KR20150020363A - 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함함으로써, 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하며, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하 문제를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법 {Preparing method for flexible touch screen panel}
본 발명은 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
터치 스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.
이를 위해, 터치 스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.
이와 같은 터치 스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.
터치 스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.
이와 같은 터치 스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치 스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.
또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치 스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.
단, 상기 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은 터치 센서를 구현하는 센싱패턴 등을 형성하기 위해 박막 성막, 패턴 형성 공정 등이 필요하므로, 고 내열성 및 내화학성 등의 특성이 요구된다. 이에 따라 내열성이 우수한 폴리이미드 등의 수지를 경화시켜 형성한 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하게 된다.
한편, 그러한 얇고 유연한 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려워 투명 전극 적층체를 형성하기가 어려운 문제가 있고, 이러한 문제점에 대한 대안은 아직 확립되지 않았다.
한국공개특허 제2012-133848호에는 플렉서블 터치 스크린 패널이 개시되어 있으나, 상기 문제점에 대한 대안을 제시하지 못하였다.
한국공개특허 제2012-133848호
본 발명은 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 점착제 중 휘발성 성분 또는 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
1. 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
2. 위 1에 있어서, 상기 지지체는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼 또는 서스로 제조된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
3. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재필름은 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethyleneetherphthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane) 및 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 소재로 형성된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
4. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름은 투습계수가 1 내지 500g/m2/24hr인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
5. 위 1에 있어서, 상기 점착층은 지지체 또는 기체 투과성 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
6. 위 5에 있어서, 상기 점착제 조성물은 용융 온도가 150 내지 400℃인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
7. 위 1에 있어서, 상기 열처리는 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
8. 위 1에 있어서, 상기 열처리 이후 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 내화학성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
9. 위 8에 있어서, 상기 내화학성 코팅층은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물, 이산화규소 및 질화규소(SiNx)를 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
10. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성한 후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 점착층으로부터 박리하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
11. 위 1 내지 10 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 플렉서블 터치 스크린 패널.
12. 위 11의 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 플렉서블 화상표시장치.
본 발명은 기재 필름을 지지체에 접합하여 후속 공정을 수행함으로써 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.
본 발명은 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 플렉서블 터치스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예에 따른 공정 순서도를 개략적으로 나타낸 것이다.
본 발명은 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함함으로써, 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하며, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하 문제를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
터치 스크린 패널은 무게를 줄이고 휴대성을 개선하기 위해 점차 박형화되고 있는데, 이러한 터치 스크린 패널에 사용되는 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려울 수 있다.
이에 따라 본 발명의 제조 방법은 기재 필름을 지지체에 점착하여 고정시킴으로써 취급성을 향상시켜, 후속 공정인 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.
한편, 점착층을 이루는 점착제 중 용매 성분은 투명 전극 적층체 형성을 위한 증착 공정, 열처리 공정 등의 고온 공정에 의해 기화될 수 있는데, 그러한 경우에 기포가 발생하여 기재 필름의 평활도가 저하될 수 있다. 이러한 문제는 점착제 중 휘발성 성분에 의해서도 발생할 수 있다.
그러나, 본 발명은 고온의 후속 공정 이전에 미리 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 배출함으로써 상기 문제점을 해결할 수 있다.
도 1에는 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예의 공정 순서도가 개략적으로 도시되어 있는데, 이하 도면을 참조하여 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예를 그 단계별로 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 점착층(20)을 통해 지지체(10) 상에 기체 투과성 기재 필름(30)을 접합한다.
지지체(10)로는 기재 필름이 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 유리, 석영, Si 웨이퍼, 서스 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 유리가 사용될 수 있다.
기체 투과성 기재 필름(30)은 후술할 투명 전극이 형성되는 기재로서, 본 발명은 적정 강도를 갖는 지지체(10)의 일면에 기재 필름(30)을 고정하여, 기재 필름 상에 투명 전극을 형성하는 공정이 원활히 진행될 수 있도록 한다.
기체 투과성 기재 필름(30)은 필름 시트 또는 롤 투 롤(Roll to Roll)의 형태로 공정에 제공될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 기체 투과성 기재 필름(30)은 적어도 일면에 보호필름(미도시)이 부착된 상태로 공정에 제공될 수 있다. 그러한 경우 지지체(10)와의 접합시에는 보호필름(미도시)은 제거하고 접합하게 된다.
기체 투과성 기재 필름(30)은 후술할 열처리 공정, 투명 전극 적층체 형성 공정 등의 고온 공정에 견딜 수 있도록 내열성이 뛰어나고, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분이 투과할 수 있도록 기체 투과성을 가진 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate),폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate),폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide),폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate) 등으로 제조된 필름일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
기체 투과성 기재 필름(30)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1 내지 150㎛일 수 있다.
기체 투과성 기재 필름(30)의 투습 계수(Water Vapor Transmission Rate)는 점착제 중 휘발성 성분 또는 후술할 공정에 따라 기화된 용매 성분이 이를 투과할 수 있으면서, 충분한 내구성을 가질 수 있는 범위 내라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1 내지 500g/m2/24hr일 수 있다. 투습계수가 상기 범위 내인 경우, 휘발성 성분 또는 기화된 점착제 중 용매 성분이 이를 투과할 수 있으면서, 기재 필름이 충분한 내열성 및 내구성을 가질 수 있다.
점착층(20)은 상기 지지체(10) 또는 기체 투과성 기재 필름(30)의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성될 수 있다.
점착제 조성물을 도공하는 방법으로는 당 분야에서 통상적으로 사용되는 방법이 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 푸어링, 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 드롭핑, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등의 방법이 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
또는, 점착층(20)은 양면에 이형필름(40)이 부착된 점착시트 또는 롤 투 롤(Roll to Roll) 방식으로 공정에 제공될 수도 있다.
점착제 중 용매 성분의 기화를 최소화하기 위해 점착제 조성물은 용융 온도(Tm)가 높은 것이 바람직하고, 예를 들면 150 내지 400℃일 수 있고, 바람직하게는 200 내지 350℃일 수 있다. 점착제 조성물의 용융 온도가 150 내지 400℃인 경우 용매 성분의 기화를 최소화 할 수 있다. 점착제 조성물의 용융 온도가 150℃ 미만인 경우에는, 형성된 점착층이 후술할 고온 공정에서 용융되어 투명 전극 적층체의 형성이 어려울 수 있다.
본 발명에 따른 점착제 조성물은 상기 조건을 만족하는 것이라면 특별히 한정되지 않고 당 분야에서 통상적으로 사용되는 폴리아크릴산 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스터 수지, 에폭시 수지, 실록산 수지 등을 포함하는 점착제 조성물을 사용할 수 있다.
이후에, 상기 점착층(20)을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출시킨다.
점착층(20)을 이루는 점착제 중 용매 성분은 후술할 투명 전극 적층체 형성을 위한 증착 공정, 열처리 공정 등의 고온 공정에 의해 기화될 수 있는데, 그러한 경우에 기포가 발생하여 기재 필름의 평활도가 저하될 수 있다. 또한, 점착제 중 휘발성 성분에 의해서도 상기 문제가 발생할 수 있다.
그러나 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법은 투명 전극 적층체의 형성 전에 미리 용매 성분 또는 휘발성 성분을 배출함으로써 상기 문제점을 해결할 수 있다. 휘발성 성분 또는 기화된 용매 성분은 기체 투과성 기재 필름(30)을 투과하여 공기 중으로 배출된다.
열처리 온도 및 시간은 특별히 한정되지 않고 점착제 중 용매 성분이 충분히 기화될 수 있으면서 지지체(10) 및 기재 필름(30)에 손상을 주지 않는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있으며, 예를 들면 상기 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행될 수 있고, 구체적으로 용융 온도보다 20℃ 낮은 온도에서 1 내지 400분간 수행될 수 있다.
열처리 단계는 점착제 중 용매 성분이 충분히 기화하기 위해 필요한 열에너지를 공급할 수 있도록, 바로 고온에서 수행되거나, 단계별로 수행되거나, 온도를 변화시키며 수행될 수도 있다. 승온 온도, 각 단계별 수행 시간 등은 적절히 선택될 수 있다.
본 발명은 상기 열처리를 수행하고 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 기체 투과성 기재 필름(30) 상에 내화학성 코팅층(미도시)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
기체 투과성 기재 필름(30)은 후속 공정 중에 다수의 약액에 노출되는데, 내화학성 코팅층을 형성함으로써 약액에 의한 손상을 억제할 수 있다.
내화학성 코팅층은 당 분야에 통상적으로 사용되는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 푸어링, 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 드롭핑, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등의 방법으로 상기 기체 투과성 기재 필름(30) 상에 도포하여 형성하거나 화학기상증착법, 물리기상증착법, 스퍼터링법 등으로 직접 내화학 층을 성막할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
내화학성 코팅층 형성용 조성물은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물 등으로 이루어진 유기물; 이산화규소(SiO2), 질화 규소(SiNx) 등으로 이루어진 무기물; 유무기하이브리드물 등을 포함하는 것일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
이후에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체(50)를 형성한다.
투명 전극 적층체(50)를 형성하는 방법은 당 분야에 공지된 다양한 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.
투명 전극 적층체(50)는 구체적인 용도에 따라서 다양한 구조로 형성될 수 있으며, 예를 들면 터치되는 지점의 위치 정보를 제공하는 제1 투명전극층과 제2 투명전극층, 상기 제1 투명전극층과 제2 투명전극층 사이에 개재되어 두 층을 전기적으로 분리시키는 절연층, 절연층에 형성되어 제1 투명전극층과 제2 투명전극층이 전기적으로 연결될 수 있도록 하는 콘택홀 등을 포함할 수 있다.
본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법은 상기 단계 이후에 투명 전극 적층체(50)가 형성된 기체 투과성 기재 필름(30)을 점착층(20)으로부터 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 박리 공정은 점착층(20)에 레이저를 조사하여 수행되거나, 비-레이저 공정, 예를 들면 기체 투과성 기재 필름(30)과 지지체(10)를 각각 지그에 물려 물리적 힘으로 분리하는 공정 또는 Air 투입에 의한 공정 또는 온도 변화에 의한 UV조사에 의한 공정으로 수행될 수 있다. 바람직하게는 비-레이저 공정을 사용할 수 있다.
투명 전극 적층체(50)가 형성된 기체 투과성 기재 필름(30)은 디스플레이 패널부와 결합되어 터치 스크린 패널로서 사용될 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.
본 발명의 화상표시장치는 플렉서블 화상표시장치에 통상적으로 사용되는 구성을 더 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
제조예
(1) 점착시트의 제조
도데실 아크릴레이트 45중량부, 메틸아크릴레이트 45중량부, 아크릴산 5중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 5중량부 및 Perbutyl ND(일본유지사) 0.2중량부를 혼합하였다. 이후에 에틸아세테이트 230중량부를 첨가하고 55℃에서 4시간 동안 교반하여 점착제 조성물을 제조하였다. 중합된 수지의 중량평균분자량은 700,000이고, 점착제 조성물의 용융 온도는 350℃였다.
상기 점착제 조성물을 PET 이형필름 상에 도포하고 120℃에서 20분간 건조하여 점착시트를 제조하였다.
(2) 점착시트의 제조
실리콘 점착제로 7657(다우코닝사) 60중량부, 실리콘 이형제로 7226(다우코닝사) 40중량부, 가교제로 7367(다우코닝사) 2중량부, 백금촉매 1중량부 및 앵커리지 에이전트로 9250(다우코닝사) 2중량부를 첨가하여 실리콘계 점착제 조성물을 제조하였다. 제조된 점착제 조성물의 용융 온도는 180℃였다.
상기 점착제 조성물을 PET 이형필름 상에 도포하고 100℃에서 20분간 건조하여 점착 시트를 제조하였다.
실시예 1
두께 500㎛의 액정 디스플레이용 글라스(EAGLE XG, 삼성코닝정밀소재사) 상에 상기 제조예 (1)의 점착 시트를 부착하여 점착층을 형성하고, 점착층 상에 두께 25㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(Kapton Type HN Film, 듀폰사)를 부착함으로써 기체 투과성 기재 필름을 접합하였다.
상기 접합체를 150℃ 열풍건조 오븐에서 60분간 열처리하여, 점착제 중 휘발성 성분과 기화된 용매 성분을 배출시켰다.
이후에 반응성 에톡시실란 화합물을 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 내화학성 코팅층을 형성하였다.
다음으로, 내화학성 코팅층이 형성된 기재 필름 상에 ITO를 스퍼터링법에 의해 두께 500Å으로 성막하여 투명 전극 적층체를 형성하였다.
이후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 180도 방향에서 30m/분의 속도로 잡아당겨서 점착층으로부터 박리하였다.
실시예 2
제조예 (2)의 점착 시트를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
실시예 3
두께 100㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(SUMILITE FS-1300, 스미토모베이크라이트사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
실시예 4
두께 250㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(ZEONOR 1020R, 제온사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
실시예 5
두께 500㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(Estane 58237 TPU, 루브리졸사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
실시예 6
내화학성 코팅층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
비교예
기체 투과성 기재 필름 대신에 기체 비투과성 기재 필름(moisture Barrier Films FG100, 마테리온사)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
실험예
(1) 투습계수 ( WVTR , Water Vapor Transmission Rate ) 측정
실시예 및 비교예에서 사용된 기재필름의 투습계수를 ASTM E96-95-Procedure BW에 의거하여 측정하였다.
(2) 평활도 평가
실시예 및 비교예의 투명 전극 적층체에 대하여 균일 성막 여부를 육안으로 관찰하고, 면저항의 면내 균일성을 측정하여, 하기 기준에 따라 평활도를 평가하였다.
<평가 기준>
◎: 균일하게 성막되어 있고, 면저항의 변화율이 10% 이내
○: 균일하게 성막되어 있고, 면저항의 변화율이 20% 이내
△: 균일하게 성막되어 있으나, 면저항의 변화율이 20%를 초과
X: 기재필름의 들뜸이 발생하여, 투명 전극 적층체가 균일하게 성막되어 있지 않음
(3) 내화학성 평가
실시예 및 비교예의 적층체를 20℃의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 및 5% 수산화칼륨(KOH) 수용액에 각각 10분간 침지하였다. 10분 후에 건져 내어 탈이온수로 세정하고 실온에서 5분간 건조시켰다.
이후에 기재 필름의 표면을 육안으로 관찰하여 하기 기준에 따라 내화학성을 평가하였다.
<평가 기준>
◎: 기재 필름 표면이 깨끗하고 손상된 부분이 전혀 관찰되지 않음
○: 기재 필름 표면이 깨끗하나 미약하게 손상된 부분이 관찰됨
△: 기재 필름이 노랗게 변색되거나 수축됨
X: 기재 필름이 약액에 의해 하얗게 변색되거나 손상됨
구분 투습계수
(g/m2/24hr)
평활도 내화학성 평가
PGMEA KOH
실시예 1 50
실시예 2 50
실시예 3 120
실시예 4 0.5
실시예 5 600
실시예 6 50
비교예 0.05 X
상기 표 1을 참고하면, 실시예 1 내지 3의 적층체의 경우는 평활도와 기재 필름의 내화학성이 매우 우수하였다.
기재 필름의 투습계수가 낮은 실시예 4 및 투습계수가 높은 실시예 5의 경우는 평활도가 다소 저하되었으나, 여전히 우수한 성능을 나타내었다.
내화학성 코팅층을 형성하지 않은 실시예 6의 적층체는 내화학성이 다소 저하되었으나 여전히 우수하였고, 매우 우수한 평활도를 나타냈다.
그러나 비교예의 적층체는 점착제 중 휘발성 성분 및 ITO 성막 공정 중에 기화된 용매 성분에 의해 기포가 발생하여, 기재 필름의 평활도가 불량하였다.
10: 지지체, 20: 점착층,
30: 기체 투과성 기재 필름, 40: 이형필름
50: 투명 전극 적층체

Claims (12)

  1. 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계;
    상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및
    상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;
    를 포함하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 지지체는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼 또는 서스로 제조된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재필름은 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethyleneetherphthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane) 및 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 소재로 형성된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름은 투습계수가 1 내지 500g/m2/24hr인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 점착층은 지지체 또는 기체 투과성 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 점착제 조성물은 용융 온도가 150 내지 400℃인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 열처리는 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 열처리 이후 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 내화학성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 내화학성 코팅층은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물, 이산화규소 및 질화규소(SiNx)를 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성한 후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 점착층으로부터 박리하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  11. 청구항 1 내지 10 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 플렉서블 터치 스크린 패널.
  12. 청구항 11의 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 플렉서블 화상표시장치.
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