KR20160027896A

KR20160027896A - 판유리 가공시스템

Info

Publication number: KR20160027896A
Application number: KR1020150100259A
Authority: KR
Inventors: 정효재; 황명수; 이강득; 심우익
Original assignee: 주식회사 태성기연
Priority date: 2014-08-29
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2016-03-10
Also published as: KR101703026B1; CN105384329A; KR20160027894A; CN105382701A; KR20160027895A; JP2016050167A; KR101672779B1; JP2016050168A; TW201607869A; KR101703032B1; TW201608437A; CN105383928A; TW201607903A; JP2016050169A

Abstract

본 발명은 판유리 가공시스템에 관한 것으로, 제1흡착스테이지가 대기부에서 판유리를 떠받쳐 흡착함과 동시에 정해진 각도로 세워진 상태로 세정부로 이동되어 판유리 표면을 세정하고, 세정이 완료된 판유리를 가공부로 이동시켜 판유리 전면을 구획 절삭하며, 제2흡착스테이지를 회전시켜 제1흡착스테이지에 흡착된 판유리를 전달받음과 동시에 판유리 후면을 가공부로 구획절삭하고, 이후 제2흡착스테이지를 이동시켜 배출부 상에 구획절삭된 판유리를 위치시켜, 셀 단위 판유리를 수거함과 동시에 제2흡착스테이지 상의 잔여물을 제거하여 셀 단위 판유리를 획득한다.
본 발명에 따르면, 제1, 제2흡착스테이지로 판유리를 세운 상태로 가공하여 제1, 제2흡착스테이지 상에 분진 또는 이물질이 잔류되지 않고, 판유리 전, 후면을 가공부에 구비된 단일의 노즐부로 절삭 가공하여 장치 구조가 단순해지며, 장치의 최소화로 장비의 부피 감소와 동시에 제작 비용이 절감되고, 판유리 가공시 발생되는 분진등이 방진커버 및 방진벨트에 차단되어 서보모터, 이송드라이브유닛으로 분진이 유입되거나 혹은 방진틀 상방으로 분진이 흩날리는 것이 방지된다.

Description

판유리 가공시스템{Glass panel overhead system}

본 발명은 판유리 가공시스템에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 정해진 각도로 회전작동되는 제1스테이지 및 제2스테이지에 판유리가 세로방향으로 세워지도록 흡착시켜, 판유리의 전면 및 후면을 절삭 가공하는 판유리 가공시스템에 관한 것이다.

일반적으로, 판유리 가공장치는 정해진 크기를 갖는 단일의 판유리를 정해진 크기로 일정하게 구획절단하는 장치이다.

이때, 단일의 판유리는 판유리 가공장치에 의해 복수개로 절단되어 스마트폰, 테블릿 PC, 터치스크린 방식의 TV용 디스플레이로 사용된다.

특허문헌 1은 본 출원인이 선 출원한 판유리 가공장치에 관한 것으로, 이를 참조하면, 제1흡착 이송부로 이송컨베이어 상에 올려져 있는 강화유리판을 흡착하고, 그 상태에서 제1흡착 이송부를 이송레일을 따라 이동시켜 제1샌드블라스트부 상방에 제1흡착 이송부를 위치시킨다.

그러면, 상기 제1흡착 이송부 저면에 강화유리판이 부착된 상태로 유지되고, 이와 동시에 상기 제1샌드블라스트부의 위치이동 프레임에 설치된 복수개의 노즐이 상기 위치이동 프레임에 의해 이동되어 상기 강화유리판 하면을 구획절삭한다.

이때, 상기 노즐은 X축 노즐과 Y축 노즐로 구분되고, 상기 X축 노즐은 상기 제1위치이동 프레임에 의해 이동되어 상기 강화유리판을 X축 방향으로 절삭한다.

또한, 상기 Y축 노즐은 상기 제2위치이동 프레임에 의해 이동되어 상기 강화유리판을 Y축 방향으로 절삭한다.

상기와 같이 강화유리판의 상면을 구획절삭한 이후에는, 상기 제1흡착 이송부가 상기 이송레일을 따라 상기 제2샌드블라스트부로 이동되고, 그 상태에서 상기 제2흡착이송부에 강화유리판을 전달한 후 원위치로 복귀된다.

여기서, 상기 제2흡착이송부는 상기 제1흡착이송부로 부터 상기 강화유리판을 전달받음과 동시에 상기 강화유리판의 구획절삭된 하면을 흡착한다.

그러면, 상기 제2샌드블라스트부의 위치이동 프레임이 상기 노즐을 이동시켜 상기의 제1샌드블라스트부와 동일한 방법으로 상기 강화유리판의 상면을 구획절삭한다.

이때, 상기 제1샌드블라스트부에서 구획 절삭된 부분에 대응되는 부분을 따라 상기 제2샌드블라스트부의 위치이동 프레임이 이동되어 상기 노즐로 상기 강화유리판 상면을 구획 절삭함으로써, 상기 강화유리판이 복수개의 셀 단위 유리기판으로 구획되는 것이다.

하지만, 특허문헌 1과 같은 구조를 갖는 판유리 가공장치는 다음과 같은 문제점이 있다.

첫째로, 강화유리판 상, 하면을 절삭 가공하는 제1, 제2샌드블라스트를 별도로 설치해야 하는 번거로움이 있고, 제1, 제2샌드블라스트의 구분으로 장비의 부피가 증가되며, 장비의 부피 증가로 설치 공간에 제약이 발생되는 문제점이 있다.

둘째로, 강화유리판 상, 하면 절삭 가공시 강화유리판을 제1샌드블라스트에서 제2샌드블라스트로 이동시키는데 시간이 오래걸리고, 상방에 위치된 제1흡착장치가 하방에 위치된 제2흡착장치에 강화유리판 전달시 강화유리판이 낙하되어 파손될 위험이 있다.

셋째로, 제1, 제2샌드블라스트에 각각의 노즐을 구비하여 장치가 복잡해지고, 위치이동프레임 및 이송레일이 강화유리판 가공시 발생되는 분진에 노출되어 위치이동프레임 및 이송레일이에 손상이 발생되는 문제점이 있다.

특허출원 10-2013-0143202

본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 이송부 전방에 가공부의 제1흡착스테이지가 안착되는 대기부를 설치하고, 이 대기부 전방에 판유리의 표면을 세정하는 세정부를 설치하며, 세정부 측방에 세정부에서 세정된 판유리를 진입시켜 판유리의 전, 후면을 절삭가공하는 가공부를 형성하고, 세정부 전방에 가공부에서 절삭 가공된 제2스테이지부 상의 셀단위 유리판을 수거함과 동시에 잔여물을 처리하는 배출부를 구성함으로써, 제1흡착스테이지에 의해 세워진 판유리 전면을 가공부로 절삭 가공하되, 제2흡착스테이지에 의해 세워진 판유리 후면을 가공부로 절삭 가공하여, 제1흡착스테이지가 대기부에서 판유리를 떠받쳐 흡착함과 동시에 정해진 각도로 세워진 상태로 세정부로 이동되어 판유리 표면을 세정하고, 세정이 완료된 판유리를 가공부로 이동시켜 판유리 일 측면을 구획 절삭하며, 제2흡착스테이지를 회전시켜 제1흡착스테이지에 흡착된 판유리를 전달받음과 동시에 판유리 타 측면을 가공부로 구획절삭하고, 이후 제2흡착스테이지를 이동시켜 배출부 상에 구획절삭된 판유리를 위치시켜, 셀 단위 판유리를 수거함과 동시에 제2흡착스테이지 상의 잔여물을 제거하여 셀 단위 판유리를 획득하는 판유리 가공시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은, 세정부와 가공부 사이에 이송드라이브유닛 상방 및 방진틀 상방을 커버하는 방진커버를 구비하되, 이 방진커버 상면에 제1, 제2흡착스테이지 및 방진커버가 통과되는 안내홈을 형성하고, 이 제1, 제2흡착스테이지 및 방진커버 양 측면에 일단이 각각의 세정부와 가공부에 고정된 몸체에 감겨진 방진벨트를 밀착 고정함으로써, 판유리 가공시 발생되는 분진이 방진커버 및 이 방진커버의 안내홈을 커버하는 방진벨트에 의해 차단되어, 이송드라이브유닛, 제1, 제2흡착스테이지의 서보모터 및 방진틀 상방으로 분진이 흩날리거나 혹은 유입되는 것이 차단되는 판유리 가공시스템을 제공하는 것이다.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 판유리 가공시스템은, 진입부, 이송부, 제1, 제2흡착스테이지, 대기부, 세정부, 가공부, 배출부 및 이송드라이브유닛으로 구성되고, 상기 진입부는 판유리의 진입을 안내하되, 상기 판유리의 틀어짐을 조정하여, 상면에 상기 판유리를 정위치 시키고, 상기 이송부는 상기 진입부 상방에 설치되고, 승강이동 및 수평이동되어 상기 판유리를 흡착 이송하고, 상기 제1, 제2흡착스테이지는 상기 세정부 양 측방에 서로 대향되게 한 쌍으로 설치되고, 서로 마주보는 반대방향으로 눕혀지거나 혹은 서로 마주보는 방향으로 세워져 상기 판유리를 흡착하며, 상기 판유리를 세워 고정하고, 상기 대기부는 상기 진입부와 상기 세정부 사이에 설치되어 눕혀진 상태의 상기 제1흡착스테이지를 떠받쳐 지지하고, 상기 세정부 상기 제1, 제2흡착스테이지 사이에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지 또는 제2흡착스테이지에 흡착된 상기 판유리에 에어를 분사하여 상기 판유리에 뭍어있는 먼지 또는 이물질을 제거하고, 상기 가공부는 상기 세정부 측방에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지 또는 제2흡착스테이지에 흡착되어 있는 상기 판유리의 전, 후면을 절삭 가공하여 상기 판유리를 복수의 셀 단위 판유리로 절단하고, 상기 배출부는 상기 세정부를 기준으로 상기 대기부와 서로 대향되는 일 측에 설치되고, 상기 가공부에서 절단된 셀 단위 판유리를 수거하고, 상기 이송드라이브유닛은 상기 대기부와 상기 세정부 사이 및 상기 세정부와 상기 배출부 사이에 각각 설치되고, 상기 세정부 또는 상기 가공부 방향으로 수평이동 및 전, 후 방향으로 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지를 이동시키는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 제1, 제2흡착스테이지는, 판재형상으로 상면에 복수의 통공을 형성하고 있는 다공질판과; 상기 다공질판 저면에 밀착 설치되어 상기 통공을 통해 공기를 강제흡입하는 진공흡입장치; 상기 진공흡입장치 저면에 밀착 설치되고, 그 말단이 상기 이송드라이브유닛 상면에 회전가능하게 설치되어 상기 다공질판과 상기 진공흡입장치를 정해진 각도 회전시키는 회전드라이브유닛; 및 상기 회전드라이브유닛 말단에 설치되어 상기 회전드라이브유닛을 정해진 각도로 회전시키는 서보모터;로 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 대기부와 상기 세정부 사이 및 상기 세정부와 상기 배출부 사이에는, 상기 세정부에서 상기 가공부 방향으로 나란하게 설치된 한 쌍의 제2가이드레일; 및 각각의 상기 제2가이드레일에 슬라이딩 가능하게 결합되고, 세워진 상기 제1, 제2흡착스테이지의 테두리를 커버하되, 상기 제1, 제2흡착스테이지에 흡착된 상기 판유리를 전방으로 노출시켜 상기 세정부 또는 상기 가공부 방향으로 수평 이동되는 방진틀;을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 세정부와 상기 가공부 사이에는, 일단이 상기 세정부에 고정되되, 타단이 상기 가공부에 고정되고, 상면에 상기 제1, 제2흡착스테이지 및 상기 방진틀의 이동을 가능하게 하는 안내홈을 형성하고 있으며, 상기 판유리 가공시 발생되는 분진, 이물질 또는 메디아가 상방으로 흩날리거나 혹은 하방으로 낙하되는 것을 방지하는 적어도 2개 이상의 방진커버를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 세정부와 상기 가공부 사이에는, 서로 대향되게 한 쌍으로 구비되어 상기 세정부 및 상기 가공부 각각에 고정 설치되는 몸체와, 일단이 상기 몸체에 감겨지되, 타단이 상기 제1, 제2흡착스테이지 측면 및 상기 방진틀의 측면에 밀착 고정되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지 및 상기 방진틀의 이동에 의해 상기 몸체에서 풀리거나 혹은 상기 몸체에 감겨 상기 방진커버의 안내홈을 커버하는 방진벨트를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 세정부는, 틀프레임과; 상기 틀프레임 일측에 승강이동 가능하게 설치되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지에 흡착된 상기 판유리에 에어를 분사하여 상기 판유리에 뭍어있는 분진, 먼지 또는 메디아를 제거하는 에어나이프; 및 상기 틀프레임 하방에 설치되고, 상기 판유리에서 낙하되는 분진, 먼지 또는 메디아를 집진하는 집진용호퍼;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템에 있어서, 상기 이송드라이브유닛은, 상기 대기부와 상기 세정부 사이 및 상기 세정부와 상기 배출부 사이에 상기 세정부에서 상기 가공부 방향으로 나란하게 설치된 한 쌍의 제1가이드레일과; 상기 제1가이드레일에 슬라이딩 결합되고, 상기 제1가이드레일을 따라 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지를 상기 세정부 또는 상기 가공부로 이동시키는 제1수평판; 및 상기 제1수평판 상면에 상기 제1수평판과 직교되는 방향으로 슬라이딩 이동 가능하게 결합되어 상기 제1, 제2흡착스테이지를 전, 후 방향으로 이동시키는 제2수평판;으로 구성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템은, 제1, 제2흡착스테이지로 판유리를 세운 상태로 가공하여 제1, 제2흡착스테이지 상에 분진 또는 이물질이 잔류되지 않고, 판유리 전, 후면을 가공부에 구비된 단일의 노즐부로 절삭 가공하여 장치 구조가 단순해지며, 장치의 최소화로 장비의 부피 감소와 동시에 제작 비용이 절감되고, 판유리 가공시 발생되는 분진등이 방진커버 및 방진벨트에 차단되어 서보모터, 이송드라이브유닛으로 분진이 유입되거나 혹은 방진틀 상방으로 분진이 흩날리는 것이 방지되며, 이에 따라 장치의 부품 손상이 방지되어 제품의 성능 향상과 동시에 신뢰성이 향상되는 장점이 있다.

도 1은 특허문헌1의 판유리 가공시스템을 나타낸 개략 측면도.
도 2는 본 발명에 따른 판유리 가공시스템을 평면에서 바라본 개략도면.
도 3은 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 진입부를 평면에서 바라본 개략도면.
도 4는 도 3을 측면에서 바라본 개략도면.
도 5는 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 이송부를 평면에서 바라본 개략도면.
도 6은 도 5를 측면에서 바라본 개략도면.
도 7은 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 세정부를 평면에서 바라본 개략도면.
도 8은 도 7를 정면에서 바라본 개략도면.
도 9은 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 가공부를 측면에서 바라본 개략도면.
도 10은 도 9에서 절삭 가공된 셀 단위 판유리를 나타낸 개략도면.
도 11은 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 흡착스테이지를 나타낸 개략도면.
도 12는 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 방진벨트가 작동되는 상태를 나타낸 개략 측면도.
도 13은 도 12를 측면에서 바라본 개략도면.
도 14는 본 발명에 따른 판유리 가공시스템의 배출부를 측면에서 바라본 개략도면.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명에 따른 판유리 가공시스템은, 진입부(100), 이송부(200), 제1, 제2흡착스테이지(310, 320), 대기부(400), 세정부(500), 가공부(600), 배출부(700) 및 이송드라이브유닛(800)으로 구성된다.

도 1 내지 도 13을 참조하면, 상기 진입부(100)는 판유리(G)의 진입을 안내하되, 상기 판유리(G)의 틀어짐을 조정하여, 상면에 상기 판유리(G)를 정위치 시킨다.

상기 진입부(100)는 상기 판유리(G)의 저면을 떠받쳐 상기 판유리(G)의 이동을 안내하는 롤러(101)와, 상기 롤러(101) 하방에서 상기 판유리(G)의 테두리를 따라 이동되면서 상기 판유리의 틀어짐을 측정하는 비젼장치(102) 및 상기 판유리(G)의 측면을 정해진 방향으로 밀어 상기 판유리(G)의 틀어짐을 조정하는 조정장치(103)로 구성된다.

상기 롤러(101)는 정해진 간격 이격되게 복수개로 형성되어 상기 판유리(G) 저면을 떠받쳐 지지한다.

상기 비젼장치(102)는 상기 판유리(G)의 테두리 부분을 따라 이동하면서 상기 판유리(G)의 틀어짐 상태를 확인한다.

상기 조정장치(103)는 틀어짐을 감지한 상기 비젼장치(102)로 부터 신호를 전달받고, 상기 판유리(G)를 정해진 방향으로 밀어내면서 상기 판유리(G)의 마킹된 부분이 상기 비젼장치(102) 상방에 위치되도록 한다.

상기 이송부(200)는 상기 진입부(100) 상방에 설치되고, 승강이동 및 수평이동되어 상기 판유리(G)를 흡착 이송한다.

상기 이송부(200)는 상기 진입부 상방에서 상기 이송부(200) 상방으로 수평되게 형성된 수평레일(201)과, 상기 수평레일(201)을 따라 수평이동되는 수평이동블럭(202)과, 상기 수평이동블럭(202) 저면에서 수직방향으로 돌출 형성된 승강안내바(203)와, 상기 승강안내바(203)에 승강 이동가능하게 결합되어 상기 판유리(G)를 흡착하는 흡착장치(204)로 구성된다.

상기 수평이동블럭(202)은 상기 수평레일(201)을 따라 수평방향으로 이동되어 상기 판유리(G)를 상기 진입부(100)에서 상기 대기부(400) 방향으로 이동시킨다.

상기 흡착장치(204)는 상기 승강안내바(203)를 따라 승강 이동되어 저면에 상기 진입부(100)의 롤러(101)에 떠 받쳐져 있는 상기 판유리(G)를 흡착하거나 혹은 상기 대기부(400) 상방에서 하방으로 이동되어 저면에 흡착되어 있는 상기 판유리(G)를 상기 대기부(400)에 눕혀져 있는 상기 제1흡착스테이지(310) 상에 안착시킨다.

상기 이송부(200)의 수평레일(201)과 상기 수평이동블럭(202)은 LM가이드 구조인 것이 바람직하다.

상기 흡착장치(204)는 유압방식에 의해 상기 승강안내바(203)를 따라 승강 이동되는 것이 바람직하다.

상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는 상기 세정부(500) 양 측방에 서로 대향되게 한 쌍으로 설치되고, 서로 마주보는 반대방향으로 눕혀지거나 혹은 서로 마주보는 방향으로 세워져 상기 판유리(G)를 흡착하며, 상기 판유리(G)를 세워 고정한다.

상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는 상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 방향으로 수평 이동되어 상기 판유리(G)를 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600)로 이동시킨다.

상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는 상기 이송드라이브유닛(800)에 의해 좌, 우 이동 및 전, 후 이동된다.

상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는 판재형상으로 상면에 복수의 통공(311a, 321a)을 형성하고 있는 다공질판(311, 321)과, 상기 다공질판(311, 321) 저면에 밀착 설치되어 상기 통공(311a, 321a)을 통해 공기를 강제흡입하는 진공흡입장치(312, 322), 상기 진공흡입장치(312, 322) 저면에 밀착 설치되고, 그 말단이 상기 이송드라이브유닛(800) 상면에 회전가능하게 설치되어 상기 다공질판(311, 321)과 상기 진공흡입장치(312, 322)를 정해진 각도 회전시키는 회전드라이브유닛(313, 323), 상기 회전드라이브유닛(313, 323) 말단에 설치되어 상기 회전드라이브유닛(313, 323)을 정해진 각도로 회전시키는 서보모터(314, 324)로 구성된다.

상기 다공질판(311, 321)은 망사형 구조의 세라믹 재질로 제작될 수 있다.

상기 진공흡입장치(312, 322)는 별도로 구비된 흡입펌프(미도시)와 연결되고, 상기 흡입펌프(미도시)에 의해 상기 통공(311a, 312a)을 통해 공기를 강제흡입한다.

상기 회전드라이브유닛(313, 323)은 "ㄱ"자 형상으로 형성되고, 그 말단이 상기 이송드라이브유닛(800)의 제2수평판(803) 상면에 회전가능하게 결합된다.

상기 서보모터(314, 324)는 상기 회전드라이브유닛(313, 323)을 0 ~ 90도 이내로 회전시킨다.

상기 대기부(400)는 상기 진입부(100)와 상기 세정부(500) 사이에 설치되어 눕혀진 상태의 상기 제1흡착스테이지(310)를 떠받쳐 지지한다.

상기 세정부(500) 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 사이에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지(310, 320) 또는 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)에 에어를 분사하여 상기 판유리(G)에 뭍어있는 먼지 또는 이물질을 제거한다.

상기 세정부(500)는 틀프레임(501)과, 상기 틀프레임(501) 일측에 승강이동 가능하게 설치되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)에 에어를 분사하여 상기 판유리(G)에 뭍어있는 분진, 먼지 또는 메디아를 제거하는 에어나이프(502) 및 상기 틀프레임(501) 하방에 설치되고, 상기 판유리(G)에서 낙하되는 분진, 먼지 또는 메디아를 집진하는 집진용호퍼(503)를 포함한다.

상기 에어나이프(502)는 상, 하로 승강 이동되면서 상기 판유리(G)에 뭍어있는 분지, 먼지 또는 메디아를 제거한다.

상기 에어나이프(502)는 하향 경사진 방향으로 설치되는 것이 바람직하고, 사용자에 의해 그 각도는 자유롭게 조절될 수 있다.

가공부(600)는 상기 세정부(500) 측방에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지(310) 또는 제2흡착스테이지(320)에 흡착되어 있는 상기 판유리(G)의 전, 후면을 절삭 가공하여 상기 판유리(G)를 복수의 셀 단위 판유리(CG)로 절단한다.

상기 가공부(600)는 틀프레임(601)과, 상기 틀프레임(601) 상방에 구비되고, 수직방향으로 승강 이동되되, 수평 방향으로 수평 이동되어 상기 강화유리판(G)의 전, 후면을 수직방향 또는 수평방향으로 절삭 가공하는 노즐부(602)를 포함한다.

상기 노즐부(602)는 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)와 서로 마주보도록 정방향 또는 역방향으로 회전되어 상기 판유리(G)의 전면 및 후면을 절삭가공한다.

상기 가공부(600)는 상기 틀프레임(601) 하방에 상기 판유리(G) 절삭가공시 하방으로 낙하되는 분진 및 메디아 등을 집진하는 호퍼(603)와, 상기 호퍼(603)에 의해 집진된 분진 및 메디아를 서로 분리하는 집진장치(604)를 더 포함한다.

상기 호퍼(603)는 상, 하부가 개방된 상광하협 구조로 형성되고, 그 하부에 상기 집진장치(604)을 구비한다.

상기 가공장치(500)는 샌드블라스터인 것이 바람직하고, 연마제를 상기 판유리(G)에 분사하여 상기 판유리(G)의 전, 후면을 절삭가공한다.

상기 가공장치(500)는 수직방향으로 승강 이동되되, 수평 방향으로 이동되어 상기 강화유리판(G)의 전, 후면을 수직방향 또는 수평방향으로 절삭 가공하는 노즐부(501)를 포함한다.

배출부(700)는 상기 세정부(500)를 기준으로 상기 대기부(400)와 서로 대향되는 일 측에 설치되고, 상기 가공부(600)에서 절단된 셀 단위 판유리(CG)를 수거한다.

상기 배출부(700)는 상기 제2흡착스테이지(320)에 흡착되어 있는 셀 단위 판유리(CG)를 수거한다.

상기 배출부(700)는 틀프레임(701)과, 상기 틀프레임(701) 하방에 설치된 배출용호퍼(702)와, 상기 배출용호퍼(702) 하방에 설치되어 상기 배출용호퍼(702)를 통해 하방으로 낙하되는 잔여물(예컨대, 스크랩)을 수용하는 배출대차(703)와, 상기 배출용호퍼(702) 일단에 회전가능하게 설치되어 상기 제2흡착스테이지(320)에 잔여된 잔여물을 들어올리는 픽업장치(704)와, 상기 배출용호퍼(702) 상방에 설치되고, 에어를 분사하여 상기 제2흡착스테이지(320)에 잔여된 분진, 먼지 또는 유리파편들을 상기 배출용호퍼(702)로 낙하시키는 에어건(705)으로 구성된다.

상기 배출대차(703)는 상기 배출용호퍼(702)를 통해 하방으로 낙하되는 잔여물을 수용하되, 정해진 량 이상으로 내용물이 채워지면 사용자에 의해 정해진 장소로 이동되어 채워진 내용물이 제거된다.

상기 픽업장치(704)는 상기 제2흡착스테이지(320) 상에서 상기 셀 단위 판유리(G)가 수거된 후 남겨진 잔여물을 들어올리고, 상기 제2흡착스테이지(320)가 원위치로 복귀되면, 원위치로 회전작동되어 들어올린 잔여물을 상기 배출용호퍼(702)로 낙하시킨다.

상기 픽업장치(704)는 흡착방식으로 잔여물을 들어올리는 것이 바람직하다.

상기 에어건(705)은 상, 하로 승강 이동되고, 상기 제2흡착스테이지(320) 상에 에어를 분사하여 상기 제2흡착스테이지(320) 상에 잔류된 잔여물을 제거한다.

상기 배출부(700)는 일 측에 설치된 핸더(706)를 구비하고, 상기 핸더(706)로 상기 제2흡착스테이지(320) 상에 올려져 있는 상기 셀 단위 판유리(CG)를 수거한다.

상기 핸더(706)는 상기 셀 단위 판유리(CG)를 1열씩 흡착하여 수거한다.

이송드라이브유닛(800)은 상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에 각각 설치되고, 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600) 방향으로 수평이동 및 전, 후 방향으로 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 이동시킨다.

상기 이송드라이브유닛(800)은 상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에 상기 세정부(500)에서 상기 가공부(600) 방향으로 나란하게 설치된 한 쌍의 제1가이드레일(801)과, 상기 제1가이드레일(801)에 슬라이딩 결합되고, 상기 제1가이드레일(801)을 따라 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600)로 이동시키는 제1수평판(802) 및 상기 제1수평판(802) 상면에 상기 제1수평판(802)과 직교되는 방향으로 슬라이딩 이동 가능하게 결합되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 전, 후 방향으로 이동시키는 제2수평판(803)을 포함한다.

상기 제1가이드레일(801)은 LM가이드 방식인 것이 바람직하다.

상기 제2수평판(803)은 상면에 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 상기 회전드라이브유닛(313, 323)을 회전가능하게 결합한다.

상기 제2수평판(803)은 전, 후 방향으로 수평 이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 테두리가 상기 방진틀(920)에 커버되되록 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 상기 방진틀(920)에 결합하거나 혹은 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)가 상기 방진틀(920)에서 이탈되도록 한다.

상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에는 제2가이드레일(910) 및 방진틀(920)이 형성된다.

상기 제2가이드레일(910)은 상기 세정부(500)에서 상기 가공부(600) 방향으로 나란하게 한 쌍으로 설치된다.

상기 제2가이드레일(910)은 LM가이드 방식인 것이 바람직하다.

상기 방진틀(920)은 각각의 상기 제2가이드레일(910)에 슬라이딩 가능하게 결합되고, 세워진 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 테두리를 커버하되, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)를 전방으로 노출시켜 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600) 방향으로 수평 이동된다.

상기 방진틀(920)은 상기 이송드라이브유닛(800)의 제2수평판(803)에 의해 전, 후방향으로 이동된 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 테두리에 결합되어, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 테두리의 커버한다.

상기 방진틀(920)은 그 중앙부가 상기 판유리(G)의 형상에 대응하도록 관통 형성된다.

상기 방진틀(920)은 상기 가공부(600)에서 상기 판유리(G)의 전, 후면 가공시 발생되는 먼지, 이물질 또는 메디아 등이 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 주변으로 흩날려 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)로 먼지, 이물질 또는 메디아가 유입되는 것을 차단한다.

상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 사이에는 일단이 상기 세정부(500)에 고정되되, 타단이 상기 가공부(600)에 고정되고, 상면에 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 및 상기 방진틀(920)의 이동을 가능하게 하는 안내홈(931)을 형성하고 있으며, 상기 판유리(G) 가공시 발생되는 분진, 이물질 또는 메디아가 상방으로 흩날리거나 혹은 하방으로 낙하되는 것을 방지하는 적어도 2개 이상의 방진커버(930)를 더 포함한다.

상기 방진커버(930)는 상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 사이의 상, 하방으로 각각 설치되고, 분진, 이물질 또는 메디아가 상기 방진틀(920) 상방으로 흩날리거나 혹은 하방으로 낙하되는 분진, 이물질 또는 메디아가 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 서보모터(314, 324) 및 상기 이송드라이브유닛(800)으로 유입되는 것을 차단한다.

상기 안내홈(931)의 직경은 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 회전드라이브유닛(313, 323)의 두께 및 상기 방진틀(920)의 두께에 대응하도록 형성되는 것이 바람직하다.

상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 사이에는 서로 대향되게 한 쌍으로 구비되어 상기 세정부(500) 및 상기 가공부(600) 각각에 고정 설치되는 몸체(940)와, 일단이 상기 몸체(940)에 감겨지되, 타단이 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 측면 및 상기 방진틀(920)의 측면에 밀착 고정되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 및 상기 방진틀(920)의 이동에 의해 상기 몸체(940)에서 풀리거나 혹은 상기 몸체(940)에 감겨 상기 방진커버의 안내홈(931)을 커버하는 방진벨트(950)를 더 포함한다.

상기 몸체(940)는 태엽방식으로 상기 방진벨트(950)를 그 내부에 감아넣거나 혹은 풀어지도록 한다.

상기 방진벨트(950)는 상기 안내홈(931)의 직경보다 상대적으로 더 넓게 형성되는 것이 바람직하다.

상기 방진벨트(950)는 서로 대향되게 한 쌍으로 설치되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 회전드라이브유닛(313, 323) 및 상기 방진틀(920)을 따라 이동되어, 어느 하나가 상기 몸체(940)에서 풀어지면, 또 다른 하나가 상기 몸체(940)에 감겨지면서 상기 안내홈(931)을 커버한다.

상기 방진벨트(950)는 분진, 이물질 또는 메디아 등이 상기 방진커버(930)의 안내홈(931)을 통해 상방으로 흩날리거나 혹은 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 서보모터(314, 324) 및 상기 이송드라이브유닛(800)으로 유입되는 것을 차단한다.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 판유리 가공시스템은 다음과 같이 사용된다.

먼저, 진입부(100)의 롤러(101) 상에 판유리(G)를 올려 상기 판유리(G)를 상기 진입부(100)로 진입시키면, 상기 판유리(G)가 상기 롤러(101)에 의해 상기 진입부(100) 정 중앙부에 위치된다.

이때, 상기 진입부(100)의 비젼장치(102)가 상기 판유리(G)의 테두리 부분을 따라 이동하면서 상기 판유리(G)의 틀어짐 여부를 확인하고, 만약, 상기 판유리(G)가 일방향으로 틀어져 있으면, 상기 조정장치(103)가 상기 판유리(G)의 측면을 정해진 방향으로 밀어 상기 판유리(G)의 틀어짐을 조정한다.

여기서, 상기 조정장치(103)는 상기 판유리(G)를 밀어 상기 판유리(G)의 테두리 부분이 상기 비젼장치(102)의 직행방향에 대해 일직선을 이루도록 조정한다.

그러면, 상기 진입부(100)에서 상기 판유리(G)의 틀어짐이 조정되고, 이후, 상기 이송부(200)의 흡착장치(204)가 상기 승강안내바(203)를 따라 하방으로 이동되어 상기 진입부(100)의 롤러(101) 상에 올려져 있는 상기 판유리(G)를 흡착하고, 그 상태에서 상기 승강안내바(203)를 따라 상방으로 이동됨과 동시에 상기 수평이동블럭(202)이 상기 수평레일(201)을 따라 이동한다.

이때, 상기 수평레일(201)을 따라 이동한 상기 수평이동블럭(202)은 상기 흡착장치(204)를 상기 대기부(400) 상방에 위치시키고, 이와 동시에 상기 흡착장치(204)가 상기 승강안내바(203)를 따라 하방으로 이동되어 상기 판유리(G)를 상기 대기부(400)에 눕혀져 있는 상기 제1흡착스테이지(310) 상에 내려놓게 된다.

이후, 상기 이송부(200)는 원위치로 복귀되고, 상기 제1흡착스테이지(310)의 진공흡입장치(312)가 작동되어 상기 다공질판(311)의 통공(311a)을 통해 공기를 강제흡입함으로써, 상기 제1흡착스테이지(310) 상에 올려진 상기 판유리(G)가 상기 제1흡착스테이지(310) 상에 흡착된다.

이어서, 상기 제1흡착스테이지(310)의 상기 서보모터(314)를 구동시켜, 상기 회전드라이브유닛(313)을 정해진 각도로 회전시킴으로써, 상기 다공질판(311)에 흡착되어 있는 상기 판유리(G)가 정해진 각도로 세워진다.

이때, 상기 회전드라이브유닛(313)의 회전각도는 90도인 것이 바람직하고, 사용자의 선택에 따라 그 각도는 자유롭게 조절될 수 있다.

그리고, 상기 이송드라이브유닛(800)의 상기 제2수평판(803)을 전방으로 이동시켜 상기 방진틀(920)에 상기 제1흡착스테이지(310)를 결합함으로써, 상기 제1흡착스테이지(310)의 테두리가 상기 방진틀(920)에 의해 커버됨과 동시에 상기 방진틀(920) 전면으로 상기 제1흡착스테이지(310)에 흡착되어 있는 상기 판유리(G)가 노출된다.

여기서, 상기 방진틀(920) 전면으로 노출된 상기 판유리(G)는 상기 세정부(500)방향으로 위치되고, 상기 세정부(500)의 에어나이프(502)를 상방에서 하방으로 이동시키면서 상기 판유리(G) 전면에 에어를 분사함으로써, 상기 판유리(G)에 뭍어있는 이물질 또는 먼지등이 에어압에 의해 하방으로 낙하된다.

이때, 상기 세정부(500)에서 하방으로 낙하된 이물질 또는 먼지등은 상기 세정부(500)의 틀프레임(501) 하방에 설치되어 있는 상기 집진용호퍼(503)에 집진되어 상기 세정부(500) 외부로 흩날리는 것이 방지된다.

이후, 상기 세정부(500)에서 상기 판유리(G)의 세정이 완료되면, 상기 이송드라이브유닛(800)의 제1수평판(802)이 상기 제1가이드레일(801)을 따라 상기 가공부(600) 방향으로 이동되고, 이에따라, 상기 제1흡착스테이지(310)와 상기 방진틀(920)이 상기 가공부(600) 방향으로 이동되어 상기 판유리(G)를 상기 가공부(600)로 이동시킨다.

특히, 상기 제1흡착스테이지(310)의 회전드라이브유닛(313)과 상기 방진틀(920)은 상기 방진커버(930)에 형성된 안내홈(931)을 따라 상기 가공부(600) 방향으로 이동되고, 이때, 상기 제1흡착스테이지(310)의 회전드라이브유닛(313, 323)의 양 측면 및 상기 방진틀(920)의 양 측면에 연결 고정된 한 쌍의 상기 방진벨트(950)가 상기 세정부(500)에 고정된 몸체(940) 및 상기 가공부(600)에 고정된 몸체(940)에서 풀려지거나 혹은 상기 몸체(940)에 감겨지면서 상기 안내홈(931)을 커버한다.

여기서, 상기 이송드라이브유닛(800)에 의해 상기 제1흡착스테이지(310)와 상기 방진틀(920)이 상기 가공부(600) 방향으로 이동됨에 따라, 상기 세정부(500)에 고정된 상기 몸체(940)에서 상기 방진벨트(950)가 풀려지고, 상기 가공부(600)에 고정된 상기 몸체(940)에 상기 방진벨트(950)가 감겨진다.

이어서, 상기 가공부(600)의 틀프레임(601) 내에 상기 제1흡착스테이지(310)가 위치되면, 상기 가공부(600)의 노즐부(602)가 수직방향 및 수평방향으로 이동되면서 상기 방진틀(920) 전면으로 노출된 상기 판유리(G)의 전면을 절삭 가공하여 상기 판유리(G) 전면에 수직라인 및 수평라인을 형성한다.

이때, 상기 노즐부(602)로 상기 판유리(G)의 전면을 절삭 가공시 분진, 이물질 또는 메디아 등이 흩날리게 되고, 이 분진, 이물질, 메디아는 상기 방진틀(920)에 차단되어 상기 제1흡착스테이지(310)로 유입되는 것이 방지된다.

또한, 상기 세정부(500)와 가공부(600) 사이의 상, 하방으로 흩날리거나 혹은 낙하되는 분진, 이물질, 메디아는 상기 방진커버(930) 및 상기 방진커버(930)의 안내홈(931)을 커버하는 방진벨트(950)에 의해 상방으로 흩날리거나 혹은 상기 제1흡착스테이지(310)의 서보모터(314) 및 상기 이송드라이브유닛(800)의 제1가이드레일(801)로 유입되는 것이 방지된다.

그 다음, 상기 제1흡착스테이지(310)와 서로 마주보는 방향에 위치된 상기 제2흡착스테이지(320)의 회전드라이브유닛(323)은 상기 서보모터(324)의 구동에 회전작동되어 상기 제2흡착스테이지(320)를 상기 제1흡착스테이지(310)와 서로 마주보도록 회전시킨다.

이때, 상기 제1흡착스테이지(310)를 이동시키는 상기 이송드라이브유닛(800)과 서로 대향되는 상기 이송드라이브유닛(800)의 제2수평판(803)은 상기 제2흡착스테이지(320)를 상기 제1흡착스테이지(310) 방향으로 이동시켜, 상기 제1흡착스테이지(310)에 결합된 방진틀(920)과 서로 대향되게 설치된 상기 방진틀(920)에 상기 제2흡착스테이지(320)가 결합된다.

그러면, 상기 제2흡착스테이지(320)의 테두리가 상기 방진틀(920)에 커버되되, 상기 제2흡착스테이지(320)의 다공질판(321)이 상기 방진틀(920) 전면으로 노출된 상태에서 상기 제1흡착스테이지(310)에 흡착된 상기 판유리(G)의 전면에 밀착된다.

그리고, 상기 제1흡착스테이지(310)의 진공흡입장치(312)의 작동을 정지시켜 상기 제1흡착스테이지(310)에 흡착력을 해제하되, 상기 제2흡착스테이지(320)의 진공흡입장치(322)를 작동시켜 상기 다공질판(321)의 통공(321a)을 통해 공기를 강제흡입함으로써, 상기 제2흡착스테이지(320)에 상기 판유리(G)가 흡착된다.

이후, 상기 제1흡착스테이지(310)를 상기 이송드라이브유닛(800)의 제1수평판(802) 및 제2수평판(803)으로 이동시켜 원위치로 복귀시키고, 상기 가공부(600)의 노즐부(602)를 수직이동 및 수평이동시켜 상기 판유리(G)의 후면을 절삭 가공한다.

이때, 상기 노즐부(602)는 상기 판유리(G)의 전면에 형성된 수직라인 및 수평라인을 따라 이동되면서 상기 판유리(G)의 후면을 절삭가공하여 셀 단위 판유리(CG)가 형성되고, 상기 판유리(G) 가공시 발생되는 분진, 이물질 또는 메디아는 상기에서와 같이 상기 방진틀(920), 방진커버(930) 및 상기 방진벨트(950)에 의해 차단되어 상방으로 흩날리거나 혹은 상기 제2흡착스테이지(320)의 서보모터(324) 및 상기 이송드라이브유닛(800)의 제1가이드레일(801)로 유입되는 것이 방지된다.

이어서, 상기 제2흡착스테이지(320)가 결합된 상기 이송드라이브유닛(800)의 제1수평대(802)를 상기 제1가이드레일(801)을 따라 이동시켜 상기 제2흡착스테이지(320)를 상기 세정부(500) 방향으로 이동시키고, 그 상태에서 상기 세정부(500)의 에어나이프(502)로 상기 제2흡착스테이지(320)에 에어를 분사함으로써, 상기 제2흡착스테이지(320)에 뭍어있는 먼지, 이물질 또는 메디아가 제거된다.

여기서, 상기 제2흡착스테이지(320)가 상기 이송드라이브유닛(800)에 의해 상기 세정부(500)로 이동되는 동안, 상기와 동일한 원리에 의해 상기 가공부(600)에 고정된 상기 몸체(940)에서 상기 방진벨트(950)가 풀려지고, 상기 세정부(500)에 고정된 상기 몸체(940)에 상기 방진벨트(950)가 감겨져 상기 방진커버(930)의 안내홈(931)이 커버된다.

한편, 상기 세정부(500)에서 세정이 완료되면, 상기 이송드라이브유닛(800)의 제2수평판(803)이 후방으로 이동되어 상기 제2흡착스테이지(320)를 상기 방진틀(920)에서 이탈시키고, 그 상태에서 상기 서보모터(324)를 구동시켜 상기 제2흡착스테이지(320)를 정해진 각도로 눕혀지도록 한다.

이때, 상기 서보모터(324)에 의해 회전되는 상기 제2흡착스테이지(320)의 회전드라이브유닛(323)은 90도 각도로 회전되어 상기 제2흡착스테이지(320)를 상기 배출부(700)의 배출용호퍼(702) 상방에 수평방향으로 눕혀지도록 한다.

그러면, 상기 배출부(700) 일 측에 설치된 상기 핸더(706)가 상기 셀단위 판유리(CG)를 수거하고, 상기 픽업장치(704)가 상기 제2흡착스테이지(320) 상에 잔여된 잔여물을 흡착한 상태로 회전되어 잔여물을 들어올린다.

그 다음, 상기 배출부(700)의 에어건(705)으로 정해진 압의 에어를 분사하여 상기 제2흡착스테이지(320) 상에 잔여된 유리파편들 및 이물질 또는 먼지가 상기 제2흡착스테이지(320)에서 낙하되도록 한다.

이때, 상기 제2흡착스테이지(320)에서 낙하된 유리파편들 및 이물질 또는 먼지는 상기 배출용호퍼(702)로 낙하되고, 이 배출용호퍼(702)를 통해 하방으로 이동되어 상기 배출대차(703)에 수거된다.

여기서, 유리파편들 및 이물질 또는 먼지가 제거된 상기 제2흡착스테이지(320)는 상기 서보모터(324)에 의해 90도 각도로 회전되되, 상기 이송드라이브유닛(800)에 의해 전방으로 이동되어 상기 방진틀(920)에 결합되며, 그 상태에서 상기 가공부(600)로 이동되어 원위치로 복귀된다.

그리고, 상기 배출부(700)의 픽업장치(704)는 회전작동되어 원위치로 복귀된 후 흡착력을 해제하여 잔여물을 상기 배출용호퍼(702) 하방으로 낙하시키게 됨으로써, 상기 배출대차(703)에 잔여물이 수거된다.

특히, 상기 배출대차(703)에 잔여물이 정해진 량 이상 채워지면, 사용자가 상기 배출대차(703)를 정해진 장소로 이동시켜 상기 배출대차(703)에 수용된 잔여물을 제거한다.

상기와 같이 제1흡착스테이지(310)로 판유리(G)를 세워 판유리(G)의 전면을 절삭가공하고, 제2흡착스테이지(320)로 제1흡착스테이지(310)에 흡착된 판유리를 전달받은 상태로 판유리(G)를 세워 판유리(G)의 후면을 절삭가공하는 구조는, 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)로 판유리(G)를 세운 상태로 가공하여 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 상에 분진 또는 이물질이 잔류되지 않고, 판유리(G) 전, 후면을 가공부(600)에 구비된 단일의 노즐부(602)로 절삭 가공하여 장치 구조가 단순해지며, 장치의 최소화로 장비의 부피 감소와 동시에 제작 비용이 절감되고, 판유리(G) 가공시 발생되는 분진등이 방진커버(930) 및 방진벨트(950)에 차단되어 서보모터(314, 324), 이송드라이브유닛(800)으로 분진이 유입되거나 혹은 방진틀(920) 상방으로 분진이 흩날리는 것이 방지된다.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 판유리 가공시스템을 실시하기 위한 하나의 실시 예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않고, 이하 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

100 : 진입부 101 : 롤러
102 : 비젼장치 103 : 조정장치
200 : 이송부 201 : 수평레일
202 : 수평이동블럭 203 : 승강안내바
204 : 흡착장치 310 : 제1흡착스테이지
311, 321 : 다공질판 311a, 321a : 통공
312, 322 : 진공흡입장치 313, 323 : 회전드라이브유닛
314, 324 : 서보모터 320 : 제2흡착스테이지
400 : 대기부 500 : 세정부
501 : 틀프레임 502 : 에어나이프
503 : 집진용호퍼 600 : 가공부
601 : 틀프레임 602 : 노즐부
603 : 호퍼 604 : 집진장치
700 : 배출부 701 : 틀프레임
702 : 배출용호퍼 703 : 배출대차
704 : 픽업장치 705 : 에어건
706 : 핸더 800 : 이송드라이브유닛
801 : 제1가이드레일 802 : 제1수평판
803 : 제2수평판 910 : 제2가이드레일
920 : 방진틀 930 : 방진커버
931 : 안내홈 940 : 몸체
950 : 방진벨트 G : 판유리
CG : 셀 단위 판유리

Claims

진입부(100), 이송부(200), 제1, 제2흡착스테이지(310, 320), 대기부(400), 세정부(500), 가공부(600), 배출부(700) 및 이송드라이브유닛(800)으로 구성되고,
상기 진입부(100)는 판유리(G)의 진입을 안내하되, 상기 판유리(G)의 틀어짐을 조정하여, 상면에 상기 판유리(G)를 정위치 시키고,
상기 이송부(200)는 상기 진입부(100) 상방에 설치되고, 승강이동 및 수평이동되어 상기 판유리(G)를 흡착 이송하고,
상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는 상기 세정부(500) 양 측방에 서로 대향되게 한 쌍으로 설치되고, 서로 마주보는 반대방향으로 눕혀지거나 혹은 서로 마주보는 방향으로 세워져 상기 판유리(G)를 흡착하며, 상기 판유리(G)를 세워 고정하고,
상기 대기부(400)는 상기 진입부(100)와 상기 세정부(500) 사이에 설치되어 눕혀진 상태의 상기 제1흡착스테이지(310)를 떠받쳐 지지하고,
상기 세정부(500) 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 사이에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지(310, 320) 또는 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)에 에어를 분사하여 상기 판유리(G)에 뭍어있는 먼지 또는 이물질을 제거하고,
상기 가공부(600)는 상기 세정부(500) 측방에 설치되고, 상기 제1흡착스테이지(310) 또는 제2흡착스테이지(320)에 흡착되어 있는 상기 판유리(G)의 전, 후면을 절삭 가공하여 상기 판유리(G)를 복수의 셀 단위 판유리(CG)로 절단하고,
상기 배출부(700)는 상기 세정부(500)를 기준으로 상기 대기부(400)와 서로 대향되는 일 측에 설치되고, 상기 가공부(600)에서 절단된 셀 단위 판유리(CG)를 수거하고,
상기 이송드라이브유닛(800)은 상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에 각각 설치되고, 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600) 방향으로 수평이동 및 전, 후 방향으로 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 이동시키는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.
제 1항에 있어서,
상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)는,
판재형상으로 상면에 복수의 통공(311a, 321a)을 형성하고 있는 다공질판(311, 321)과;
상기 다공질판(311, 321) 저면에 밀착 설치되어 상기 통공(311a, 321a)을 통해 공기를 강제흡입하는 진공흡입장치(312, 322);
상기 진공흡입장치(312, 322) 저면에 밀착 설치되고, 그 말단이 상기 이송드라이브유닛(800) 상면에 회전가능하게 설치되어 상기 다공질판(311, 321)과 상기 진공흡입장치(312, 322)를 정해진 각도 회전시키는 회전드라이브유닛(313, 323); 및
상기 회전드라이브유닛(313, 323) 말단에 설치되어 상기 회전드라이브유닛(313, 323)을 정해진 각도로 회전시키는 서보모터(314, 324);
로 구성되는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.
제 1항에 있어서,
상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에는,
상기 세정부(500)에서 상기 가공부(600) 방향으로 나란하게 설치된 한 쌍의 제2가이드레일(910); 및
각각의 상기 제2가이드레일에 슬라이딩 가능하게 결합되고, 세워진 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)의 테두리를 커버하되, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)를 전방으로 노출시켜 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600) 방향으로 수평 이동되는 방진틀(920);
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.
제 1항 또는 제 3항에 있어서,
상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 사이에는,
일단이 상기 세정부(500)에 고정되되, 타단이 상기 가공부(600)에 고정되고, 상면에 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 및 상기 방진틀(920)의 이동을 가능하게 하는 안내홈(931)을 형성하고 있으며, 상기 판유리(G) 가공시 발생되는 분진, 이물질 또는 메디아가 상방으로 흩날리거나 혹은 하방으로 낙하되는 것을 방지하는 적어도 2개 이상의 방진커버(930)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.
제 4항에 있어서,
상기 세정부(500)와 상기 가공부(600) 사이에는,
서로 대향되게 한 쌍으로 구비되어 상기 세정부(500) 및 상기 가공부(600) 각각에 고정 설치되는 몸체(940)와, 일단이 상기 몸체(940)에 감겨지되, 타단이 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 측면 및 상기 방진틀(920)의 측면에 밀착 고정되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320) 및 상기 방진틀(920)의 이동에 의해 상기 몸체(940)에서 풀리거나 혹은 상기 몸체(940)에 감겨 상기 방진커버의 안내홈(931)을 커버하는 방진벨트(950)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.
제 1항에 있어서,
상기 세정부(500)는,
틀프레임(501)과;
상기 틀프레임(501) 일측에 승강이동 가능하게 설치되고, 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)에 흡착된 상기 판유리(G)에 에어를 분사하여 상기 판유리(G)에 뭍어있는 분진, 먼지 또는 메디아를 제거하는 에어나이프(502); 및
상기 틀프레임(501) 하방에 설치되고, 상기 판유리(G)에서 낙하되는 분진, 먼지 또는 메디아를 집진하는 집진용호퍼(503);
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는판유리 가공시스템.
제 1항에 있어서,
상기 이송드라이브유닛(800)은,
상기 대기부(400)와 상기 세정부(500) 사이 및 상기 세정부(500)와 상기 배출부(700) 사이에 상기 세정부(500)에서 상기 가공부(600) 방향으로 나란하게 설치된 한 쌍의 제1가이드레일(801)과;
상기 제1가이드레일(801)에 슬라이딩 결합되고, 상기 제1가이드레일(801)을 따라 수평이동되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 상기 세정부(500) 또는 상기 가공부(600)로 이동시키는 제1수평판(802); 및
상기 제1수평판(802) 상면에 상기 제1수평판(802)과 직교되는 방향으로 슬라이딩 이동 가능하게 결합되어 상기 제1, 제2흡착스테이지(310, 320)를 전, 후 방향으로 이동시키는 제2수평판(803);
으로 구성되는 것을 특징으로 하는 판유리 가공시스템.