KR20170047305A - 폴리머 필름의 제조 방법 - Google Patents
폴리머 필름의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170047305A KR20170047305A KR1020177007927A KR20177007927A KR20170047305A KR 20170047305 A KR20170047305 A KR 20170047305A KR 1020177007927 A KR1020177007927 A KR 1020177007927A KR 20177007927 A KR20177007927 A KR 20177007927A KR 20170047305 A KR20170047305 A KR 20170047305A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- web
- dope
- polymerizable compound
- mass
- polymer film
- Prior art date
Links
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 title claims abstract description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 44
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 136
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 59
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 36
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 23
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 23
- ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N (n-propan-2-yloxycarbonylanilino) acetate Chemical compound CC(C)OC(=O)N(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 ODIGIKRIUKFKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 18
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 69
- -1 acrylate ester Chemical class 0.000 description 45
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 44
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 42
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 20
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 20
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N piperidine-2,6-dione Chemical compound O=C1CCCC(=O)N1 KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 16
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 16
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 12
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 12
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 8
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 8
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 7
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 3
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VLTYTTRXESKBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDDDRVNOHLVEED-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyl-3-[1-[[1-(cyclohexylcarbamoylamino)cyclohexyl]diazenyl]cyclohexyl]urea Chemical compound C1CCCCC1(N=NC1(CCCCC1)NC(=O)NC1CCCCC1)NC(=O)NC1CCCCC1 CDDDRVNOHLVEED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- HUFRMAUWIZDZIJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyhexano-6-lactone Chemical compound OC1CCCCOC1=O HUFRMAUWIZDZIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYPGJGCIPQYQBW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-[[2-methyl-1-oxo-1-(prop-2-enylamino)propan-2-yl]diazenyl]-n-prop-2-enylpropanamide Chemical compound C=CCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCC=C LYPGJGCIPQYQBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWKSINPSASCIMZ-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC1NC=NC1C YWKSINPSASCIMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100064324 Arabidopsis thaliana DTX48 gene Proteins 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N L-DOPA Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=C(O)C(O)=C1 WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIMFPAAAIVQRRD-BCGVJQADSA-N N-[2-[(3S,4R)-3-fluoro-4-methoxypiperidin-1-yl]pyrimidin-4-yl]-8-[(2R,3S)-2-methyl-3-(methylsulfonylmethyl)azetidin-1-yl]-5-propan-2-ylisoquinolin-3-amine Chemical group F[C@H]1CN(CC[C@H]1OC)C1=NC=CC(=N1)NC=1N=CC2=C(C=CC(=C2C=1)C(C)C)N1[C@@H]([C@H](C1)CS(=O)(=O)C)C LIMFPAAAIVQRRD-BCGVJQADSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- NIDZWWNRMZPMLN-UHFFFAOYSA-N [1,4,4-tris(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCC(CO)(CO)CC1 NIDZWWNRMZPMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical compound [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-5,6-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound CC1C(C)=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)C(C)C(C)=CC=C1 LRHPSIAOZILDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003018 immunoassay Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-M isobutyrate Chemical compound CC(C)C([O-])=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GZAROOOHRGKEPC-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-methylpropanamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)C GZAROOOHRGKEPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRNGPYHLQSTDL-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-[[1-(cyclohexylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound C1CCCCC1NC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NC1CCCCC1 WMRNGPYHLQSTDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N nitroethane Chemical compound CC[N+]([O-])=O MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- JAMNHZBIQDNHMM-UHFFFAOYSA-N pivalonitrile Chemical compound CC(C)(C)C#N JAMNHZBIQDNHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003902 salicylic acid esters Chemical group 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
- B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
- B29C41/32—Making multilayered or multicoloured articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08L1/08—Cellulose derivatives
- C08L1/10—Esters of organic acids, i.e. acylates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
유기 용제 가용성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 도프를 유연하여 웨브를 형성하는 유연 공정과, 웨브에 자외선을 조사하여, 중합성 화합물의 반응률을 3% 이상 30% 이하로 하는 자외선 조사 공정과,
자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상으로 가열하여, 폴리머 필름을 얻는 가열 공정
을 갖는 폴리머 필름의 제조 방법.
자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상으로 가열하여, 폴리머 필름을 얻는 가열 공정
을 갖는 폴리머 필름의 제조 방법.
Description
본 발명은, 폴리머 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
음극관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 일렉트로루미네선스 디스플레이(ELD), 형광 표시 디스플레이(VFD), 필드 이미션 디스플레이(FED), 및 액정 표시 장치(LCD)와 같은 화상 표시 장치에서는, 표시면에 대한 스크래치를 방지하기 위하여, 고경도의 광학 필름(폴리머 필름)을 마련하는 것이 적합하다.
이와 같은 고경도의 필름의 제조 방법이 다양하게 제안되고 있다.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 셀룰로스아실레이트 필름 등의 기재 필름 상에 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고, 그 후 중합성 화합물에 중합 처리를 실시하여 하드 코트층을 형성하는 방법이 종래 알려져 있다.
또, 예를 들면, 특허문헌 2~5에는, 셀룰로스아실레이트와 중합성 화합물을 포함하는 조성물(도프)을 유연하고, 중합성 화합물을 중합시켜 고경도의 셀룰로스아실레이트 필름을 제조하는 방법이 기재되어 있다.
특허문헌 2~4에서는, 셀룰로스아실레이트와 중합성 화합물을 포함하는 웨브를 건조시키는 동안, 또는 웨브의 건조 후에 자외선을 반응률하는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 5에는, 자외선을 2단계로 반응률하는 것이 기재되어 있다.
그러나, 고경도 필름으로서 추가적인 경도의 향상이 요구되고 있다. 고경도화를 위하여 폴리머 필름 상에 하드 코트층을 형성하는 것은, 기재와의 사이에 굴절률차가 발생함으로써 간섭 불균일이 발생할 우려가 있기 때문에 다른 해결책이 요망된다.
본 발명의 목적은, 높은 경도를 가짐과 함께, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있는 폴리머 필름의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 유기 용제 가능성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 도프로부터 얻어진 웨브에 대하여, 중합성 화합물의 반응률을 적절히 제어하면서 자외선을 반응률하고, 그 후, 가열을 행하여 중합을 종료시킴으로써, 높은 경도를 가짐과 함께, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있는 폴리머 필름을 제조할 수 있는 것을 발견했다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 하기의 수단인 본 발명에 의하여 해결할 수 있다.
[1]
유기 용제 가용성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 도프를 유연하여 웨브를 형성하는 유연 공정과,
상기 웨브에 자외선을 조사하여, 상기 중합성 화합물의 반응률을 3% 이상 30% 이하로 하는 자외선 조사 공정과,
상기 자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상으로 가열하여, 폴리머 필름을 얻는 가열 공정
을 갖는 폴리머 필름의 제조 방법.
[2]
상기 중합성 화합물의 분자량은 300 이상 20000 이하인 [1]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[3]
상기 자외선 조사 공정에 있어서의 중합성 화합물의 반응률이 3% 이상 10% 이하인 [1] 또는 [2]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[4]
상기 가열 공정에 있어서의 가열 온도가 180℃ 이상 210℃ 이하인 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[5]
상기 도프 중에 있어서, 상기 유기 용제 가용성 수지 100질량부에 대하여 상기 중합성 화합물은 100질량부 이상인 [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[6]
상기 유기 용제 가용성 수지는 셀룰로스아실레이트인 [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[7]
상기 셀룰로스아실레이트의 아세틸기 치환도가 2.7 이상 3.0 이하인 [6]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[8]
상기 도프는 광중합 개시제를 포함하지 않는 것인 [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[9]
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 150mJ/cm2 이상 2000mJ/cm2 이하로 하는 [8]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[10]
상기 도프는 광중합 개시제를 포함하는 것인 [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[11]
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 30mJ/cm2 이하로 하는 [10]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[12]
상기 유연 공정에 있어서,
유기 용제 가용성 수지 및 중합성 화합물을 포함하는 제1 도프와,
유기 용제 가용성 수지를 포함하고 상기 제1 도프와는 다른 제2 도프
를 공유연(共流延)하는 [1] 내지 [11] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[13]
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 상기 웨브를 요철을 갖는 주형(鑄型)에 밀착시켜, 웨브의 주형과 반대측의 면으로부터 자외선을 조사하는 [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
[14]
상기 요철을 갖는 주형의 요철 형상이 반사 방지 기능을 형성시킬 수 있는 미세 요철인 [13]에 기재된 폴리머 필름의 제조 방법.
본 발명에 의하면, 높은 경도를 가짐과 함께, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있는 폴리머 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 용액 유연 제막 장치(유연 지지체: 드럼)의 일례의 설명도이다.
도 2는 공유연 가능한 유연 다이를 포함하는 용액 유연 제막 장치의 일부 확대도이다.
도 3은 유연실, 핀 텐터, 및 이들 사이의 연결부의 개요를 나타내는 측면도이다.
도 4는 용액 유연 제막 장치(유연 지지체: 밴드)의 일례의 설명도이다.
도 2는 공유연 가능한 유연 다이를 포함하는 용액 유연 제막 장치의 일부 확대도이다.
도 3은 유연실, 핀 텐터, 및 이들 사이의 연결부의 개요를 나타내는 측면도이다.
도 4는 용액 유연 제막 장치(유연 지지체: 밴드)의 일례의 설명도이다.
이하의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시양태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 이와 같은 실시양태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명 및 본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
<폴리머 필름의 제조 방법>
본 발명의 폴리머 필름의 제조 방법은, 유기 용제 가용성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 도프를 유연하여 웨브를 형성하는 유연 공정과, 상기 웨브에 자외선을 조사하여, 상기 중합성 화합물의 반응률을 3% 이상 30% 이하로 하는 자외선 조사 공정과, 상기 자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상으로 가열하여, 폴리머 필름을 얻는 가열 공정을 갖는 폴리머 필름의 제조 방법이다.
이하, 폴리머 필름의 제조 방법에 있어서, 이용하는 화합물 및 제조 조건 등에 대하여 상세하게 설명한다.
먼저, 도프에 대한 상세를 기재한다.
본 발명의 제조 방법에 이용되는 도프는, 유기 용제 가용성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 조성물이다.
[유기 용제 가용성 수지]
본 발명에 있어서 "유기 용제 가용성 수지"란, 액온 25℃의 유기 용제에 1질량% 이상 용해되는 수지를 말하는 것으로 한다. 여기에서 말하는 유기 용제란, 예를 들면, 탄소수 1 이상 8 이하의 유기 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 복수를 임의의 비율로 혼합한 조성물로, 25℃ 1기압에 있어서 액체인 것을 말한다. 구체적으로는, 펜테인, 헥세인, 사이클로헥세인, 옥테인, 아이소옥테인 등의 지방족 탄화 수소류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화 수소류, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-뷰탄올, 2-뷰탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메틸-2-프로판올, 1-헥산올, 사이클로헥산올, 1-옥탄올, 에틸렌글라이콜 등의 알코올류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 프로피온산 에틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA) 등의 에스터류, 다이에틸에터, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인 등의 에터류, 다이클로로메테인, 클로로폼, 1,2-다이클로로에테인 등의 할로젠화 알킬류, 및 이들을 임의의 비율로 혼합한 조성물을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서의 폴리머 필름의 제조 방법으로 사용 가능한 용제는, 상기의 것에 한정되는 것은 아니다.
유기 용제 가용성 수지의 일례로서는, 화상 표시 장치 등의 보호 필름으로서 이용되기 때문에 투명성이 높은 재료가 바람직하고, (i) 셀룰로스아실레이트가 투명성이 우수하여, 바람직하다. 또, 다른 예로서는, 적층 구조를 갖는 폴리머 필름의 베이스 필름 재료로서 통상 사용되는 각종 열가소성 수지, 예를 들면, (ii) (메트)아크릴레이트계 수지, (iii) 폴리카보네이트계 수지, (iv) 폴리스타이렌계 수지, (v) 환상 폴리올레핀계 수지, (vi) 글루타르산 무수물계 수지, (vii) 글루타르이미드계 수지 등을 들 수 있다.
이하, 상기 유기 용제 가용성 수지의 구체적 양태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 하기의 양태에 한정되는 것은 아니다. 유기 용제 가용성 수지로서는, 상술한 규정에 적합한 것이면, 제한없이 이용할 수 있다.
{(i) 셀룰로스아실레이트}
셀룰로스아실레이트로서는, 특별히 제한은 없다. 셀룰로스아실레이트에 있어서, 셀룰로스의 수산기가 치환되는 아실기의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-215812호 단락 0017을 참조할 수 있다. 바람직하게는, 아세틸기, 프로피온일기, 뷰탄오일기이며, 보다 바람직하게는 아세틸기, 프로피온일기이고, 더 바람직하게는 아세틸기이다. 용제 용해성 등의 관점에서는, 아세틸 치환도가 2.7 이상인 셀룰로스아실레이트가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.75 이상, 더 바람직하게는 2.82 이상이다. 한편, 광학 성능의 관점에서는, 아세틸 치환도가 3.0 이하인 셀룰로스아실레이트가 바람직하고, 2.95 이하인 셀룰로스아실레이트가 보다 바람직하며, 더 바람직하게는 2.90 이하, 가장 바람직하게는 2.89 이하이다. 동일한 관점에서, 셀룰로스아실레이트의 총 아실 치환도도, 아세틸 치환도에 대하여 상기한 범위에 있는 것이 바람직하다. 또한 총 아실 치환도 및 아세틸 치환도는, ASTM-D817-96에 규정된 방법에 준하여 측정할 수 있다. 아실기로 치환되어 있지 않은 부분은 통상 수산기로서 존재하고 있다. 그 외, 셀룰로스아실레이트의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-215812호 단락 0018~0020도 참조할 수 있다.
{(ii) (메트)아크릴레이트계 수지}
(메트)아크릴레이트는, 메타크릴레이트와 아크릴레이트의 양쪽 모두를 포함하는 개념이다. 또, (메트)아크릴레이트계 수지에는, 아크릴레이트에스터와 메타크릴레이트에스터의 공중합체도 포함된다. (메트)아크릴레이트계 수지의 반복 구조 단위는, 특별히 한정되지 않는다. (메트)아크릴레이트계 수지는, 반복 구조 단위로서 (메트)아크릴산 에스터 단량체 유래의 반복 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.
(메트)아크릴레이트계 수지는, 반복 구조 단위로서, 수산기 함유 단량체, 불포화 카복실산 및 하기 일반식 (101)로 나타나는 단량체로부터 선택되는 적어도 1종을 중합하여 얻어지는 반복 구조 단위를 더 포함하고 있어도 된다.
일반식 (101)
CH2=C(X)R201
일반식 (101) 중, R201은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X는 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 아릴기, -CN기, -CO-R202기, 또는 O-CO-R203기를 나타내며, R202 및 R203은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 유기 잔기를 나타낸다.
(메트)아크릴산 에스터는, 특별히 한정되지 않는다. 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-099875호 단락 0034를 참조할 수 있다.
수산기 함유 단량체도, 특별히 한정되지 않는다. 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-099875호 단락 0035를 참조할 수 있다.
불포화 카복실산도, 특별히 한정되지 않는다. 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-099875호 단락 0036을 참조할 수 있다.
일반식 (101)로 나타나는 단량체의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-099875호 단락 0037을 참조할 수 있다.
(메트)아크릴레이트계 수지는, 하나 이상의 락톤환 구조를 포함하고 있어도 된다. 락톤환 구조의 일 양태로서는, 하기 일반식 (201)로 나타나는 락톤환 구조를 들 수 있다.
일반식 (201)
[화학식 1]
일반식 (201) 중, R401, R402 및 R403은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~20의 유기 잔기를 나타내고, 유기 잔기는 산소 원자를 함유하고 있어도 된다. 여기에서, 탄소 원자수 1~20의 유기 잔기로서는, 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, t-뷰틸기 등이 바람직하다.
락톤환 함유 (메트)아크릴레이트계 수지의 구조 중에 있어서의 상기 일반식 (201)로 나타나는 락톤환 구조의 함유 비율은, 바람직하게는 5~90질량%, 보다 바람직하게는 10~70질량%, 더 바람직하게는 10~60질량%, 특히 바람직하게는 10~50질량%이다. 락톤환 구조의 함유 비율을 5질량% 이상으로 함으로써, 수지의 내열성, 및 표면 경도가 향상되는 경향이 있고, 락톤환 구조의 함유 비율을 90질량% 이하로 함으로써, 수지의 성형 가공성이 향상되는 경향이 있다.
락톤환 함유 (메트)아크릴레이트계 수지의 제조 방법에 대해서는, 특별히 제한은 없다. 예를 들면, 중합 공정에 의하여 분자쇄 중에 수산기와 에스터기를 갖는 중합체 (p)를 얻은 후에, 얻어진 중합체 (p)를 가열 처리함으로써 락톤환 구조를 중합체에 도입하는 것(락톤환화 축합 공정)에 의하여, 락톤환 함유 (메트)아크릴레이트를 얻을 수 있다. 락톤환 함유 (메트)아크릴레이트의 바람직한 물성 등의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-250535호 단락 0040~0047을 참조할 수 있다.
또, (메트)아크릴레이트계 수지의 중량 평균 분자량 Mw는 80000 이상인 것이 바람직하다. (메트)아크릴레이트계 수지의 중량 평균 분자량 Mw가 80000 이상이면, 기계적 강도가 높아, 필름 제조 시의 핸들링 적성이 우수하다. 이 관점에서, (메트)아크릴레이트계 수지의 중량 평균 분자량 Mw는 100000 이상인 것이 바람직하다. 또한 본 발명에 있어서 중량 평균 분자량이란, 젤 침투 크로마토그래피(GPC)법에 의하여 폴리스타이렌 환산으로 측정되는 값으로 한다.
(메트)아크릴레이트로서는, 시판품 또는 공지의 합성 방법에 의하여 합성된 것을 사용할 수 있다. 시판품으로서는, 이들에 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 델펫 60N, 80N(아사히 가세이 케미컬즈제), 다이아날 BR80, BR85, BR88, BR102(미쓰비시 레이온제), KT75(덴키 가가쿠 고교제) 등을 들 수 있다.
{(iii) 폴리카보네이트계 수지}
폴리카보네이트계 수지로서는, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 시판품을 그대로, 또는 시판품에 적절히 박리력이나 인성(靭性)을 제어하기 위하여 첨가제를 첨가한 것을 이용할 수 있다. 시판품의 구체예로서는, 이들에 한정되는 것은 아니지만, 판라이트 L-1225L, L-1250Y, K-1300Y, AD-5503(데이진 가세이제), 노바렉스 7020R, 7022R, 7025R, 7027R, 7030R(미쓰비시 엔지니어링 플라스틱스제) 등을 들 수 있다.
{(iv) 폴리스타이렌계 수지}
폴리스타이렌계 수지로서는, 시판품을 그대로, 또는 적절히 박리력이나 인성을 제어하기 위하여 첨가제를 첨가한 것을 이용할 수 있다. 또, 물성 제어를 위하여, 폴리스타이렌에, 바이닐톨루엔, α-메틸스타이렌, 아크릴로나이트릴, 메틸바이닐케톤, 에틸렌, 프로필렌, 아세트산 바이닐, 무수 말레산 등이 공중합된 것을 이용해도 된다. 시판품의 구체예로서는, 이들에 한정되는 것은 아니지만, PSJ 폴리스타이렌 G9401, G9305, SGP-10(폴리스타이렌 재팬제), 하이브랜치 XC-540HB, XC-520, 딕 스타이렌 CR-250, CR-350, CR-450(DIC제), 스타이렌-아크릴로나이트릴 공중합체로서는, 세비안 N020SF, 050SF, 070SF, 080SF(다이셀 폴리머제), 스타이렌-무수 말레산 공중합체로서는, XIRAN SZ28110, SZ26180, SZ26120, SZ26080, SZ23110, SZ15170, SZ08250(폴리스코프 폴리머즈 B.V.제) 등을 들 수 있다.
{(v) 환상 폴리올레핀계 수지}
환상 폴리올레핀계 수지란, 환상 올레핀 구조를 갖는 수지를 말하는 것으로 한다.
환상 올레핀 구조를 갖는 수지의 예로서는, (1) 노보넨계 중합체, (2) 단환의 환상 올레핀의 중합체, (3) 환상 공액 다이엔의 중합체, (4) 바이닐 지환식 탄화 수소 중합체, 및 (1)~(4)의 수소화물 등을 들 수 있다. 보다 구체적 양태로서는, 하기 일반식 (II)로 나타나는 반복 단위를 적어도 1종 이상 포함하는 부가 (공)중합체인 환상 폴리올레핀계 수지, 및 필요에 따라, 일반식 (I)로 나타나는 반복 단위 중 적어도 1종 이상을 더 포함하는 부가 (공)중합체인 환상 폴리올레핀계 수지를 들 수 있다. 또, 일반식 (III)으로 나타나는 환상 반복 단위를 적어도 1종 포함하는 개환(開環) (공)중합체도 들 수 있다.
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
일반식 (I)~(III) 중, m은 0~4의 범위의 정수를 나타낸다. R1~R6은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~10의 탄화 수소기, X1~X3, Y1~Y3은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~10의 탄화 수소기, 할로젠 원자, 할로젠 원자로 치환된 탄소수 1~10의 탄화 수소기, -(CH2)nCOOR11, -(CH2)nOCOR12, -(CH2)nNCO, -(CH2)nNO2, -(CH2)nCN, -(CH2)nCONR13R14, -(CH2)nNR13R14, -(CH2)nOZ, -(CH2)nW, 또는, X1과 Y1 혹은 X2와 Y2 혹은 X3과 Y3으로 구성된 (-CO)2O, (-CO)2NR15를 나타낸다. 또한, R11, R12, R13, R14, R15는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 탄화 수소기를 나타내고, Z는 탄화 수소기 또는 할로젠으로 치환된 탄화 수소기를 나타내며, W는 SiR16 pD3-p(R16은 탄소수 1~10의 탄화 수소기, D는 할로젠 원자, -OCOR16 또는 OR16, p는 0~3의 정수를 나타냄), n은 0~10의 범위의 정수를 나타낸다.
R5 및 R6은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 -CH3인 것이 바람직하고, X3, 및 Y3은, 각각 독립적으로 수소 원자, 염소 원자, 또는 -COOCH3인 것이 바람직하다. 그 외의 기에 대해서는, 상기 중에서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. 노보넨계 중합체는, 시판품으로서는, JSR로부터 아톤(Arton) G 또는 아톤 F라는 상품명으로 발매되고 있다. 또, 닛폰 제온으로부터는, 제오노아(Zeonor) ZF14, ZF16, 제오넥스(Zeonex) 250 또는 제오넥스 280이라는 상품명으로 시판되고 있다. 노보넨계 중합체로서, 이들 시판품을 이용하는 것도, 물론 가능하다. 노보넨계 중합체 및 환상 폴리올레핀계 수지의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-029792호 단락 0032 및 0033도 참조할 수 있다.
{(vi) 글루타르산 무수물계 수지}
글루타르산 무수물계 수지란, 글루타르산 무수물 단위를 갖는 중합체인 수지를 나타낸다. 글루타르산 무수물 단위를 갖는 중합체는, 하기 일반식 (301)로 나타나는 글루타르산 무수물 단위(이하, 글루타르산 무수물 단위라고 부름)를 갖는 것이 바람직하다.
일반식 (301)
[화학식 5]
일반식 (301) 중, R31, R32는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 유기 잔기를 나타낸다. 또한, 유기 잔기는 산소 원자를 포함하고 있어도 된다. R31, R32는, 바람직하게는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다.
글루타르산 무수물 단위를 갖는 중합체의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-250535호 단락 0052~0065를 참조할 수 있다.
{(vii) 글루타르이미드계 수지}
글루타르이미드계 수지란, 글루타르이미드 단위를 갖는 중합체인 수지를 나타낸다.
글루타르이미드계 수지는, 측쇄에 치환 또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지이다. 측쇄에 치환 또는 비치환 이미드기를 가짐으로써 광학 특성이나 내열성 등의 점에서 바람직한 특성 밸런스를 발현시킬 수 있다. 글루타르이미드계 수지로서는, 적어도 하기 일반식 (401)로 나타나는 글루타르이미드 단위를 갖는 것이 바람직하다.
일반식 (401)
[화학식 6]
식 중, R301, R302, R303은, 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1~12개의 비치환의 또는 치환의 알킬기, 사이클로알킬기, 아릴기를 나타낸다.
글루타르이미드계 수지를 구성하는 바람직한 글루타르이미드 단위로서는, R301, R302가 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이며, R303이 메틸기 또는 사이클로헥실기이다. 수지에 포함되는 글루타르이미드 단위는, 단일의 종류여도 되고, R301, R302, R303이 상이한 복수의 종류가 포함되어 있어도 된다.
글루타르이미드계 수지에는, 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 메틸 등의 아크릴산 에스터 또는 메타크릴산 에스터 구성 단위가 포함되어 있는 것이 바람직하다. 다른 바람직한 구성 단위로서는, N-메틸메타크릴아마이드나, N-에틸메타크릴아마이드와 같은, N-알킬메타크릴아마이드를 들 수 있다. 이들 글루타르이미드 단위 이외의 구성 단위는 단독의 종류여도 되고, 복수의 종류가 포함되어 있어도 된다.
글루타르이미드계 수지의 일반식 (401)로 나타나는 글루타르이미드 단위의 함유량은, 내열성 및 투명성의 관점에서, 글루타르이미드계 수지의 총 반복 단위를 기준으로 하여, 20~95질량%의 범위인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 50~90질량%, 더 바람직하게는 60~80질량%이다.
그 외의 공중합 가능한 성분에 대해서는, 일본 공개특허공보 2005-189623호 단락 0030을 참조할 수 있다. 또, 글루타르이미드계 수지의 합성 방법 등의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2005-189623호 단락 0031을 참조할 수 있다. 글루타르이미드계 수지의 중량 평균 분자량은, 1×104~5×105의 범위인 것이 바람직하다
[중합성 화합물]
본 발명에 있어서 "중합성 화합물"이란, 1분자 중에 중합성기를 1개 이상 갖는 화합물을 말하는 것으로 하고, 1분자 중에 중합성기를 2개 이상 갖는 다관능 중합성 화합물인 것이 바람직하며, 1분자 중에 중합성기를 3개 이상 갖는 다관능 중합성 화합물인 것이 보다 바람직하다.
다관능 중합성 화합물로서는, 중합성기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 것이면, 모노머여도 되고, 올리고머나 프리폴리머 등의 다량체여도 된다. 또, 중합성 화합물에는, 다관능 중합성 화합물과 함께, 1분자 중에 포함되는 중합성기의 수가 1개인 단관능성 화합물이 포함되어 있어도 된다. 단관능성 화합물도, 모노머여도 되고, 올리고머나 프리폴리머 등의 다량체여도 된다.
보다 높은 경도를 얻기 위해서는 모노머의 농도가 높은 것과, 가교 밀도가 큰 것이 중요해지지만, 그로 인하여 폴리머 필름의 막두께 방향으로의 모노머 확산은 적은 편이 바람직하고, 한편으로 중합 반응을 촉진시키기 위해서는 어느 정도의 확산성을 갖는 것이 필요해진다. 이와 같은 특성을 갖기 위하여, 중합성 화합물의 분자량은, 300 이상 20000 이하인 것이 바람직하고, 500 이상 5000 이하인 것이 보다 바람직하며, 800 이상 3000 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 중합성 화합물의 관능기수/분자량은 클수록 바람직하다. 본 발명에 있어서 분자량이란, 다량체에 대해서는, 젤 침투 크로마토그래피(GPC)에 의하여 폴리스타이렌 환산으로 측정되는 중량 평균 분자량을 말하는 것으로 한다.
또한, 본 발명에 있어서는, 중합성 화합물로서, 분자량이 상이한 2종 이상의 중합성 화합물을 포함하는 것이어도 되지만, 2종 이상의 중합성 화합물을 혼합하는 경우는, GPC에 의한 표준 폴리스타이렌 환산의 중량 평균 분자량이 300 이상 20000 이하인 것이 바람직하고, 500 이상 52000 이하인 것이 보다 바람직하며, 800 이상 3000 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 복수의 중합성 화합물을 혼합하여 이용하는 경우, 분자량이 800 이상 3000 이하인 중합성 화합물의 함유량은, 중합성 화합물 전체량에 대하여 40질량% 이상인 것이 바람직하다.
중합성 화합물 전체량 100질량%에 대한 다관능 중합성 화합물의 함유량은, 보다 고경도의 폴리머 필름을 얻는 관점에서는, 20질량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 40질량% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. 중합성 화합물 전체량이 다관능 중합성 화합물의 1종 이상이어도 된다. 한편, 폴리머 필름의 취성(脆性)의 관점에서는, 중합성 화합물 전체량 100질량%에 대한 다관능 중합성 화합물량을, 99질량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 95질량% 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 한편, 단관능 중합성 화합물은, 다관능 중합성 화합물과 병용해도 되고, 병용하지 않아도 된다. 병용하는 경우, 단관능 중합성 화합물은, 중합성 화합물의 점도를 낮춰, 취급을 용이하게 하는 관점에서, 중합성 화합물 전체량 100질량%에 대하여, 예를 들면 1~20질량% 사용하는 것이 바람직하다.
중합성 화합물이 갖는 중합성기로서는, 라디칼 중합성기여도 되고 양이온 중합성기여도 되며, 라디칼 중합성기가 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기, 에폭시기, 옥세테인기, 메틸올기 등의 중합성기가, 반응을 양호하게 진행시켜 가교 구조를 형성하기에 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기가 더 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 알릴기를 들 수 있으며, (메트)아크릴로일옥시기 및 (메트)아크릴로일기가 보다 바람직하고, (메트)아크릴로일옥시기가 더 바람직하다. 또한 본 발명에 있어서, "(메트)아크릴로일옥시기"라는 기재는, 아크릴로일옥시기와 메타크릴로일옥시기 중 적어도 어느 하나의 의미로 이용하는 것으로 한다. "(메트)아크릴로일기", "(메트)아크릴레이트", "(메트)아크릴" 등도 마찬가지이다. 다관능 중합성 화합물에 포함되는 중합성기의 수는 1분자 중에 2 이상이며, 바람직하게는 2~20의 범위이고, 보다 바람직하게는 3~12의 범위이다.
다관능 중합성 화합물의 바람직한 일 양태로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 화합물을 들 수 있다.
구체예로서, 2관능 (메트)아크릴레이트로서는, 에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 테트라에톡시다이(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 테트라프로폭시다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올다이(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 시판품의 일례로서는, 교에이샤 가가쿠제: 라이트 아크릴레이트 NP-A(네오펜틸글라이콜다이아크릴레이트, 분자량 212) 등을 들 수도 있다.
3관능 이상의 (메트)아크릴레이트계 화합물로서는, 예를 들면, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 아이소사이아누르산 변성 트라이(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 시판품의 일례로서는, 닛폰 가야쿠제: KAYARAD DPHA(다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 분자량 579), 도아 고세이제: 아로닉스 M-309(트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, 분자량 296) 등을 들 수도 있다.
또, 상기 (메트)아크릴레이트계 화합물은, 분자 골격의 일부가 변성되어 있는 것이어도 된다. 예를 들면, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 카프로락톤, 아이소사이아누르산, 알킬, 환상 알킬, 방향족, 비스페놀 등에 의한 변성이 이루어진 것을 사용할 수 있다.
또, 다관능 중합성 화합물로서는, 유레테인(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 폴리에스터(메트)아크릴레이트, 폴리에터(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴레이트계 중합체 등을 들 수도 있다. 이들 중에서도, 투명성 및 굴절률의 점에서 유레테인(메트)아크릴레이트가 바람직하다. 유레테인(메트)아크릴레이트는, 다가 알코올 및 유기 다이아이소사이아네이트와 하이드록시(메트)아크릴레이트의 반응에 의하여 얻을 수 있다.
상기 다가 알코올로서는, 예를 들면, 네오펜틸글라이콜, 3-메틸-1,5-펜테인다이올, 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜, 1,4-뷰테인다이올, 1,6-헥세인다이올, 트라이메틸올프로페인, 펜타에리트리톨, 트라이사이클로데케인다이메틸올, 비스-[하이드록시메틸]-사이클로헥세인 등; 상기 다가 알코올과 다염기산(예를 들면, 석신산, 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 테레프탈산, 아디프산, 아젤라산, 테트라하이드로 무수 프탈산 등)의 반응에 의하여 얻어지는 폴리에스터폴리올; 상기 다가 알코올과 ε-카프로락톤의 반응에 의하여 얻어지는 폴리카프로락톤폴리올; 폴리카보네이트폴리올(예를 들면, 1,6-헥세인다이올과 다이페닐카보네이트의 반응에 의하여 얻어지는 폴리카보네이트다이올 등); 및 폴리에터폴리올을 들 수 있다. 상기 폴리에터폴리올로서는, 폴리에틸렌글라이콜, 폴리프로필렌글라이콜, 폴리테트라메틸렌글라이콜, 에틸렌옥사이드 변성 비스페놀 A 등을 들 수 있다.
상기 유기 폴리아이소사이아네이트로서는, 예를 들면 아이소포론다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 자일렌다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트, 다이사이클로펜탄일아이소사이아네이트 등의 아이소사이아네이트 화합물, 이들 아이소사이아네이트 화합물의 부가체, 또는 이들 아이소사이아네이트의 다량체 등을 들 수 있다.
상기 하이드록시(메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨다이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 하이드록시뷰틸(메트)아크릴레이트, 다이메틸올사이클로헥실모노(메트)아크릴레이트, 하이드록시카프로락톤(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트인 것이, 필름의 추가적인 고경도화의 면에서 바람직하다.
상기 유레테인(메트)아크릴레이트는, 6관능 이상인 것이 바람직하고, 6~15관능인 것이 보다 바람직하다.
유레테인(메트)아크릴레이트로서는, 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서는, 예를 들면, 닛폰 고세이 가가쿠 고교사제: UV1700B(질량 평균 분자량 2000, 10관능), UV7600B(질량 평균 분자량 1500, 6관능), 닛폰 가야쿠사제: DPHA40H(질량 평균 분자량 7000, 10관능), UX5003(질량 평균 분자량 700, 6관능), 네가미 고교사제: UN3320HS(질량 평균 분자량 5000, 15관능), UN904(질량 평균 분자량 4900, 15관능), UN3320HC(질량 평균 분자량 1500, 10관능), UN3320HA(질량 평균 분자량 1500, 6관능), 아라카와 가가쿠 고교사제: BS577(질량 평균 분자량 1000, 6관능), 및, 신나카무라 가가쿠 고교사제: U15HA(질량 평균 분자량 2300, 15관능), U-6LPA(질량 평균 분자량 800, 6관능) 등을 들 수 있다.
다관능 중합성 화합물로서는, 1분자 중에 하나 이상의 불소 원자를 포함하는 불소 함유 중합성 화합물, 1분자 중에 하나 이상의 실록세인 결합을 갖는 실리콘계 중합성 화합물 등을 이용할 수도 있다. 불소 함유 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2013-130865 단락 0077~0103에 기재된 각종 화합물을 이용할 수 있다. 한편, 실리콘계 중합성 화합물에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-130865 단락 0141 및 일본 공개특허공보 2012-103689호 0119~0120을 참조할 수 있다.
상기 다관능 중합성 화합물과 병용 가능한 단관능성 화합물로서는, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, WO2012/077807A1 단락 0022에 기재된 단관능 (메트)아크릴레이트계 화합물, 일본 공개특허공보 2008-178995호 단락 0022에 기재된 바이닐 결합을 1분자 중에 하나만 갖는 단관능 중합성 화합물, 일본 공개특허공보 2008-119684호 단락 0022에 기재된 단관능 라디칼 중합성 모노머 등을 사용할 수 있다.
상기 중합성 화합물은, 열중합성 화합물이어도 되고 광중합성 화합물이어도 된다. 광 조사에 의하여 중합을 행하는 경우에는 자외선 흡수성을 갖는 성분의 병용은 통상 행해지지 않지만, 열중합에 의하여 중합 처리를 행하는 경우에는, 자외선 흡수성기를 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 자외선 흡수성기로서는, 예를 들면 옥시벤조페논 골격을 포함하는 기, 벤조페논 골격을 포함하는 기, 벤조트리아졸 골격을 포함하는 기, 트라이아진 골격을 포함하는 기, 살리실산 에스터 골격, 사이아노아크릴레이트 골격, 벤젠 골격을 포함하는 기 등을 들 수 있다. 자외선 흡수성기를 갖는 중합성 화합물의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2004-67816호 단락 0060~0079를 참조할 수 있다.
본 발명에 있어서, 도프 중에 있어서의 중합성 화합물량은, 유기 용제 가용성 수지의 전체량을 100질량부로 하여 100질량부 이상으로 하는 것이 바람직하고, 150질량부 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 200질량부 이상으로 하는 것이 더 바람직하다. 또, 유기 용제 가용성 수지의 전체량을 100질량부로 하여 500질량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 300질량부 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 상기 범위에서 중합성 화합물을 포함하는 도프로부터 폴리머 필름을 얻는 것은, 필름 경도 및 취성 개량의 관점에서 바람직하다.
또, 도프 전체량을 100질량부로 하여, 중합성 화합물량은, 8질량부 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10질량부 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 12질량부 이상으로 하는 것이 더 바람직하다. 또한, 도프 전체량을 100질량부로 하여, 중합성 화합물량은, 용해성의 관점에서는, 20질량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 17질량부 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.
도프에 포함되는 유기 용제로서는, 일반적으로 유연 제막에 이용되는 유기 용제를 제한 없이 이용할 수 있다. 예를 들면, 앞서 유기 용제 가용성에 관하여 제시한 각종 유기 용제 중 1종 또는 이들의 2종 혹은 3종을 임의의 비율로 혼합한 혼합 용제이지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
또, 일 양태에서는, 유기 용제의 예로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온 등의 케톤류, 테트라하이드로퓨란(THF), 1,4-다이옥세인, 1,3-다이옥솔레인, 1,2-다이메톡시에테인 등의 에터류, 폼산 메틸, 폼산 에틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 아밀, γ-뷰티로락톤 등의 에스터류 외에, 메틸셀로솔브, 다이메틸이미다졸린온, 다이메틸폼아마이드, 다이메틸아세트아마이드, 아세토나이트릴, 다이메틸설폭사이드, 설포레인, 나이트로에테인, 염화 메틸렌, 아세토아세트산 메틸 등을 들 수 있다. 1,3-다이옥솔레인, THF, 메틸에틸케톤, 아세톤, 아세트산 메틸 및 메틸렌 클로라이드가 바람직하다. 2종 이상의 용제를 혼합한 혼합 용제에 있어서는, 상기 예시한 유기 용제가 가장 많은 비율(예를 들면 혼합 용제 전체량 100질량%에 대하여 50질량% 이상 99질량% 미만)을 차지하는 주용제인 것이 바람직하다.
혼합 용제에 주용제와 함께 포함되는 유기 용제(부용매)로서는, 탄소 원자수 1~4의 알코올이 바람직하다. 탄소 원자수 1~4의 알코올로서는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-뷰탄올, 2-뷰탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메틸-2-프로판올, 프로필렌글라이콜모노메틸에터 중 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 부용매는, 혼합 용제 전체량 100질량%에 대하여, 예를 들면 1질량% 이상 50질량% 미만, 바람직하게는 1질량% 이상 40질량% 이하의 비율로 혼합 용제에 포함될 수 있다. 또한 유기 용제 가용성 수지로서 셀룰로스아실레이트를 이용하는 경우, 셀룰로스아실레이트는 수산기나 에스터, 케톤 등의 수소 결합성의 관능기를 포함하기 때문에, 유기 용제는, 용제 전체량 100질량%에 대하여 5~30질량%, 보다 바람직하게는 7~25질량%, 더 바람직하게는 10~20질량%의 알코올을 함유하는 것이, 지지체로부터의 웨브의 박리가 용이해져 바람직하다. 또한 도프에는, 유기 용제에 더하여 소량의 물이 포함되어 있어도 된다. 물을 포함하는 경우, 용제 전체량 100질량%에 대한 물의 함유량은, 예를 들면 0.1~5질량%, 바람직하게는 0.1~3질량%, 보다 바람직하게는 0.2~2 질량%로 할 수 있다.
도프 전체량을 100질량%로 하여, 용제 전체량이 차지하는 비율은, 예를 들면 60~95질량%의 범위이며, 바람직하게는 70~85질량%의 범위이다. 상기 범위에서 용제를 포함하는 도프는, 용제의 휘발에 의한 농도·조성의 변화나 고형분의 석출을 일으키기 어렵고, 또, 안정적인 유연에 적합한 점도가 얻어지기 때문에, 바람직하다.
도프에 있어서의 유기 용제 가용성 수지의 함유량은, 도프 전체량을 100질량%로 하여, 예를 들면 1~40질량%의 범위이다. 유연의 용이성의 관점에서는, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 유연을 위한 송액의 용이성의 관점에서는, 35질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 제조 방법에 이용되는 도프에는, 상기 성분에 더하여 각종 첨가제를 임의로 첨가할 수 있다. 그와 같은 첨가제의 구체예로서는, (a) 자외선 흡수제, (b) 계면활성제, (c) 중합 개시제를 들 수 있다. 이하에 상세를 기재하지만, 도프에 첨가 가능한 첨가제는, 이들에 한정되는 것은 아니다.
{(a) 자외선 흡수제}
자외선 흡수제는, 폴리머 필름의 내구성의 개선에 기여할 수 있다. 그 중에서도 표면 보호 필름으로서 사용되는 폴리머 필름이 자외선 흡수제를 포함하는 것은 바람직하다. 자외선 흡수제의 첨가량은, 자외선 흡수제의 종류 등에 의하여 적절히 설정하면 된다. 예를 들면, 유기 용제 가용성 수지 100질량부에 대하여, 1~10질량부의 자외선 흡수제를, 도프에 첨가할 수 있다. 자외선 흡수제에 대해서는 특별히 제한은 없다. 폴리머 필름에 통상 사용되는 각종 자외선 흡수제를 이용할 수 있다. 또한 본 발명에 있어서 자외선이란, 200~400nm의 파장역의 광을 말하는 것으로 한다. 자외선 흡수제는, 예를 들면 400nm 이하의 자외선을 흡수함으로써 폴리머 필름의 내구성을 향상시킬 수 있으며, 그 중에서도 자외선 흡수제를 포함함으로써 폴리머 필름의 파장 370nm에서의 투과율이 10% 이하가 되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5% 이하, 더 바람직하게는 2% 이하이다.
자외선 흡수제로서는, 예를 들면 옥시벤조페논계 화합물, 벤조트라이아졸계 화합물, 살리실산 에스터계 화합물, 벤조페논계 화합물, 사이아노아크릴레이트계 화합물, 트라이아진계 화합물, 니켈 착염계 화합물, 무기 분체 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제의 구체예 등의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2006-184874호 단락 0109~0190을 참조할 수 있다. 또, 고분자 자외선 흡수제도 사용 가능하며, 예를 들면 일본 공개특허공보 평6-148430호에 기재된 폴리머 타입의 자외선 흡수제를 이용할 수 있다. 일본 공개특허공보 2012-215812호 단락 0054에 기재된 자외선 흡수제의 사용도 가능하다. 또, 후술하는 실시예에서 이용하는 자외선 흡수제는, 바람직한 자외선 흡수제 중 하나이다.
또한, 본 발명에 있어서는, 자외선 조사 공정에 있어서 중합성 화합물의 일부를 중합시키는데, 자외선 흡수제를 포함하는 도프를 이용하는 경우에는, 중합을 위하여 조사된 자외선이 자외선 흡수제에 흡수되어 반응 효율이 저하되기 때문에, 중합성 화합물의 반응률이 본 발명의 범위가 되도록, 조사 조건 등을 적절히 조정할 필요가 있다.
{(b) 계면활성제}
계면활성제로서는, 특별히 제한은 없고, 시판품 또는 공지의 방법으로 합성 가능한 각종 계면활성제를 이용할 수 있다. 구체예로서는, 하기에 한정되는 것은 아니지만, 실리콘계 화합물 및 불소계 화합물을 들 수 있다.
실리콘계 화합물의 바람직한 예로서는, 다이메틸실릴옥시 단위를 반복 단위로서 복수 개 포함하는 화합물쇄의 말단 및 측쇄 중 적어도 한쪽에 치환기를 갖는 것을 들 수 있다.
다이메틸실릴옥시를 반복 단위로서 포함하는 화합물쇄 중에는, 다이메틸실릴옥시 이외의 구조 단위를 포함해도 된다. 치환기는 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수 개 존재하는 것이 바람직하다. 바람직한 치환기의 예로서는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 바이닐기, 아릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세탄일기, 수산기, 플루오로알킬기, 폴리옥시알킬렌기, 카복실기, 아미노기 또는 이들 기를 포함하는 기를 들 수 있다. 분자량에 특별히 제한은 없지만, 10만 이하인 것이 바람직하고, 5만 이하인 것이 특히 바람직하며, 3000~30000인 것이 가장 바람직하다. 여기에서 분자량이란, 질량 평균 분자량을 말하는 것으로 한다. 후술하는 불소계 화합물에 대해서도 마찬가지이다. 실리콘계 화합물의 실리콘 원자 함유량에는 특별히 제한은 없지만, 18.0질량% 이상인 것이 바람직하고, 25.0~37.8질량%인 것이 보다 바람직하며, 30.0~37.0질량%인 것이 더 바람직하다.
바람직한 실리콘계 화합물의 예로서는, 신에쓰 가가쿠제 X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X-22-1821(이상 상품명); 치소제 FM-0725, FM-7725, DMS-U22, RMS-033, RMS-083, UMS-182(이상 상품명) 등을 들 수 있다. 단, 이들에 한정되는 것은 아니다.
불소계 화합물로서는, 플루오로알킬기를 갖는 화합물이 바람직하다. 플루오로알킬기는, 탄소수 1~20인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~10이며, 직쇄(예를 들면 -CF2CF3, -CH2(CF2)4H, -CH2(CF2)8CF3, -CH2CH2(CF2)4H 등)여도 되고, 분기 구조(예를 들면 CH(CF3)2, CH2CF(CF3)2, CH(CH3)CF2CF3, CH(CH3)(CF2)5CF2H 등)여도 되며, 지환식 구조(바람직하게는 5원환 또는 6원환, 예를 들면 퍼플루오로사이클로헥실기, 퍼플루오로사이클로펜틸기 또는 이들로 치환된 알킬기 등)여도 된다. 또, 에터 결합을 갖고 있어도 된다(예를 들면 CH2OCH2CF2CF3, CH2CH2OCH2C4F8H, CH2CH2OCH2CH2C8F17, CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H 등). 플루오로알킬기는, 동일 분자 중에 복수 포함되어 있어도 된다.
불소계 화합물은, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 바이닐기, 아릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세탄일기, 수산기, 폴리옥시알킬렌기, 카복실기, 아미노기 등의 치환기를 1개 또는 복수 개 더 포함하고 있어도 된다. 또, 불소계 화합물은, 불소 원자를 포함하지 않는 화합물과의 폴리머여도 되고 올리고머여도 되며, 분자량에 특별히 제한은 없다. 불소계 화합물의 불소 원자 함유량에는 특별히 제한은 없지만, 20질량% 이상인 것이 바람직하고, 30~70질량%인 것이 보다 바람직하며, 40~70질량%인 것이 더 바람직하다.
바람직한 불소계 화합물의 예로서는, 다이킨 가가쿠 고교제 R-2020, M-2020, R-3833, M-3833(이상 상품명); DIC제 메가팍 F-784, F-171, F-172, F-179A, F-114, F-251, F-281, F-410, F-430, F-444, F-477, F-510, F-511, F-552, F-553, F-554, F-555, F-556, F-557, F-558, F-559, F-560, F-561, F-562, F-563, F-563, F-567, F-567, F-569, F-570, F-571, R-40, R-41, R-43, R-94, RS-72-K, RS-72-K, RS-76-E, RS-76-NS, RS-90, 디펜서 MCF-300(이상 상품명) 등을 들 수 있다.
계면활성제는, 표면 평활성이 우수한 폴리머 필름을 얻는 것에 기여한다고 본 발명자들은 생각하고 있다. 이는 계면활성제가 레벨링성을 발휘하는 것에 의한 것이라고 추측된다.
또, 방진성, 대전 방지 등의 특성을 부여할 목적으로, 공지의 양이온계 계면활성제 또는 폴리옥시알킬렌계 화합물 등의 방진제, 대전 방지제 등을 적절히 첨가할 수도 있다. 이들 방진제, 대전 방지제는, 상술한 실리콘계 화합물이나 불소계 화합물에, 그 구조 단위가 포함되어 있어도 된다. 바람직한 화합물의 예로서는, DIC제 메가팍 F-150; 도레이 다우코닝제 SH-3748 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
계면활성제는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 임의의 비율로 조합하여 이용해도 된다. 도프에 있어서의 계면활성제량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 도프 중의 고형분 100질량부에 대하여, 0.001~10질량부로 할 수 있다.
{(c) 중합 개시제}
중합 개시제는, 라디칼 중합 개시제여도 되고 양이온 중합 개시제여도 된다. 병용되는 중합성 화합물의 종류에 따라 적절한 중합 개시제를 선택하면 된다. 상기와 같이, 중합성 화합물이 갖는 중합성기로서는 라디칼 중합성기가 바람직하기 때문에, 라디칼 중합 개시제의 사용이 적합하다. 또한 중합 처리를 실시함으로써 중합성 화합물에 포함되는 중합성기가 라디칼을 발생하여 개시제로서 기능하는 경우도 있다. 그와 같은 경우에는, 도프에 중합 개시제를 첨가하지 않고 중합성 화합물의 중합 반응을 진행시킬 수 있다.
열중합 개시제의 구조에 대해서는, 특별히 한정되는 것은 아니다. 열중합 개시제의 구체적 양태로서는, 아조 화합물, 하이드록실아민에스터 화합물, 유기 과산화물, 과산화 수소 등을 들 수 있다. 유기 과산화물의 구체예에 대해서는, 일본 특허공보 제5341155호 단락 0031에 기재된 것을 들 수 있다.
아조 화합물은, 적어도 하나의 아조 결합을 포함하면 되고, 아조 결합과 함께 각종 치환기를 포함할 수 있다. 구체적으로는, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸아이소뷰티로나이트릴), 1,1'-아조비스(사이클로헥세인-1-카보나이트릴), 1-[(1-사이아노-1-메틸에틸)아조]폼아마이드 등의 아조나이트릴 화합물, 다이메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 다이메틸1,1'-아조비스(1-사이클로헥세인카복실레이트) 등의 아조에스터 화합물, 2,2'-아조비스[N-(2-프로펜일)-2-메틸프로피온아마이드], 2,2'-아조비스(N-뷰틸-2-메틸프로피온아마이드), 2,2'-아조비스(N-사이클로헥실-2-메틸프로피온아마이드) 등의 아조아마이드 화합물, 2,2'-아조비스[2-[1-(2-하이드록시에틸)-2-이미다졸린-2-일]프로페인]다이하이드록시 클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로페인] 등의 아조이미다졸린 화합물, 2,2'-아조비스(2,4,4-트라이메틸펜테인 등의 아조알킬 화합물, 나아가서는 아조아미딘 화합물, 아조 결합을 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머의 사용도 가능하다. 아조 화합물은, 레독스 분해나 유발 분해가 발생하기 어려운 점 등에서 바람직한 열중합 개시제이다.
또, 하이드록실아민에스터 화합물로서는, 일본 공표특허공보 2012-521573호에 기재된 식 I로 나타나는 하이드록실아민에스터 화합물을 들 수 있다. 구체적인 화합물을 이하에 나타낸다. 단 이들에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 7]
광중합 개시제도 특별히 한정되는 것은 아니다. 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 싸이오잔톤류, 아조 화합물, 과산화물류, 2,3-다이알킬다이온 화합물류, 다이설파이드 화합물류, 플루오로아민 화합물류나 방향족 설포늄류를 들 수 있다. 아세토페논류의 예에는, 2,2-다이에톡시아세토페논, p-다이메틸아세토페논, 1-하이드록시다이메틸페닐케톤, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-4-메틸싸이오-2-모폴리노프로피오페논 및 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-뷰탄온이 포함된다. 벤조인류의 예에는, 벤조인벤젠설폰산 에스터, 벤조인톨루엔설폰산 에스터, 벤조인메틸에터, 벤조인에틸에터 및 벤조인아이소프로필에터가 포함된다. 벤조페논류의 예에는, 벤조페논, 2,4-다이클로로벤조페논, 4,4-다이클로로벤조페논 및 p-클로로벤조페논이 포함된다. 포스핀옥사이드류의 예에는, 2,4,6-트라이메틸벤조일다이페닐포스핀옥사이드가 포함된다.
최신 UV 경화 기술(P. 159, 발행인; 다카우스 가즈히로, 발행소; 기주쓰 조호 교카이, 1991년 발행)에도 다양한 광중합 개시제의 예가 기재되어 있으며, 이들도 사용 가능하다.
시판 중인 광개열형의 광라디칼 중합 개시제로서는, BASF제의 이르가큐어 시리즈(Irg OXE01, Irg 127, Irg 651, Irg 184, Irg 819, Irg 907) 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.
또, 광중합 개시제로서, 계면활성 작용과 광중합 개시 작용을 갖는 화합물도 사용 가능하다. 그와 같은 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2009-035642호에 계면활성 광중합 개시제 (D)로서 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다. 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2009-035642호 단락 0077~0094를 참조할 수 있다.
본 발명의 제조 방법에서는, 자외선 조사 공정에 있어서의 중합성 화합물의 반응률을, 일반적인 중합 반응 공정보다 낮은 범위에서 제어하기 위하여, 도프에는 광중합 개시제가 포함되지 않는 편이 바람직하다. 광중합 개시제를 포함하지 않는 도프를 사용하는 경우에는, 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 150mJ/cm2 이상 2000mJ/cm2 이하로 하는 것이 바람직하고, 300mJ/cm2 이상 600mJ/cm2 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 광중합 개시제를 포함하지 않는 도프를 사용하는 경우에는, 자외선 조사 공정에 있어서의 중합 반응은 자외선의 에너지만으로 행한다.
광중합 개시제를 포함하지 않는 도프를 사용함으로써, 내광성이 악화되지 않고, 또한 투명성이 저하되지 않는다는 효과가 얻어져 바람직하다.
또한, 도프가 광중합 개시제를 포함하는 경우, 반응률을 제어하여, 폴리머 필름의 투명성을 확보하기 위해서는, 중합성 화합물을 100질량부에 대하여, 광중합 개시제는 10질량부 이하로 하는 것이 바람직하고, 5질량부 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 3질량부 이하로 하는 것이 더 바람직하다.
또, 광중합 개시제를 포함하는 도프를 사용하는 경우에는, 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 30mJ/cm2 이하로 하는 것이 바람직하다.
이상 기재한 중합 개시제는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 임의의 비율로 조합하여 이용해도 된다.
도프는, 상기 성분을 동시에 또는 임의의 순서로 혼합함으로써 조제할 수 있다. 조제 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 유연 제막에 관한 공지 기술을 제한 없이 적용할 수 있다.
다음으로, 폴리머 필름의 제조 조건에 대하여 상세하게 설명한다.
[자외선 조사 공정 및 가열 공정]
본 발명에 있어서는, 자외선 조사 공정과 후술하는 가열 공정에 있어서, 2단계로 중합성 화합물을 중합시킴으로써, 높은 경도를 가짐과 함께, 간섭 불균일의 발생이 억제된 폴리머 필름을 얻을 수 있다. 자외선 조사 공정만으로 중합성 화합물을 중합시키면, 중합에 불균일이 발생하여, 얻어지는 폴리머 필름의 경도가 저하되는 경우가 있다. 한편, 가열 공정만으로 중합성 화합물을 중합시키면, 온도 상승에 의하여 유동성을 가진 중합성 화합물이 기재(基材) 성분으로부터 분리됨으로써, 얻어지는 폴리머 필름에 있어서의 중합성 화합물 영역과 기재 성분 영역의 경계면이 명확해져, 굴절률이 급격하게 변화되는 점에서, 간섭 불균일이 발생하는 경우가 있다. 본 발명에서는, 특히, 자외선 조사 공정에 있어서의 중합성 화합물의 반응률을 제어함으로써, 경도 및 간섭 불균일의 문제를 해결할 수 있다.
[자외선 조사 공정에 의한 중합성 화합물의 반응률이 3% 이상 30% 이하]
상술과 같이, 자외선 조사 공정에 있어서는, 웨브 중의 중합성 화합물의 반응률을 제어하는 것이 중요하여, 3% 이상 30% 이하로 한다. 반응률을 3% 이상으로 함으로써, 가열 공정만으로 중합 반응을 행하는 경우와 달리, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있다. 또, 반응률을 30% 이하로 함으로써, 자외선 조사 공정만으로 중합 반응을 행하는 경우와 달리, 높은 경도를 갖는 폴리머 필름을 얻을 수 있다.
자외선 조사 공정에 의한 중합성 화합물의 반응률은, 3% 이상 30% 이하인 것이 바람직하고, 3% 이상 10% 이하인 것이 보다 바람직하다.
[가열 공정에 있어서의 가열 온도]
가열 공정에 있어서는, 자외선 조사된 웨브를 가열함으로써, 자외선 조사 공정에 있어서 중합하지 않았던 중합성 화합물의 반응을 진행시킬 수 있다. 본 발명에 있어서는, 가열 온도를 140℃ 이상으로 하고 있기 때문에, 미중합인 채 남아 있던 중합성 화합물이 활발하게 열운동함으로써, 높은 확률로 열중합 반응이 진행되어, 고경도의 폴리머 필름을 얻을 수 있다.
가열 공정에 있어서의 가열 온도는, 160℃ 이상인 것이 바람직하고, 180℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또. 220℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 210℃ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.
[공유연에 의한 폴리머 필름의 제조 방법]
본 발명의 폴리머 필름의 제조 방법은,
상기 유연 공정에 있어서, 유기 용제 가용성 수지 및 중합성 화합물을 포함하는 제1 도프와, 유기 용제 가용성 수지를 포함하고 상기 제1 도프와는 다른 제2 도프를 공유연하는 폴리머 필름의 제조 방법인 것이 바람직하다.
제1 도프와 제2 도프에 있어서의 유기 용매 가용성 수지는 동일해도 되고 상이해도 된다. 유기 용매 가용성 수지 및 중합성 화합물의 바람직한 범위는 상술한 바와 같다. 제2 도프에는 중합성 화합물을 포함하지 않는 것이 바람직하다.
폴리머 필름을 공유연으로 제작함으로써, 필름의 핸들링성이 향상된다는 효과가 얻어지기 때문에 바람직하다. 즉 공유연으로 제작한 필름은 파단되기 어렵고, 또 칼로 재단했을 때에 크랙이 발생하기 어렵다.
다음으로, 유연 제막법에 의하여 폴리머 필름을 제조하는 구체적 양태에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다. 단 이하의 구체적 양태는 예시이며, 본 발명은 하기 구체적 양태에 한정되는 것은 아니다.
유연 제막법에서는, 도프를, 주행하는 지지체 상에 유연하여 웨브를 형성하고, 형성한 웨브를 주행시키면서, 자외선 조사 처리, 가열 처리 등의 각종 처리를 실시함으로써, 폴리머 필름을 제막할 수 있다. 이와 같은 유연 제막법에 사용 가능한, 유연 지지체로서 드럼을 이용한 장치의 일례를, 도 1에 나타낸다. 도 1에 나타내는 용액 유연 제막 장치(10)는, 유연실(12), 광원(도시하지 않음), 핀 텐터(13), 건조실(가열실)(15), 냉각실(16), 권취실(17)을 갖는다. 유연실(12)에는, 유연 다이(21), 유연 드럼(22), 감압 챔버(23), 및 박리 롤러(24)가 마련된다.
유연 다이(21)는, 도프(28)를 유출하는 것이며, 도프(28)가 유출되는 슬릿 출구는, 유연 다이(21)의 선단에 마련된다. 2종의 도프(제1 도프 및 제2 도프)를 이용하는 경우에는, 유연 다이(21)로서는, 공급된 도프가 흐르는 제1 유로와, 공급된 제2 도프가 흐르는 제2 유로와, 제1 유로와 제2 유로가 합류 위치에서 합류하고, 상기 2종의 도프가 함께 흐르는 공유로(共流路)가 내부에 형성되어 있는 유연 다이를 이용한다. 상기 2종의 도프를 다른 공급구로부터 독립적으로 공급하고, 유연 다이(21)의 내부에서 제1 도프와 제2 도프를 합류시켜 유연 다이(21)로부터 유출시킨다. 도 2는, 이와 같은 공유연 가능한 유연 다이(21)를 포함하는 유연 장치의 일부 확대도이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 유연 다이(21)는, 제1 도프(도프 a)의 흐름과 제2 도프(도프 b)의 흐름을 합류시킨 후, 선단의 토출구로부터 주행하는 유연 드럼(22) 상에 유출시킴으로써, 도프 a 유래의 웨브(40a)와 도프 b 유래의 웨브(40b)의 적층체로서 웨브(웨브)(40)가 형성된다. 본 발명에 있어서의 제1 도프와 제2 도프는, 어느 것을 도프 a로 해도 도프 b로 해도 되지만, 드럼으로부터의 박리성의 관점에서, 제1 도프를 도프 a로 하는 것이 보다 바람직하다.
유연 드럼(22)은, 유연 다이(21)의 하방에 위치하여, 축방향이 수평이 되도록 배치된다. 그리고, 유연 드럼(22)은, 둘레면(22a)이 슬릿 출구와 근접하도록 배치된다. 또한, 유연 드럼(22)은, 축을 중심으로 회전 가능하게 되어 있다. 제어부(도시하지 않음)의 제어하, 구동 장치(도시하지 않음)에 의하여, 유연 드럼(22)이 회전하면, 유연 드럼(22)의 둘레면(22a)은 A방향으로 소정의 속도로 주행한다. 유연 다이(21)의 슬릿 출구로부터 유출된 도프(28)는, 둘레면(22a) 상에서 유연되는 결과, 띠 형상의 웨브(40)를 형성한다. 유연 다이(21) 및 유연 드럼(22)은, 스테인리스제인 것이 바람직하고, 충분한 내부식성과 강도를 갖는 점에서, SUS316제인 것이 보다 바람직하다.
유연 드럼(22)에는 온도 조절 장치(43)가 접속된다. 온도 조절 장치(43)는, 전열 매체의 온도를 조절하는 온도 조절부를 내장한다. 온도 조절 장치(43)는, 온도 조절부 및 유연 드럼(22) 내에 마련되는 유로와의 사이에서, 원하는 온도로 조절된 전열 매체를 순환시킨다. 이 전열 매체의 순환에 의하여, 유연 드럼(22)의 둘레면(22a)의 온도를 원하는 온도로 유지할 수 있다. 또, 도시는 생략하지만, 유연실(12) 내의 분위기에 포함되는 용제를 응축하는 응축 장치, 응축한 용제를 회수하는 회수 장치를 마련함으로써, 유연실(12) 내의 분위기에 포함되는 용제의 농도를 일정한 범위로 유지할 수 있다. 또, 유연실(12)에는, 유연 드럼(22) 상의 웨브(40)에 송풍하기 위하여, 온풍, 냉풍, 제습풍의 임의로 온도 습도 제어한 송풍이 가능한 송풍 기구(도시하지 않음)를 마련해도 된다.
감압 챔버(23)는, 유연 다이(21)보다 A방향의 상류측에 배치된다. 제어부의 제어하, 감압 챔버(23)는, 도프(28)에 의하여 슬릿 출구로부터 둘레면(22a)에 걸쳐 형성되는 유연 비드의 상류측의 기체를 흡인한다. 이로써, 유연 비드의 상류측의 압력이 유연 비드의 하류측의 압력보다 낮은 상태를 만들 수 있다. 유연 비드의 상류측 및 하류측의 압력 차는, 10Pa 이상 2000Pa 이하인 것이 바람직하다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 박리 롤러(24)는, 유연 다이(21)보다 A방향의 하류측에 배치된다. 박리 롤러(24)는, 둘레면(22a) 상에 형성된 웨브(40)를 박리하여, 유연실(12)의 하류측으로 안내한다.
박리 롤러(24)보다 A방향 상류측에는 래비린스 시일(45a)이 마련되고, 박리 롤러(24)보다 A방향 하류측에 래비린스 시일(45b)이 마련된다. 래비린스 시일(45a, 45b)은, 유연실(12)의 내벽면으로부터, 유연 드럼(22)의 둘레면(22a)을 향하여 뻗도록 형성된다. 래비린스 시일(45a, 45b)의 선단은, 둘레면(22a)에 근접하기 때문에, 용제가 유연실(12)의 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 유연실(12)의 하류에는, 광원(도시하지 않음), 핀 텐터(13), 건조실(15), 냉각실(16), 및 권취실(17)이 순서대로 설치되어 있다. 유연실(12)과 핀 텐터(13)의 사이의 연결부(50)에는, 웨브(40)를 지지하는 지지 롤러(52)가 복수 나열되어 있으며, 도시하지 않지만, 예를 들면 이 영역에서 광원에 의하여 웨브(40)에 자외선이 조사된다. 지지 롤러(52)는, 도시하지 않은 모터에 의하여, 축을 중심으로 회전한다. 지지 롤러(52)는, 유연실(12)로부터 송출된 웨브(40)를 지지하여, 핀 텐터(13)로 안내한다. 또한, 도면에서는, 연결부(50)에 2개의 지지 롤러(52)를 나열한 경우를 나타내고 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 연결부(50)에 3개 이상의 지지 롤러(52)를 나열해도 된다.
본 발명에 있어서는, 유연실(12)과 건조실(15)의 사이의 임의의 위치에 광원을 배치하고, 웨브(40)에 광 조사함으로써, 중합성 화합물의 일부를 중합시킬 수 있다. 광원으로서는, 예를 들면 자외선을 조사 가능한 UV 광원을 이용할 수 있지만, 특별히 한정되는 것은 아니다. 구체예로서는, 저압 수은 램프, 중압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 제논 램프, 카본 아크, 메탈할라이드램프, 태양광선 등을 들 수 있다. 또, 광 조사 조건은, 중합성 화합물의 반응률이 3% 이상 30% 이하가 되는 조건이면, 특별히 한정되는 것은 아니며, 중합성 화합물이나 중합 개시제의 유무, 그 종류에 따라 결정하면 된다. 자외선 조사에 의한 광중합은, 예를 들면, 공기 중 또는 불활성 기체 중에서 행할 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 함유하는 중합성 화합물을 사용하는 경우에는, 자외선 조사량을 줄이기 위하여 산소 농도가 적은 분위기 중에서 중합 처리를 행하는 것이 바람직하다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 핀 텐터(13)는, 웨브(40)의 폭방향의 양단을 관통하여 유지하는 복수의 핀(60)을 갖는 환상의 유지 부재(61)와, 유지 장치(61)를 순환 주행시키는 풀리(62)와, 핀 플레이트에 의하여 유지되는 웨브(40)에 건조풍을 공급하는 건조풍 공급기(도시하지 않음)를 갖는다. 핀 텐터(13)의 입구에는, 웨브(40)의 폭방향의 양단을 핀(60)에 물려 들어가게 하는 브러시(65)가 마련된다. 또, 브러시(65)보다 반송 방향 상류측에, 웨브(40)의 폭방향의 양단에 냉각풍을 공급하는 냉풍 공급기(66)를 마련해도 된다. 브러시(65)의 압압에 의하여, 핀(60)이 웨브(40)의 폭방향의 양단을 관통한다. 그리고, 핀(60)에 의하여 양단이 유지된 웨브(40)는, 유지 부재(61)의 순환 주행에 의하여, 반송된다.
핀 텐터(13)와 건조실(15)의 사이에는 에지 절단 장치(75)가 마련되어 있다. 에지 절단 장치(75)에 송출된 웨브(40)의 폭방향의 양단은, 핀(60)에 의하여 형성된 관통 흔적이 형성된다. 에지 절단 장치(75)는, 이 관통 흔적을 갖는 양단 부분을 잘라낸다. 이 잘려진 부분은, 송풍에 의하여 컷 블로어(도시하지 않음) 및 크러셔(도시하지 않음)로 순차적으로 보내져, 미세하게 절단되고, 도프 등의 원료로서 재이용, 또는 폐기된다.
건조실(15)에는, 다수의 롤러(81)가 마련되어 있으며, 이들에 웨브(40)가 감겨 걸쳐져 반송된다. 건조실(15)이나 냉각실(16) 내의 분위기의 온도나 습도 등은, 도시하지 않은 공조기에 의하여 조절되고 있다. 건조실(15)에서는 웨브(40)의 가열 처리 및 건조 처리가 행해진다. 건조실(15)에는 흡착 회수 장치(83)가 접속된다. 흡착 회수 장치(83)는, 웨브(40)로부터 증발된 용제를 흡착에 의하여 회수한다.
이상과 같이, 건조실(15)에 있어서 웨브(40)의 가열 처리 및 건조 처리가 행해진다. 또, 유연실(12) 및 핀 텐터(13)의 한쪽 또는 양쪽 모두에 있어서도, 건조 처리가 행해지는 경우가 있다. 본 실시형태에 있어서는, 웨브를 140℃ 이상의 가열 온도에서 5~60분간 가열하는 가열 처리가 포함되어 있으며, 이 가열 처리에 의하여 웨브(40) 중에 존재하는 나머지 중합성 화합물의 중합을 진행시킬 수 있다. 또한 본 발명에 있어서 가열 온도란, 가열되고 있는 웨브의 온도를 말하는 것으로 한다. 또, 웨브는, 주행하면서 가열되어도 되고, 정지한 상태에서 가열되어도 된다. 생산성의 관점에서, 웨브는, 통상 주행하면서 가열된다.
중합 처리를 위한 가열 조건은, 140℃ 이상이면, 중합성 화합물의 종류나 중합 개시제의 종류에 따라 설정하면 되며, 특별히 한정되는 것은 아니다. 열중합 반응을 진행시키기 위한 가열 처리는, 예를 들면, 웨브를 140~220℃의 가열 온도에서 5~60분간 가열함으로써 행할 수 있다. 또한 가열 처리 중의 웨브의 온도는, 비접촉식의 온도계에 의하여 모니터할 수 있다. 건조실(15)에 있어서의 가열은, 온풍의 분사에 의하여 행해도 되고, 건조실의 분위기 온도를 제어함으로써 행해도 된다. 본 실시형태에 있어서는, 자외선 조사 처리 후에 열처리에 의하여 중합을 진행시키고 있고, 중합 처리와 아울러 건조 공정을 행할 수 있기 때문에, 공정을 간략화할 수 있다.
건조실(15)로부터 반출된 웨브(40)는 냉각실(16)로 반송된다. 또한 냉각실을 마련하는 것은 필수는 아니다. 냉각실(16)은, 웨브(40)의 온도가 대략 실온이 될 때까지, 웨브(40)를 냉각한다. 냉각실(16) 및 권취실(17)의 사이에서는, 상류측으로부터 순서대로, 제전 바(91), 널링 부여 롤러(92), 및 에지 절단 장치(93)가 마련된다. 제전 바(91)는, 냉각실(16)로부터 송출되어, 대전한 웨브(40)로부터 전기를 제거하는 제전 처리를 행한다. 널링 부여 롤러(92)는, 웨브(40)의 폭방향 양단에 권취용 널링을 부여한다. 에지 절단 장치(93)는, 절단 후의 필름(70)의 폭방향 양단에 널링이 남도록, 웨브(40)의 폭방향 양단을 절단한다.
권취실(17)에는, 프레스 롤러(96)와 권취 코어(97)를 갖는 권취기(98)가 설치되어 있으며, 권취실(17)에 보내진 웨브(40)는, 프레스 롤러(96)에 의하여 압압되면서 권취 코어(97)에 권취되어, 롤 형상이 된다.
용액 유연 제막법의 일 실시형태의 그 외 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2011-178043호를 참조할 수 있다. 또한 상기에서는 유연 지지체로서 드럼을 이용하는 양태를 예로 설명했지만, 유연 지지체는, 드럼에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 드럼 대신에, 적어도 2개의 백업 롤러에 지지되어 길이 방향으로 반송되는 밴드를 유연 지지체로 해도 된다. 통상, 웨브를 냉각함으로써 젤화시키는, 이른바 냉각 유연 방식의 경우에는, 유연 지지체는 드럼으로 하는 경우가 많다. 이에 비하여, 웨브를 냉각하지 않고 건조 처리만으로 젤화를 촉진시키는, 이른바 건조 유연 방식의 경우에는, 유연 지지체는 밴드로 하는 경우가 많다.
다음으로, 유연 지지체로서 밴드를 이용하는 양태에 대하여, 구체적 양태에 근거하여 설명한다. 단 본 발명은, 하기 구체적 양태에 한정되는 것은 아니다.
도 4에, 유연 지지체로서 밴드를 이용한 장치의 일례를 나타낸다. 도 4에 나타내는 용액 제막 설비(100)는, 유연 장치(112)와, 광원(도시하지 않음), 클립 텐터(113)와, 건조실(115)과, 냉각실(116)과, 권취 장치(117)를 구비한다.
유연 장치(112)는, 다이 유닛(121)과, 밴드(122)와, 제1 롤러(123) 및 제2 롤러(124)와, 유연실(125)을 갖는다. 다이 유닛(121)은, 피드 블록(128)과 유연 다이(129)로 구성된다. 2종의 도프를 이용하는 경우의 유연 다이의 구성에 대해서는, 앞서 기재한 바와 같다. 피드 블록(128)에 공급되어 온 도프(131)를 유연 다이(129)로부터 연속적으로 유출한다.
밴드(122)는, 환상으로 형성된 무단(無端)의 유연 지지체이며, 제1 롤러(123) 및 제2 롤러(124)의 둘레면에 감겨 걸쳐진다. 제1 롤러(123)는, 원형의 측면의 중심에 회전축(123a)을 구비하고, 이 회전축(123a)은 모터(132)에 의하여 둘레 방향으로 회전한다. 이로써, 제1 롤러(123)는 둘레 방향으로 회전한다. 모터(132)는, 컨트롤러(133)에 의하여 구동이 제어되고, 이로써 회전축(123a)의 회전 속도가 제어된다. 제1 롤러(123)의 회전에 의하여, 밴드(122)는 길이 방향으로 주행한다. 제2 롤러(124)는, 원형의 측면의 중심에 회전축(124a)을 구비하고, 감겨 걸쳐진 밴드(122)의 주행에 따라 회전축(124a)을 회전 중심으로 하여 회전한다. 또한, 본 실시형태에서는, 제1 롤러(123)의 회전에 의하여 밴드(122)를 주행시키고 있지만, 밴드(122)의 주행은, 제1 롤러(123)와 제2 롤러(124) 중 적어도 어느 한쪽을 둘레 방향으로 회전시키면 된다.
주행하고 있는 밴드(122) 상에, 유연 다이(129)로부터 연속하여 도프(131)를 유출함으로써, 밴드(122) 상에 웨브(웨브)(136)가 연속적으로 형성된다.
본 실시형태에서는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 제1 롤러(123)에 감겨 걸쳐진 밴드(122)의 감겨 걸쳐진 영역의 하류단과 유연 다이(129)의 유출구가 대향하도록, 유연 다이(129)를 배치하고 있다. 그러나, 유연 다이(129)의 위치는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 제1 롤러(123)로부터 제2 롤러(124)를 향하는 밴드(122)에 유출구가 대향하도록 유연 다이(129)를 배치해도 된다.
제1 롤러(123)의 회전 방향에 있어서의 다이 유닛(121)의 상류에는, 공기를 흡인하는 감압 챔버(147)가 배치된다. 감압 챔버(147)가 공기를 흡인함으로써, 유연 다이(129)로부터 밴드(122)에 이르는 도프, 즉 비드보다 제1 롤러(123)의 회전 방향에 있어서의 상류측의 에어리어가 감압된다. 이로써, 비드의 형상이 안정된다.
제1 롤러(123)와 제2 롤러(124)는, 둘레면 온도를 제어하는 온도 조절기(도시하지 않음)를 구비한다. 제1 롤러(123)와 제2 롤러(124)의 둘레면 온도를 제어함으로써, 밴드(122)의 온도가 제어된다. 밴드(122)의 온도의 제어에 의하여, 웨브(136)의 온도가 제어되고, 웨브(136)의 건조 속도가 조정된다.
제1 롤러(123)의 근방에는, 박리 롤러(138)가 배치된다. 박리 롤러(138)는, 길이 방향이 제1 롤러(123)의 회전축(123a)과 대략 평행이 되도록 배치된다. 이 박리 롤러(138)는, 박리된 웨브(136)를 지지하고, 이로써, 웨브(136)가 밴드(122)로부터 박리되는 박리 위치를 일정하게 유지한다.
유연실(125)은, 다이 유닛(121), 제1 롤러(123), 제2 롤러(124), 밴드(122), 박리 롤러(138)를 수용하고 있으며, 이로써, 웨브(136)로부터 증발된 용제가 하류측의 클립 텐터 등으로 확산되는 것을 방지할 수 있다. 유연실(125)로부터 유연실(125)의 하류의 클립 텐터(113)로의 연결에는, 웨브(136)를 하방으로부터 지지하여 클립 텐터(113)로 안내하는 롤러(142)가 마련되어 있어, 도시하지 않지만, 예를 들면 이 영역에서 광원에 의하여 웨브에 자외선이 조사된다. 광원의 종류 및 조사 조건 등에 관해서는, 상술과 같다.
클립 텐터(113)는, 웨브(136)의 폭방향에 있어서의 각 측부를 파지하는 복수의 클립(도시하지 않음)을 갖고, 이 클립이 궤도(도시하지 않음) 위를 주행한다. 클립의 주행에 의하여, 웨브(136)는 반송된다. 웨브(136)의 반송로의 상방과 하방 중 적어도 어느 한쪽에는, 송풍기(도시하지 않음)가 배치된다. 송풍기로부터의 건조풍의 유출에 의하여, 웨브(136)는 반송되면서 건조가 진행된다.
궤도를 웨브(136)의 폭방향으로 변위시킴으로써, 웨브(136)를 폭방향으로 넓히거나, 좁히거나 해도 된다. 예를 들면, 웨브(136)를 폭방향으로 넓혀, 그 확폭률(擴幅率)을 크게 할 수 있다. 또, 예를 들면, 폭을 일정하게 유지하는 등 하여, 확폭률을 0(제로) 혹은 작게 억제할 수도 있다. 또, 송풍기로부터의 건조풍의 온도를 제어함으로써, 웨브(136)의 온도를 제어할 수도 있다. 또한, 클립 텐터(113)에서는, 폭을 일정하게 유지하거나 확폭한 경우에는, 그 후에 폭을 좁힘으로써, 웨브(136)의 응력 완화를 행하는 것이 바람직하고, 응력 완화 후에 클립 텐터(113)로부터 다음 공정으로 웨브(136)를 보내는 것이 바람직하다.
클립 텐터(113)를 나온 웨브(136)의 양측 단부에는, 통상, 클립 텐터(113)의 클립에 의한 유지 자국이 형성된다. 따라서, 클립 텐터(113)의 하류에는 에지 절단 장치(143)를 마련하는 것이 바람직하다. 에지 절단 장치(143)는, 안내되어 오는 웨브(136)의 클립에 의한 유지 자국을 포함하는 양측부를 잘라낸다. 이로써, 건조실(115) 및 그 하류에 있어서의 반송을 안정화할 수 있다. 웨브(136)로부터 잘려진 양측부는, 바람에 의하여 크러셔(146)에 보내져 파쇄되고, 도프(131) 등의 원료로서 재이용, 또는 폐기된다.
건조실(115)에는, 다수의 롤러(115a)가 마련되어 있고, 이들에 웨브(136)가 감겨 걸쳐져 반송된다. 건조실(115) 내의 분위기의 온도나 습도 등은, 도시하지 않은 공조기에 의하여 조절되고 있으며, 웨브(136)는 건조 장치(115)를 통과하는 동안 가열되어, 웨브(136) 중에 잔존하고 있는 중합성 화합물의 중합이 진행되고, 건조가 진행된다. 건조실에 있어서의 가열에 대해서는, 도 1에 나타내는 양태에 대하여 기재한 바와 같다.
건조실(15)의 하류에는, 건조실(15)보다 내부의 온도를 낮게 한 냉각실(116)을 배치할 수도 있다. 이로써, 웨브(136)는, 냉각실(116)의 내부를 통과하는 동안 냉각되고, 예를 들면 실온 정도가 된다.
냉각실(116)의 하류측에는, 널링 부여 롤러쌍(162)이 마련되어 있고, 이로써 웨브(136)의 양측부에 널링이 부여된다.
권취 장치(117)에는 권취 코어(152)가 세팅되고, 권취 장치(117)는 이 권취 코어(152)를 회전함으로써, 안내되어 오는 웨브(136)를 롤 형상으로 권취한다.
이상, 본 발명의 일 양태에 관한 폴리머 필름의 제조 방법을, 구체적 양태를 나타내면서 설명했다. 단 본 발명의 제조 방법은, 상술한 제조 방법에 한정되는 것은 아니다. 소정의 도프를 웨브로 하고, 중합성 화합물의 반응률이 3% 이상 30% 이하가 되도록 웨브에 자외선을 조사하는 공정과, 자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상의 온도에서 가열하는 공정을 가짐으로써, 본 발명의 폴리머 필름의 제조 방법으로 할 수 있다.
(폴리머 필름에 적층 가능한 층)
상기 폴리머 필름은, 그 한쪽 또는 양쪽 모두의 표면에, 1층 이상의 다른 층을 적층하여 적층 필름으로 할 수도 있다. 폴리머 필름의 표면 상에 1층 이상의 다른 층이 마련되는 경우, 다른 층의 두께(2층 이상의 경우에는 총 두께)는, 내찰상성이나 밀착성의 관점에서, 5μm 이하인 것이 바람직하고, 3μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 1μm 이하인 것이 더 바람직하고, 0.5μm 이하인 것이 한층 더 바람직하다. 하한에 대해서는, 예를 들면 0.05μm 이상이다. 또한 상기의 다른 층의 두께는, 공지의 막두께 측정 방법에 의하여 구할 수 있다. 다른 층으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 방현층, 고굴절률층, 저굴절률층 등의 공지의 층을 들 수 있다. 방현층에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-101331호 단락 0181~0182, 고굴절률층 및 저굴절률층에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-101331호 단락 0183~0186을 참조할 수 있다.
(패턴 형성 방법)
본 발명의 폴리머 필름의 제조 방법에 있어서, 자외선 조사 공정에 있어서 요철 패턴(특히, 미세 요철 패턴)을 형성하는 것도 가능하다. 본 발명의 폴리머 필름에 주형을 밀착(바람직하게는 압접)시킨 상태에서, 폴리머 필름의 주형에 밀착된 면과는 반대측의 면으로부터 자외선을 조사함으로써, 요철 패턴을 형성할 수 있다.
요철 패턴으로서는, 마이크로 전기 기계 시스템(MEMS), 센서 소자, 회절 격자나 릴리프 홀로그램 등의 광학 부품, 나노 디바이스, 광학 디바이스, 플랫 패널 디스플레이 제작을 위한 광학 필름이나 편광 소자, 액정 디스플레이의 박막 트랜지스터, 유기 트랜지스터, 컬러 필터, 오버 코트층, 주재(柱材), 액정 배향용 리브재, 마이크로 렌즈 어레이, 면역 분석 칩, DNA 분리 칩, 마이크로리액터, 나노바이오 디바이스, 광도파로, 광학 필터, 포토닉 액정 등, 임의의 요철 패턴을 형성할 수 있다. 특히 반사 방지 기능을 형성할 수 있는 미세 요철인 것이 바람직하다.
주형에 압접하기 직전에 폴리머 필름에 용제를 도포함으로써 보다 요철 패턴을 전사하기 쉽게 하는 것도 가능하다. 용제를 도포하는 방법으로서는, 바 코터, 용제를 충전한 욕조에 침지시키는 도포 방법을 이용할 수 있다.
주형으로서는 평판 형상인 것, 드럼 형상인 것, 밴드 형상인 것을 이용할 수 있다.
미세 요철은, 볼록형의 구조로도 오목형의 구조로도 반사 방지 성능을 얻을 수 있다. 또 하나의 구조가 주기적으로 나열된 것으로도 랜덤으로 나열된 것으로도 반사 방지 성능을 얻을 수 있다. 요철 구조의 깊이(최고부와 최저부의 거리)는 50~1000nm가 바람직하고, 120~400nm가 보다 바람직하며, 150~300nm가 특히 바람직하다. 볼록부의 높이가 50nm 이상이면, 반사율이 충분히 낮아지고, 또한 반사율의 파장 의존성이 적다. 볼록부의 높이가 1000nm 이하이면, 볼록부의 내찰상성이 양호해진다. 볼록부 간 혹은 오목부 간의 평균 간격은 50~400nm가 바람직하고, 100~300nm가 보다 바람직하며, 150~200nm가 특히 바람직하다. 볼록부의 높이가 50nm 이상이면, 반사율이 충분히 낮아지고, 또한 반사율의 파장 의존성이 적다. 평균 간격이 400nm 이하이면, 회절광에 의한 무지개색의 착색이 억제된다. 평균 간격이 50nm 이하이면 내찰상성이 양호해진다.
{편광판}
본 발명의 제조 방법에 의하여 제조된 폴리머 필름은, 편광자와 함께 사용하여, 편광판으로 할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 의하여 제조된 폴리머 필름은, 편광판 보호 필름으로서 기능할 수 있다. 그 중에서도 상기 폴리머 필름의 중합 처리가 실시된 면을, 편광판의 최표층이 되도록 편광판 보호 필름으로서 배치하는 것이, 내찰상성이 우수한 편광판을 얻는 데에 바람직하다.
편광판은, 통상, 편광자가 2매의 보호 필름의 사이에 배치된다. 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어진 폴리머 필름은, 2매의 보호 필름 중 적어도 한쪽 또는 양쪽 모두일 수 있다. 또, 액정 표시 장치에는, 통상, 액정 셀을 사이에 두고 2매의 편광판(시인측 편광판, 백라이트측 편광판)이 배치된다. 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어진 폴리머 필름을 갖는 편광판은, 2매의 편광판 중 어느 것으로 이용해도 되고, 일 양태에서는, 시인측 편광판으로서 이용된다. 시인측 편광판에 포함되는 2매의 보호 필름은, 한쪽이 시인측, 다른 한쪽이 액정 셀측에 배치된다. 이 경우, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어진 폴리머 필름은, 시인측 보호 필름, 액정 셀측 보호 필름 중 어느 것으로 이용해도 되고, 일 양태에서는, 시인측 보호 필름으로서 이용된다. 백라이트측 편광판에 포함되는 2매의 보호 필름은, 한쪽이 백라이트측, 다른 한쪽이 액정 셀측에 배치된다. 이 경우, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어진 폴리머 필름은, 백라이트측 보호 필름, 액정 셀측 보호 필름 중 어느 것으로 이용해도 되고, 일 양태에서는, 백라이트측 보호 필름으로서 이용된다.
상기 편광판에 포함되는 편광자로서는, 폴리바이닐알코올 필름을 아이오딘 용액 중에 침지하여 연신한 것 등을 이용할 수 있다. 편광자의 상세에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2011-136503호 단락 0117을 참조할 수 있다.
일 양태에서는, 편광판에 포함되는 2매의 보호 필름 중 한쪽이, 본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어지는 폴리머 필름이며, 다른 한쪽이 광학 보상 필름일 수도 있다. 광학 보상 필름으로서는, 공지의 필름을 이용할 수 있다.
{화상 표시 장치}
본 발명의 제조 방법에 의하여 얻어진 폴리머 필름은, 화상 표시 장치의 구성 부재로서 이용할 수 있다.
화상 표시 장치로서는, 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로루미네선스 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT) 등의 각종 화상 표시 장치를 들 수 있다.
일 양태에서는, 상기 폴리머 필름은, 화상 표시 장치의 표시면 외측에 배치되는 보호 필름일 수 있다. 폴리머 필름 제작 시의 공기면측이 최표층이 되도록 배치하는 것이, 화상 표시 장치의 내찰상성 향상의 관점에서 바람직하다.
또, 일 양태에서는, 화상 표시 장치는, 편광판을 필수의 구성 부재로서 포함하는 액정 표시 장치일 수 있다. 이 경우, 상기 폴리머 필름은, 편광판의 보호 필름으로서 포함되는 것이 바람직하다. 그와 같은 편광판의 상세는, 앞서 기재한 바와 같다.
액정 표시 장치의 액정 셀은, TN 모드, VA 모드, OCB 모드, IPS 모드, ECB 모드 등의 각종 구동 모드의 액정 셀일 수 있다.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 연필 경도 시험에 있어서 우수한 경도를 나타내고, 간섭 불균일의 발생도 억제할 수 있는 폴리머 필름을 얻을 수 있다. 이와 같은 폴리머 필름을 보호 필름으로서 도입함으로써, 장기간 우수한 내찰상성을 유지할 수 있는 화상 표시 장치의 제공이 가능해진다.
실시예
이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 의하여 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다.
이하에 기재된 유연 제막 공정에 있어서의 웨브의 온도는, 비접촉의 온도계에 의하여 상시 모니터했다.
또, 이하의 실시예, 비교예에서 제작한 폴리머 필름의 평가에 있어서는, 폴리머 필름의 사방의 외측면으로부터 각각 1cm 이상 떨어진 위치로부터, 평방 10cm인 폴리머 필름을 추출하여 측정 시료로 했다. 또, 이하의 실시예 중에서 나타내는 표면측이란, 필름 제작 시의 공기면측을 나타내며, 이면측이란 필름 제작 시의 지지 대면측을 나타낸다.
이하의 실시예 및 비교예는, 도 1에 나타내는 용액 유연 제막 장치의 구성을 간략화한 시험용 제막 장치를 이용하여 실시했다. 공유연을 행한 실시예 및 비교예에서는, 유연 다이로서, 도 2에 나타내는 구성의 유연 다이를 이용했다. 시험용 제막 장치는, 유연 드럼을 구비하고, 유연 드럼으로부터 박리된 필름이 연결부, 핀 텐터를 거쳐 1차 건조실, 할로젠 램프의 자외선 조사 장치, 2차 건조실(가열실)로 반송된다. 건조실 이외에는 개방계로 했다. 가열 시간은, 건조실의 반송 거리를 변경함으로써 제어했다.
[실시예 1]
<유연 제막용 조성물(중합성 화합물 함유 셀룰로스아실레이트 도프 A)의 조제>
하기 조성물을 믹싱 탱크에 투입하고, 교반하여 각 성분을 용해하여, 도프 A를 조제했다.
-----------------------------------------------------------------------
(고형분)
셀룰로스아세테이트(치환도 2.86, 중합도 350)
100질량부
다관능 중합성 화합물
150질량부
(10관능 유레테인아크릴레이트(닛폰 고세이 가가쿠제 UV-1700B), 중량 평균 분자량 2000)
고형분 농도(조성물 전체량 100질량%에 대하여)
24질량%
(용제 조성비: 용제 전체량 100질량%에 대하여, 괄호 안은 셀룰로스아세테이트 100질량부에 대한 함유량)
메틸렌 클로라이드
79질량%(500질량부)
메탄올
20질량%(127질량부)
1-뷰탄올
1질량%(6질량부)
-----------------------------------------------------------------------
<공유연용 조성물(셀룰로스아실레이트 도프 B)의 조제>
하기 조성물을 믹싱 탱크에 투입하고, 교반하여 각 성분을 용해하여, 도프 B를 조제했다.
-----------------------------------------------------------------------
(고형분)
셀룰로스아세테이트(치환도 2.86, 중합도 350)
고형분 농도(조성물 전체량 100질량%에 대하여)
24질량%
(용제 조성비: 용제 전체량 100질량%에 대하여, 괄호 안은 셀룰로스아세테이트 100질량부에 대한 함유량)
메틸렌 클로라이드
79질량%(625질량부)
메탄올
20질량%(158질량부)
1-뷰탄올
1질량%(8질량부)
-----------------------------------------------------------------------
<셀룰로스아실레이트 필름의 유연 제막>
도 2에 나타내는 도프 a로서 상기의 도프 A를, 도프 b로서 상기의 도프 B를 이용하고, 공기면측으로부터 지지체면측을 향하여 A, B의 순서가 되도록, 각각이 막두께(설정 막두께) 30μm 상당이 되도록 유량을 조절하여, 유연 다이로부터 표면 온도 5℃의 드럼 지지체 상에 공유연하여 웨브를 형성했다. 그 후, 드럼 지지체 상에서 40℃의 제습풍을 가하여 드럼 지지체로부터 웨브를 박리했다.
주행하는 웨브에 1차 건조실에 있어서 건조풍을 가하여 70℃ 가열 온도에서 6분간 가열하여, 용제를 건조시켰다. 이때 웨브 중의 잔류 용매는 7%였다. 다음으로 UV 노광기로 UV광 300mJ/cm2를 조사하여, 광중합시켰다. 또한 웨브를 주행시키면서 2차 건조실에 있어서 190℃의 가열 온도에서 20분간 가열했다. 상기 다관능 중합성 화합물은, 약 140℃ 이상에 있어서 중합성기가 라디칼을 발생시킴으로써 중합 반응이 개시된다. 가열 온도는, 건조풍의 온도 설정에 의하여 제어했다. 이렇게 하여 형성된 폴리머 필름의 총 두께는 60μm였다.
여기에서 필름 표면측에 분포하는 다관능 중합성 화합물의 반응률을 분석하기 위하여, UV광을 조사 후 및 2차 건조실 통과 후의 폴리머 필름을 각각 샘플링하여, FT-IR 분석(푸리에 변환 적외 분광 분석)을 행했다. ATR법을 이용하여 표면측의 필름 표면 근방의 파수(波數) 810cm-1의 흡수 강도를 측정하여, 미중합품의 흡수 강도와 하기 식으로 비교함으로써, 반응률을 평가했다.
반응률=(미중합품의 흡수 강도-샘플의 흡수 강도)/미중합품의 흡수 강도
이상으로부터, 실시예 1에서 제작한 폴리머 필름에 있어서, UV광 조사 후의 반응률이 3%, 2차 건조 후의 반응률이 90%인 것을 확인했다.
[실시예 2~6, 실시예 11~16, 실시예 21~26, 실시예 31~36, 실시예 41~47, 비교예 1~5, 비교예 11~15, 비교예 21~25, 비교예 31~35, 비교예 41]
중합 방법, 광중합 후의 중합성 화합물의 반응률, 열중합 후의 중합성 화합물의 반응률, 중합성 화합물의 종류를 하기 표에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 폴리머 필름을 제작했다.
단, 실시예 31~36, 비교예 32~35에 있어서는, UV광의 조사량을 25mJ/cm2로 했다.
또한, 실시예 46은, 공유연이 아닌, 단층 유연으로 폴리머 필름을 제작했다.
후술하는 실시예, 비교예에 대해서도 동일하게 반응률의 분석을 행했다.
[실시예 48]
외경 126mm의 유리 롤 원반(原盤) 표면에 레지스트막을 도포하여, 노광 현상 후 플라즈마 에칭하고 그 후 포토레지스트를 제거함으로써, 타원추의 오목부를 갖는 육방 격자 패턴의 깊이 약 300nm, 피치 약 300nm의 모스 아이 유리 롤 마스터를 형성했다. 상기 유리 롤 마스터는 불소계의 실레인 커플링제로 소수화 처리를 행했다. 실시예 1과 동일한 조건으로, 웨브를 상기 모스 아이 유리 롤 마스터와 압착시키면서 밀착시키고, 웨브의 이면측으로부터 300mJ/cm2의 조건으로 고압 수은등을 이용하여 노광했다. 연속해서 웨브를 반송하고 몰드로부터 경화 후의 웨브를 박리함으로써, 미세 패턴이 형성된 웨브를 얻었다. 이 미세 패턴이 형성된 웨브를 2차 건조실에 있어서 190℃ 가열 온도에서 20분간 가열했다. 이와 같이 하여 얻어진 폴리머 필름은, 유리 롤 마스터의 패턴이 재현성 양호하게 전사되어, 반사율이 낮고, 또한 강도가 강한 폴리머 필름이 얻어지는 것이 확인되었다.
평가 방법
(1) 연필 경도 시험
폴리머 필름을, 25℃ 상대 습도 60%의 조건으로 2시간 습도 조절한 후, JIS-S6006이 규정하는 시험용 연필을 이용하여, JIS-K5400이 규정하는 연필 경도 평가법에 따라, 500g의 추를 이용하여 경도 3H의 연필로 폴리머 필름 표면측을 5회 반복 스크래칭하고, 흠집이 시인되지 않는 개수를 카운트하여 득점으로 했다. 즉 5회 모두 흠집이 생긴 경우는 0점이며, 한번도 흠집이 생기지 않은 경우는 5점이 된다. 또한, JIS-K5400으로 정의되는 흠집은 도막의 찢어짐, 도막의 마찰 흠집이며, 도막의 홈은 대상으로 하지 않는다고 기재되어 있지만, 본 평가에서는, 도막의 홈도 포함하여 흠집이라고 판단한다.
(2) 간섭 불균일의 평가
제작한 폴리머 필름에 대하여, 간섭 불균일을, 이하의 방법에 의하여 평가했다.
폴리머 필름의 이면측에 점착제를 통하여 흑색으로 착색한 아크릴판을 첩합하여, 폴리머 필름의 표면측으로부터 3파장 형광등(내셔널 파룩 형광등 FL20SS·EX-D/18)으로 샘플을 비추어, 간섭 불균일(불규칙한 형상을 갖고, 장소에 따라 마젠타색을 띠거나 녹색을 띠거나 함)의 발생을 관찰했다. 간섭 불균일이 약간이라도 시인되면 불합격(B 평가)으로 하고, 전혀 보이지 않을 때를 합격(A 평가)으로 했다.
[표 1]
[표 2]
[표 3]
[표 4]
[표 5]
상기 표에 있어서,
"수지 1"은, 셀룰로스아세테이트(치환도 2.86, 중합도 350)를 나타낸다.
"수지 2"는, 셀룰로스아세테이트(치환도 2.70, 중합도 350)를 나타낸다.
"DPHA"는, 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 혼합물(닛폰 가야쿠(주)제)을 나타낸다. 표 2에 있어서의 DPHA의 "분자량"은 "중량 평균 분자량"이다. "A-TMMT"는, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주)제)를 나타낸다. "Irg-OXE01"은, BASF제의 광중합 개시제 "이르가큐어 OXE01"을 나타낸다.
이르가큐어 OXE01은 셀룰로스아세테이트(치환도 2.86, 중합도 350) 100질량부에 대하여 3질량부를 첨가하여, 고형분 농도는 24질량%가 되도록 용제량을 조정했다.
평가 결과
실시예와 비교예의 대비에 의하여, 실시예에서 제작된 폴리머 필름은, 연필 경도 시험, 간섭 불균일 평가의 양 시험 방법에 있어서 양호한 결과를 나타내는(높은 내찰상성을 갖는) 것을 확인할 수 있다.
또한, 실시예 46의 폴리머 필름은 고경도 및 간섭 불균일 억제의 관점에서는 우수했지만, 톰슨칼로 펀칭했을 때에 크랙이 발생하는 경우가 있었다. 동 조건으로, 공유연으로 제작한 실시예 1에서는 펀칭이 양호했던 점에서, 공유연은 재단성의 관점에서 보다 바람직한 것을 확인했다.
<편광판의 제작>
(편광판 보호 필름의 비누화 처리)
실시예 1~48에서 얻어진 각 폴리머 필름을, 2.3mol/L의 수산화 나트륨 수용액에, 55℃에서 3분간 침지시켰다. 실온의 수세 욕조 중에서 세정하고, 30℃에서 0.05mol/L의 황산을 이용하여 중화했다. 다시, 실온의 수세 욕조 중에서 세정하고, 또한 100℃의 온풍으로 건조시켰다. 이와 같이 하여 폴리머 필름에 대하여 표면측·이면측의 표면의 비누화 처리를 행했다.
(편광판의 제작)
연신한 폴리바이닐알코올 필름에 아이오딘을 흡착시켜 편광자를 제작했다.
비누화 처리한 폴리머 필름을, 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여, 폴리머 필름의 표면측이 최표층에 위치하도록, 폴리머 필름의 이면측에 편광자의 편측면에 첩부했다. 시판 중인 셀룰로스트라이아세테이트 필름(후지탁 TD80UF, 후지필름제)에 동일한 비누화 처리를 행하고, 폴리바이닐알코올계 접착제를 이용하여, 상기에서 제작한 각 폴리머 필름을 첩부하고 있는 측과는 반대측의 편광자의 면에 비누화 처리 후의 셀룰로스트라이아세테이트 필름을 첩부했다.
이때, 편광자의 투과축과 폴리머 필름의 지상축(遲相軸)은 평행하도록 배치했다. 또, 편광자의 투과축과 시판 중인 셀룰로스트라이아세테이트 필름의 지상축에 대해서는, 직교하도록 배치했다.
이와 같이 하여 실시예에서 얻은 폴리머 필름을 보호 필름으로서 포함하는 편광판을 제작했다.
<액정 표시 장치의 제작>
시판 중인 액정 텔레비전(SONY제: 브라비아 J5000)의 시인측의 편광판을 박리하여, 제작한 각 편광판을, 상기 각 실시예의 폴리머 필름이 액정 셀측과 반대측이 되도록, 점착제를 통하여, 시인측(관찰자측)에 1매씩 첩부하여 액정 표시 장치를 얻었다.
이와 같이 하여 액정 표시 장치를 제작했다.
제작한 액정 표시 장치의 표시 성능은 양호했다.
본 발명은, 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 제조 분야에 있어서 유용하다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 높은 경도를 가짐과 함께, 간섭 불균일의 발생을 억제할 수 있는 폴리머 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명을 상세하게 또 특정의 실시형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 더할 수 있는 것은 당업자에게 있어서 분명하다.
본 출원은, 2014년 9월 29일 출원된 일본 특허 출원(특원 2014-199456) 및 2015년 8월 27일 출원된 일본 특허 출원(특원 2015-168313)에 근거하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 원용된다.
10, 100 용액 유연 제막 장치
12, 125 유연실
13 핀 텐터
15, 115 건조실(가열실)
16, 116 냉각실
17 권취실
21, 129 유연 다이
22 유연 드럼
23, 147 감압 챔버
24 박리 롤러
28, 131 도프
40, 136 웨브
43 온도 조절 장치
50 연결부
52 지지 롤러
61 유지 장치
66 냉풍 공급기
70 필름
75, 93, 143 에지 절단 장치
83 흡착 회수 장치
98 권취기
112 유연 장치
113 클립 텐터
117 권취 장치
121 다이 유닛
122 밴드
12, 125 유연실
13 핀 텐터
15, 115 건조실(가열실)
16, 116 냉각실
17 권취실
21, 129 유연 다이
22 유연 드럼
23, 147 감압 챔버
24 박리 롤러
28, 131 도프
40, 136 웨브
43 온도 조절 장치
50 연결부
52 지지 롤러
61 유지 장치
66 냉풍 공급기
70 필름
75, 93, 143 에지 절단 장치
83 흡착 회수 장치
98 권취기
112 유연 장치
113 클립 텐터
117 권취 장치
121 다이 유닛
122 밴드
Claims (14)
- 유기 용제 가용성 수지와 중합성 화합물을 포함하는 도프를 유연하여 웨브를 형성하는 유연 공정과,
상기 웨브에 자외선을 조사하여, 상기 중합성 화합물의 반응률을 3% 이상 30% 이하로 하는 자외선 조사 공정과,
상기 자외선 조사된 웨브를 140℃ 이상으로 가열하여, 폴리머 필름을 얻는 가열 공정
을 갖는 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 중합성 화합물의 분자량은 300 이상 20000 이하인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 자외선 조사 공정에 있어서의 중합성 화합물의 반응률이 3% 이상 10% 이하인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가열 공정에 있어서의 가열 온도가 180℃ 이상 210℃ 이하인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도프 중에 있어서, 상기 유기 용제 가용성 수지 100질량부에 대하여 상기 중합성 화합물은 100질량부 이상인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 용제 가용성 수지는 셀룰로스아실레이트인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 6에 있어서,
상기 셀룰로스아실레이트의 아세틸기 치환도가 2.7 이상 3.0 이하인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도프는 광중합 개시제를 포함하지 않는 것인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 8에 있어서,
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 150mJ/cm2 이상 2000mJ/cm2 이하로 하는 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도프는 광중합 개시제를 포함하는 것인 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 자외선의 조사량을 30mJ/cm2 이하로 하는 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유연 공정에 있어서,
유기 용제 가용성 수지 및 중합성 화합물을 포함하는 제1 도프와,
유기 용제 가용성 수지를 포함하고 상기 제1 도프와는 다른 제2 도프
를 공유연하는 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
상기 자외선 조사 공정에 있어서, 상기 웨브를 요철을 갖는 주형에 밀착시켜, 웨브의 주형과 반대측의 면으로부터 자외선을 조사하는 폴리머 필름의 제조 방법. - 청구항 13에 있어서,
상기 요철을 갖는 주형의 요철 형상이 반사 방지 기능을 형성할 수 있는 미세 요철인 폴리머 필름의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2014-199456 | 2014-09-29 | ||
| JP2014199456 | 2014-09-29 | ||
| JP2015168313A JP6277164B2 (ja) | 2014-09-29 | 2015-08-27 | ポリマーフィルムの製造方法 |
| JPJP-P-2015-168313 | 2015-08-27 | ||
| PCT/JP2015/074540 WO2016052038A1 (ja) | 2014-09-29 | 2015-08-28 | ポリマーフィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170047305A true KR20170047305A (ko) | 2017-05-04 |
Family
ID=55863626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020177007927A KR20170047305A (ko) | 2014-09-29 | 2015-08-28 | 폴리머 필름의 제조 방법 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6277164B2 (ko) |
| KR (1) | KR20170047305A (ko) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001269946A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-02 | Mitsui Chemicals Inc | 光硬化樹脂板の製造法 |
| JP4690053B2 (ja) * | 2005-01-13 | 2011-06-01 | 日本合成化学工業株式会社 | 樹脂成形体、その製造方法、及びその用途 |
| TW200700210A (en) * | 2005-03-31 | 2007-01-01 | Nippon Steel Chemical Co | Method for producing transparent film |
| JP5163222B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-03-13 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
| JP2009292936A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Sekisui Chem Co Ltd | （メタ）アクリル酸エステルポリマーの製造方法 |
-
2015
- 2015-08-27 JP JP2015168313A patent/JP6277164B2/ja active Active
- 2015-08-28 KR KR1020177007927A patent/KR20170047305A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6277164B2 (ja) | 2018-02-07 |
| JP2016068558A (ja) | 2016-05-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI531600B (zh) | Optical continuum | |
| KR101806875B1 (ko) | 광경화성 접착제 조성물, 편광판과 그 제조법, 광학 부재, 및 액정 표시 장치 | |
| US20140099452A1 (en) | Peelable laminated film, peelable laminated film roll, manufacturing method thereof, film, optical film, polarizing plate, manufacturing method of polarizing plate and liquid crystal display device | |
| US20090230577A1 (en) | Method of producing indented sheet | |
| CN110100192A (zh) | 光学膜及光学膜的制造方法 | |
| KR20080043350A (ko) | 요철 형상 시트의 제조 방법 및 제조 장치 | |
| US9885910B2 (en) | Twisted alignment mode liquid crystal display device | |
| US20090294998A1 (en) | Method and Apparatus for Producing Embossed Sheet | |
| JP6724370B2 (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
| TW201914813A (zh) | 積層體、偏光板、及影像顯示裝置 | |
| JP2017122855A (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 | |
| JP6246147B2 (ja) | ハードコートフィルムの製造方法 | |
| TWI746730B (zh) | 光學積層體 | |
| TWI664250B (zh) | 偏光板保護膜、偏光板、液晶顯示裝置、及偏光板保護膜之製造方法 | |
| JP6277164B2 (ja) | ポリマーフィルムの製造方法 | |
| JP5249375B2 (ja) | 積層フィルムの製造方法 | |
| WO2016052038A1 (ja) | ポリマーフィルムの製造方法 | |
| JP5970508B2 (ja) | 光学フィルム、偏光板、光学フィルムの製造方法、及び画表示装置 | |
| CN113614585A (zh) | 防眩性叠层体 | |
| JP6259374B2 (ja) | 凹凸構造を有する物品の製造方法 | |
| CN101309786A (zh) | 制备压花片的方法和设备 | |
| KR101849960B1 (ko) | 셀룰로스아실레이트 필름의 제조 방법, 셀룰로스아실레이트 필름, 그리고 이것을 포함하는 편광판 및 화상 표시 장치 | |
| KR102029120B1 (ko) | 첩합용 필름 및 적층체의 제조 방법 | |
| JP6470585B2 (ja) | ポリマーフィルム、積層フィルムおよびその製造方法、偏光板、ならびに画像表示装置 | |
| JP2016071086A (ja) | 機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |