KR20180008309A

KR20180008309A - 액적 토출 장치 및 토출 검사 방법

Info

Publication number: KR20180008309A
Application number: KR1020170088760A
Authority: KR
Inventors: 유우 곤타; 데루유키 하야시; 기요미 오시마
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2016-07-14
Filing date: 2017-07-13
Publication date: 2018-01-24
Also published as: JP6774803B2; KR102022764B1; CN107618265B; JP2018008231A; CN107618265A

Abstract

본 발명은, 워크에 액적을 토출하는 액적 토출 장치에서, 기능액의 종류마다 조정을 하지 않고, 검사용의 매체에 착탄된 기능 액적의 촬상 결과에 근거하여 적절히 토출 상태를 조정할 수 있도록 한다.
액적 토출 장치(1)는, 워크에 기능액의 액적을 토출하는 노즐 헤드(24)와, 해당 노즐 헤드(24)로부터의 검사 토출을, 검사 필름(52)의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛(50)과, 검사 필름(52)의 표면에 검사 토출된 액적을 촬상하는 토출 검사 카메라(31)와, 검사 필름(52)의 발액성을 가지는 표면을 제전하는 제전 유닛(80)을 구비하고, 액적의 검사 토출 전에, 제전 유닛(80)에 의해, 검사 필름(52)의 표면을 제전한다.

Description

액적 토출 장치 및 토출 검사 방법{LIQUID DROPLET EJECTION APPARATUS AND EJECTION INSPECTION METHOD}

본 발명은 워크에 기능액의 액적을 토출하여 묘화(描畵)하는 액적 토출 장치 및 토출 검사 방법에 관한 것이다.

종래, 기능액을 사용하여 워크에 묘화를 행하는 장치로서, 당해 기능액을 액적으로 하여 토출하는 잉크젯 방식의 액적 토출 장치가 알려져 있다. 액적 토출 장치는, 예를 들면 유기 EL 장치, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이(PDP 장치), 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치) 등의 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이: FPD)를 제조할 때 등, 널리 이용되고 있다.

액적 토출 장치에서는, 기능액의 토출 위치의 정확성이 요구된다. 그 때문에, 기능액의 토출을 검사하여 보정할 목적으로, 묘화를 행하기 전에 검사용의 매체 상에 기능액을 토출하고, 해당 토출한 기능액을 촬상 장치에서 촬상하고, 촬상 결과에 근거하여 토출 조건을 보정함으로써, 기능액의 토출량 등을 조정하는 것이 행해지고 있다(특허문헌 1 참조).

검사용의 매체로서 특허문헌 2의 액적 토출 장치에서는, 필름 코팅되어 액적의 침투를 억제한 매체를 이용하고 있다. 또한, 특허문헌 3의 액적 토출 장치에서는, 착탄(着彈)한 기능 액적이 소정의 접촉각을 이루도록 표면 처리된 검사 기판을 이용하고 있다.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2010-204411호 공보 특허문헌 2: 일본 특허 제5131450호 공보 특허문헌 3: 일본 특허 공개 제2005-119139호 공보

그러나, 특허문헌 2 또는 3에 개시된 바와 같이, 검사용의 매체로서, 액적의 침투를 억제한 매체 즉, 발액성의 매체를 이용하면, 해당 매체가 대전하는 것에 의해, 기능 액적이 착탄 위치로부터 어긋나는 일이 많이 발생한다. 따라서, 검사용의 매체로서 발액성의 매체를 이용하면, 매체 상의 액적의 촬상 결과에 근거하여 액적의 토출 상태를 적절히 조정할 수 없다.

검사용의 매체로서, 발액성의 매체는 아니고 침투성을 가지는 매체를 이용함으로써 상술한 착탄 위치의 차이의 문제는 해소한다. 그러나, 기능액의 용질이나 용제의 종류에 따라서는 침투성이 상이하므로, 착탄하여 매체 상에 침투한 후의 기능 액적 상태는 기능액의 용질이나 용매의 종류에 따라 상이하다. 그 때문에, 기능액의 종류마다 등에서, 착탄한 기능 액적의 촬상 결과 등의 조정이 필요하다. 따라서, 새로운 기능액을 이용하는 경우에, 장치의 개조나 조건의 미세 조정이 필요하게 되는 일도 있어, 대응에 시간이 걸린다.

특허문헌 1~3에는, 이 점에 관해 아무런 개시도 시사도 하고 있지 않다.

본 발명은, 이러한 점에 비추어 이루어진 것으로, 워크에 액적을 토출하는 액적 토출 장치에서, 기능액의 종류마다 조정을 하지 않고, 검사용의 매체에 착탄한 기능 액적의 촬상 결과에 근거하여 적절히 토출 상태를 조정할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.

상기의 목적을 달성하기 위해 워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 해당 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서, 상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면을 제전(除電)하는 제전 유닛을 구비하고, 상기 액적의 검사 토출 전에, 상기 제전 유닛에 의해 상기 검사용 매체의 상기 표면을 제전하는 것을 특징으로 하고 있다.

상기 액적 토출 장치는 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 액적에 의한 오염을 방지하는 오염 방지 유닛을 더 구비하는 것이 바람직하다.

상기 오염 방지 유닛은, 예를 들면 상기 검사용 매체의 표면으로부터 상기 검사 토출된 액적을 제거하는 것이다.

상기 검사용 매체는, 상기 촬상부에서의 촬상 후, 회수되는 것이고, 상기 오염 방지 유닛은 상기 검사용 매체의 회수된 부분을 덮는 것인 것이 바람직하다.

상기 검사용 매체는 상기 표면이 내측으로 되도록 권취축에 감기는 것이 바람직하다.

상기 액적 토출 장치는 상기 검사용 매체의 표면이 발액성을 가지도록 표면 처리를 상기 제전 유닛에 의한 제전 전에 행하는 표면 처리 유닛을 더 구비하는 것이 바람직하다.

다른 관점에 따른 본 발명은, 워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 해당 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 액적에 의한 오염을 방지하는 오염 방지 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.

또 다른 관점에 따른 본 발명은, 워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 해당 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서, 상기 검사용 매체의 표면이 발액성을 가지도록 표면 처리를 행하는 표면 처리 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.

또 다른 관점에 따른 본 발명은, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에 액적 토출 헤드로부터 기능액의 액적을 검사 토출하고, 해당 검사 토출된 액적을 촬상부에서 촬상하고, 촬상 결과에 근거하여, 상기 액적 토출 헤드의 토출 불량을 검사하는 토출 검사 방법으로서, 상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면을 제전 유닛으로 제전하는 공정과, 제전된 상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에 상기 액적 토출 헤드로부터 상기 액적을 토출하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.

본 발명에 의하면, 워크에 액적을 토출하는 액적 토출 장치에서, 기능액의 종류마다 조정을 하지 않고, 검사용의 매체에 착탄된 기능 액적의 촬상 결과에 근거하여 적절히 토출 상태를 조정할 수 있다.

도 1은 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 측면도이다.
도 2는 도 1의 액적 토출 장치의 모식 평면도이다.
도 3은 토출 검사 유닛의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.
도 4는 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 처리 동작의 설명도이다.
도 5는 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 처리 동작의 설명도이다.
도 6은 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 처리 동작의 설명도이다.
도 7은 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 처리 동작의 설명도이다.
도 8은 제전 유닛의 다른 배치예를 설명하는 모식 정면도이다.
도 9는 제 2 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성예의 설명도이고, 액적 제거 유닛의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.
도 10은 액적 제거 유닛의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 11은 액적 제거 유닛의 다른 예를 나타내는 개략 정면도이다.
도 12는 액적 제거 유닛의 다른 예를 나타내는 개략 정면도이다.
도 13은 제 3 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성예의 설명도이다.
도 14는 제 3 실시 형태의 변형예에 따른 액적 토출 장치의 구성의 설명도이다.
도 15는 제 3 실시 형태의 다른 변형예에 따른 액적 토출 장치의 구성의 설명도이다.
도 16은 제 4 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성예의 설명도이고, 표면 처리 유닛의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 또, 이하에 나타내는 실시 형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서 및 도면에서, 실질적으로 동일한 기능 구성을 가지는 요소에 대해서는 동일한 부호를 부여하는 것에 의해 중복 설명을 생략한다.

<1.제 1 실시 형태>

먼저, 본 발명의 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성에 대해 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다. 도 1은 본 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 측면도이다. 도 2는 도 1의 액적 토출 장치의 모식 평면도이다. 또, 이하에서는, 워크의 주주사 방향을 X축 방향, 주주사 방향ㅇ에 직교하는 부주사 방향을 Y축 방향, X축 방향 및 Y축 방향에 직교하는 연직 방향을 Z축 방향, Z축 방향 회전의 회전 방향을 θ방향으로 한다. Z축 방향은 연직 방향이다.

액적 토출 장치(1)는, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 주주사 방향(X축 방향)으로 연장되고, 워크 W를 주주사 방향으로 이동시키는 X축 테이블(10)과, X축 테이블(10)을 넘어가도록 가설되고, 부주사 방향(Y축 방향)으로 연장되는 1쌍의 Y축 테이블(11, 11)을 가지고 있다. X축 테이블(10)의 상면에는, 1쌍의 X축 가이드 레일(12, 12)이 X축 방향으로 연장되어 마련되고, 각 X축 가이드 레일(12)에는 X축 리니어 모터(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 각 Y축 테이블(11)의 상면에는, Y축 가이드 레일(13)이 Y축 방향으로 연장되어 마련되고, 당해 Y축 가이드 레일(13)에는 Y축 리니어 모터(도시하지 않음)가 마련되어 있다.

1쌍의 Y축 테이블(11, 11)에는, 캐리지 유닛(20)과 촬상 유닛(30)이 마련되어 있다. X축 테이블(10) 상에는, 워크 스테이지(40)와, 토출 검사 유닛(50)이 마련되어 있다. X축 테이블(10)의 외측(Y축 부방향측)으로서, 1쌍의 Y축 테이블(11, 11)의 사이에는 메인터넌스 유닛(70)이 마련되어 있다. 또, 토출 검사 유닛(50)의 대략 상측(대략 Z축 정방향측)으로서, 1쌍의 X축 가이드 레일(12)의 사이에는 제전 유닛(80)이 마련되어 있다.

캐리지 유닛(20)은, Y축 테이블(11)에서, 복수, 예를 들면 10개 마련되어 있다. 각 캐리지 유닛(20)은 캐리지 플레이트(21)와, 캐리지 회동 기구(22)와, 캐리지(23)와, 노즐 헤드(액적 토출 헤드)(24)를 가지고 있다.

캐리지 플레이트(21)는, Y축 가이드 레일(13)에 부착되고, 당해 Y축 가이드 레일(13)에 마련된 Y축 리니어 모터에 의해 Y축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다. 또, 복수의 캐리지 플레이트(21)를 일체로 하여 Y축 방향으로 이동시키는 것도 가능하다.

캐리지 플레이트(21)의 하면의 중앙에는, 캐리지 회동 기구(22)가 마련되고, 당해 캐리지 회동 기구(22)의 하단부에 캐리지(23)가 착탈 자유롭게 부착되어 있다. 캐리지(23)는 캐리지 회동 기구(22)에 의해 θ방향으로 회동 자유롭게 되어 있다. 또, 워크 스테이지(40)에는, 캐리지(23)를 촬상하는 캐리지 얼라인먼트 카메라(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 그리고, 캐리지 얼라인먼트 카메라에서 촬상된 화상에 근거하여, 캐리지 회동 기구(22)에 의해, 캐리지(23)의 θ방향의 위치가 보정된다.

캐리지(23)의 하면에는, 복수의 노즐 헤드(24)가 마련되어 있다. 본 실시 형태에서는, 예를 들면 X축 방향으로 3개, Y축 방향으로 2개, 즉 합계 6개의 노즐 헤드(24)가 마련되어 있다. 노즐 헤드(24)의 하면, 즉 노즐면에는 복수의 토출 노즐(도시하지 않음)이 형성되고, 당해 토출 노즐로부터 기능액의 액적이 토출되도록 되어 있다.

촬상 유닛(30)은 촬상부로서의 토출 검사 카메라(31)를 가지고 있다. 토출 검사 카메라(31)는 캐리지(23)에 대해 X축 정방향측, 즉 토출 검사 유닛(50)측에 배치되어 있다.

토출 검사 카메라(31)는 토출 검사 유닛(50)의 후술하는 검사 필름(52)에 검사 토출된 액적을 촬상한다. 토출 검사 카메라(31)는 1쌍의 Y축 테이블(11, 11) 중, X축 정방향측의 Y축 테이블(11)의 측면에 설치된 베이스(32)에 지지되어 있다. 베이스(32)에는 토출 검사 카메라(31)를 이동시키는 이동 기구(도시하지 않음)가 마련되고, 토출 검사 카메라(31)는 Y축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다. 그리고, 토출 검사 카메라(31)의 Y축 방향으로 이동하는 궤적의 바로 아래에, 토출 검사 유닛(50)이 안내되었을 때, 토출 검사 카메라(31)는 Y축 방향으로 이동하는 것에 의해, 토출 검사 유닛(50)에 배치된 검사 필름(52)에 착탄된 액적을 촬영할 수 있다.

워크 스테이지(40)는, 예를 들면 진공 흡착 스테이지이며, 워크 W를 흡착하여 탑재한다. 워크 스테이지(40)는 당해 워크 스테이지(40)의 하면측에 마련된 스테이지 회동 기구(41)에 의해, θ방향으로 회동 자유롭게 지지되어 있다. 또, Y축 테이블(11)의 X축 부방향측으로서, 워크 스테이지(40)의 위쪽에는, 워크 스테이지(40) 상의 워크 W의 얼라인먼트 마크를 촬상하는 워크 얼라인먼트 카메라(도시하지 않음)가 마련되어 있다. 그리고, 워크 얼라인먼트 카메라에서 촬상된 화상에 근거하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 워크 스테이지(40)에 탑재된 워크 W의 θ방향의 위치가 보정된다.

워크 스테이지(40)와 스테이지 회동 기구(41)는 스테이지 회동 기구(41)의 하면측에 마련된 제 1의 X축 슬라이더(42)에 지지되어 있다. 제 1의 X축 슬라이더(42)는 X축 가이드 레일(12)에 부착되고, 당해 X축 가이드 레일(12)에 마련된 X축 리니어 모터에 의해 X축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다. 그리고, 워크 스테이지(40)(워크 W)도, 제 1의 X축 슬라이더(42)에 의해 X축 가이드 레일(12)을 따라 X축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다.

토출 검사 유닛(50)은 노즐 헤드(24)로부터의 검사 토출을 받는 유닛이다.

도 3은 토출 검사 유닛(50)의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.

토출 검사 유닛(50)에는, Y축 방향으로 연장되는 검사대(51)가 마련되어 있다. 검사대(51)의 상면에는 검사용 매체로서의 검사 필름(52)이 배치되어 있다. 검사 필름(52)은 미리 공급축(53)에 감겨져 있고, 공급축(53)으로부터 Y축 정방향측으로 풀려지고, 권취축(54)에 감겨진다. 공급축(53) 및 권취축(54)은 각각 축지지부(55, 55)에 의해 축지지되어 있다.

검사 필름(52)은, 그 표면(상면)이 발액성을 갖고, 검사대(51)가 노즐 헤드(24)의 바로 아래로 안내되었을 때에, 노즐 헤드(24)로부터 토출된 액적이, 발액성을 가지는 표면에 착탄되도록 되어 있다.

도 1 및 도 2의 설명으로 되돌아간다.

토출 검사 유닛(50)은 제 2의 X축 슬라이더(60)에 탑재되어 있다. 제 2의 X축 슬라이더(60)는, X축 가이드 레일(12)에 부착되고, 당해 X축 가이드 레일(12)에 마련된 X축 리니어 모터에 의해 X축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다. 그리고, 토출 검사 유닛(50)도, 제 2의 X축 슬라이더(60)에 의해 X축 가이드 레일(12)을 따라 X축 방향으로 이동 자유롭게 되어 있다.

메인터넌스 유닛(70)은 노즐 헤드(24)의 메인터넌스를 행하여, 당해 노즐 헤드(24)의 토출 불량을 해소한다.

제전 유닛(80)은 토출 검사 유닛(50)의 검사 필름(52)의 표면을 제전하는 유닛이다. 제전 유닛(80)은, 예를 들면 액적 토출 장치(1)의 도시하지 않은 하우징에 지지된다. 제전 유닛(80)은 비접촉식으로 제전하는 것이 바람직하고, 예를 들면 이오나이저나 소프트 X선식 포토이오나이저로 구성할 수 있다. 제전 유닛(80)은 검사 필름(52)에의 검사 토출 전에, 검사 필름(52)의 표면을 제전한다. 검사 필름(52)은 1회의 토출 검사마다, 전회의 토출 검사에 사용된 부분이 감겨지고, 미사용 부분이 송출된다. 이 송출이 완료된 후이고 검사 토출 전에, 제전 유닛(80)에 의한 제전이 행해진다.

이상의 액적 토출 장치(1)에는 제어부(150)가 마련되어 있다. 제어부(150)는, 예를 들면 컴퓨터이며, 데이터 저장부(도시하지 않음)를 가지고 있다. 데이터 저장부에는, 예를 들면 워크 W에 토출되는 액적을 제어하고, 당해 워크 W에 소정의 패턴을 묘화하기 위한 묘화 데이터(비트맵 데이터) 등이 저장되어 있다. 또한, 제어부(150)는 프로그램 저장부(도시하지 않음)를 가지고 있다. 프로그램 저장부에는, 액적 토출 장치(1)에서의 각종 처리를 제어하는 프로그램이나, 구동계의 동작을 제어하는 프로그램 등이 저장되어 있다.

또, 상기 데이터나 상기 프로그램은, 예를 들면 컴퓨터 판독 가능한 하드디스크(HD), 플렉서블 디스크(FD), 콤팩트 디스크(CD), 마그넷옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등의 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어부(150)에 인스톨된 것이어도 좋다.

다음에, 이상과 같이 구성된 액적 토출 장치(1)를 이용하여 행해지는 워크 처리에 대해 설명한다. 이하의 설명에서는, X축 테이블(10) 상에서, Y축 테이블(11)보다 X축 부방향측의 에리어를 반입출 에리어 A1이라고 하고, 1쌍의 Y축 테이블(11, 11)간의 에리어를 처리 에리어 A2라고 하고, Y축 테이블(11)보다 X축 정방향측의 에리어를 대기 에리어 A3이라고 한다.

먼저, 반입출 에리어 A1에 워크 스테이지(40)를 배치하고, 반송 기구(도시하지 않음)에 의해 액적 토출 장치(1)에 반입된 워크 W가 해당 워크 스테이지(40)에 탑재된다. 계속해서, 워크 얼라인먼트 카메라에 의해 워크 스테이지(40) 상의 워크 W의 얼라인먼트 마크 W3이 촬상된다. 그리고, 당해 촬상된 화상에 근거하여, 스테이지 회동 기구(41)에 의해, 워크 스테이지(40)에 탑재된 워크 W의 θ방향의 위치가 보정되고, 워크 W의 얼라인먼트가 행해진다(스텝 S1).

그 후, X축 슬라이더(42)에 의해, 워크 스테이지(40)를 반입출 에리어 A1로부터 처리 에리어 A2로 이동시킨다. 처리 에리어 A2에서는, 노즐 헤드(24)의 아래쪽으로 이동한 워크 W에 대해, 당해 노즐 헤드(24)로부터 액적을 토출한다. 또, 도 4에 나타내는 바와 같이 워크 W의 전면(全面)이 노즐 헤드(24)의 아래쪽을 통과하도록, 워크 스테이지(40)를 대기 에리어 A3측으로 더 이동시킨다. 그리고, 워크 W를 X축 방향으로 왕복 운동시킴과 아울로, 캐리지 유닛(20)을 적절히 Y축 방향으로 이동시키고, 워크 W에 소정의 패턴이 묘화된다(스텝 S2).

그 후, 도 5에 나타내는 바와 같이 워크 스테이지(40)를 대기 에리어 A3으로부터 반입출 에리어 A1로 이동시킨다.

워크 스테이지(40)가 반입출 에리어 A1로 이동하면, 묘화 처리가 종료한 워크 W가 액적 토출 장치(1)로부터 반출된다. 계속해서, 다음의 워크 W가 액적 토출 장치(1)에 반입되고, 상술한 스텝 S1의 워크 W의 얼라인먼트가 행해진다(스텝 S3).

이와 같이 스텝 S3에서의 워크 W의 반입출이 행해지고 있는 동안, 또는 반출 전에, 도 5에 나타내는 바와 같이, 토출 검사 유닛(50)의 검사 필름(52)을 제전 유닛(80)에 의해 제전한다. 그 후, 도 6에 나타내는 바와 같이, 제 2의 X축 슬라이더(60)에 의해, 토출 검사 유닛(50)을 대기 에리어 A3으로부터 처리 에리어 A2로 이동시킨다. 처리 에리어 A2에서는, 토출 검사 유닛(50)의 검사 필름(52)을 노즐 헤드(24)의 아래쪽에 배치하고, 검사 필름(52)의 표면에 대해 노즐 헤드(24)로부터 액적을 검사 토출한다(스텝 S4).

그 후, 도 7에 나타내는 바와 같이 토출 검사 유닛(50)을 X축 정방향측으로 이동시키고, 토출 검사 유닛(50)의 검사 필름(52)을 토출 검사 카메라(31)의 아래쪽에 배치한다.

그리고, 토출 검사 카메라(31)를 적당히 Y축 방향으로 이동시키고, 당해 토출 검사 카메라(31)에 의해 검사 필름(52)에 검사 토출된 액적을 촬상한다. 촬상된 화상은 제어부(150)에 출력되고, 제어부(150)에서는, 촬상된 화상에 근거하여, 노즐 헤드(24)에서의 토출 노즐의 토출 불량이 검사되고, 검사 결과에 근거해서 토출 상태를 조정한다(스텝 S5). 이 검사 결과에서, 예를 들면 액적의 노즐 이탈과 비행 곡선의 토출 불량으로 판정된 경우, 메인터넌스 유닛(70)에 의해 노즐 헤드(24)의 메인트넌스를 행한다. 또한, 예를 들면 액적의 착탄 토트의 지름이나 위치가 불량으로 판정된 경우, 비트맵 데이터가 보정되고, 노즐 헤드(24)로부터의 액적의 토출이 피드백 제어된다.

이상과 같이 각 워크 W에 대해 스텝 S1~S5가 행해지고, 일련의 워크 처리가 종료된다. 또, 1매째의 워크 W에 대해서는 스텝 S1~S3의 묘화 처리 전에, 스텝 S4, S5의 검사 토출 처리 및 토출 상태 조정 처리를 행하는 것이 바람직하다.

이상의 제 1 실시 형태에 의하면, 스텝 S4에서, 검사 필름(52)에 대해 노즐 헤드(24)로부터 액적을 검사 토출하기 전에, 검사 필름(52)의 발액성을 가지는 표면을 제전한다. 따라서, 검사 필름(52)의 표면에 착탄한 액적이 정전기력에 의해 착탄 위치로부터 어긋나는 일이 없다. 따라서, 제 1 실시 형태에 따른 액적 토출 장치(1)에서는, 착탄된 액적의 촬상 결과에 근거하여, 적절히 토출 상태를 조정할 수 있다. 또한, 발액성을 가지는 필름에서는, 침투성의 필름에 비해, 기능액의 종류간에 촬상 결과에 차이가 없기 때문에, 기능액의 종류마다 조정할 필요가 없다.

도 8은 제전 유닛(80)의 다른 배치예를 설명하는 모식 정면도이다.

도 2 등의 예의 제전 유닛(80)은 검사 필름(52)의 연장 방향(Y축 방향)을 따라 연장되고, X축 방향에서 보았을 때, 캐리지 유닛(20) 즉 캐리지(23)와 겹치는 위치에 배치되어 있었다. 그러나, 제전 유닛(80)의 위치는 이 예에 한정되지 않는다. 예를 들면, 제전 유닛(80)의 위치는, 도 8에 나타내는 바와 같이, X축 방향에서 보았을 때에 캐리지(23)와 겹치지 않는 위치로서, 캐리지(23)에 대해 Y축 방향 부측 즉 검사 필름(52)의 권취 방향에 대하여 캐리지(23)에 대해 상류측의 위치이더라도 좋다.

검사 시트(52)는, 예를 들면, 토출 검사의 개시시에, 전회의 토출 검사에 사용된 부분이 감겨지고, 미사용 부분이 송출된다. 본 예의 제전 유닛(80)에 의한 제전은 상기 송출시에 행해진다.

도 1 등의 제전 유닛(80)은 단시간에 검사 필름(52)의 표면을 제전한다는 점에서 우수하며, 도 8의 제전 유닛(80)은 소형으로 할 수 있다는 점에서 우수하다.

또, 제전 유닛은 토출 검사 유닛과 일체로 이동 가능해도 좋고, 고정되어 있어도 좋다.

<2.제 2 실시 형태>

다음에, 본 발명의 제 2 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성에 대해 도 9를 참조하여 설명한다. 도 9는 본 실시 형태에 따른 액적 토출 장치가 가지는 후술하는 액적 제거 유닛의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.

검사 필름이 친액성인 경우는, 액적이 침투하기 때문에, 액적의 용매가 액적 토출 장치 내에 확산되거나, 액적이, 감겨진 검사 필름으로부터 액적이 늘어뜨려져 액적 토출 장치 내를 오염시키거나 하는 문제는 발생하지 않는다. 그러나, 검사 필름이 발액성인 경우는, 검사 필름 상에 검사 토출된 액적은 단시간에 고체화되지 않기 때문에, 상술한 바와 같은 문제가 발생하기 쉽다.

그래서, 제 2 실시 형태의 액적 토출 장치는, 도 9에 나타내는 바와 같이, 제 1 실시 형태의 것과 마찬가지로, 토출 검사 유닛(50)에 대해 제전 유닛(80)이 마련되어 있는 것에 부가하여, 토출 검사 유닛(50)에 대해 오염 방지 유닛으로서의 액적 제거 유닛(90)이 마련되어 있다.

액적 제거 유닛(90)은, 검사 필름(52) 상에 검사 토출된 액적을, 촬상 후에 제거하는 유닛이다. 액적 제거 유닛(90)은 분사관(91)과 2개의 흡인관(92, 92)을 갖고, 2개의 흡인관(92, 92)의 사이에 분사관(91)이 끼워져 있다. 분사관(91)은 압축 공기의 공급원(도시하지 않음)에 접속되어 있고, 흡인관(92, 92)은 각각 펌프(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 액적 제거 유닛(90)에서는, 분사관(91)으로부터 압축 공기를 분출하여 검사 필름(52) 상의 액적을 날려버리고, 날려버린 액적을 흡인관(92)에서 흡인하고, 이것에 의해 검사 필름(52) 상의 액적을 제거한다. 해당 제거 후, 검사 필름(52)은 권취축(54)에 감긴다.

이상의 제 2 실시 형태에 의하면, 검사 필름(52)이, 해당 필름(52)의 표면에 액적이 존재하지 않는 상태로 감기기 때문에, 즉, 회수되기 때문에, 액적 토출 장치 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

또, 액적 제거 유닛(90)의 위치는, X축 방향에서 보았을 때에 캐리지 유닛(20)과 겹치지 않는 위치로서, 캐리지(23)에 대해 Y축 방향 정측 즉 검사 필름(52)의 권취 방향에 대하여 캐리지(23)에 대해 하류측의 위치이다.

도 10은 액적 제거 유닛(90)의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.

도 9의 액적 제거 유닛(90)에서는 해당 유닛(90)을 구성하는 분사관(91)과 흡인관(92, 92)은 모두 검사 필름(52)의 위쪽(Z축 방향 정측)에 위치하고 있었다.

그에 반해, 도 10의 액적 제거 유닛(90)은, 검사 필름(52)의 위쪽(Z축 방향 정측)에 위치하는 에어나이프(93)와, 검사 필름(52)의 측방(側方) 외측(外側)(X축 방향 부측) 또한 검사 필름(52)의 아래쪽(Z축 방향 부측)에 위치하는 회수 용기(94)를 가진다. 에어나이프(93)는 압축 공기의 공급원(도시하지 않음)에 접속되고, 회수 용기(94)는 펌프(도시하지 않음)에 접속된다.

본 예의 액적 제거 유닛(90)에서는, 에어나이프(93)로부터 압축 공기를 분출하여 검사 필름(52) 상의 액적을 해당 필름(52)의 측방으로 날려버리고, 날려버린 액적을 위쪽이 개구된 회수 용기(94)에서 회수한다. 이것에 의해, 검사 필름(52) 상의 액적의 용매를 제거할 수 있다. 따라서, 본 예의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 토출 장치에서는, 검사 필름(52)이, 해당 필름(52)의 표면에 액적이 고화된 상태로 감기기 때문에, 액적 토출 장치 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

도 11은 액적 제거 유닛(90)의 다른 예를 나타내는 개략 정면도이다.

도 9 등의 액적 제거 유닛(90)은 압축 공기를 분사하는 것에 의해 검사 필름(52) 상의 액적을 제거하고 있었다.

이에 반해, 도 11의 액적 제거 유닛(90)은 검사 필름(52)의 표면에 접하는 접촉 설편(95)을 갖고, 또한 해당 접촉 설편(95)의 하부 부근에 흡인구가 위치하는 흡인관(96)을 가진다. 이 액적 제거 유닛(90)에서는, 해당 접촉 설편(95)에 의해 검사 필름(52)의 표면으로부터 액적을 박리하고, 박리한 액적을 흡인관(96)에서 흡인한다. 이것에 의해, 검사 필름(52) 상의 액적을 제거할 수 있다. 본 예의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 토출 장치에서는, 검사 필름(52)이, 해당 필름(52)의 표면에 액적이 존재하지 않는 상태로 감기기 때문에, 액적 토출 장치 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

도 12는 액적 제거 유닛(90)의 다른 예를 나타내는 개략 정면도이다.

도 9 등의 제거 유닛(90)은 날려버리는 등에 의해 검사 필름(52) 상의 액적을 제거하고 있었다.

이에 반해, 도 12의 액적 제거 유닛(90)은 검사 필름(52)의 하측에 히터(97)를 가진다. 이 액적 제거 유닛(90)은 히터(97)에 의해 검사 필름(52) 상의 액적을 증발시킨다. 이것에 의해, 검사 필름(52) 상의 액적을 제거할 수 있다. 본 예의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 토출 장치에서는, 검사 필름(52)이, 해당 필름(52)의 표면에 액적이 존재하지 않는 상태로 감기기 때문에, 액적 토출 장치 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

또, 도 3의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 제거 장치에서는, 검사 필름(52)은 가장 하류측(Y축 방향 정측)의 캐리지(23) 아래를 통과한 후 즉시 감기고 있었다. 이에 반해, 도 12의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 제거 장치는, 가장 하류측의 캐리지(23)의 하부에 중계축(56)을 갖고, 공급축(53), 중계축(56) 및 권취축(54)이 이 순서로 Y방향으로 나열되고, 공급축(53)-중계축(56)간의 거리와 중계축(56)-권취축(54)간의 거리가 대략 동일하다. 히터(97)는, 예를 들면 중계축(56)과 권취축(54)의 사이에 연장되도록 설치된다. 본 예에서는, 이 히터(97)의 상부를 통과하고 나서 검사 필름(52)은 감긴다.

구체적으로는, 본 예의 액적 제거 유닛(90)을 가지는 액적 제거 장치에서는, 검사 토출이나 촬상의 종료 후, 검사 필름(52)에서의 액적이 검사 토출된 부분이 히터(97) 상에 위치하도록, 검사 필름(52)은 소정 거리분 감긴다. 그 후, 히터(97)에 의해 검사 필름(52)을 가열하여, 검사 토출된 액적을 증발시킨다. 검사 필름(52)에서의 액적이 증발한 부분은, 다음의 검사 토출시에, 권취축(54)에 감긴다.

또, 액적 제거 유닛의 예는, 도 9~도 12의 예에 한정되지 않고, 예를 들면, 액적을 빨아들이는 다공질 재료로 구성되는 롤러를 검사 필름(52)에 접하게 하여, 검사 토출된 액적을 상기 롤러에 전사하도록 하여 제거하도록 해도 좋고, 액적을 닦아내는 와이퍼재를 검사 필름(52)에 접하게 하여, 검사 토출된 액적을 닦아내어 제거하도록 해도 좋다.

또한, 도 10의 예 이외의 액적 제거 유닛을 이용하는 경우, 검사 토출된 액적을 제거한 후의 검사 필름은 감기지 않고 원래의 위치(공급축(53)의 위치)로 되돌리고, 검사 토출을 위해 재이용하도록 해도 좋다.

또, 액적 제거 유닛은 토출 검사 유닛과 일체로 이동 가능해도 좋고, 고정되고 있어도 좋다.

<3.제 3 실시 형태>

다음에, 본 발명의 제 3 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성에 대해 도 13을 참조하여 설명한다. 도 13(a)는 본 실시 형태에 따른 액적 토출 장치가 가지는 후술하는 액적 낙하 방지 유닛의 일례를 나타내는 모식 평면도, 도 13(b)는 상기 액적 낙하 방지 유닛을 구성하는 한쪽의 커버의 정면도이다.

제 3 실시 형태의 액적 토출 장치는, 제 1 실시 형태의 것과 마찬가지로 제전 유닛을 구비함과 아울러, 도 13에 나타내는 바와 같이, 토출 검사 유닛(50)에 대해, 오염 방지 유닛으로서의 액적 낙하 방지 유닛(100)이 마련되어 있다.

액적 낙하 방지 유닛(100)은 검사 필름(52) 상에 검사 토출된 액적이 검사 필름(52)으로부터 낙하하는 것을 방지하는 유닛이다. 액적 낙하 방지 유닛(100)은 권취축(54)에 감긴 검사 필름(52)의 일단을 덮는 커버(101)와, 타단을 덮는 커버(102)를 가진다. 액적 낙하 방지 유닛(100)은 액적이 검사 토출된 검사 필름(52)을 감았을 때에 해당 검사 필름(52)의 양단으로부터 액적이 배어나왔다고 해도, 해당 액적이 커버(101, 102) 내로 낙하하기 때문에, 액적 토출 장치의 바닥 등에 액적이 낙하해서 당해 장치가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

또, 커버(101)에는, 도 13(b)에 나타내는 바와 같이 권취축(54)에의 검사 필름(52)의 감김이 저해되지 않도록 슬릿(101a)이 마련되어 있다. 커버(102)에도 마찬가지로 슬릿(101b)이 마련되어 있다.

또한, 본 예에서는, 권취축(54)에 감긴 검사 필름(52)의 양단 즉 검사 필름 중 회수된 부분의 양단을 2개의 커버(101, 102)에 의해 덮고 있었다. 이것 대신에, 하나의 커버에 의해, 권취축(54)에 감긴 검사 필름(52)의 전체를 덮도록 해도 좋다.

제 3 실시 형태에 따른 구성과 제 2 실시 형태에 따른 구성은 병용해도 좋다. 병용함으로써, 보다 확실히 액적 토출 장치의 오염을 방지할 수 있다.

<4.제 3 실시 형태의 변형예>

다음에, 본 발명의 제 3 실시 형태의 변형예에 따른 액적 토출 장치의 구성에 대해 도 14를 참조하여 설명한다. 도 14는 본 예에 따른 액적 토출 장치의 권취축을 설명하는 모식 정면도이다.

본 예의 액적 토출 장치에서는, 도시는 생략하지만, 권취축(54)에 감긴 검사 필름(52)에 대해 도 13에서 설명한 액적 낙하 방지 유닛이 마련되어 있다.

도 13 등의 예의 액적 토출 장치에서는, 권취축(54)이, 반송되는 검사 필름(52)의 아래쪽에 위치하고 있고, 검사 필름(52)의 표면 즉 액적이 검사 토출되는 면이 외측으로 되도록 해당 검사 필름(52)이 권취축(54)에 감겨 있었다.

그에 반해, 도 14의 예의 액적 토출 장치에서는, 권취축(54)이, 반송되는 검사 필름(52)의 위쪽에 위치하고 있고, 검사 필름(52)의 표면이 내측으로 되도록 해당 검사 필름(52)이 권취축(54)의 아래쪽으로부터 감긴다. 따라서, 검사 필름(52)을 감는 과정에서, 검사 토출된 액적이 검사 필름(52)으로부터 낙하하는 일이 없기 때문에, 액적 토출 장치가 오염되는 것을 보다 확실히 방지할 수 있다.

도 15는 다른 변형예에 따른 액적 토출 장치의 권취축을 설명하는 모식 정면도이다.

검사 필름(52)의 표면이 내측으로 되도록 해당 검사 필름(52)을 권취축(54)의 아래쪽으로부터 감긴 구성은, 도 14의 예에 한정되지 않고, 도 15와 같이 해도 좋다.

도 15의 예의 액적 토출 장치에서는, 검사 필름(52)의 진행 방향을 아래쪽으로 변경하는 변경 롤러(57)가 마련되고, 변경 롤러(57)보다 아래쪽에 권취축(54)이 위치하고 있다. 이 변경 롤러(57)를 마련하는 것에 의해, 검사 필름(52)의 표면이 내측으로 되도록, 해당 검사 필름(52)을 권취축(54)에 감을 수 있다.

또, 본 예의 액적 토출 장치에서는, 권취축(54)이, 변경 롤러(57)의 아래쪽의 위치로서, 해당 권취축(54)에 감긴 검사 필름(52)의 Y방향 부측단(내측단)이 변경 롤러(57)의 Y방향 정측단(외측단)보다 Y방향 정측으로 되는 위치에 배치되어 있다.

따라서, 검사 필름(52)을 감는 과정에서, 검사 토출된 액적이 검사 필름(52)으로부터 낙하하는 일이 없기 때문에, 액적 토출 장치가 오염되는 것을 보다 확실히 방지할 수 있다.

<5.4의 실시 형태>

다음에, 본 발명의 제 4 실시 형태에 따른 액적 토출 장치의 구성에 대해 도 16을 참조하여 설명한다. 도 16은 본 실시 형태에 따른 액적 토출 장치가 가지는 후술하는 표면 처리 유닛의 일례의 구성의 개략을 나타내는 모식 정면도이다.

제 4 실시 형태의 액적 토출 장치도, 제 1 실시 형태의 것과 마찬가지로, 도 16에 나타내는 바와 같이, 제전 유닛(80)을 구비하고 있다.

도 1의 제 1 실시 형태의 액적 토출 장치 등에서는, 표면이 발액성을 나타내도록 미리 처리된 검사 필름(52)을 이용하고 있었다.

그에 반해, 제 4 실시 형태의 액적 토출 장치는, 도 16에 나타내는 바와 같이, 토출 검사 유닛(50)에 대해 표면 처리 유닛(110)이 마련되어 있다. 그리고, 폴리스틸렌 수지 등의 친액성 재료로 이루어지는 검사 필름(120)에의 검사 토출 전에, 해당 검사 필름(120)에의 표면에 대해 표면 처리 유닛(110)에 의해 표면 처리를 행하고, 이것에 의해 검사 필름(120)의 표면에 발액성을 가지도록 하고 있다.

표면이 발액성을 나타내도록 미리 처리된 검사 필름을 이용하는 경우, 발액성의 품질의 관리가 어렵고, 균일한 품질을 얻으려면 비용이 높아진다. 그러나, 본 실시 형태의 액적 토출 장치에서는, 검사 토출 직전에 검사 필름(120)을 표면 처리하여, 해당 검사 필름(120)의 표면에 발액성을 가지도록 하고 있기 때문에, 발액층의 품질의 관리가 용이해져, 비용을 저감할 수 있다.

또, 표면 처리 유닛(110)은 리모트형의 대기압 플라즈마 처리 장치이며, 액적 토출 장치 밖에서 발생한 플라즈마를 표면 처리 유닛(110)에 도입하여 표면 처리를 행한다. 플라즈마 가스는, 예를 들면 불소계의 가스를 이용할 수 있다.

표면 처리 유닛(110)은, 플라즈마가 도입되는 처리실(111)을 갖고, 처리실(111)의 주위는 플라즈마가 액적 토출 장치 내로 누출되는 것을 막기 위한 격벽실(112)이 마련되어 있다. 격벽실(112)에는, 예를 들면 질소(N₂) 가스가 충전되어 있고, 격벽실(112)은 처리실(111)에 대해 양압(positive pressure)으로 되어 있다.

이 표면 처리 유닛(110)은, 제전 유닛(80)에 대해 Y축 방향 부측의 위치 즉 검사 필름(52)의 권취 방향에 관해 제전 유닛(80)에 대하여 상류측의 위치에 배치된다. 따라서, 제전 유닛(80)에 의한 검사 필름(120)의 표면의 제전의 직전에 해당 표면을 발액화할 수 있다.

표면 처리 유닛(110)은 토출 검사 유닛(50)과 일체로 이동 가능한 것이 바람직하다.

또, 이상의 예에서는, 리모트식 즉 플라즈마를 외부로부터 처리실(111) 내로 도입하는 것으로 하고 있었지만, 표면 처리 유닛(110)의 처리실(111) 내에서 발생시켜도 좋다.

<6.참고예 1>

참고예 1에 따른 액적 토출 장치는, 제전 유닛을 가지지 않고, 도 9~도 15에서 예시되는 오염 방지 유닛으로서의 액적 제거 유닛 및/또는 액적 낙하 방지 유닛을 가진다. 이에 의해, 발액성을 가지는 검사 필름에 액적을 검사 토출한 경우에, 검사 필름을 감을 때에 액적 토출 장치가 오염되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로는, 액적 제거 유닛을 가지는 것에 의해, 검사 후에 검사 필름의 표면으로부터 액적이 제거되어 해당 표면에 액적이 존재하지 않는 상태로 검사 필름이 감기기 때문에, 액적 토출 장치 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 액적 낙하 방지 유닛을 가지는 것에 의해, 액적이 검사 토출된 검사 필름을 감았을 때에 해당 검사 필름의 양단으로부터 액적이 배어나온다고 해도, 해당 액적이 액적 낙하 방지 유닛 내에 낙하하기 때문에, 액적 토출 장치의 바닥 등에 액적이 낙하해서 해당 장치가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

<7.참고예 2>

참고예 2에 따른 액적 토출 장치는, 제전 유닛을 가지지 않고, 도 16에서 예시되는 표면 처리 유닛을 가진다. 표면 처리 유닛을 가지는 것에 의해, 이하의 과제를 해결할 수 있다. 즉, 표면이 발액성을 나타내도록 미리 처리된 검사 필름을 이용하는 경우에, 발액성의 품질의 관리가 어렵고, 균일의 품질을 얻기 위해서는 비용이 높아진다고 하는 과제이다. 표면 처리 유닛을 가지는 것에 의해, 검사 토출 직전에 검사 필름을 표면 처리하여, 해당 검사의 표면에 발액성을 가지도록 할 수 있기 때문에, 발액층의 품질의 관리가 용이해져, 비용을 저감할 수 있다.

이상과 같이 구성된 액적 토출 장치는 일본 특허 공개 제2016-77966호 공보에 기재된, 유기 발광 다이오드의 유기 EL층을 형성하는 기판 처리 시스템에 적용할 수 있다. 구체적으로는, 해당 기판 처리 시스템의 도포 장치에 상술한 액적 토출 장치 중 어느 하나를 적용할 수 있다.

본 발명은 기판 상에 기능액의 액적을 토출하는 기술에 유용하다.

1: 액적 토출 장치
2: 검사 필름
23: 캐리지
24: 노즐 헤드
30: 촬상 유닛
31: 토출 검사 카메라
40: 워크 스테이지
50: 토출 검사 유닛
52, 120: 검사 필름
70: 메인터넌스 유닛
80: 제전 유닛
90: 액적 제거 유닛
100: 액적 낙하 방지 유닛
110: 표면 처리 유닛
150: 제어부

Claims

워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 상기 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서,
상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면을 제전하는 제전 유닛
을 구비하며,
상기 액적의 검사 토출 전에, 상기 제전 유닛에 의해, 상기 검사용 매체의 상기 표면을 제전하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 액적에 의한 오염을 방지하는 오염 방지 유닛을 더 구비하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 2 항에 있어서,
상기 오염 방지 유닛은 상기 검사용 매체의 표면으로부터 상기 검사 토출된 액적을 제거하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 검사용 매체는 상기 촬상부에서의 촬상 후, 회수되는 것이고,
상기 오염 방지 유닛은 상기 검사용 매체의 회수된 부분을 덮는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검사용 매체는 상기 표면이 내측으로 되도록 권취축에 감기는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검사용 매체의 표면이 발액성을 가지도록 표면 처리를 상기 제전 유닛에 의한 제전 전에 행하는 표면 처리 유닛을 더 구비하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 상기 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서,
상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 액적에 의한 오염을 방지하는 오염 방지 유닛을 구비하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
워크에 기능액의 액적을 토출하는 액적 토출 헤드와, 상기 액적 토출 헤드로부터의 검사 토출을, 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에서 받는 토출 검사 유닛과, 상기 검사용 매체의 표면에 검사 토출된 상기 액적을 촬상하는 촬상부를 구비하는 액적 토출 장치로서,
상기 검사용 매체의 표면이 발액성을 가지도록 표면 처리를 행하는 표면 처리 유닛을 구비하는 것
을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에 액적 토출 헤드로부터 기능액의 액적을 검사 토출하고, 상기 검사 토출된 액적을 촬상부에서 촬상하고, 촬상 결과에 근거하여, 상기 액적 토출 헤드의 토출 불량을 검사하는 토출 검사 방법으로서,
상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면을 제전 유닛으로 제전하는 공정과,
제전된 상기 검사용 매체의 발액성을 가지는 표면에 상기 액적 토출 헤드로부터 상기 액적을 토출하는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 토출 검사 방법.