1) CN109100632A (ko)

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3135378B2 (ja) * 1992-08-10 2001-02-13 ローム株式会社 半導体試験装置
US5844914A (en) * 1996-05-15 1998-12-01 Samsung Electronics, Co. Ltd. Test circuit and method for refresh and descrambling in an integrated memory circuit
US7026646B2 (en) * 2002-06-20 2006-04-11 Micron Technology, Inc. Isolation circuit
JP4492926B2 (ja) * 2003-11-28 2010-06-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
KR20060066500A (ko) 2004-12-13 2006-06-16 삼성전자주식회사 반도체 장치
KR100899664B1 (ko) * 2007-01-10 2009-05-27 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 테스트 방법
WO2009144791A1 (ja) * 2008-05-28 2009-12-03 株式会社アドバンテスト 試験システムおよび書込用ウエハ
KR101123802B1 (ko) * 2010-04-15 2012-03-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 칩
KR20130012795A (ko) * 2011-07-26 2013-02-05 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 집적회로
JP5748621B2 (ja) * 2011-09-12 2015-07-15 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体チップ
KR101891163B1 (ko) * 2012-04-04 2018-08-24 에스케이하이닉스 주식회사 테스트 회로 및 이를 포함하는 반도체 장치
KR101919415B1 (ko) * 2012-08-08 2018-11-16 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치
KR20140029669A (ko) * 2012-08-29 2014-03-11 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 이의 테스트 방법
KR102099914B1 (ko) 2013-10-29 2020-05-15 삼성전자주식회사 영상 처리 장치 및 영상 처리 방법
KR20150136874A (ko) 2014-05-28 2015-12-08 에스케이하이닉스 주식회사 셀 레저버 캐패시터를 갖는 반도체 장치
KR20160084100A (ko) * 2015-01-05 2016-07-13 에스케이하이닉스 주식회사 적층 메모리 장치 및 시스템
KR102637795B1 (ko) * 2017-02-10 2024-02-19 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US10935597B2 (en) 2021-03-02
CN109100632A (zh) 2018-12-28
US20180372795A1 (en) 2018-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6121677A (en) Reduced size integrated circuits and methods using test pads located in scribe regions of integrated circuits wafers
KR100845751B1 (ko) 패키징된 다이를 테스트하기 위한 시스템 및 방법
US7880491B2 (en) Multilayer semiconductor device
US5859442A (en) Circuit and method for configuring a redundant bond pad for probing a semiconductor
US20140029150A1 (en) Interposer to regulate current for wafer test tooling
JP2002313860A (ja) 半導体装置
US5796266A (en) Circuit and a method for configuring pad connections in an integrated device
JP2006261504A (ja) 半導体装置及びその試験方法
US7183671B2 (en) Semiconductor device and method for producing the same
KR20180138472A (ko) 테스트 회로를 포함하는 반도체 장치
US6809378B2 (en) Structure for temporarily isolating a die from a common conductor to facilitate wafer level testing
US20080093597A1 (en) Semiconductor device
US6599764B1 (en) Isolation testing scheme for multi-die packages
US11181589B2 (en) Semiconductor device
KR101086519B1 (ko) 집적 회로 다이의 내부 신호 패드로의 접근 제공 방법 및패키지 집적 회로
JP2012042226A (ja) 半導体装置およびその試験方法
JP3495835B2 (ja) 半導体集積回路装置及びその検査方法
JP3783865B2 (ja) 半導体装置及びそのバーンインテスト方法、製造方法並びにバーンインテスト制御回路
KR20080038985A (ko) 메모리 소자의 테스트 패드 전환 회로
KR20030085182A (ko) 멀티 프로빙 패드를 구비한 반도체 테스트 장치
JPH11108992A (ja) 半導体集積回路及び電子装置
JP2005274516A (ja) 半導体集積回路及びその試験手法
JP5908545B2 (ja) 高性能サブシステムの設計および組立体
JPH05341014A (ja) 半導体モジュール装置、半導体モジュール単体及び試験方法
JPH10125747A (ja) 半導体集積回路装置