KR20150068908A - 액 공급 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 과제는, 처리액을 피처리체에 공급하는 데 있어서, 장치의 복잡화를 억제하면서, 상기 처리액을 빠르게 토출시키는 것이다. 레지스트액이 저류된 저류실(23)과 상기 레지스트액을 토출하는 노즐(21)을 카트리지(12)로서 일체화함과 함께, 대기부(13)로부터 카트리지(12)를 웨이퍼(W)의 바로 위의 위치로 반송하여, 이 카트리지(12)로부터 레지스트액을 직접 토출한다. 그리고, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 보충구(28)에 대해, 레지스트액을 토출하는 노즐(21)과는 별도로 형성한다. 또한, 카트리지(12)가 놓이는 대기부(13)에 있어서, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 구성을 설치한다.

Description

액 공급 장치{APPARATUS FOR SUPPLYING LIQUID}

본 발명은 피처리체에 처리액을 공급하기 위한 액 공급 장치에 관한 것이다.

반도체 디바이스를 제조하는 일련의 공정 중에서, 기판(피처리체)인 반도체 웨이퍼(이하 「웨이퍼」라고 함)에 대해, 시너, 레지스트액, 폴리이미드, 접착제 등의 처리액을 공급하는 공정이 있다. 이와 같은 처리액은, 점도가 높을수록 토출하기 어려워지기 때문에, 또한 웨이퍼의 대구경화가 진행됨에 따라 당해 웨이퍼의 표면을 피복하기 위해 필요한 처리액의 양도 많아지고, 따라서 스루풋의 저하를 억제하기 위해 빠르게 토출하는 것이 요구되고 있다.

그러나, 처리액의 토출 속도를 높이는 데 있어서, 예를 들어 대용량의 펌프를 설치한 경우에는 장치의 비용 상승으로 이어져 버리고, 처리액이 통류하는 배관의 내경을 크게 한 경우에는, 당해 배관의 배치가 곤란해지고, 또한 장치의 레이아웃이나 작업자의 작업성이 제한되어 버린다.

또한, 펌프로부터 노즐을 통해 처리액을 토출한 후, 후속의 토출 처리에 대비하기 위해 당해 펌프에 새롭게 처리액을 처리액 수용 용기측으로부터 인입하는 데 있어서, 당해 처리액 내에 기포가 혼입되지 않도록 하기 위해, 즉 처리액이 발포되지 않도록 하기 위해, 처리액의 인입 속도를 그만큼 빠르게 설정할 수 없다. 따라서, 처리액의 토출 준비에 필요로 하는 시간에 대해서도 가능한 한 단축시키는 것이 요구되고 있다. 처리액의 점도가 높아질수록, 처리액의 인입 시에 압력 손실이 커지고, 처리액이 발포되기 쉬워지기 때문에, 고점도의 처리액을 사용하는 프로세스에서는 특히 처리액의 토출 준비를 빠르게 종료할 필요가 있다.

특허문헌 1에는, 웨이퍼에 레지스트액을 코팅하는 데 있어서, 복수의 실린지를 설치해 두고, 이들 실린지 중 하나의 실린지를 아암이 파지하여 레지스트액을 토출한 후, 당해 하나의 실린지를 원래의 트레이로 복귀시키는 기술에 대해 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는, 약액이 수납된 용기를 보유 지지 기구가 보유 지지하여 웨이퍼의 상방측으로 이동시키고, 당해 용기부터 웨이퍼에 약액을 직접 토출하는 기술에 대해 기재되어 있다. 그러나, 이들 특허문헌 1, 2에는, 고점도의 처리액을 토출할 때의 과제에 대해서는 검토되어 있지 않다.

일본 특허 제4227171호 일본 특허 공개 제2004-172201호

본 발명은 이와 같은 사정하에 이루어진 것으로, 그 목적은, 처리액을 피처리체에 공급하는 데 있어서, 장치의 복잡화를 억제하면서, 당해 처리액을 빠르게 토출시킬 수 있는 액 공급 장치를 제공하는 것에 있다.

본 발명의 액 공급 장치는,

처리액을 피처리체에 공급하기 위한 액 공급 장치에 있어서,

처리액이 저류되는 저류실과, 상기 저류실 내의 처리액을 토출하는 토출구와, 상기 저류실 내의 처리액을 상기 토출구로부터 압출하기 위한 압출부와, 상기 토출구와는 별도로 형성되고, 상기 저류실에 처리액을 보충하는 보충구를 갖는 처리액 카트리지와,

상기 처리액 카트리지가 대기하는 대기 영역을 갖는 대기부와,

상기 처리액 카트리지를 보유 지지하고, 상기 대기부와, 피처리체에 처리액을 공급하는 위치 사이에서 반송하는 반송 기구와,

상기 반송 기구에 설치되고, 상기 압출부에 처리액의 압출 동작을 시키기 위한 작동 기구를 구비한 것을 특징으로 한다.

상기 대기부에는, 상기 처리액 카트리지에 처리액을 보충하기 위한 처리액 보충로가 설치되고,

상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고 있어도 되고, 이 경우에 상기 보충 기구는, 상기 대기부에 설치되어 있다.

상기 압출부는, 기단부측에 개구부가 형성됨과 함께 내부가 공동인 벨로즈체를 구비하고, 상기 저류실에 형성된 개구부에 상기 벨로즈체의 개구부가 연결되어 구성되고,

상기 작동 기구는, 상기 저류실 내의 용적을 감소시켜 처리액을 토출시키기 위해 상기 벨로즈체를 신장시키도록 구성되어 있어도 된다.

상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,

상기 보충 기구는, 상기 저류실 내의 용적을 증대시켜 처리액을 상기 보충구로부터 흡인하기 위해 상기 벨로즈체를 축퇴시키도록 구성되어 있어도 된다.

상기 압출부는, 그 선단측이 상기 벨로즈체의 선단측에 설치되고, 그 기단부측이 상기 저류실의 외측으로 신장되어 있는 구동축부를 구비하고,

상기 작동 기구는, 상기 벨로즈체를 신장시키기 위해 구동축부를 전진시키는 전진용의 구동 기구를 구비하고 있어도 된다.

상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,

상기 압출부는, 그 선단측이 상기 벨로즈체의 선단측에 설치되고, 그 기단부측이 상기 저류실의 외측으로 신장되어 있는 구동축부를 구비하고,

상기 보충 기구는, 상기 벨로즈체를 축퇴시키기 위해 구동축부를 후퇴시키는 후퇴용의 구동 기구를 구비하고 있어도 된다.

상기 작동 기구는, 상기 벨로즈체를 신장시키기 위해 상기 벨로즈체의 개구부를 통해 상기 벨로즈체에 기체를 공급하기 위한 가스 공급 기구를 구비하고 있어도 된다.

상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,

상기 보충 기구는, 상기 벨로즈체를 축퇴시키기 위해 상기 벨로즈체의 개구부를 통해 상기 벨로즈체 내를 흡인하기 위한 흡인 기구를 구비하고 있어도 된다.

각각의 처리액 카트리지는, 상기 처리액 카트리지에 저류되어 있는 처리액의 종별이 기억되는 기억부를 구비하고 있도록 해도 되고, 이 경우에는 상기 대기 영역은 복수 형성되고,

상기 대기부는, 각각의 처리액 카트리지에 있어서의 상기 기억부에 기억되는 처리액의 종별을 판독하는 판독부를 구비하고,

상기 판독부에서 판독한 정보에 기초하여, 피처리체에 대해 행해지는 도포 처리의 종별에 따라 복수의 상기 처리액 카트리지로부터 하나의 처리액 카트리지를 선택하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하고 있는 것이 바람직하다.

상기 처리액 카트리지는, 상기 압출부를 상기 토출구측으로부터 이격한 위치에서 고정하는 규제 기구를 구비하고,

상기 반송 기구는, 상기 규제 기구에 의한 규제를 해제하는 기구를 구비하고 있어도 된다.

상기 처리액 카트리지의 상기 보충구측 및 상기 토출구측에는, 상기 저류실 내의 처리액의 역류를 방지하기 위한 역류 방지 기구가 각각 설치되고,

상기 토출구측의 상기 역류 방지 기구와 상기 토출구 사이에는, 처리액의 토출을 종료한 후, 상기 토출구의 근방 위치에 남는 처리액을 상기 저류실측으로 끌어올리기 위한 액 흘림 억제 기구가 설치되어 있어도 된다.

상기 처리액의 점도는, 1000cP∼4000cP이어도 된다.

본 발명은 처리액을 피처리체에 공급하는 데 있어서, 처리액을 저류하는 저류실과 처리액을 토출하는 토출구를 처리액 카트리지로서 일체화하고 있다. 그리고, 이 처리액 카트리지를 대기시키는 대기부로부터 피처리체측으로 당해 처리액 카트리지를 반송하여, 이 처리액 카트리지부터 피처리체로 처리액을 토출하고 있다. 그로 인해, 토출구와, 저류실 내의 처리액을 압출하는 압출부를 서로 근접시킬 수 있으므로, 긴 관로의 일단부측에 토출구를 배치하여, 이 관로의 타단부측에 배치한 펌프에 의해 처리액을 압출하는 구성에 비해, 처리액이 통류하는 부위를 단축시킬 수 있다. 따라서, 압력 손실에 대해서도 적어지므로, 장치의 복잡화를 억제하면서, 처리액을 빠르게 토출할 수 있다. 또한, 처리액 카트리지의 저류실에 처리액을 보충하는 보충구에 대해, 토출구와는 별도로 형성하고 있는 점에서, 처리액을 저류실에 보충하는 데에 있어서 당해 토출구의 오염을 억제할 수 있다.

도 1은 본 발명의 액 공급 장치를 구비한 레지스트 도포 장치를 도시하는 사시도.
도 2는 상기 액 공급 장치를 도시하는 평면도.
도 3은 상기 액 공급 장치에 설치되는 카트리지를 도시하는 사시도.
도 4는 상기 카트리지를 도시하는 종단면도.
도 5는 상기 카트리지의 작용을 도시하는 종단면도.
도 6은 상기 카트리지의 작용을 도시하는 종단면도.
도 7은 상기 카트리지의 작용을 도시하는 종단면도.
도 8은 상기 카트리지에 레지스트액을 보충하는 보충 기구를 도시하는 종단면도.
도 9는 상기 보충 기구를 도시하는 사시도.
도 10은 상기 보충 기구의 작용을 도시하는 종단면도.
도 11은 상기 카트리지를 파지하는 기구를 도시하는 사시도.
도 12는 상기 파지하는 기구 및 카트리지 내의 레지스트액을 토출하는 기구를 도시하는 측면도.
도 13은 상기 토출하는 기구의 일부를 도시하는 사시도.
도 14는 상기 액 공급 장치에 설치되는 제어부를 도시하는 개략도.
도 15는 상기 액 공급 장치의 작용을 도시하는 측면도.
도 16은 상기 액 공급 장치의 작용을 도시하는 측면도.
도 17은 상기 액 공급 장치의 작용을 도시하는 측면도.
도 18은 상기 액 공급 장치의 작용을 도시하는 측면도.
도 19는 본 발명의 액 공급 장치의 다른 예를 도시하는 종단면도.
도 20은 상기 다른 예의 액 공급 장치를 도시하는 종단면도.
도 21은 상기 다른 예에 있어서의 일부를 확대하여 도시하는 종단면도.
도 22는 본 발명의 액 공급 장치의 다른 예를 도시하는 사시도.
도 23은 상기 다른 예에 있어서의 액 공급 장치의 시퀀스를 나타내는 흐름도.
도 24는 본 발명의 액 공급 장치의 또 다른 예를 도시하는 종단면도.
도 25는 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 26은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 27은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 28은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 29는 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 30은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 31은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 32는 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.
도 33은 본 발명의 실시예에서 얻어진 특성도.

본 발명의 실시 형태에 관한 액 공급 장치에 대해, 당해 액 공급 장치를 적용한 레지스트 도포 장치와 함께 도 1∼도 14를 참조하여 이하에 설명한다. 이 레지스트 도포 장치는, 피처리체를 이루는 기판인 웨이퍼(W)를 적재하여 처리액(레지스트액)의 도포 처리를 행하는 처리부(11)와, 레지스트액이 저류된 처리액 카트리지를 이루는 카트리지(12)가 놓이는 대기부(13)를 구비하고 있다. 이들 처리부(11)와 대기부(13) 사이에는, 후술하는 바와 같이, 수평 방향으로 이동 가능하게 구성된 반송 기구(30)가 설치되어 있고, 이 반송 기구(30)에 의해 대기부(13)로부터 카트리지(12)를 웨이퍼(W)의 바로 위의 위치로 반송하여, 당해 웨이퍼(W)에 레지스트액을 토출하도록 구성되어 있다. 이 예에서는, 처리부(11)는 횡배열로 2개소에 설치되어 있고, 카트리지(12)는 복수, 예를 들어 6개 배치되어 있다.

도 1에 도시한 바와 같이, 각각의 처리부(11)에는, 웨이퍼(W)의 이면측을 흡인 보유 지지하기 위한 스핀 척(14)이 설치되어 있고, 각 스핀 척(14)은 도시하지 않은 회전 기구에 의해 연직축 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 도 1 중 부호 15는 컵체, 16은 웨이퍼(W)를 승강시키기 위한 승강 핀이다. 또한, 도 1 중 부호 10은 각 처리부(11)가 배치된 기부이다.

대기부(13)는 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 개략 상자형을 이루고 있고, 상술한 처리부(11)의 배열에 대해 직교하는 방향으로 6개의 카트리지(12)를 적재하도록 구성되어 있다. 이 대기부(13)에는, 각 카트리지(12)에 대해 레지스트액을 보충하는 기구나, 각각의 카트리지(12)에 저류되어 있는 레지스트액의 종별을 판독하는 부재가 배치되어 있지만, 이들 기구 및 부재에 대해서는 이후에 설명한다. 또한, 상술한 도 1에서는, 반송 기구(30)가 카트리지(12)를 보유 지지하고 있고, 따라서 대기부(13)에는 5개의 카트리지(12)가 적재되어 있다.

계속해서, 대기부(13)에 적재되는 카트리지(12)에 대해 상세하게 설명한다. 이 카트리지(12)는 도 3에 도시한 바와 같이, 개략 박판 형상을 이루고 있고, 평면에서 보았을 때에 상술한 반송 기구(30)의 진퇴 방향을 따라 신장되도록 형성되어 있다. 카트리지(12)의 상면측에는, 반송 기구(30)에 의해 파지되는 판 형상의 피파지부(12a)가 설치되어 있고, 이 피파지부(12a)는 카트리지(12)의 상면에 대해 약간 이격한 위치에서 카트리지(12)에 고정되어 있다. 이 피파지부(12a)에 있어서의 하면[후술하는 아암부(53)에 파지되는 부위]에는, 카트리지(12)의 위치 결정을 위한 도시하지 않은 돌기부가 형성되어 있다.

카트리지(12)의 길이 방향에 있어서의 일단부측의 하면에는, 레지스트액을 토출하기 위한 토출구를 구비한 노즐(21)과, 당해 카트리지(12)의 위치 결정을 행하기 위한 위치 결정 부재(12c)가 설치되어 있다. 즉, 후술하는 도 8에도 도시한 바와 같이, 대기부(13)의 표면에는 돌기 형상의 돌기부(13a)가 배치되어 있고, 위치 결정 부재(12c)의 하면은 당해 돌기부(13a)에 결합되도록 오목해져 있다. 카트리지(12)의 하면측의, 예를 들어 중앙부에는, 도 4에 도시한 바와 같이, 당해 카트리지(12)에 저류되는 레지스트액의 종별을 기록하기 위한 기억부를 이루는 IC 칩(12b)이 부착 설치되어 있고, 이 IC 칩(12b)에는, 이 카트리지(12)가 정규품인지의 여부의 정보도 기억되어 있다.

그리고, 카트리지(12)의 길이 방향에 있어서의 타단부측의 측면에는, 당해 카트리지(12) 내의 레지스트액을 노즐(21)을 향하여 압출하기 위해, 압출부(구동축부)를 이루는 샤프트(22)의 선단부가 카트리지(12)의 길이 방향을 따라 신장되어 있다. 즉, 카트리지(12) 내에는, 도 4에 도시한 바와 같이, 레지스트액을 저류하는 저류실(23)이 형성되어 있고, 저류실(23)과 노즐(21) 사이에는, 이들 저류실(23)과 노즐(21) 내부의 유로를 서로 연통시키기 위한 액 통류로(24)가 형성되어 있다.

저류실(23)의 내벽면 중 샤프트(22)측의 내벽면을 벽면부(25)라고 칭하면, 이 벽면부(25)는 저류실(23)의 천장면, 바닥면 및 다른 측면에 대해 각각 이격하도록 형성되어 있고, 당해 샤프트(22)의 기단부에 접속되어 진퇴 가능하게 구성되어 있다. 벽면부(25)의 이면[샤프트(22)가 접속된 면]과, 샤프트(22)의 삽입구인 개구부(22c)의 주위에 있어서의 저류실(23)의 내벽면 사이에는, 주름 상자 형상의 벨로즈체(26)가 당해 샤프트(22)의 둘레 방향에 걸쳐 기밀하게 배치되어 있다. 바꾸어 말하면, 저류실(23)의 개구부(22c)와 벨로즈체(26)의 개구부가 서로 연결되어 있다. 따라서, 샤프트(22)가 노즐(21)측으로 전진하면, 벨로즈체(26)에 의해 둘러싸이는 영역이 저류실(23) 내에서 팽창(증대)하므로, 당해 저류실(23) 내의 레지스트액이 당해 노즐(21)측으로 압출된다.

또한, 샤프트(22)의 외주면에 있어서의 기단부[벽면부(25)측]에 근접하는 부위에는, 당해 외주면으로부터 돌출 함몰 가능하게 구성된 래치(27)가 규제 기구로서 복수 개소, 예를 들어 2개소에 형성되어 있다. 이 래치(27)는 저류실(23) 내에서는 벨로즈체(26)에 간섭하지 않도록 배치됨과 함께, 샤프트(22)의 퇴출 동작에 수반하여 저류실(23)의 외측에 도달하면, 개구부(22c)의 테두리부에 결합되어 벽면부(25)의 위치를 규제하도록 배치되어 있다.

이 샤프트(22)의 선단부에는, 원판 형상이고 중공의 피결합 부재(22a)가 설치되어 있고, 이 피결합 부재(22a)에 있어서의 샤프트(22)와는 반대측의 측면에는, 후술하는 보충 기구(46)[상세하게는 결합부(46e)]와 결합하기 위한 가늘고 긴 구멍부(22b)가 형성되어 있다. 이 샤프트(22)를 진퇴시키는 구성에 대해서는, 보충 기구(46)의 설명과 더불어 후술한다.

저류실(23)의 하면에는, 당해 저류실(23) 내에 레지스트액을 보충하기 위한 보충구(28)가 형성되어 있고, 이 보충구(28)로부터 신장되는 유로에는 레지스트액의 역류를 방지하기 위한 역류 방지 기구를 이루는 역지 밸브(29)가 배치되어 있다. 즉, 이 역지 밸브(29)는 레지스트액이 보충구(28)측으로부터 저류실(23) 내를 향하도록, 한편 저류실(23) 내로부터 보충구(28)측으로는 레지스트액이 역류하지 않도록 구성되어 있다.

상술한 액 통류로(24)에는, 당해 액 통류로(24)의 개폐를 행하기 위한 역류 방지 기구를 이루는 개폐 밸브(24a)와, 노즐(21)의 선단으로부터 액을 끌어올리기 위한 액 흘림 억제 기구를 이루는 석백 밸브(24b)가 저류실(23)측으로부터 노즐(21)측을 향하여 이 순서로 배치되어 있다. 이들 개폐 밸브(24a) 및 석백 밸브(24b)는 당해 개폐 밸브(24a) 및 석백 밸브(24b)의 이면측의 영역에 대해 기체를 유입하거나, 당해 영역을 배기(흡인)함으로써 구동하는 다이어프램 밸브로서 각각 구성되어 있다. 구체적으로는, 개폐 밸브(24a)의 이면측의 영역에 대해 기체를 공급하면, 당해 개폐 밸브(24a)가 액 통류로(24)를 폐지하고, 한편 개폐 밸브(24a)의 이면측의 영역을 부압으로 설정(흡인)하면 액 통류로(24)를 레지스트액이 통류한다.

또한, 석백 밸브(24b)의 이면측의 영역에 대해 기체를 공급하면, 당해 석백 밸브(24b)가 액 통류로(24)의 내면을 따르도록 위치한다. 한편, 석백 밸브(24b)의 이면측의 영역을 흡인하면, 석백 밸브(24b)가 액 통류로(24)로부터 후퇴하여, 당해 액 통류로(24) 내의 레지스트액을 석백 밸브(24b)측으로 인입한다. 또한, 이들 개폐 밸브(24a) 및 석백 밸브(24b)에 대해 기체의 공급이나 배기를 행하는 기체 통류로에 대해서는, 아암부(53)측에 설치되어 있어, 아암부(53)에의 카트리지(12)의 착탈에 수반하여 접속 및 해제되도록 구성되어 있지만, 여기서는 설명을 간략화하고 있다.

따라서, 이상 설명한 카트리지(12)는 도 5에 도시한 바와 같이, 개폐 밸브(24a)를 개방하여, 샤프트(22)를 노즐(21)측으로 전진시키면, 당해 노즐(21)로부터 레지스트액이 토출된다. 이 레지스트액의 토출량은, 샤프트(22)의 전진량[샤프트(22)의 위치]에 기초하여 설정된다. 즉, 샤프트(22)가 전진하면, 상술한 바와 같이 벨로즈체(26)로 둘러싸이는 영역의 체적이 저류실(23) 내에서 증대하므로, 당해 영역의 증대량과 샤프트(22)의 위치를 미리 실험 등에 의해 파악해 둠으로써, 샤프트(22)의 위치를 통해 레지스트액의 토출량이 설정된다. 그리고, 도 6에 도시한 바와 같이, 레지스트액의 토출 처리가 완료된 후, 석백 밸브(24b)를 액 통류로(24)측으로부터 후퇴시키면, 노즐(21)의 선단측으로부터 액이 끌어올려진다.

한편, 도 7에 도시한 바와 같이, 개폐 밸브(24a)를 폐지하여, 샤프트(22)를 후퇴시키면, 역지 밸브(29)가 개방되어, 대기부(13)에 설치된 처리액 보충로(41) 및 보충구(28)를 통해, 레지스트액이 저류실(23) 내에 보충된다. 또한, 샤프트(22)를 더 후퇴시켜 래치(27)를 카트리지(12)의 외측으로 퇴피시키면, 당해 래치(27)가 샤프트(22)의 개구부(22c)의 테두리부에 결합되어, 저류실(23) 내에 레지스트액이 충전된 상태(가득찬 상태)로 샤프트(22)의 위치가 규제된다. 또한, 도 5∼도 7에서는, 카트리지(12)를 간략화하여 묘화하고 있다.

상술한 대기부(13)는 이상 설명한 카트리지(12)에 레지스트액을 보충함과 함께, IC 칩(12b)에 기억된 정보를 판독하도록, 또한 노즐(21)의 세정을 행하도록 구성되어 있다. 구체적으로는, 대기부(13)의 상면에는, 카트리지(12)의 대기 영역(31)이 횡배열로 6개소 형성되어 있고, 각각의 대기 영역(31)에 있어서의 노즐(21)의 하방측에는, 도 8에 도시한 바와 같이, 오목부(32)가 형성되어 있다. 또한, 도 8에서는, 카트리지(12)에 대해, 간략화함과 함께 일부 절결하여 묘화하고 있다.

즉, 이 오목부(32)는 노즐(21)의 외경 치수보다도 한층 더 커지도록 형성되어 있다. 그리고, 이 오목부(32)의 내벽면에는, 노즐(21)의 선단부에 대해 세정액이나 건조 방지를 위한 기체를 공급하기 위한 공급관(33)의 선단부가 개방되어 있다. 도 8 중 부호 34 및 35는, 각각 밸브 및 유량 조정부이며, 이 예에서는 상기 세정액 및 기체로서 각각 액체상의 시너 및 기체상의 시너가 공급될 수 있도록 각 공급원(36a, 36b)으로부터 신장되는 공급로(37)에 개재 설치되어 있다. 이 오목부(32)의 하면측은, 배액로(38)로서 하방측을 향하여 관 형상으로 신장되어 있다.

오목부(32)의 측방측에는, 카트리지(12)의 위치 결정 부재(12c)와 결합되는 돌기부(13a)가 형성되어 있다. 따라서, 위치 결정 부재(12c)와 돌기부(13a)를 서로 결합시키면, 대기 영역(31)에 있어서의 카트리지(12)가 위치 결정되므로, 샤프트(22)를 전후 이동시켜도, 카트리지(12)가 위치 어긋나지 않는다. 또한, 이 돌기부(13a)는 복수 개소에 형성되어 있지만, 여기서는 기재를 간략화하고 있다.

대기 영역(31)에 있어서의 역지 밸브(29)에 대응하는 부위는, 당해 역지 밸브(29)에 대향하도록 상방측을 향하여 돌출되어 돌출부(40)를 이루고 있다. 이 돌출부(40)의 상면에는, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하기 위한 처리액 보충로(41)의 일단부측이 개방되어 있고, 이 처리액 보충로(41)의 개구단부는, 평면에서 보았을 때에 보충구(28)와 서로 겹치는 위치에 형성되어 있다. 돌출부(40)에는, 처리액 보충로(41)의 개구단부의 주위를 둘러싸도록 O-링 등의 시일 부재(40a)가 매설되어 있고, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충할 때는, 당해 시일 부재(40a)에 의해 처리액 보충로(41)와 카트리지(12)[역지 밸브(29)]가 서로 기밀하게 접속된다. 처리액 보충로(41)의 타단부측은, 대기부(13)의 하방 위치에서, 예를 들어 송액 펌프(42)를 통해 레지스트액이 저류된 저류부(43)에 접속되어 있다. 이 송액 펌프(42)는 카트리지(12)에 레지스트액을 보충할 때는, 당해 송액 펌프(42) 내에 있어서의 레지스트액의 유로에의 간섭을 정지하여, 레지스트액이 당해 유로를 자유롭게 통류하도록, 한편 레지스트액의 보충이 완료되면, 당해 레지스트액의 액면의 높이 위치를 돌출부(40)의 상면에서 유지하도록 구성되어 있다. 즉, 이 송액 펌프(42)는 처리액 보충로(41)의 내부를 통해 카트리지(12) 내로 기포가 가능한 한 들어가지 않도록, 레지스트액의 액면 레벨이 내려가지 않도록 하기 위한 것이다. 또한, 처리액 보충로(41)에 있어서의 레지스트액의 역류(하강)를 방지하는 데 있어서, 이와 같은 송액 펌프(42) 대신에, 역지 밸브를 설치해도 된다.

또한, 대기 영역(31)에는, 카트리지(12)의 IC 칩(12b)에 기억된 정보를, 예를 들어 비접촉으로 판독하기 위한 판독부(44)가 형성되어 있고, 이 판독부(44)에서 판독된 정보는, 예를 들어 대기부(13)의 내부에 배치된 도시하지 않은 신호로를 통해 후술하는 제어부(71)에 전달된다.

대기 영역(31)의 측방측에는, 당해 대기 영역(31)에 적재되는 카트리지(12)의 샤프트(22)에 대향하도록 보충 기구(46)가 배치되어 있고, 이 보충 기구(46)는 당해 샤프트(22)가 신장되는 방향을 따라 배치된 레일(45) 상을 진퇴 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 보충 기구(46)는 레일(45) 상을 주행하는 베이스(46a)와, 이 베이스(46a) 상에서 연직 방향으로 신장되는 지지 기둥(46b)과, 당해 지지 기둥(46b)에 의해 지지되는 회전 기구(46c)를 구비하고 있다. 이 회전 기구(46c)에 있어서의 카트리지(12)측의 측면에는, 샤프트(22)의 길이 방향을 따라 수평하게 신장되는 회전축(구동 기구)(46d)의 기단부가 접속되어 있고, 이 회전축(46d)은 대기 영역(31) 상의 카트리지(12)에 있어서의 샤프트(22)와 동일한 높이 위치에서 수평축 둘레로 회전할 수 있도록 구성되어 있다.

회전축(46d)의 선단부[카트리지(12)측의 단부]에는, 도 9에 도시한 바와 같이, 회전축(46d)의 길이 방향에 대해 직교하는 방향으로 신장하는 막대 형상의 결합부(46e)가 설치되어 있고, 이 결합부(46e)는 당해 결합부(46e)의 길이 방향에 있어서의 중심부가 회전 기구(46c)에 지지되어 있다. 결합부(46e)는 이 결합부(46e)에 대향하는 샤프트(22)의 피결합 부재(22a)에 있어서의 구멍부(22b)보다도 한층 더 작아지도록 형성되어 있다. 따라서, 구멍부(22b) 내에 결합부(46e)가 수납되도록 당해 결합부(46e)[보충 기구(46)]를 샤프트(22)측으로 전진시킨 후, 이 결합부(46e)를 수평축 둘레로, 예를 들어 90°회전시킴으로써, 이들 결합부(46e)와 피결합 부재(22a)가 서로 결합된다. 이렇게 하여 보충 기구(46)를 전후로 이동시킴으로써, 도 10에 도시한 바와 같이, 보충 기구(46)와 함께 샤프트(22)가 전후 이동힌다. 또한, 도 10은, 샤프트(22)를 카트리지(12)로부터 끝까지 당긴 상태를 도시하고 있고, 따라서 카트리지(12) 내에는 레지스트액이 가득차 있다.

이상 설명한 대기부(13)의 근방에는, 용제를 저류하는 도시하지 않은 액 저류부가 형성되어 있고, 이 액 저류부에 저류된 용제가 휘발함으로써, 카트리지(12)가 놓이는 공간에 용제 분위기를 형성하도록 구성되어 있다. 이 용제 분위기에 의해, 대기부(13)에 적재된 카트리지(12)의 노즐(21)[상세하게는 노즐(21)의 선단 내부의 레지스트액]의 건조가 억제된다.

계속해서, 처리부(11)와 대기부(13) 사이에서 카트리지(12)의 전달을 행하는 반송 기구(30)에 대해 설명한다. 기부(10) 상에는, 상술한 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 처리부(11)의 배열을 따라 레일(50)이 형성되어 있고, 이 레일(50)은 상술한 대기부(13) 및 처리부(11)가 배치된 영역에 대해 당해 기부(10)의 단부측에 치우친 위치에서, 각 처리부(11)를 면하는 위치로부터 대기부(13)의 측방측에까지 걸쳐 신장되어 있다. 그리고, 반송 기구(30)는 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 이 레일(50) 상을 주행하도록 구성됨과 함께 상하 방향으로 신장되는 베이스(51)와, 이 베이스(51)의 길이 방향을 따라 형성된 도시하지 않은 가이드부에 끼워 맞춰져 승강하는 빔부(52)를 구비하고 있다. 이 빔부(52)는 레일(50)의 길이 방향에 대해 직교하도록 수평 방향으로 신장되어 있고, 대기부(13)에 있어서의 레일(50)측의 대기 영역(31)으로부터, 처리부(11)에 있어서의 웨이퍼(W)의 중심 위치까지를 걸치도록 형성되어 있다. 이 빔부(52)에 있어서의 대기부(13)측의 측면에는, 당해 빔부(52)의 길이 방향을 따라 이동 가능하게 구성된 아암부(53)가 설치되어 있다.

이 아암부(53)의 선단부에 있어서의 하면측에는, 도 11에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)를 좌우 방향[빔부(52)의 길이 방향을 따라 신장되는 방향] 양측으로부터 파지하는 파지부(54)가 설치되어 있다. 즉, 이 파지부(54)는 모터 등의 파지 기구가 수납된 판 형상체(54a)의 하면측에 설치되어 있고, 상기 파지 기구에 의해, 카트리지(12)의 피파지부(12a)를 하방측으로부터 들어올리는 위치와, 당해 피파지부(12a)로부터 이격하는 위치 사이에서 각각 좌우 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 파지부(54)에 있어서 피파지부(12a)에 접촉하는 부위(수평부의 상면)에는, 당해 피파지부(12a)에 있어서의 도시하지 않은 돌기부와 결합되는 오목부가 형성되어 있다. 따라서, 파지부(54)에 카트리지(12)가 파지되면, 당해 카트리지(12)는 아암부(53)에 대한 위치가 고정된다. 또한, 상기 판 형상체(54a)에 수납되는 상술한 파지 기구에 대해서는, 기재를 생략하고 있다.

이 파지부(54)에 대해 빔부(52)측으로 이격한 위치에 있어서의 아암부(53)의 하면측에는, 당해 파지부(54)에 보유 지지된 카트리지(12)의 샤프트(22)를 노즐(21)측으로 전진시키는 작동 기구(55)가 배치되어 있다. 구체적으로는, 작동 기구(55)는 도 12에 도시한 바와 같이, 상술한 보충 기구(46)를 상하 반전시킨 구성으로 되어 있고, 샤프트(22)의 길이 방향을 따라 아암부(53)의 하면에 형성된 레일(56)을 주행 가능하게 구성되어 있다. 이 작동 기구(55)는 베이스(55a), 지지 기둥(55b), 회전 기구(55c), 회전축(구동 기구)(55d) 및 결합부(55e)를 구비하고 있다. 회전 기구(55c)는 회전축(55d)을 샤프트(22)의 길이 방향을 따라 수평축 둘레로 회전 가능하게 지지하고 있다. 회전축(55d)은 아암부(53)에 의해 지지되는 카트리지(12)의 샤프트(22)와 동일한 높이 위치로 되도록 배치되어 있다. 따라서, 대기부(13)의 보충 기구(46)와 마찬가지로, 결합부(55e)를 구멍부(22b) 내에 삽입하여, 이 결합부(55e)를 수평축 둘레로, 예를 들어 90°회전시킴으로써, 샤프트(22)를 보유 지지하여 전후 이동시키도록 구성되어 있다.

그리고, 작동 기구(55)와 파지부(54) 사이에는, 샤프트(22)의 래치(27)를 해제하기 위한 해제 기구(58)가 설치되어 있다. 이 해제 기구(58)는 도 13에 도시한 바와 같이, 작동 기구(55)와 마찬가지로 레일(56)을 따라 이동하는 받침대(58a)와, 이 받침대(58a)의 하면측으로부터 샤프트(22)의 양측 위치를 사이에 두도록 하방측으로 각각 신장되는 진퇴부(58b, 58b)를 구비하고 있다. 이들 진퇴부(58b, 58b)는, 받침대(58a)측에 설치된 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 좌우 방향[샤프트(22)의 길이 방향에 대해 직교하는 방향]으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 따라서, 파지부(54)에 의해 카트리지(12)를 보유 지지함과 함께, 카트리지(12)의 샤프트(22)를 작동 기구(55)에 의해 지지한 후, 진퇴부(58b, 58b)를 샤프트(22)측으로 이동시켜 래치(27)에 의한 로크를 해제하면, 샤프트(22)가 노즐(21)측으로 이동 가능하게 된다. 또한, 진퇴부(58b, 58b)는, 래치(27)의 로크를 해제한 후에는 작동 기구(55)의 전진 동작에 간섭하지 않도록, 샤프트(22)측으로부터 이격한 위치까지 이동시킴으로써, 카트리지(12)를 좌우 방향으로부터 사이에 두도록 노즐(21)측으로 퇴피할 수 있도록 구성되어 있다.

파지부(54)에 대해, 예를 들어 빔부(52)의 길이 방향으로 이격한 위치에 있어서의 아암부(53)의 하면측에는, 상술한 도 1에 도시한 바와 같이, 후술하는 프리웨트 처리를 행하기 위해, 웨이퍼(W)에 대해 시너 등의 용제를 토출하기 위한 용제 노즐(61)이 설치되어 있다. 이 용제 노즐(61)에는, 상술한 도 1에 도시한 바와 같이, 예를 들어 플렉시블 형상(주름 상자 형상)의 액 공급로(62)를 통해, 용제가 저류된 저류부(63)가 설치되어 있다.

이상 설명한 액 공급 장치에는, 도 14에 도시한 바와 같이, 장치 전체에 대해 제어 신호를 출력하는 제어부(71)가 설치되어 있고, 이 제어부(71)는 CPU(72), 프로그램 저장부(73), 입력부(74), 메모리(75) 및 표시부(76)를 구비하고 있다. 프로그램 저장부(73)에는, 레지스트액을 웨이퍼(W)에 토출하는 토출 프로그램(73a)과, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 액 보충 프로그램(73b)과, 카트리지(12)를 선택하는 카트리지 선택 프로그램(73c)과, 진위 판정 프로그램(73d)이 저장되어 있다.

입력부(74)는, 예를 들어 장치의 구동 시 등에 있어서, 카트리지(12)의 사용을 개시할 때, 당해 카트리지(12)에 저류되어 있는 레지스트액의 종별을 작업자가 입력하기 위한 것이고, 구체적으로는 퍼스널 컴퓨터의 키보드나 마우스 등이다. 메모리(75)는 대기부(13)에 적재되는 각각의 카트리지(12)의 번호[IC 칩(12b)의 식별 번호]와, 입력부(74)에 입력된 레지스트액의 종별을 대응지어 기억하기 위한 것이고, 각각의 카트리지(12)의 잔액량에 대해서도 레지스트액의 종별과 함께 기억되도록 구성되어 있다.

즉, 6개의 카트리지(12) 중 하나의 카트리지(12)를 레지스트액의 토출 처리에 사용하면, 레지스트액의 사용량[샤프트(22)의 이동량에 대응하는 양]을 알 수 있으므로, 이 메모리(75)에는, 당해 하나의 카트리지(12)의 사용을 개시하였을 때의 액량으로부터 사용량을 차감한 잔액량이 기억되도록 구성되어 있다. 그리고, 이하에 설명하는 액 보충 프로그램(73b)에 의해 카트리지(12)에 레지스트액이 보충되면, 레지스트액의 사용량이, 예를 들어 리셋되어, 잔액량이 가득찬 상태로 된다.

도 14에서는, 6개의 카트리지(12) 중, No.1∼No.3까지의 카트리지(12)에는 「레지스트 1」이 저류되고, No.4, No.5의 카트리지(12)에는, 당해 레지스트 1과는 종별이 다른 「레지스트 2」가 저류되어 있는 것으로 한다. 또한, No.6의 카트리지(12)에는, 이들 레지스트 1, 2와는 종별이 다른 「레지스트 3」이 저류되어 있다. 그리고, 이들 레지스트 1∼3은 레지스트 3＜레지스트 2＜레지스트 1의 순서로 점도가 높아지고 있다(레지스트 1이 가장 점도가 높다).

또한, No.1, No.6의 카트리지(12)는 레지스트액의 보충이 완료되어 사용량이 제로의 상태로 되어 있고, NO.2의 카트리지(12)에 대해서는 이 시점에서 웨이퍼(W)에의 레지스트액의 토출 처리에 사용하고 있는[대기부(13)에는 적재되어 있지 않고, 따라서 IC 칩(12b)의 판독을 할 수 없는 상태로 되어 있음] 것으로 한다. No.3, No.4의 카트리지(12)에 대해서는, 이미 레지스트액의 잔량이 적어지고 있어, 대기부(13)에 있어서 레지스트액의 보충 공정이 행해지고 있다. No.5의 카트리지(12)에 대해서는, 당해 카트리지(12)의 사용 전과 비교하여 잔액량이 감소되어 있고, 예를 들어 100㎖의 레지스트액이 남아있는 것으로 한다.

상술한 토출 프로그램(73a)은 웨이퍼(W)에 형성하는 레지스트막의 종별 및 막 두께에 따라, 사용하는 레지스트액의 종별, 레지스트액의 토출량, 웨이퍼(W)의 회전수 및 웨이퍼(W)의 회전을 유지하는 처리 시간 등의 레시피에 기초하여, 웨이퍼(W)의 반송이나 레지스트액의 토출 작업을 행하기 위한 것이다. 액 보충 프로그램(73b)은 카트리지(12)의 사용 개시 시부터의 잔액량을 모니터(계산)하여, 예를 들어 임의의 잔액량을 하회하였을 때에, 당해 잔액량을 임계값으로 하여 대기부(13)에서의 보충 공정을 행하도록 구성되어 있다. 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하고 있을 때에는, 이 보충에 필요로 하는 시간을 미리, 예를 들어 실험 등에 의해 알 수 있으므로, 레지스트액의 보충이 끝날 때까지, 당해 카트리지(12)는 사용 불가능한 상태로 되고, 예를 들어 상술한 메모리(75)에는 「보충 중」인 정보가 기억된다.

카트리지 선택 프로그램(73c)은 레지스트액의 토출 처리에 사용하는 카트리지(12)[아암부(53)가 보유 지지하여 반송하고자 하는 카트리지(12)]를 선택하기 위한 것이다. 즉, 이미 상세하게 설명한 바와 같이, 카트리지(12)는 레지스트액이 보충되고 있을 때는 사용 불가능한 상태로 되어 있으므로, 당해 카트리지(12)를 후속의 처리에 사용하는 경우에는, 레지스트액의 보충이 완료될 때까지 아암부(53)가 대기하게 된다. 아암부(53)를 대기시키면, 장치의 스루풋 저하로 이어져 버린다. 그리고, 레지스트액의 점도가 높을수록, 저항이 커짐과 함께 발포되기 쉬워지고, 따라서 당해 레지스트액을 송액하기 어려워지므로, 보충이 완료될 때까지의 대기 시간도 길어진다.

따라서, 본 발명에서는, 6개의 카트리지(12) 중, 3개의 카트리지(12)를 점도가 가장 높은 레지스트 1에 할당하고, 다음으로 점도가 높은 레지스트 2에 2개의 카트리지(12)를 할당하고 있다. 그리고, 레지스트 1(2)의 토출을 행할 때에, 당해 레지스트 1(2)용의 카트리지(12)가 보충 중인 경우에는, 당해 보충 중인 카트리지(12)를 피하여, 별도로 사용 가능한[레지스트 1(2)가 남아있는] 카트리지(12)를 선택하도록 하고 있다.

구체적으로는, 상술한 도 14에 도시한 바와 같이, 레지스트 2를 사용하고자 하는 경우에는, 레지스트 2용의 카트리지(12) 중 No.4의 카트리지(12)는 충전 중(사용 불가능)으로 되어 있고, 한편 No.5의 카트리지(12)에는 레지스트 2가 아직 남아있다. 따라서, 카트리지 선택 프로그램(73c)은 사용 불가능한 카트리지(12)를 피하여, 당해 사용 불가능한 카트리지(12)와 동일한 종별의 레지스트액이 충전된 카트리지(12)를 사용하도록, 반송 기구(30)에 대해 지시를 행한다.

진위 판정 프로그램(73d)은 대기부(13)에 적재된 카트리지(12)가 정규품인지, 또는 개조품이나 모조품인지의 여부를 판정하기 위한 것이다. 즉, IC 칩(12b)이 설치되어 있지 않은 카트리지(12)를 대기부(13)에 두면, 당해 카트리지(12)로부터는 레지스트액의 종별을 판독할 수 없으므로, 이 카트리지(12)가 놓인 대기 영역(31)에서는 카트리지(12)가 적재되어 있지 않은 것으로 취급된다.

한편, 모조품의 IC 칩(12b)이 카트리지(12)에 설치되어 있었던 경우에는, 이 IC 칩(12b)에는 카트리지(12)가 정규품인 취지의 정보가 기억되어 있지 않다. 이와 같은 카트리지(12)가 대기 영역(31)에 적재된 경우에는, 진위 판정 프로그램(73d)은, 예를 들어 개조품 또는 모조품의 카트리지(12)의 사용을 중지하는 취지의 경고를 상술한 표시부(76)에 표시하여, 당해 경고가 표시되지 않게 될 때까지 장치가 정지하도록 제어 신호를 출력한다. 이상 설명한 각 프로그램(73a∼73d)은 후술하는 장치의 동작을 실행하도록 스텝 군이 짜여져 있고, 하드 디스크, 콤팩트 디스크, 광자기 디스크, 메모리 카드, 플렉시블 디스크 등의 기억 매체인 기억부(77)로부터 제어부(71) 내에 인스톨된다.

계속해서, 액 공급 장치의 작용에 대해 설명한다. 우선, 예를 들어 장치를 구동할 때에는, 레지스트액이 각각 충전된 카트리지(12)를 대기부(13)에, 예를 들어 작업자가 적재함과 함께, 각 대기부(13)의 저류부(43)에 대해서도 대응하는 레지스트액을 저류한다. 각각의 카트리지(12)는 샤프트(22)가 노즐(21)측으로부터 이격된 위치에서 래치(27)에 의해 이동이 규제되어 있다. 대기부(13)에서는, 각 보충 기구(46)는 각각의 카트리지(12)로부터 이격된 위치에서 대기하고 있다. 또한, 대기부(13)에서는, 레지스트액의 보충을 행할 때, 카트리지(12) 내에 공기가 혼입되는 것을 억제하기 위해, 레지스트액의 액면이 돌출부(40)에 도달하고 있도록, 송액 펌프(42)를 미리 구동해 둔다. 그리고, 입력부(74)를 통해, 각 카트리지(12) 내의 레지스트액의 종별을 작업자가 입력한다. 메모리(75)에는, 각각의 카트리지(12)의 IC 칩(12b)의 식별 번호와, 레지스트액의 종별이 대응지어져 기억됨과 함께, 어느 카트리지(12)에 대해서도 레지스트액이 가득차 있는 취지가 기억된다.

계속해서, 도시하지 않은 반송 아암에 의해, 스핀 척(14) 상에 웨이퍼(W)를 보유 지지한다. 그리고, 반송 기구(30)는 이 웨이퍼(W)에 형성하는 레지스트막의 종별에 따라, 바꾸어 말하면 레시피에 따라, 사용하는 레지스트액이 저류된 카트리지(12)를 향하여 이동한다. 이 반송 기구(30)는 도 15에 도시한 바와 같이, 작동 기구(55)가 상기 카트리지(12)의 샤프트(22)에 간섭하지 않도록, 당해 샤프트(22)에 대해 전방측의 위치에서 아암부(53)를 정지시킨다. 그리고, 아암부(53)는 도 16에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)를 파지할 수 있는 높이 위치까지 하강한 후, 당해 파지부(54)가 카트리지(12)의 피파지부(12a)에 대향하는 위치까지 전진하여, 파지부(54)에 의해 카트리지(12)를 파지함과 함께, 작동 기구(55)를 전진시켜, 샤프트(22)를 고정한다.

따라서, 그 후 아암부(53)가 상승하면, 도 17에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)가 대기부(13)로부터 들어올려진다. 그리고, 반송 기구(30)는 웨이퍼(W)가 보유 지지된 상술한 처리부(11)에 이 카트리지(12)를 반송하여, 용제 노즐(61)이 당해 웨이퍼(W)의 중심부에 대향하도록 위치 결정한다. 계속해서, 웨이퍼(W)를 연직축 둘레로 회전시키면서, 용제를 웨이퍼(W) 상에 공급하여, 웨이퍼(W)의 표면을 용제로 피복하는, 소위 프리웨트 처리를 행한다.

계속해서, 도 18에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)의 노즐(21)이 웨이퍼(W)의 중심부에 대향하도록 아암부(53)를 이동시킴과 함께, 래치(27)의 로크를 해제한 후, 작동 기구(55)에 의해 샤프트(22)를 전진시켜, 당해 웨이퍼(W)의 표면에 레지스트액을 토출한다. 웨이퍼(W)의 표면에서는, 프리웨트 처리의 용제가 이미 도포되어 있으므로, 레지스트액과 이 용제가 서로 혼합되어, 레지스트액이 당해 웨이퍼(W)의 표면에 균일하게 도포된다. 필요량의 레지스트액이 웨이퍼(W)에 토출되면, 작동 기구(55)가 정지하여 벽면부(25)의 위치가 규제됨과 함께, 석백 밸브(24b)에 의해 레지스트액이 노즐(21)의 토출구로부터 끌어올려지므로, 여분의 레지스트액은 토출되지 않는다.

이렇게 하여 레지스트막이 도포된 웨이퍼(W)는, 도시하지 않은 반송 아암에 의해 처리부(11)로부터 반출되어 간다. 계속해서, 별도의 미처리의 웨이퍼(W)가 이 처리부(11)에 반송되어, 이 미처리의 웨이퍼(W)의 레시피와 선행의 웨이퍼(W)의 레시피가 동일한 경우(동일한 종별의 레지스트액이 도포되는 경우)에는, 아암부(53)가 이미 보유 지지하고 있는 카트리지(12)를 사용하여, 상술한 바와 같이 레지스트액이 도포된다.

여기서, 레지스트액의 종별을 전환하는 경우에는, 이하와 같이 하여 카트리지(12)의 교환이 행해진다. 즉, 개폐 밸브(24a)를 폐쇄한 후, 아암부(53)는 당해 아암부(53)가 보유 지지하고 있는 카트리지(12)에 대해서는, 이 카트리지(12)의 취출 순서와 반대의 순서로, 원래의 대기 영역(31)으로 복귀시킨다. 구체적으로는, 카트리지(12)가 대기 영역(31)의 상방측에 위치하도록 반송 기구(30)를 이동시켜, 카트리지(12)의 하면을 대기 영역(31)에 접촉시킨 후, 작동 기구(55)에 의한 샤프트(22)의 지지 및 파지부(54)에 의한 카트리지(12)의 파지를 해제한다.

계속해서, 작동 기구(55)와 샤프트(22)가 간섭하지 않는 위치까지 아암부(53)를 후퇴시킨 후, 아암부(53)를 상승시키면, 카트리지(12)는 대기 영역(31)에 놓인 상태로 된다. 대기 영역(31)으로 복귀된 카트리지(12)에서는, 벽면부(25)가 노즐(21)측에 위치하고 있고, 따라서 벨로즈체(26)의 복원력에 의해 샤프트(22)측으로 복귀되려고 한다. 즉, 역지 밸브(29)를 통해 대기를 카트리지(12) 내에 인입하려고 한다. 그러나, 역지 밸브(29)의 하방측에는 돌출부(40)가 기밀하게 접촉하고 있어, 대기는 거의 또는 완전히 카트리지(12) 내에 인입되지 않는다.

그리고, 후속으로 사용하는 카트리지(12)의 상방측에 아암부(53)를 이동시켜, 선행의 카트리지(12)와 마찬가지로 대기 영역(31)으로부터 들어올려, 이상 설명한 처리와 마찬가지로 레지스트액의 도포 처리를 행한다. 이와 같이 후속으로 사용하는 카트리지(12)를 선택하는 데 있어서, 상술한 바와 같이, 당해 후속으로 사용하는 카트리지(12)가 레지스트액의 보충을 행하고 있어 사용할 수 없는 경우에는, 아암부(53)는 이하와 같이 동작한다.

구체적으로는, 후속으로 사용하는 레지스트액과 동일한 종별의 레지스트액이 저류된 별도의 카트리지(12)가 대기부(13)에 적재되어 있는 경우(후속으로 사용하는 레지스트액이 레지스트 1 또는 레지스트 2인 경우)에는, 사용 불가능한 카트리지(12)가 아니고, 사용 가능한 카트리지(12)를 아암부(53)가 취출한다. 한편, 상기 사용하는 카트리지(12)가 레지스트액의 보충 중이며, 동일한 종별의 카트리지(12)가 대기부(13)에 적재되어 있지 않은(레지스트 3을 사용하는) 경우에는, 아암부(53)는 당해 레지스트 3의 보충이 완료될 때까지, 예를 들어 대기 영역(31)의 상방 위치에서 대기한다.

여기서, 사용이 완료된 카트리지(12)가 복귀된 대기부(13)에서는, 노즐(21)에 대해 액체상의 시너가 공급되어, 당해 노즐(21)의 세정이 행해진다. 또한, 상술한 용제 분위기에 의해, 대기부(13)에 적재된 카트리지(12)에 있어서의 노즐(21) 내의 건조가 억제된다. 그리고, 대기부(13)에서는, 이미 상세하게 설명한 바와 같이, 당해 IC 칩(12b)의 식별 번호로부터 잔액량을 계산하여, 이 잔액량이, 예를 들어 임의의 임계값 이하로 되어 있는 경우에는, 레지스트액의 보충을 행한다. 즉, 보충 기구(46)를 카트리지(12)측으로 전진시켜, 상술한 도 10에 도시한 바와 같이, 샤프트(22)를 보유 지지한다.

그리고, 이 샤프트(22)를 후퇴시키면, 카트리지(12)의 역지 밸브(29)와 처리액 보충로(41)가 시일 부재(40a)에 의해 기밀하게 접속되어 있으므로, 또한 개폐 밸브(24a)가 폐쇄되어 있으므로, 도 10에 도시한 바와 같이, 처리액 보충로(41)로부터 레지스트액이 끌어올려져, 저류실(23) 내가 레지스트액으로 가득 채워져 간다. 이렇게 하여 카트리지(12)에 있어서의 개구부(22c)의 테두리부에 래치(27)가 결합될 때까지 당해 샤프트(22)를 후퇴시키면, 카트리지(12)에의 레지스트액의 충전이 완료된다. 레지스트액의 충전이 완료되면, 보충 기구(46)는 아암부(53)에 의한 카트리지(12)의 취출 동작에 간섭하지 않는 위치까지 퇴피(후퇴)한다.

이상과 같이 하여 사용하는 레지스트액을 다양하게 교환하면서, 또한 카트리지(12) 내의 레지스트액의 보충을 행하면서, 복수의 웨이퍼(W)의 각각의 레시피에 따라 레지스트막의 도포 처리를 행한다. 또한, 아암부(53)가, 예를 들어 레지스트 1 또는 레지스트 2의 카트리지(12)를 보유 지지하고 있어, 그대로 당해 레지스트 1 또는 레지스트 2의 도포 처리를 계속하는 경우에, 카트리지(12)의 잔액량이 부족해졌을 때에는, 이상 설명한 동작과 마찬가지로 카트리지(12)가 교환된다. 구체적으로는, 아암부(53)는 사용이 완료된 카트리지(12)를 원래의 대기 영역(31)으로 복귀시킨 후, 동일한 종별의 카트리지(12)를 취출하여, 후속의 웨이퍼(W)에 대해 처리를 행한다. 그리고, 빈 카트리지(12)는 상술한 바와 같이 레지스트액이 보충된다.

상술한 실시 형태에서는, 레지스트액이 저류된 저류실(23)과 당해 레지스트액을 토출하는 노즐(21)을 카트리지(12)로서 일체화함과 함께, 대기부(13)로부터 카트리지(12)를 웨이퍼(W)의 바로 위의 위치로 반송하여, 이 카트리지(12)로부터 레지스트액을 직접 토출하고 있다. 그리고, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 보충구(28)에 대해, 레지스트액을 토출하는 노즐(21)과는 별도로 설치하고 있다. 그로 인해, 레지스트액을 카트리지(12)에 보충할 때, 노즐(21)의 오염을 억제할 수 있다. 즉, 고점도의 처리액은, 노즐(21)의 외표면에 부착되면, 예를 들어 시너 등의 용제를 당해 노즐(21)에 토출한 것만으로는 제거하기 어렵다. 그로 인해, 고점도의 처리액을 노즐(21)로부터 보충하면, 바꾸어 말하면 레지스트액의 토출구와 보충구를 공통화하면, 보충 공정을 종료한 후, 예를 들어 작업자에 의한 제거 작업 등이 필요해지기 때문에, 공정수 상승이나 스루풋의 저하로 이어져 버린다. 이에 대해 본 발명에서는, 레지스트액의 토출구[노즐(21)]와는 별도로 보충구(28)를 형성하고 있으므로, 노즐(21)의 오염을 억제할 수 있고, 따라서 스루풋의 저하를 억제할 수 있다.

또한, 처리액(레지스트액)을 압출하는 작동 기구(55)에 대해, 노즐(21)로부터 신장되는 긴 관로의 말단에 설치하는 대신에, 노즐(21)에 근접시켜, 노즐(21)을 보유 지지하는 아암부(53)에 일체적으로 설치하고 있다. 그로 인해, 본 발명에서는 배관리스로 레지스트액을 토출할 수 있으므로, 그만큼 토출 능력이 높지 않은 구성[작동 기구(55)]이어도, 높은 토출 레이트를 확보할 수 있다. 구체적인 수치를 들면, 레지스트액의 점도가 10000cP, 약액의 토출 속도가 2㎖/s, 노즐(21)의 내경 치수 및 길이 치수가 각각 φ4.5㎜ 및 50㎜인 경우에는, 노즐(21)로부터 레지스트액을 토출하는 데에 있어서 압력 손실은 0.1㎫로 되어, 긴 배관을 설치한 경우보다도 극히 작아진다. 따라서, 직경 치수가 400㎜나 되는 크기의 웨이퍼(W)이어도, 또는 1000cP를 초과하는 고점도(1000cP∼4000cP)의 레지스트액(처리액)이어도, 장치의 복잡화를 억제하면서, 레지스트액을 빠르게 토출할 수 있다.

또한, 복수의 레지스트액의 종별마다 배관이나 펌프를 설치한 종래의 구성에 비해, 펌프를 집약하여 이들 레지스트액으로 공통화하고 있으므로, 장치의 저렴화를 도모할 수 있다. 또한, 배관리스의 구성을 취함으로써, 장치의 각 부재의 레이아웃의 자유도를 높일 수 있고, 또한 레지스트액이 배관으로부터 누설되는 것을 억제할 수 있다.

그리고, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 구성에 대해, 레지스트액을 토출하는 부재[작동 기구(55)]와는 별도로 보충 기구(46)로서 설치하고 있다. 또한, 고점도의 레지스트액(레지스트 1, 2)에 대해서는 카트리지(12)를 복수 배치하고 있다. 그로 인해, 레지스트액을 보충하고 있는 동안에도, 레지스트액의 토출 처리를 행할 수 있으므로, 레지스트액의 보충이 완료될 때까지 처리를 중단하지 않아도 된다. 또한, 레지스트액이 발포될 우려가 없는 레벨까지, 당해 레지스트액의 보충 속도를 느리게 설정할 수 있다. 따라서, 레지스트액의 토출과 보충을 1개의 펌프로 행하는 경우에 비해, 기포 배출 공정을 삭감(또는, 저감)시킬 수 있으므로, 스루풋을 더욱 개선할 수 있고, 또한 기포 배출 공정에 수반되는 레지스트액의 폐기량을 삭감할 수 있다.

또한, 레지스트액의 관로를 길게 배치하는 경우에 비해, 작동 기구(55)와 노즐(21) 사이에 있어서 레지스트액이 접촉하는 부위[카트리지(12) 내부의 유로]를 석영 등의 발진하기 어려운 청정 부재에 의해 구성하여, 파티클의 영향 등을 극히 저감시킨 배관을 형성할 수 있다. 즉, 상기 청정 부재는 고가이기 때문에, 긴 관로에는 적용하기 어렵지만, 상술한 바와 같이 배관리스의 구성이라면, 현실적인 비용으로 청정 부재를 사용할 수 있다.

또한, 레지스트액이 접촉하는 부위가 적어도 되는 점에서, 당해 부위의 세정성을 높일 수 있다. 따라서, 폴리이미드 등의 고화되기 쉬운 처리액을 사용하는 경우나, 카트리지(12)를 장기간에 걸쳐 사용하지 않는 경우이어도, 청소를 간단하게 행할 수 있다. 그로 인해, 장치의 재구동도 용이하게 행할 수 있다. 또한, 레지스트액이 접촉하고 있는 부위가 작게 억제되어 있는 점에서, 저비용으로 당해 부위 전체를 교환할 수 있다.

그리고, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 도시하지 않은 보충 지그[처리액 보충로(41) 및 보충 기구(46)를 구비한 지그]를 사용하는 경우에는, 장치의 자유도를 높일 수 있다. 즉, 이 보충 지그를 사용하여 카트리지(12)에 평가(테스트)용의 레지스트액을 충전함으로써, 대기부(13)측에는 당해 평가용의 레지스트액을 통류시킬 필요가 없기 때문에, 이 평가용의 레지스트액의 평가를 간편하게 행할 수 있다.

계속해서, 본 발명의 다른 예에 대해 설명한다. 도 19는, 아암부(53)에 있어서 샤프트(22)를 전진시키는 구성으로서, 기계적으로 구동하는 상술한 작동 기구(55) 대신에, 기체를 사용하여 당해 샤프트(22)를 구동하는 기구가 설치되어 있다. 구체적으로는, 도 19에 도시한 바와 같이, 이 예에서는 카트리지(12)에는 샤프트(22)가 설치되어 있지 않고, 벽면부(25)의 배면측에는 저류실(23)에 대해 기밀하게 구획된 넓은 공간(25a)이 확장되어 있다. 그리고, 아암부(53)의 하면측에는, 이 공간(25a)에 대해 기체(예를 들어, 질소 가스나 대기)를 유입시키거나 배기시키기 위한 하우징(81)이 설치되어 있고, 이 하우징(81)의 내부는 중공으로 되어 있다.

이 하우징(81)에 있어서의 카트리지(12)측의 측면부와 하면부에는, 당해 하우징(81)의 내부에 연통하는 개구부(83)가 각각 형성되어 있다. 그리고, 카트리지(12)측의 개구부(83)의 주위에는, O-링 등의 시일 부재(84)가 설치되어 있어, 카트리지(12)의 외벽면과 하우징(81)의 외벽면을 기밀하게 접속하도록 구성되어 있다.

하우징(81)에 있어서의 카트리지(12)에 대향하는 벽면에는, 상기 기체를 공급하기 위한 가스 공급 기구를 이루는 공급관(85)의 일단부측이 접속되어 있고, 이 공급관(85)의 타단부측은 밸브(85a) 및 유량 조정부(85b)를 통해 기체의 저류원(85c)에 접속되어 있다. 또한, 하우징(81)의 하면측의 개구부(83)에는, 진공 펌프 등의 배기 기구(86)를 향하여 신장되는 배기로(86a)의 일단부측이 접속되어 있고, 이 배기로(86a)에는 버터플라이 밸브 등의 압력 조정부(86b)가 개재 설치되어 있다. 따라서, 공급관(85)으로부터 기체를 공간(25a)으로 공급하면 벽면부(25)가 전진하고, 한편 당해 공간(25a)을 배기하면, 벽면부(25)가 후퇴한다. 이렇게 하여 공간(25a)에의 기체의 공급과 배기의 밸런스에 의해, 노즐(21)로부터 레지스트액을 토출한 후, 벽면부(25)의 전후 이동을 정지할 수 있도록 구성되어 있다.

대기부(13)측에 대해서도, 마찬가지로 기체를 사용하여 벽면부(25)를 후퇴시키도록 구성되어 있고, 구체적으로는 도 20에 도시한 바와 같이, 보충 기구(46) 대신에, 카트리지(12)측의 측면이 개방되는 개략 상자형의 하우징(91)이 설치되어 있다. 이 하우징(91)의 개구부 주위에는, O-링 등의 시일 부재(92)가 설치되어 있어, 카트리지(12)와 하우징(91)을 기밀하게 접속하도록 구성되어 있다.

하우징(91)의 외벽면에 있어서의 카트리지(12)와는 반대측의 측면에는, 당해 하우징(91)의 내부를 배기하기 위한 흡인 기구를 이루는 배기로(93)의 일단부측이 접속되어 있고, 이 배기로(93)의 타단부측에는, 압력 조정부(94)를 통해 배기 기구(95)가 접속되어 있다. 이 배기 기구(95)를 사용하여 하우징(91)의 내부를 배기함으로써, 마찬가지로 공간(25a)을 통해 벽면부(25)를 후퇴시키도록 구성되어 있다. 또한, 이 하우징(91)에는, 당해 하우징(91)을 카트리지(12)측으로부터 이격시키기 위한 스프링 등을 포함하는 도시하지 않은 가압 기구가 설치되어 있고, 배기 기구(95)에 의한 배기를 해제하면, 하우징(91)은 당해 가압 기구의 가압력에 의해 카트리지(12)측으로부터 이격된다. 한편, 배기 기구(95)에 의한 배기를 개시하면, 하우징(91)의 내부에 외기가 인입되도록 기류가 형성됨과 함께, 이 기류에 의해 당해 하우징(91)과 카트리지(12) 사이에 부압이 발생하고, 하우징(91)은 이 부압에 의해 카트리지(12)측으로 이동하여 당해 카트리지(12)에 기밀하게 접촉한다.

또한, 도 19 및 도 20에서는 설명의 번잡화를 피하기 위해 생략하고 있지만, 카트리지(12)에는 벽면부(25)의 이동을 규제하기 위한 로크 기구(100)가 설치되어 있고, 하우징(81, 91)에는, 당해 로크 기구(100)에 의한 로크를 해제하기 위한 해제 기구(101)가 각각 설치되어 있다. 구체적으로는, 도 21에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)의 개구부(22c)에는, 당해 카트리지(12)의 길이 방향을 따라 신장되는 통 형상체(103)가 기밀하게 삽입되어 있다. 이 통 형상체(103)의 길이 방향에 있어서의 양단부 중 벽면부(25)에 대향하는 일단부측의 단부는, 개구부(22c)의 테두리부를 따라 형성되어 있어, 당해 개구부(22c)와 동일 정도의 개구 직경으로 개방되어 있다. 한편, 통 형상체(103)의 길이 방향에 있어서의 카트리지(12)의 외측 영역을 면하는 타단부측의 단부는, 개구부(22c)보다도 작은 개구 직경으로 개방되어 있다.

이 통 형상체(103)의 내부에는, 당해 통 형상체(103)의 길이 방향을 따라 진퇴 가능하게 구성된 벨로즈체(104)가 수납되어 있고, 이 벨로즈체(104)는 당해 길이 방향을 따라 신장되도록 가압되어 있다. 또한, 벨로즈체(104)에 있어서의 벽면부(25)측의 단부는, 통 형상체(103)의 내주면에 둘레 방향에 걸쳐 기밀하게 고정되어 있다. 한편, 벨로즈체(104)에 있어서의 벽면부(25)와는 반대측의 단부에는, 벨로즈체(104)의 신축에 수반하여 진퇴 가능한 원판 형상의 밀봉 부재(105)가 접속되어 있다. 이 밀봉 부재(105)는 통 형상체(103)에 있어서의 상기 타단부측의 단부[카트리지(12)의 외측을 면하는 단부]에 기밀하게 접촉하는 위치와, 당해 접촉하는 위치로부터 벽면부(25)측으로 이격된 위치 사이에서 진퇴하도록 구성되어 있다. 따라서, 벨로즈체(104)나 밀봉 부재(105)에 외력을 가하고 있지 않은 상태에서는, 밀봉 부재(105)와 통 형상체(103)가 기밀하게 접촉하므로, 공간(25a)이 외부로부터 격리되고, 벽면부(25)의 이동이 규제된다. 한편, 밀봉 부재(105)를 노즐(21)측으로 이격시키면, 공간(25a)과 카트리지(12)의 외부가 연통하여, 당해 공간(25a)에 대해 기체를 공급하거나 배기하는 것이 가능하게 된다.

그리고, 하우징[81(91)]의 시일 부재[84(92)]는 도 21에 도시한 바와 같이, 카트리지(12)에 대해 벨로즈체(111)에 의해 진퇴 가능하게 기밀하게 접속되어 있다. 즉, 하우징[81(91)]에 있어서의 카트리지(12)측의 측면에는, 벨로즈체(111)의 일단부측이 기밀하게 고정되어 있고, 이 벨로즈체(111)의 타단부측은, 시일 부재[84(92)]가 매설된 링 형상 부재(110)에 기밀하게 접속되어 있다. 벨로즈체(111)에 의해 둘러싸이는 영역에는, 하우징[81(91)]으로부터 카트리지(12)측을 향하여 수평하게 신장되는 막대 형상의 돌출축(112)의 기단부가 당해 하우징[81(91)]에 고정되어 설치되어 있고, 이 돌출축(112)의 선단부는, 시일 부재[84(92)]보다도 카트리지(12)측으로 신장되어 있다.

따라서, 하우징[81(91)]이 카트리지(12)측에 근접하면, 우선 시일 부재[84(92)]와 통 형상체(103)가 기밀하게 접촉한다. 그리고, 하우징[81(91)]을 더욱 카트리지(12)측으로 이동시키면, 하우징[81(91)]과 카트리지(12)가 기밀하게 접촉한 상태로, 돌출축(112)이 밀봉 부재(105)를 노즐(21)측으로 압입하여, 하우징[81(91)]의 내부 공간과 공간(25a)을 연통시킨다. 따라서, 하우징[81(91)]에 의한 기체의 공급과 배기가 가능해진다.

이상 설명한 도 19∼도 21의 예에 대해서도, 상술한 예와 동일한 작용 및 효과가 얻어진다.

계속해서, 본 발명의 또 다른 예에 대해 설명한다. 이 예에서는, 웨이퍼(W)에 대한 레지스트액의 사용량(토출량)에 기초하여, 당해 웨이퍼(W)에 형성되는 레지스트막의 막 두께를 조정할 수 있도록 장치를 구성하고 있다. 구체적으로는, 아암부(53)의 하면측에는, 도 22에 도시한 바와 같이, 파지부(54), 용제 노즐(61) 및 작동 기구(55) 등을 일체적으로 지지하도록, 예를 들어 판 형상의 중량 측정부(121)가 설치되어 있다.

이 중량 측정부(121)는, 예를 들어 상하 방향으로 서로 대향하여 2매의 판 형상체를 배치함과 함께, 이들 판 형상체끼리의 사이에 스프링 등의 탄성체를 평면에서 볼 때 복수 개소에 개재시켜, 이들 판 형상체끼리의 사이의 이격 치수를 측정할 수 있도록 구성되어 있다. 그리고, 상기 이격 치수는, 예를 들어 카메라 등의 측정부를 통해 상술한 제어부(71)에 전달되도록 구성되어 있고, 중량 측정부(121)에 의해 측정된 측정 결과로부터 파지부(54), 용제 노즐(61) 및 아암부(53)의 중량을 차감함으로써, 카트리지(12) 내의 레지스트액 중량이 산출된다. 또한, 도 22에서는, 중량 측정부(121)에 대해 간략화하여 묘화하고 있다.

즉, 이미 상세하게 설명한 바와 같이, 노즐(21)로부터 웨이퍼(W)로 토출한 레지스트액의 유량은, 벽면부(25)를 당해 노즐(21)측으로 전진시킨 치수를 통해 제어부(71)측에서 파악된다. 그러나, 레지스트막의 막 두께를 극히 고정밀도로 제어할 필요성이 있는 프로세스에서는, 벽면부(25)를 전진시킨 치수와는 별도의 계통에서, 레지스트액의 토출량을 모니터함과 함께, 레지스트막의 막 두께를 조정할 수 있도록 해 두는 것이 바람직하다. 따라서, 이 예에서는, 아암부(53)에 레지스트액의 중량을 측정하는 중량 측정부(121)를 설치해 두고, 이하에 설명하는 시퀀스에서 레지스트막의 막 두께를 조정하고 있다.

구체적으로는, 도 23에 도시한 바와 같이, 처음에 웨이퍼(W)의 처리 레시피(레지스트막의 종별, 막 두께)를 등록하여(스텝 S1), 최소 레지스트 토출량 Amin을 장치측[예를 들어, 상술한 입력부(74)]에 입력한다(스텝 S2). 이 「최소 레지스트 토출량 Amin」이라 함은, 제어 가능한 최소 막 두께에 대응하는 토출량을 의미하고 있다. 따라서, 노즐(21)로부터 토출되는 레지스트액의 토출량이 이 최소 레지스트 토출량 Amin 이상이면 이하의 시퀀스에서 막 두께가 조정 가능하고, 한편 최소 레지스트 토출량 Amin보다도 상기 토출량이 작은 경우에는 막 두께의 제어가 곤란(또는, 불가능)해진다.

계속해서, 처리부(11)로의 웨이퍼(W)의 반송을 개시함과(스텝 S3) 함께, 아암부(53)에는 레지스트액의 충전이 완료된 카트리지(12)를 미리 파지시켜 두고, 레지스트액을 토출하기 전에 당해 카트리지(12)의 중량을 측정한다(스텝 S4). 계속해서, 스핀 척(14)에서는, 웨이퍼(W)의 표면에서 레지스트액이 퍼지지 않는 정도의 회전수(저속 또는 정지)로 설정해 두고, 이미 상세하게 설명한 바와 같이, 노즐(21)로부터 레지스트액을 토출한(스텝 S5) 후, 다시 카트리지(12)의 중량을 측정한다(스텝 S6). 또한, 레지스트액의 토출 처리에 앞서, 상술한 프리웨트 처리가 행해지지만, 여기서는 설명을 생략하고 있다.

그리고, 노즐(21)로부터 토출된 레지스트액의 중량 A[중량 A＝{레지스트 토출 전의 카트리지(12)의 중량}-{레지스트 토출 후의 카트리지(12)의 중량}]를 계산한다(스텝 S7). 레지스트액의 중량 A에 대해, 상술한 최소 레지스트 토출량 Amin 이상이면, 레지스트막의 막 두께가 조정 가능하므로, 이하의 공정으로 진행한다(스텝 S8). 한편, 레지스트액의 중량 A가 최소 레지스트 토출량 Amin보다도 작으면, 레지스트막의 막 두께를 조정하기 위해서는 웨이퍼(W)의 표면에는 레지스트액이 부족하므로, 레지스트액의 토출 처리 및 이 토출 처리의 전후에 있어서의 카트리지(12)의 중량 측정을 다시 행한다. 그리고, 얻어진 중량 A와 앞서 계산한 중량 A를 가산하여, 가산 결과가 중량 A 이상으로 될 때까지 스텝 S4∼S8을 반복한다.

계속해서, 목표 막 두께 Y'와, 이미 계산이 완료된 중량 A로부터 예상되는 예상 막 두께 Y의 차분을 구한다(스텝 S9). 즉, 목표 막 두께 Y'에 대해서는, 레시피에서 미리 설정되어 있다. 한편, 예상되는 예상 막 두께 Y에 대해서는, 후술하는 실시예로부터도 알 수 있는 바와 같이, 수학식 1의 X에 중량 A를 대입함으로써 얻어진다.

그리고, 상기 차분 ΔY(ΔY＝Y'-Y)를 구한 후, 이 차분을 보정 막 두께로서 설정함과(스텝 S10) 함께, 보정 레시피를 구한다(스텝 S11). 구체적으로는, 후술하는 실시예로부터 알 수 있는 바와 같이, 레지스트막의 막 두께는, 웨이퍼(W)의 회전수와, 웨이퍼(W)의 회전을 유지하는 시간(이하, 「회전 시간」이라 칭함) 중 적어도 한쪽의 파라미터에 의해 조정 가능하다. 그리고, 웨이퍼(W)의 회전수는, 회전 시간에 비해, 레지스트막의 막 두께에의 영향 정도가 크다(조정 범위가 넓다). 따라서, 보정 레시피로서, 처음에 웨이퍼(W)의 회전수(Δx1)에 의해 조정 가능한지 계산하여, 웨이퍼(W)의 회전수만으로는 조정 범위 외로 되어 있는 경우에는, 웨이퍼(W)의 회전수와 함께 회전 시간(Δx2)에 대해서도 조정한다.

그런 후에, 얻어진 보정 레시피에 기초하여 레시피를 갱신한다(스텝 S12). 구체적으로는, 원래의 레시피에서 웨이퍼(W)의 회전수 및 회전 시간이 각각 x1 및 x2로 되어 있는 경우에는, 갱신 후의 웨이퍼(W)의 회전수 및 회전 시간은 각각(x1＋Δx1) 및 (x2＋Δx2)로 된다. 이렇게 하여 얻어진 레시피에 기초하여 웨이퍼(W)를 연직축 둘레로 회전시키면, 웨이퍼(W)의 표면에서 레지스트액이 둘레 방향으로 퍼져 가고, 여분의 레지스트액이 떨쳐내어져(shake off) 레지스트막이 형성된다(스텝 S13). 또한, 이상 설명한 스텝 S7 이후의 각 처리는, 제어부(71)에 의해 빠르게 행해지므로, 웨이퍼(W)의 표면에서 레지스트액이 건조되거나 고화될 우려는 없다.

그 후, 카트리지(12)에 있어서의 레지스트액이 부족한 경우에는, 이미 설명한 바와 같이 당해 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하여(스텝 S14), 처리가 완료된 웨이퍼(W)에 대해서는 처리부(11)로부터 반출함과 함께, 별도의 미처리의 웨이퍼(W)에 대해 스텝 S3 이후의 각 처리를 행한다.

이와 같이 웨이퍼(W)에 토출한 실제의 레지스트액의 중량에 기초하여 레지스트막의 막 두께를 조정함으로써, 예를 들어 카트리지(12)의 내부에 기포가 혼입되어 있거나, 또는 노즐(21)로부터의 토출 에러가 발생한 경우에도, 레지스트막의 막 두께를 레시피에 따라 설정할 수 있다. 또한, 이상의 중량 측정부(121)를 사용한 예에 있어서, 웨이퍼(W) 상에 레지스트액을 토출한 상태에서 보정량의 계산을 행하였지만, 당해 웨이퍼(W)에 대해서는 레시피대로의 회전수 및 회전 시간으로 처리를 행하고, 후속의 웨이퍼(W)에 대해 전단의 처리에서 얻어진 계산 결과에 기초하여 레시피를 변경해도 된다. 즉, 하나의 웨이퍼(W)에 대해 레지스트막을 형성한 후, 이 웨이퍼(W)에 토출된 실제의 레지스트액의 중량으로부터 예상되는 예상 막 두께 Y와 목표 막 두께 Y'의 어긋남분을 계산하여, 이 어긋남분만큼 후속의 다른 웨이퍼(W)에서는 막 두께가 보정되도록, 회전수 및 회전 시간을 조정해도 된다.

도 24는, 이상 설명한 카트리지(12)에 대해, 레지스트액이 통류하는 부위에 기포가 혼입된 경우에 당해 기포를 배출하는 기구를 설치한 예를 도시하고 있다. 즉, 대기부(13)에 카트리지(12)를 적재하였을 때, 역지 밸브(29)의 하면과 처리액 보충로(41)의 상단부 사이에 약간 기포가 혼입되어 있으면, 이 기포가 레지스트액과 함께 카트리지(12) 내에 도입될 우려가 있다. 따라서, 도 24에서는, 카트리지(12)의 천장면에, 저류실(23)과 연통하는 개구부(131)를 형성해 두고, 이 개구부(131)의 상방측에 역지 밸브(132)를 형성하고 있다. 또한, 도 24에서는, 이상 설명한 카트리지(12) 중, 샤프트(22)에 의해 벽면부(25)를 전후 이동시키는 구성을 예시하고 있다.

따라서, 카트리지(12) 내에 레지스트액을 인입하면, 기포는 예를 들어 카트리지(12)의 천장면 부근, 구체적으로는 개구부(131) 근방에 저류된다. 그로 인해, 개폐 밸브(24a)를 폐지한 상태로 샤프트(22)를 전진시키면, 기포가 역지 밸브(132)를 통해 배출된다. 그 후, 개폐 밸브(24a)를 개방하면, 카트리지(12) 내의 레지스트액은, 중력에 의해 역지 밸브(132)측이 아니라 노즐(21)측을 향하려고 하므로, 이상 설명한 예와 마찬가지로 웨이퍼(W)에의 레지스트액의 토출 처리가 행해진다.

이상의 각 예에서는, 대기부(13)에서 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하였지만, 예를 들어 이동 가능한 카트 등의 반송부를 설치해 두고, 이 반송부에서, 예를 들어 작업자가 레지스트액의 보충을 행해도 된다.

또한, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 공정에 있어서, 예를 들어 보충구(28)에 있어서의 액 막힘 등에 의해 당해 카트리지(12)를 사용할 수 없게 된 경우에는, 카트리지(12)가 별도의 미사용의 카트리지(12)와 교환된다.

또한, 처리액으로서 레지스트액을 예로 들었지만, 폴리이미드 수지를 포함하는 액체 또는 웨이퍼(W)끼리를 서로 두께 방향으로 접착할 때에 사용하는 접착제를 처리액으로서 사용해도 된다. 또한, 시너 등의 용제에 대해서도 카트리지(12) 내에 충전하여, 이 카트리지(12)를 사용하여 웨이퍼(W)에 프리웨트 처리를 행해도 된다. 이와 같이 용제를 충전한 카트리지(12)를 사용하여 프리웨트 처리를 행하는 경우에는, 상술한 파지부(54)의 측방측에, 도시하지 않은 별도의 파지부를 설치해 두고, 아암부(53)에서 레지스트액용의 카트리지(12)와 용제용의 카트리지(12)를 동시에 파지해도 된다.

상술한 샤프트(22) 및 벽면부(25)를 사용한 예에 대해서는, 피스톤을 사용한 실린더 구조이어도 된다. 즉, 벽면부(25)의 외주면을 저류실(23)의 내벽면에 기밀하게 접촉시켜, 이 벽면부(25)에 의해 레지스트액을 압출하도록 해도 된다. 이 경우에는, 보충구(28)는 벽면부(25)의 진퇴 범위보다도 노즐(21)측에 형성된다. 또한, 보충구(28) 및 노즐(21)을 벽면부(25)의 진퇴 범위보다도 아암부(53)의 기단부측에 배치하여, 샤프트(22)를 전진시키면 레지스트액이 카트리지(12) 내에 보충되고, 샤프트(22)를 후퇴시키면 레지스트액이 토출하도록 해도 된다. 또한, 보충구(28)와 노즐(21)을 횡배열로 배치하였지만, 노즐(21)의 상방측에 보충구(28)를 형성하고, 세로측의 카트리지(12)를 구성해도 된다.

또한, 이상 설명한 각 예에 있어서, 카트리지(12) 내에 레지스트액을 보충하는 데 있어서, 벽면부(25)를 후퇴시킴으로써 당해 카트리지(12) 내에 발생하는 부압(흡인력)을 사용하였지만, 송액 펌프(42)에 의해 레지스트액을 가압하여 행해도 된다. 개폐 밸브(24a)로서는, 에어 구동에 의해 동작하는 다이어프램으로서 구성하였지만, 노즐(21)측으로부터 저류실(23)측으로 레지스트액이 복귀되지 않는 역지 밸브를 사용해도 된다.

또한, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하는 데 있어서, 대기부(13)에 보충 기구(46)[하우징(91)]를 설치하고, 이 보충 기구(46)에 의해 벽면부(25)를 후퇴시켰지만, 아암부(53)의 작동 기구(55)[하우징(81)]에 의해 벽면부(25)를 후퇴시켜도 된다. 즉, 카트리지(12) 내의 레지스트액을 노즐(21)에 압출하는 기구와, 당해 카트리지(12) 내에 레지스트액을 보충하는 기구를 공통화해도 된다.

이 경우에는, 아암부(53)는 사용이 완료된 카트리지(12)를 대기부(13)에 적재한 후, 그대로 벽면부(25)를 후퇴시킴으로써, 카트리지(12)에 레지스트액을 보충하고, 이어서 보충이 완료된 카트리지(12)를 다시 처리부(11)측으로 반송한다. 이와 같은 구성이어도, 레지스트액을 웨이퍼(W)에 토출하는 관로가 단축화되므로, 대규모의 펌프나 내압성이 우수한 공급로가 불필요해진다.

[실시예]

(실험예 1)

처음에, 직경 치수가, 예를 들어 450㎜인 웨이퍼(W)를 사용하여, 레지스트액의 토출량을 다양하게 바꿨을 때에, 이 레지스트액이 당해 웨이퍼(W) 상에 어느 정도의 크기의 영역으로 퍼지는지 측정하였다. 구체적으로는, 임의의 회전수로 웨이퍼(W)를 연직축 둘레로 회전시킴과 함께, 이 웨이퍼(W)의 중심부에 레지스트액을 토출하였을 때, 웨이퍼(W) 상에 원 형상으로 퍼진 레지스트액(레지스트막)의 반경 치수를 측정하였다.

그 결과, 도 25에 나타내는 바와 같이, 웨이퍼(W)의 회전수가 600rpm에서는, 15g의 레지스트액을 토출하면, 레지스트액은 반경 150㎜의 원 형상으로 퍼지고 있었다. 따라서, 직경 치수가 300㎜인 웨이퍼(W)의 표면에 걸쳐 레지스트액을 도포하기 위해서는, 레지스트액은 15g 정도로 충분한 양으로 되어 있는 것을 알 수 있다. 한편, 직경 치수가 450㎜인 웨이퍼(W)의 표면에 걸쳐 레지스트액을 도포하기 위해서는, 30g이나 되는 중량의 레지스트액이 필요해지고, 따라서 레지스트액의 필요량은, 직경 치수가 450㎜에서는 300㎜의 경우의 2배로 되는 것을 알 수 있다. 웨이퍼(W)의 회전수를 1000rpm까지 증가시킨 경우에도, 직경 치수가 400㎜인 웨이퍼(W)에서는, 마찬가지로 30g이나 되는 레지스트액이 필요해지고 있다.

(실험예 2)

계속해서, 카트리지측으로 레지스트액을 저류해 두고, 이 카트리지를 가압하여 레지스트액을 토출하는 경우에, 이 레지스트액을 송출하는 압력과, 레지스트액의 토출량의 상관을 확인하는 실험을 행하였다. 그 결과, 도 26에 나타내는 바와 같이, 상기 압력과 레지스트액의 토출량은 극히 높은 상관성을 갖고 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 카트리지의 압력을 임의의 값으로 설정한 경우에, 레지스트액을 토출하는 토출 시간과 레지스트액의 토출량의 상관을 마찬가지로 확인한 바, 도 27에 나타내는 결과가 얻어졌다. 이 결과에 대해서도, 레지스트액의 토출 시간은, 레지스트액의 토출량과 극히 높은 상관성을 갖고 있는 것을 알 수 있었다.

(실험예 3)

웨이퍼(W)에 레지스트액을 토출하는 데 있어서, 당해 레지스트액의 토출 시간이 레지스트막에 미치는 영향을 확인하는 실험을 행하였다. 그 결과, 0.08㎖/초나 되는 극히 느린 토출 속도로 레지스트액을 토출한 경우(토출 시간:약 400초)에는, 도 28에 「실험 3-1」에서 나타내는 바와 같이, 웨이퍼(W)의 면 내에 있어서 막 두께의 편차가 발생하고 있었다. 한편, 상기 토출 시간을 약 20초나 되는 단시간으로 설정한 경우에는, 도 28에 「실험 3-2」에서 나타내는 바와 같이, 균일한 막 두께 프로파일이 얻어졌다. 즉, 레지스트액의 토출 속도를 느리게 설정하면, 바꾸어 말하면 레지스트액의 토출 개시부터 토출 완료까지의 사이에 긴 타임 래그가 발생하면, 레지스트액의 토출을 종료할 때까지의 동안에, 이미 토출한 레지스트액이 건조 고화될 우려가 있다고 할 수 있다. 따라서, 직경 치수가 450㎜인 웨이퍼(W)에 대해 레지스트액을 토출하는 경우에는, 직경 치수가 300㎜인 웨이퍼(W)와 토출 속도를 일치시키면, 스루풋의 저하의 우려가 있을 뿐만 아니라, 레지스트막의 막 두께의 균일성에도 악영향을 미칠 가능성이 있다.

도 29는, 직경 치수가 300㎜ 및 450㎜의 웨이퍼(W)에 대해, 레지스트액의 토출에 필요로 하는 시간과 함께, 카트리지에 레지스트액을 보충하는 시간에 대해서도 더불어 개략적으로 통합한 이미지를 나타내고 있다. 즉, 카트리지로부터 레지스트액을 토출한 후, 당해 카트리지에 새로운 레지스트액을 보충하는 데 있어서, 레지스트액의 발포를 억제하기 위해서는 그만큼 흡액 속도를 높게 설정할 수 없다. 그로 인해, 직경 치수가 450㎜인 웨이퍼(W)에서는, 직경 치수가 300㎜인 웨이퍼(W)에 비해, 토출 시간뿐만 아니라 흡액 시간에 대해서도 차가 커지고, 전체적으로 보면 3배 가까운 시간이 필요해지고 있는 것을 알 수 있다.

도 30은, 상술한 「실험 3-1」 및 「실험 3-2」로서 든 예에 대해, 레지스트막의 막 두께의 균일성을 수치화한 결과를 나타내고 있고, 이들 「실험 3-1」 및 「실험 3-2」에 대해 각각 복수회에 걸친 실험을 행한 바, 상술한 결과의 재현성이 확인되었다.

(실험예 4)

도 31은, 웨이퍼(W)의 회전수 및 회전 시간을 각각 임의의 값으로 설정하였을 때, 레지스트액의 토출량(중량)과, 레지스트막의 막 두께의 상관을 나타내고 있다. 횡축(X축)에 토출량, 종축(Y축)에 막 두께를 설정하면, 토출량과 막 두께는, 이하의 수학식 1로 나타내어진다.

[수학식 1]

Y＝0.1X＋40.95

따라서, 상술한 중량 측정부(121)를 설치한 예에 있어서, 예상 막 두께 Y는, 이 수학식 1로부터 산출된다.

도 32 및 도 33은, 마찬가지로 중량 측정부(121)를 설치한 예에 있어서, 예상 막 두께 Y의 보정이 가능하게 되는 근거의 데이터를 나타내고 있다. 즉, 도 32에서는, 웨이퍼(W)의 회전수(X)와 레지스트막의 막 두께(Y)의 상관을 나타내고 있고, 이 상관은 이하의 수학식 2로 나타내어진다.

[수학식 2]

Y＝-0.0402X＋82.801

그로 인해, 웨이퍼(W)의 회전수를 변경함으로써 예상 막 두께 Y를 보정하는 경우에는, 보정 막 두께 ΔY를 (-0.0402)로 제산한 값의 분(Δx1)만큼 웨이퍼(W)의 회전수를 증가(부호가 마이너스인 경우에는 감소)시키면 되는 것을 알 수 있다.

또한, 도 33은, 웨이퍼(W)의 회전을 유지하는 시간[회전 시간(X)]과 레지스트막의 막 두께(Y)의 상관을 나타내고 있고, 이 상관은 수학식 3으로 나타내어진다.

[수학식 3]

Y＝-0.366X＋65.51

회전 시간으로 예상 막 두께 Y를 보정할 때에는, 보정 막 두께 ΔY를 (-0.366)으로 제산한 값의 분(Δx2)만큼 회전 시간을 증가(감소)시키게 된다.

또한, 웨이퍼(W)의 회전수 외에 회전 시간에 대해서도 예상 막 두께 Y의 조정 파라미터로서 사용함으로써, 도 32 및 도 33의 결과를 서로 더한 범위 내에서 보정이 가능해지는 것을 알 수 있다.

12 : 카트리지
13 : 대기부
21 : 노즐
22 : 샤프트
23 : 저류실
25 : 벽면부
26 : 벨로즈
28 : 보충구
30 : 반송 기구
41 : 처리액 보충로
53 : 아암부
55 : 작동 기구

Claims (14)

1. 처리액을 피처리체에 공급하기 위한 액 공급 장치에 있어서,
   처리액이 저류되는 저류실과, 상기 저류실 내의 처리액을 토출하는 토출구와, 상기 저류실 내의 처리액을 상기 토출구로부터 압출하기 위한 압출부와, 상기 토출구와는 별도로 형성되고, 상기 저류실에 처리액을 보충하는 보충구를 갖는 처리액 카트리지와,
   상기 처리액 카트리지가 대기하는 대기 영역을 갖는 대기부와,
   상기 처리액 카트리지를 보유 지지하고, 상기 대기부와, 피처리체에 처리액을 공급하는 위치 사이에서 반송하는 반송 기구와,
   상기 반송 기구에 설치되고, 상기 압출부에 처리액의 압출 동작을 시키기 위한 작동 기구를 구비한 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 대기부에는, 상기 처리액 카트리지에 처리액을 보충하기 위한 처리액 보충로가 설치되고,
   상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비한 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 보충 기구는, 상기 대기부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 압출부는, 기단부측에 개구부가 형성됨과 함께 내부가 공동인 벨로즈체를 구비하고, 상기 저류실에 형성된 개구부에 상기 벨로즈체의 개구부가 연결되어 구성되고,
   상기 작동 기구는, 상기 저류실 내의 용적을 감소시켜 처리액을 토출시키기 위해 상기 벨로즈체를 신장시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
5. 제4항에 있어서,
   상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,
   상기 보충 기구는, 상기 저류실 내의 용적을 증대시켜 처리액을 상기 보충구로부터 흡인하기 위해 상기 벨로즈체를 축퇴시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
6. 제4항에 있어서,
   상기 압출부는, 그 선단측이 상기 벨로즈체의 선단측에 설치되고, 그 기단부측이 상기 저류실의 외측으로 신장되어 있는 구동축부를 구비하고,
   상기 작동 기구는, 상기 벨로즈체를 신장시키기 위해 구동축부를 전진시키는 전진용의 구동 기구를 구비한 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
7. 제4항에 있어서,
   상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,
   상기 압출부는, 그 선단측이 상기 벨로즈체의 선단측에 설치되고, 그 기단부측이 상기 저류실의 외측으로 신장되어 있는 구동축부를 구비하고,
   상기 보충 기구는, 상기 벨로즈체를 축퇴시키기 위해 구동축부를 후퇴시키는 후퇴용의 구동 기구를 구비한 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
8. 제4항에 있어서,
   상기 작동 기구는, 상기 벨로즈체를 신장시키기 위해 상기 벨로즈체의 개구부를 통해 상기 벨로즈체에 기체를 공급하기 위한 가스 공급 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
9. 제4항에 있어서,
   상기 대기부에 위치하는 처리액 카트리지의 저류실에 상기 보충구를 통해 처리액을 보충하기 위한 보충 기구를 구비하고,
   상기 보충 기구는, 상기 벨로즈체를 축퇴시키기 위해 상기 벨로즈체의 개구부를 통해 상기 벨로즈체 내를 흡인하기 위한 흡인 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    각각의 처리액 카트리지는, 상기 처리액 카트리지에 저류되어 있는 처리액의 종별이 기억되는 기억부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
11. 제10항에 있어서,
    상기 대기 영역은 복수 형성되고,
    상기 대기부는, 각각의 처리액 카트리지에 있어서의 상기 기억부에 기억되는 처리액의 종별을 판독하는 판독부를 구비하고,
    상기 판독부에서 판독한 정보에 기초하여, 피처리체에 대해 행해지는 도포 처리의 종별에 따라 복수의 상기 처리액 카트리지로부터 하나의 처리액 카트리지를 선택하도록 제어 신호를 출력하는 제어부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
12. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액 카트리지는, 상기 압출부를 상기 토출구측으로부터 이격한 위치에서 고정하는 규제 기구를 구비하고,
    상기 반송 기구는, 상기 규제 기구에 의한 규제를 해제하는 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
13. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액 카트리지의 상기 보충구측 및 상기 토출구측에는, 상기 저류실 내의 처리액의 역류를 방지하기 위한 역류 방지 기구가 각각 설치되고,
    상기 토출구측의 상기 역류 방지 기구와 상기 토출구 사이에는, 처리액의 토출을 종료한 후, 상기 토출구의 근방 위치에 남는 처리액을 상기 저류실측으로 끌어올리기 위한 액 흘림 억제 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.
14. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리액의 점도는, 1000cP∼4000cP인 것을 특징으로 하는, 액 공급 장치.

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