KR20180132622A - 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물 및 그 제조방법 - Google Patents

모노글리시딜이소시아누레이트 화합물 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

[과제] 질소원자와 결합하는 치환기로서 1개의 글리시딜기를 갖는, 신규한 이소시아누레이트 화합물을 제공한다.
[해결수단] 하기 식(1), 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
Figure pct00021

(이들 식 중, 2개의 R1은 각각 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기를 나타내고, 2개의 R2는 각각 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R3은 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타내고, 2개의 R4는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R5는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다.)

Description

모노글리시딜이소시아누레이트 화합물 및 그 제조방법
본 발명은, 질소원자와 결합하는 치환기로서 1개의 글리시딜기를 갖는, 신규한 이소시아누레이트 화합물, 및 그 제조방법에 관한 것이다.
글리시딜기를 적어도 1개 갖는 이소시아눌산 유도체가 종래부터 알려져 있다. 예를 들어 특허문헌 1에는, 트리글리시딜이소시아누레이트, 모노알릴디글리시딜이소시아누레이트 및 디알릴모노글리시딜이소시아누레이트가 개시되어 있다. 동 문헌에는, 트리글리시딜이소시아누레이트와, 모노알릴디글리시딜이소시아누레이트 및/또는 디알릴모노글리시딜이소시아누레이트를 배합한 에폭시 수지 조성물은, 접착제, 도료, 주형재료, 적층재료 등으로서 호적한 것이 개재되어 있다. 특허문헌 2에는, 1,3-디알릴-5-글리시딜이소시아눌산의 문제점을 해결할 수 있는 모노글리시딜이소시아눌산 화합물이 개시되어 있다. 그러나, 동 문헌에서 합성되는 모노글리시딜이소시아눌산 화합물은, 1분자 중에 방향족환을 2개 가지므로, 유기용제에 대한 용해성이 뒤떨어지는 경우가 있다.
특허문헌 3에는, 글리시딜기를 적어도 1개 및/또는 알릴기를 적어도 1개 갖는 이소시아눌산 유도체를 출발원료로 하여, 알케닐 화합물을 합성하고, 이것을 반응중간체로 하여 추가로 에폭시 화합물을 합성하는 방법이 개시되어 있다. 또한, 합성된 상기 에폭시 화합물을 이용한 레지스트 하층막 형성 조성물이 개시되어 있다.
일본특허 제3902140호 일본특허공개 2007-238472호 공보 일본특허공개 2013-32327호 공보
본 발명은, 예를 들어 레지스트 하층막 형성 조성물의 원료로서의 용도가 기대되는, 신규한 이소시아누레이트 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 발명자는, 모노알릴이소시아눌산(별칭: 모노알릴이소시아누레이트)을 출발원료로 하여, 질소원자와 결합하는 치환기로서 1개의 글리시딜기를 갖는 이소시아누레이트 화합물을 얻었다. 즉, 본 발명은, 하기 식(1), 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물이다.
[화학식 1]
Figure pct00001
(이들 식 중, 2개의 R1은 각각 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기를 나타내고, 2개의 R2는 각각 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R3은 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타내고, 2개의 R4는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R5는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다.)
상기 2개의 R1은 각각, 예를 들어 탄소원자수 2 또는 3의 알킬기를 나타낸다.
상기 2개의 R2는 각각, 예를 들어 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타낸다.
상기 2개의 R3은 각각, 예를 들어 메틸기를 나타낸다.
상기 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 예를 들어, 이 식(2)에 있어서의 -R2OR3기 또는 이 식(3)에 있어서의 -R2OR4OR5기의 탄소원자 및 산소원자의 총 수가 4 이상이고, 상온상압의 하에서 액체이다. 여기서, 상온상압이란, 본 명세서에서는, 온도 20℃ 내지 25℃, 기압 101kPa로 정의한다.
본 발명은 또한, 모노알릴이소시아눌산으로부터 하기 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체를 얻는 공정, 및 이 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체를 산화제와 반응시키는 공정을 갖는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물의 제조방법이다.
[화학식 2]
Figure pct00002
(이들 식 중, 2개의 R1은 각각 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기를 나타내고, 2개의 R2는 각각 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R3은 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타내고, 2개의 R4는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R5는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다.)
상기 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체는, 예를 들어, 상기 모노알릴이소시아눌산과 하기 식(a), 식(b) 또는 식(c)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 얻어진다.
[화학식 3]
Figure pct00003
(이들 식 중, X는 클로로기, 브로모기 또는 요오드기를 나타내고, R1은 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기를 나타내고, R2는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, R3은 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타내고, R4는 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, R5는 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다.)
상기 산화제는, 예를 들어, m-클로로과안식향산 또는 과산화수소이다.
본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 레지스트 하층막 형성 조성물 등의 폴리머 또는 올리고머 성분의 원료로서의 용도가 기대된다. 본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 상기 레지스트 하층막 형성 조성물 등에 사용되는 유기용제(프로필렌글리콜모노메틸에테르)에 대한 용해성이 우수하다. 또한, 다관능카르본산, 다관능페놀, 다관능티오페놀 등과의 반응생성물로 함으로써, 해당 반응생성물을 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 등으로부터 형성되는 막의 에칭레이트의 향상, 및 용해성의 향상이 전망된다.
본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 상기 식(1), 식(2) 또는 식(3)으로 표시된다. 해당 식(1)에 있어서, R1로 표시되는 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 해당 알킬기로서, 예를 들어, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-펜틸기, n-노닐기, n-데실기, 시클로헥실메틸기, 및 시클로펜틸메틸기를 들 수 있다.
상기 식(2) 및 식(3)에 있어서, R2로 표시되는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기로서, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기를 들 수 있다. 상기 식(2)에 있어서, R3은 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다. 해당 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기로서, 예를 들어, 메틸기, 에틸기를 들 수 있다. 상기 식(3)에 있어서, R4로 표시되는 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기로서, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기를 들 수 있다. 상기 식(3)에 있어서, R5로 표시되는 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기로서, 예를 들어, 메틸기, 에틸기를 들 수 있다.
본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물로서, 예를 들어, 하기 식(1-1) 내지 식(1-13), 식(2-1) 내지 식(2-5), 및 식(3-1) 내지 식(3-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 4]
Figure pct00004
실시예
이하, 구체예를 들어 본 발명에 따른 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물을 설명한다. 그러나, 본 발명은 반드시 이하에 드는 구체예로 한정되는 것은 아니다.
<합성예 1>
[화학식 5]
Figure pct00005
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 25.00g, 탄산칼륨 51.07g 및 N-메틸피롤리돈 125.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 브로모에탄(도쿄화성공업(주)제) 40.27g을 적하하고, 적하 종료 후 25℃에서 5.5시간 교반을 행하여, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 톨루엔 250.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 톨루엔 25.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 250.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(4)로 표시되는 디에틸모노알릴이소시아누레이트를 액체로서 30.16g 얻었다(수율 90.6%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.88 (ddt, 1H), 5.31 (dd, 1H), 5.23 (dd, 1H), 4.48(d, 2H), 3.95 (q, 4H), 1.24 (t, 6H)였다. 본 명세서에서 1H NMR의 측정에 사용한 NMR장치는, 일본전자(주)제, JNM-ECA500이다.
<합성예 2>
[화학식 6]
Figure pct00006
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 25.00g, 탄산칼륨 51.07g 및 N-메틸피롤리돈 125.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 브로모프로판(도쿄화성공업(주)제) 45.45g을 적하하고, 적하 종료 후 60℃까지 승온시키고 4시간 교반을 행하여, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액을 실온까지 냉각한 후, 이 반응용액에 톨루엔 250.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 톨루엔 25.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 250.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(5)로 표시되는 디프로필모노알릴이소시아누레이트를 액체로서 36.35g 얻었다(수율 97.1%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.88 (1H, ddt), 5.29 (1H, dd), 5.23 (1H, dd), 4.48 (2H, d), 3.85 (4H, t), 1.67 (4H, qt), 0.94 (6H, t)였다.
<합성예 3>
[화학식 7]
Figure pct00007
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 30.00g, 탄산칼륨 61.29g 및 N-메틸피롤리돈 150.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하면서, 그 혼합물 중에 클로로메틸메틸에테르(도쿄화성공업(주)제) 35.70g을 적하하고, 적하 종료 후, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 아세트산에틸 300.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 아세트산에틸 30.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 300.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(6)으로 표시되는 디메톡시메틸모노알릴이소시아누레이트를 액체로서 30.63g 얻었다(수율 67.1%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.88 (ddt, 1H), 5.34-5.20 (m, 6H), 4.51(d, 2H), 3.45 (s, 6H)였다.
<합성예 4>
[화학식 8]
Figure pct00008
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 20.00g, 탄산칼륨 40.86g 및 N-메틸피롤리돈 100.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하면서, 그 혼합물 중에 2-메톡시에톡시메틸클로라이드(도쿄화성공업(주)제) 38.76g을 적하하고, 적하 종료 후, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 톨루엔 300.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 톨루엔 30.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 300.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(7)로 표시되는 디메톡시에톡시메틸모노알릴이소시아누레이트를 액체로서 20.36g 얻었다(수율 49.9%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.87 (ddt, 1H), 5.43 (s, 4H), 5.34 (dd, 1H), 5.24 (dd, 1H), 4.50(d, 2H), 3.81 (t, 4H), 3.51 (t, 4H), 3.34 (s, 6H)였다.
<합성예 5>
[화학식 9]
Figure pct00009
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 22.00g, 탄산칼륨 47.58g 및 N-메틸피롤리돈 110.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 2-브로모에틸메틸에테르(도쿄화성공업(주)제) 47.57g을 적하하고, 적하 종료 후, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 톨루엔 220.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 톨루엔 22.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 220.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(8)로 표시되는 디메톡시에틸모노알릴이소시아누레이트를 액체로서 30.93g 얻었다(수율 83.3%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.87 (1H, ddt), 5.29 (1H, dd), 5.23 (1H, dd), 4.49 (2H, d), 4.12 (4H, t), 3.62 (4H, t), 3.35 (6H, s)였다.
<합성예 6>
[화학식 10]
Figure pct00010
모노알릴이소시아눌산(제품명: MA-IC, 시코쿠화성공업(주)제) 40.00g, 탄산칼륨 81.73g 및 N-메틸피롤리돈 200.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 요오드메탄(도쿄화성공업(주)제) 83.92g을 적하하고, 적하 종료 후, 105℃까지 승온하고, 2시간 교반을 행함으로써 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 톨루엔 400.00g을 첨가한 용액을 여과하고, 톨루엔 40.00g으로 2회 케이크 세정하였다. 세정 후, 얻어진 용액에 물 400.00g을 첨가하고, 분액을 행하였다. 이 분액조작을 3회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(9)로 표시되는 디메틸모노알릴이소시아누레이트를 백색고체로서 39.70g 얻었다(수율 85.1%).
<실시예 1>
[화학식 11]
Figure pct00011
합성예 1에서 얻어진 디에틸모노알릴이소시아누레이트 30.00g과 클로로포름 225.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 42.43g을 첨가하였다. 25℃에서 85.5시간 교반을 행하여, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 클로로포름 300.00g을 첨가하고, 교반하면서 5wt%NaHCO3 600.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 300.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 600.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 300.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(1-1)로 표시되는 디에틸모노글리시딜이소시아누레이트를 백색고체로서 30.77g 얻었다(수율 95.8%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 4.16 (dd, 1H), 3.99 (dd, 1H), 3.96 (q, 4H), 3.26 (dddd, 1H), 2.82 (dd, 1H), 2.70 (dd, 1H), 1.25 (t, 6H)였다.
<실시예 2>
[화학식 12]
Figure pct00012
합성예 2에서 얻어진 디프로필모노알릴이소시아누레이트 36.00g, 클로로포름 270.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 45.28g을 첨가하였다. 25℃에서 134시간 교반을 행하여, 반응용액을 얻었다. 그 반응용액에 클로로포름 360.00g을 첨가하고, 교반하면서 5wt%NaHCO3 720.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 360.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 720.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 360.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(1-2)로 표시되는 디프로필모노글리시딜이소시아누레이트를 백색고체로서 37.93g 얻었다(수율 98.0%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, 4.17 (1H, dd), 4.00 (1H, dd), 3.86 (4H, t), 3.25 (1H, dddd), 2.81 (1H, dd), 2.69 (1H, dd), 1.68 (4H, tq), 0.95 (6H, t)였다.
<실시예 3>
[화학식 13]
Figure pct00013
합성예 3에서 얻어진 디메톡시메틸모노알릴이소시아누레이트 30.00g과 클로로포름 225.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 37.16g을 첨가하였다. 25℃에서 172시간 교반을 행하고, 얻어진 반응용액에 클로로포름 300.00g을 첨가하였다. 교반하면서 여기에 5wt%NaHCO3 600.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 300.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 600.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 300.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(2-1)로 표시되는 디메톡시메틸모노글리시딜이소시아누레이트를 백색고체로서 29.23g 얻었다(수율 91.7%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.35 (s, 4H), 4.35 (dd, 1H), 4.19 (dd, 1H), 4.67 (s, 6H), 3.28 (dddd, 1H), 2.82 (dd, 1H), 2.71 (dd, 1H)였다.
<실시예 4>
[화학식 14]
Figure pct00014
합성예 4에서 얻어진 디메톡시에톡시메틸모노알릴이소시아누레이트 20.00g과 클로로포름 150.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 18.45g을 첨가하였다. 25℃에서 152시간 교반을 행하고, 얻어진 반응용액에 클로로포름 200.00g을 첨가하였다. 교반하면서 여기에 5wt%NaHCO3 400.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 200.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 400.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 200.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(3-1)로 표시되는 디메톡시에톡시메틸모노글리시딜이소시아누레이트를 액체로서 18.34g 얻었다(수율 87.6%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 5.42 (s, 4H), 4.18 (dd, 1H), 4.00 (dd, 1H), 3.82 (t, 4H), 3.52 (t, 4H), 3.34 (s, 6H), 3.25 (dddd, 1H), 2.82 (dd, 1H), 2.71 (dd, 1H)였다.
<실시예 5>
[화학식 15]
Figure pct00015
합성예 5에서 얻어진 디메톡시에틸모노알릴이소시아누레이트 31.00g과 클로로포름 232.50g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 34.62g을 첨가하였다. 25℃에서 152시간 교반을 행하고, 얻어진 반응용액에 클로로포름 310.00g을 첨가하였다. 교반하면서 여기에 5wt%NaHCO3 620.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 310.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 620.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 310.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(2-2)로 표시되는 디메톡시에틸모노글리시딜이소시아누레이트를 액체로서 30.44g 얻었다(수율 93.0%). 한편, 이 화합물의 1H NMR(500MHz, CDCl3)을 측정한 결과, δ 4.19-4.12 (5H, m), 4.01 (1H, dd), 3.62 (4H, t), 3.35 (6H, s), 3.25 (1H, dddd), 2.81 (1H, dd), 2.69 (1H, dd)였다.
<비교예 1>
[화학식 16]
Figure pct00016
합성예 6에서 얻어진 디메틸모노알릴이소시아누레이트 30.00g과 디클로로메탄 300.00g을 혼합하고, 25℃에서 교반하였다. 여기에 m-클로로과안식향산(도쿄화성공업(주)제) 56.51g을 첨가하였다. 25℃에서 64.5시간 교반을 행하고, 얻어진 반응용액에 클로로포름 300.00g을 첨가하였다. 교반하면서 여기에 5wt%NaHCO3 600.00g을 적하한 후에 분액을 행하였다. 그 후, 유기층에 10wt%Na2SO3 600.00g을 첨가하여 분액하였다. 계속해서, 유기층에 5wt%NaHCO3 600.00g을 첨가하여 분액하였다. 다시 유기층에 물 600.00g을 첨가하여 분액하였다. 이 분액조작을 2회 반복하였다. 유기층을 감압하에서 용매유거한 후, 잔사를 40℃에서 감압건조함으로써, 상기 식(10)으로 표시되는 디메틸모노글리시딜이소시아누레이트를 백색고체로서 27.64g 얻었다(수율 73.1%).
[용제용해성 평가]
실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1에서 얻어진 각각의 화합물 0.1g에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 0.4g을 첨가하여 20wt%용액으로 하고, 그 용액을 25℃에서 10분간 교반을 행하여, 육안으로 용해성을 확인하였다. 하기 표 1에 나타내는 바와 같이, 비교예 1에서 얻어진 화합물과 비교할 때, 실시예 1 내지 실시예 5에서 합성한 화합물은 모두 용해성이 향상되었다. 표 1에 있어서, ×는 백탁된 용액인 것을 나타내고, Ｏ는 침전물이 생기지 않는 투명한 용액인 것을 나타낸다.
[표 1]
Figure pct00017
산업상 이용가능성
본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 예를 들어, 리소그래피용 반사방지막 형성 조성물, 레지스트 하층막 형성 조성물, 레지스트 상층막 형성 조성물, 광경화성 수지 조성물, 열경화성 수지 조성물, 평탄화막 형성 조성물, 접착제 조성물, 그 밖의 조성물에 적용할 수 있다. 본 발명의 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 또한, 상기 조성물에 사용되는 올리고머 또는 폴리머를 합성할 때의, 원료 화합물로서 적용할 수 있다.

Claims (8)

  1. 하기 식(1), 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pct00018

    (이들 식 중, 2개의 R1은 각각 탄소원자수 2 내지 10의 알킬기를 나타내고, 2개의 R2는 각각 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R3은 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타내고, 2개의 R4는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내고, 2개의 R5는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬기를 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 2개의 R1은 각각 탄소원자수 2 또는 3의 알킬기를 나타내는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 2개의 R2는 각각 탄소원자수 1 또는 2의 알킬렌기를 나타내는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 2개의 R3은 각각 메틸기를 나타내는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
  5. 제1항, 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 식(2) 또는 식(3)으로 표시되는 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물은, 이 식(2)에 있어서의 -R2OR3기 또는 이 식(3)에 있어서의 -R2OR4OR5기의 탄소원자 및 산소원자의 총 수가 4 이상이고, 상온상압의 하에서 액체인, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물.
  6. 제1항에 있어서,
    모노알릴이소시아눌산으로부터 하기 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체를 얻는 공정, 및 이 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체를 산화제와 반응시키는 공정을 갖는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물의 제조방법.
    [화학식 2]
    Figure pct00019

    (이들 식 중, 2개의 R1, 2개의 R2, 2개의 R3, 2개의 R4 및 2개의 R5는 각각 제1항과 동의이다.)
  7. 제6항에 있어서,
    상기 식(1’), 식(2’) 또는 식(3’)로 표시되는 반응중간체는, 상기 모노알릴이소시아눌산과 하기 식(a), 식(b) 또는 식(c)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물의 제조방법.
    [화학식 3]
    Figure pct00020

    (이들 식 중, X는 클로로기, 브로모기 또는 요오드기를 나타내고, R1, R2, R3, R4 및 R5는 각각 제1항과 동의이다.)
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 산화제는 m-클로로과안식향산 또는 과산화수소인, 모노글리시딜이소시아누레이트 화합물의 제조방법.
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