TW201510818A - 製造可撓觸控螢幕面板方法 - Google Patents
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Abstract
本案係揭露一種製造觸控螢幕面板之方法，包括：將一可透氣基膜藉由一黏著層黏著於一支撐體上；熱處理該黏著層，以透過該可透氣基膜而排出形成該黏著層的一黏著劑中所包含的溶劑成分或可揮發成分；以及於該可透氣基膜上形成一透明電極積層。依據本發明之製造方法，使得更精確地及可靠地執行形成一透明電極積層的程序成為可能，而且避免該基膜由於包含於該黏著劑中可揮發成分或是被蒸發溶劑成分所造成平坦性降低。
Description
本發明係關於一種製造一可撓觸控螢幕面板的方法。
觸控螢幕面板係為輸入裝置，其可以使用者之一手指、或是例如一觸控筆之一物體，藉由於一影像顯示裝置等之螢幕上所顯示一特定位置的觸摸，而輸入使用者之一指令。
為此，該影像顯示裝置中(於其前表面提供該觸控螢幕面板)，藉由使用者之手指或是該物體直接接觸而施加於該接觸位置之一力被轉換成一電子訊號。因此，對應於由該使用者所選擇之該接觸位置之指示被輸入至該影像顯示裝置，成為該電子訊號所產生的一輸入訊號。
既然連接至該影像顯示裝置用以輸入一操作指令之一分離輸入，如鍵盤或滑鼠，係被前述觸控螢幕面板所取代，逐漸擴大該觸控螢幕面板的應用領域已成為近期的趨勢。
各式觸控螢幕面板，例如，電阻膜式、使用紅外線或是超音波的表面音波式、電容觸控式、或其類似者，為相關領域中已知用來實施觸控螢幕面板。其中，在電容觸控式觸控螢幕面板中，當使用者之手指或是一物體接觸所顯示畫面上之一特定位置，藉由傳導性感應圖形與相鄰之其他感應圖形或是一接地電極所形成電容的一改變被裝置於該觸控螢幕面板之影像顯示裝置所檢測，且藉此被施加於該接觸位置之一力被轉換成一電子訊號。
前述的觸控螢幕面板被黏著於一平面面板顯示器裝置(例如一液晶顯示器、或是在許多情況下將被商業化之一有機電致發光顯示裝置)之一外表面。因此，該觸控螢幕面板需要具有高穿透度及薄厚度等特性。
近來，可撓平面面板顯示裝置已被開發，且根據此趨勢，有必要使黏著於該可撓平面面板顯示裝置之該觸控螢幕面板具有可撓特性。
然而，該電容式觸控螢幕面板需要薄膜沉積、圖形形成程序、或其類似者，以便形成感應圖形等，來實施一觸控感測器。因此，便需要例如高耐熱及耐化學或其類似特性。所以，該電容式觸控螢幕面板具有將良好耐熱性之一樹脂(例如聚醯亞胺樹脂)硬化所形成一基膜上之一透明電極積層所提供。
另一方面，如此薄又可撓之基膜可被輕易地彎折或是扭曲，因此，於製造程序中處置該基膜、以及因而形成該透明電極積層甚為困難。解決這些問題的解決方法尚未建立。
例如，韓國專利公開號2012-133848所揭露之一種可撓觸控螢幕面板並無解決上述問題的提案。
為此，該影像顯示裝置中(於其前表面提供該觸控螢幕面板)，藉由使用者之手指或是該物體直接接觸而施加於該接觸位置之一力被轉換成一電子訊號。因此，對應於由該使用者所選擇之該接觸位置之指示被輸入至該影像顯示裝置，成為該電子訊號所產生的一輸入訊號。
既然連接至該影像顯示裝置用以輸入一操作指令之一分離輸入，如鍵盤或滑鼠，係被前述觸控螢幕面板所取代，逐漸擴大該觸控螢幕面板的應用領域已成為近期的趨勢。
各式觸控螢幕面板，例如，電阻膜式、使用紅外線或是超音波的表面音波式、電容觸控式、或其類似者，為相關領域中已知用來實施觸控螢幕面板。其中，在電容觸控式觸控螢幕面板中，當使用者之手指或是一物體接觸所顯示畫面上之一特定位置，藉由傳導性感應圖形與相鄰之其他感應圖形或是一接地電極所形成電容的一改變被裝置於該觸控螢幕面板之影像顯示裝置所檢測，且藉此被施加於該接觸位置之一力被轉換成一電子訊號。
前述的觸控螢幕面板被黏著於一平面面板顯示器裝置(例如一液晶顯示器、或是在許多情況下將被商業化之一有機電致發光顯示裝置)之一外表面。因此，該觸控螢幕面板需要具有高穿透度及薄厚度等特性。
近來，可撓平面面板顯示裝置已被開發，且根據此趨勢，有必要使黏著於該可撓平面面板顯示裝置之該觸控螢幕面板具有可撓特性。
然而，該電容式觸控螢幕面板需要薄膜沉積、圖形形成程序、或其類似者，以便形成感應圖形等，來實施一觸控感測器。因此，便需要例如高耐熱及耐化學或其類似特性。所以，該電容式觸控螢幕面板具有將良好耐熱性之一樹脂(例如聚醯亞胺樹脂)硬化所形成一基膜上之一透明電極積層所提供。
另一方面，如此薄又可撓之基膜可被輕易地彎折或是扭曲，因此，於製造程序中處置該基膜、以及因而形成該透明電極積層甚為困難。解決這些問題的解決方法尚未建立。
例如，韓國專利公開號2012-133848所揭露之一種可撓觸控螢幕面板並無解決上述問題的提案。
因此，本發明之一目的，係提供一種用來製造可撓觸控螢幕面板的方法，其中形成一透明電極積層的程序可更精確及可靠地被執行。
本發明之另一目的，係提供一種製造可撓觸控螢幕面板的方法，其中由於包含於該黏著劑中之可揮發成分或被蒸發溶劑成分使一基膜之平坦性劣化的問題可因而避免。
本發明的上述目的將由以下特性達成：
(1)一種製造觸控螢幕面板之方法，包含：將一可透氣基膜藉由一黏著層黏著於一支撐體上；熱處理該黏著層而透過該可透氣基膜，使形成該黏著層的一黏著劑中所包含的溶劑成分或可揮發成分釋放；以及於該可透氣基膜上形成一透明電極積層。
(2) 依據上述(1)所述之方法，其中該支撐體係由一玻璃、石英、矽晶圓或是SUS所製成。
(3)依據上述(1)所述之方法，其中該可透氣基膜係由選自聚乙烯醚鄰苯二甲酸酯(polyethyleneetherphthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚芳香酯(polyarylate)、聚醚醯亞胺 (polyetherimide)、聚醚磺酸鹽 (polyethersulfonate)、聚醯亞胺(polyimide)、聚醚醚酮(polyetheretherketone)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate), 三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymer)、聚芳醯胺(aramide)、纖維強化塑膠(FRP)、聚氨酯(polyurethane)以及聚丙烯酸酯(polyacrylate)所組成群組中至少一材料所形成。
(4)依據上述(1)所述之方法，其中該可透氣基膜具有1至500克/平方米/24小時之水蒸氣透過率。
(5)依據上述(1)所述之方法，其中該黏著層係藉由於該支撐體之一表面或是該可透氣基膜塗佈一黏著組成物所形成。
(6)依據上述(5)所述之方法，其中該黏著組成物具有150至400ºC之熔點。
(7)依據上述(1)所述之方法，其中該熱處理係於該黏著組成物之熔點或之下所執行。
(8)依據上述(1)所述之方法，更包含，於熱處理所接著之形成該透明電極積層之該步骤前，於該可透氣基膜上形成一化學抵抗性塗佈層。
(9)依據上述(8)所述之方法，其中該化學抵抗性塗佈層係藉由於該可透氣基膜塗佈形成該化學抵抗性塗佈層之組成物所形成，該形成該化學抵抗性塗佈層之組成物包含一反應性烷氧矽烷化合物、丙烯酸化合物、氟化合物、二氧化矽(SiO2 )以及氮化矽(SiNx)，該反應性烷氧矽烷化合物含有具有1至20碳原子之烷氧基。
(10)依據上述(1)所述之方法，更包含，於該可透氣基膜上形成該透明電極積層之該步骤後，從該粘著層將該可透氣基膜剝離(delaminate)，該可透氣基膜具有於其上所形成該透明電極積層。
(11)一種依據上述(1)至(10)之其中任一方法所製造的可撓觸控螢幕面板。
(12)一種包含依據上述(11)所述之可撓觸控螢幕面板的可撓影像顯示裝置。
依據本發明，可能藉由執行隨後的程序，以及接著於該支撐體上黏著該基膜，得以精確地且可靠地執行形成一透明電極積層的程序。
再者，依據本發明，可能避免由於包含於該黏著劑中可揮發成分或被蒸發溶劑成分使得該基膜平坦性劣化。
本發明之另一目的，係提供一種製造可撓觸控螢幕面板的方法，其中由於包含於該黏著劑中之可揮發成分或被蒸發溶劑成分使一基膜之平坦性劣化的問題可因而避免。
本發明的上述目的將由以下特性達成：
(1)一種製造觸控螢幕面板之方法，包含：將一可透氣基膜藉由一黏著層黏著於一支撐體上；熱處理該黏著層而透過該可透氣基膜，使形成該黏著層的一黏著劑中所包含的溶劑成分或可揮發成分釋放；以及於該可透氣基膜上形成一透明電極積層。
(2) 依據上述(1)所述之方法，其中該支撐體係由一玻璃、石英、矽晶圓或是SUS所製成。
(3)依據上述(1)所述之方法，其中該可透氣基膜係由選自聚乙烯醚鄰苯二甲酸酯(polyethyleneetherphthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚芳香酯(polyarylate)、聚醚醯亞胺 (polyetherimide)、聚醚磺酸鹽 (polyethersulfonate)、聚醯亞胺(polyimide)、聚醚醚酮(polyetheretherketone)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate), 三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymer)、聚芳醯胺(aramide)、纖維強化塑膠(FRP)、聚氨酯(polyurethane)以及聚丙烯酸酯(polyacrylate)所組成群組中至少一材料所形成。
(4)依據上述(1)所述之方法，其中該可透氣基膜具有1至500克/平方米/24小時之水蒸氣透過率。
(5)依據上述(1)所述之方法，其中該黏著層係藉由於該支撐體之一表面或是該可透氣基膜塗佈一黏著組成物所形成。
(6)依據上述(5)所述之方法，其中該黏著組成物具有150至400ºC之熔點。
(7)依據上述(1)所述之方法，其中該熱處理係於該黏著組成物之熔點或之下所執行。
(8)依據上述(1)所述之方法，更包含，於熱處理所接著之形成該透明電極積層之該步骤前，於該可透氣基膜上形成一化學抵抗性塗佈層。
(9)依據上述(8)所述之方法，其中該化學抵抗性塗佈層係藉由於該可透氣基膜塗佈形成該化學抵抗性塗佈層之組成物所形成，該形成該化學抵抗性塗佈層之組成物包含一反應性烷氧矽烷化合物、丙烯酸化合物、氟化合物、二氧化矽(SiO2 )以及氮化矽(SiNx)，該反應性烷氧矽烷化合物含有具有1至20碳原子之烷氧基。
(10)依據上述(1)所述之方法，更包含，於該可透氣基膜上形成該透明電極積層之該步骤後，從該粘著層將該可透氣基膜剝離(delaminate)，該可透氣基膜具有於其上所形成該透明電極積層。
(11)一種依據上述(1)至(10)之其中任一方法所製造的可撓觸控螢幕面板。
(12)一種包含依據上述(11)所述之可撓觸控螢幕面板的可撓影像顯示裝置。
依據本發明，可能藉由執行隨後的程序，以及接著於該支撐體上黏著該基膜，得以精確地且可靠地執行形成一透明電極積層的程序。
再者，依據本發明，可能避免由於包含於該黏著劑中可揮發成分或被蒸發溶劑成分使得該基膜平坦性劣化。
10‧‧‧支撐體
20‧‧‧黏著層
30‧‧‧可透氣基膜
40‧‧‧離型膜
50‧‧‧透明電極積層
20‧‧‧黏著層
30‧‧‧可透氣基膜
40‧‧‧離型膜
50‧‧‧透明電極積層
本發明之上述及其他目的、特徵及其他優點，將可藉由以下實施方式並結合後附圖式而更清楚瞭解，其中：
第1圖為藉由依據本發明一示範實施例之一製造方法，依序說明形成可撓觸控螢幕面板流程之一示意圖。下文中，依據本發明該示範實施例之製造可撓觸控螢幕面板方法，將參閱所附圖式，逐步地詳細描述。
第1圖為藉由依據本發明一示範實施例之一製造方法，依序說明形成可撓觸控螢幕面板流程之一示意圖。下文中，依據本發明該示範實施例之製造可撓觸控螢幕面板方法，將參閱所附圖式，逐步地詳細描述。
首先，一可透氣基膜30係藉由一黏著層20黏著於一支撐體10。
該支撐體10可使用任何材料，只要是該材料可提供一適當強度，使得該支撐膜固定於其上(對於熱及化學處理具有極微影響，而不會在製造程序中彎折或扭曲)而沒有特別限制。例如，玻璃、石英、矽晶圓、或是不繡鋼可被使用作為該支撐體10之該材料，且優選地，玻璃可被使用。
該可透氣基膜30為形成一透明電極積層所在的一基板，其將如下述。於本發明中，該可透氣基膜30係黏著於具有最佳強度之該支撐體10的一表面，使得於該基膜上形成該透明電極之程序可被輕易執行。
該可透氣基膜30可以一膜片或一捲對捲(roll to roll)的形狀供應至該製造程序中，但不限定於此。此外，該可透氣基膜可以貼於至少其一表面上的一保護膜(未顯示)被供應至該製造程序中。在此種情況，該可透氣基膜係黏著於該支撐體10，隨後將黏著其上之該保護膜(未顯示)剝離(delaminating)。
該可透氣基膜30並無特別限定，只要其具有良好的耐熱性(使其可承受高溫程序，例如一熱處理程序、形成該透明電極積層之程序、或其類似者，其會於下描述)，以及具有氣體穿透性，使得包含於該黏著劑中的該溶劑成分及該可揮發成分可由其中穿過。例如，該可透氣基膜30可選自聚乙烯醚鄰苯二甲酸酯(polyethyleneetherphthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚芳香酯(polyarylate)、聚醚醯亞胺 (polyetherimide)、聚醚磺酸鹽 (polyethersulfonate)、聚醯亞胺(polyimide)、聚醚醚酮(polyetheretherketone)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate), 三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymer)、聚芳醯胺(aramide)、纖維強化塑膠(FRP)、聚氨酯(polyurethane)、聚丙烯酸酯(polyacrylate) 及其類似者之中至少一材料所製成。這些材料可被單獨或是以其中兩種或以上的組合而使用。
該可透氣基膜30之厚度並未特別限定，但其可為，例如，1至150微米之範圍內。
該可透氣基膜30之水蒸氣透過率並未特別限定於能夠允許包含於該黏著劑中之該溶劑成分及該可揮發成分由其穿過的範圍內(然而能夠具備足夠的耐久性)。例如，該可透氣基膜30可具有1至500/克/平方米/24小時之水蒸氣透過率。當該可透氣基膜可具有之水蒸氣透過率係於上述範圍內時，該基膜能夠允許包含於該黏著劑中之該可揮發成分及該被蒸發溶劑成分從其穿過，而同時能夠具有足夠之耐熱性及耐久性。
該黏著層20可藉由將一黏著組成物塗佈於該支撐體10或是該可透氣基膜30之一表面而形成。
作為塗佈該黏著組成物之方法，任何於相關領域中通常使用的方法可以無特別限定。例如，澆注(pouring)、旋轉塗佈、噴灑塗佈(spray coating)、浸漬塗佈(dip coating)、滴下塗佈(dropping)、滾輪塗佈(roll coating)、凹版塗佈(gravure coating) 或其類似的方法可以使用，但不限定於此。
或者，黏著層20可以黏著片(具有離型膜40黏著於其二表面)或是捲對捲的形狀而被供應至該製造程序中。
為了使包含於該接著劑中該溶劑成分之蒸發最小化，較優選為該黏著組成物具有一高熔點(Tm)，例如，150至400ºC，更優選為200至350ºC。當該黏著組成物具有150至400ºC之熔點時，包含於該接著劑中該溶劑成分之蒸發可被最小化。如果該黏著組成物低於150之熔點時，所形成之黏著層於如下描述之高溫程序中會熔化，且因此難以可靠地形成該透明電極積層。
依據本發明之黏著組成物並不特別限定，只要其可滿足上述條件，且可使用包含聚丙烯酸樹脂(polyacrylic acid resin)、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、矽氧烷樹脂、或其類似者於相關領域中通常使用之黏著組成物。
之後，該黏著層20經熱處理，以透過該可透氣基膜30釋放包含於形成該黏著層之該黏著劑中之該溶劑成分或該可揮發成分。
習知中，形成該黏著層30之該黏著劑中包含之該溶劑成分可藉由高溫程序(例如用以形成該透明電極積層的沉積程序、一熱處理程序、或其類似者)而被蒸發。在此種情況，該基膜之平坦性可能被於該黏著層所產生的氣泡所劣化。此一問題亦可能由於在包含於該黏著劑之可揮發成分所造成。
然而，依據本發明，可能於該透明電極積層形成之前，藉由預先釋放該溶劑成分或該可揮發成分，以解決上述問題。該溶劑成分或該可揮發成分穿過該可透氣基膜30而被釋放至空氣中。
熱處理之溫度及時間並未特別限定，但可於包含於該黏著劑之可揮發成分可被充分地蒸發而無損害該支撐體10及該可透氣基膜30之範圍中被適當選擇。例如，該熱處理可於該黏著劑組成物之熔點或更低所執行，且特別地，可於低於該熔點溫度20ºC之溫度被執行1至400分鐘。
熱處理的步驟可於一高溫被直接執行、可以一步驟接一步驟被執行、或可以當改變其溫度時被執行，以供應足夠蒸發包含於該黏著劑之可揮發成分所需要之熱能。每一步驟之加熱溫度、操作時間或其類似者，可以依所需要可適當地選擇。
本發明用來製造一可撓觸控螢幕面板之方法在該熱處理所接著的形成該透明電極積層步驟之前可更包含於該可透氣基膜30上形成一化學抵抗性塗佈層(未顯示) 。
該可透氣基膜30於之後程序期間被曝露於各種液體。然而，當該可透氣基膜30具有於其上形成之該化學抵抗性塗佈層時，由於該液體之損害可被避免。
該化學抵抗性塗佈層可藉由應用一組成物於該可透氣基膜30上(藉由使用例如澆注(pouring)、旋轉塗佈、噴灑塗佈(spray coating)、浸漬塗佈(dip coating)、滴下塗佈(dropping)、滾輪塗佈(roll coating)、凹版塗佈(gravure coating) 或其類似者之方法)而被形成，或者一化學抵抗性層可藉由使用例如化學氣相沉積、物理氣相沉積、濺鍍或其類似者之一方法直接形成，但不限定於此。
形成該化學抵抗性塗佈層之該組成物可包含例如：含有具有1至20碳原子之烷氧基的一反應性烷氧矽烷化合物、一丙烯酸化合物、一氟化合物等等之有機材料；例如二氧化矽(SiO2 )以及氮化矽(SiNx )等等之無機材料；或是有機無機混成材料(organic-inorganic hybrid materials)，但不限定於此。
其後，一透明電極積層50係形成於該可透氣基膜30上。
形成該透明電極積層50之方法可使用於相關領域中所知各種方法之任一(並無對其特別限制)。
依照一特定應用，該透明電極積層50可被形成，以具有各種結構。例如，該透明電極積層50可包含配置以提供於一使用者所接觸一點之座標上位置資訊之第一及第二透明電極層、設置介於該第一及第二透明電極層之間使該兩層互為電分離之一絕緣層、形成於該絕緣層中使得該第一及第二透明電極層互相電連接之接觸孔、及其類似者。
本發明用來製造一可撓觸控螢幕面板之方法，於形成該透明電極積層步驟之後，可更包含於將具有該透明電極積層50形成於其上之該可透氣基膜30從該黏著層20剝離。
對該黏著層20的該剝離程序之實施可以是藉由一雷射照射程序；一非雷射程序，例如，固定該可透氣基膜30及該支撐體10每一者至一夾具(jig)，以及應用一物理力於其上使互相分離之程序、或藉由空氣注入之分離程序；或是藉使用溫度變化之紫外線照射程序。優選地，該非雷射程序可被使用。
具有該透明電極積層50形成於其上之該可透氣基膜30可被結合至一顯示面板部分，以使用作為該觸控螢幕面板。
此外，本發明提供包括上述可撓觸控螢幕面板之一影像顯示裝置。
本發明之該影像顯示裝置，更包含於可撓觸控螢幕面板中通常使用的組件。
於此之後，所建議的優選實施例可更明確描述本發明。然而，後續範例僅作為說明本發明，且對於相同技術領域中具有通常知識者而言，於不脫離本發明之範疇及精神下，可能將範例作出各種改變及修正，此種改變及修正都適當地包含於後附申請專利範圍。
製備範例
製備範例1：黏著片之製備
將45重量分之丙烯酸十二烷酯、45重量分之丙烯酸甲酯，5重量分之丙烯酸、5重量分之丙烯酸2-羥乙酯、以及0.2重量分之perbutyl ND (日油株式会社)混合。之後，230重量分之乙酸乙酯加於其中，以及然後在攪拌狀態下於55ºC攪拌該混合物4小時，以製備該黏著劑組成物。該聚合樹脂具有700,000之重量平均分子量(Mw)，以及該粘著劑組成物具有350ºC之熔點溫度。
該已製備的黏著劑組成物施加於PET離型膜，並於120ºC溫度乾燥20分鐘，因此製造一黏著片。
製備範例2：黏著片之製備
將60重量分之7657(道康寧公司，Dow Corning Co.)作為一聚矽氧(silicone)黏著劑、40重量分之7336(道康寧公司)作為一聚矽氧離型劑、2重量分之7367(道康寧公司)作為一交聯劑(cross-linking agent)、1重量分之鉑催化劑、以及2重量分之9250 (道康寧公司)作為一錨定劑(anchorage agent)混合，以製備一聚矽氧黏著劑組成物，已製備之黏著劑組成物具有180ºC之熔點溫度。
該製備之黏著劑組成物施加於PET離型膜，並於100ºC溫度乾燥20分鐘，因此製造一黏著片。
範例1
製備範例1之該黏著片被黏著於液晶顯示器用之具有500微米厚度之一玻璃(EAGLE XG，三星康寧精密材料公司，Samsung Corning Precision Materials Co.)上，以形成一粘著層，以及具有25微米厚度之一可透氣基膜片(Kapton型HN膜，杜邦公司，DuPont Co.)，被黏著於該黏著層上，藉此製備具有該可透氣基膜之一黏合體(bonded body)。
該黏合體於一熱空氣乾燥烘箱中經150ºC、60分鐘熱處理，以釋放包含於形成該黏著層之該黏著劑中之可揮發成分及被蒸發溶劑成分。
之後，用於形成包含一反應性乙氧基矽烷化合物之一化學抵抗性塗佈層的一組成物被塗佈於該可透氣基膜，以形成一化學抵抗性塗佈層。
其次，於該可透氣基膜上(其上具有該化學抵抗性塗佈層)，將銦錫氧化物(ITO)沉積至500埃之厚度，以形成一透明電極積層。
然後，將具有該透明電極積層之該可透氣基膜以30米/分鐘之速度以180度之方向拉伸，以自該黏著層分離。
範例2
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用製備範例2之該黏著片之外)。
範例3
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有100微米厚度之一可透氣基膜片(SUMILITE FS-1300，住友培科株式會社，Sumitomo Bakelite Co.) 之外)。
範例4
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有250微米厚度之一可透氣基膜片(ZEONOR 1020R, Zeon Co.))。
範例5
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有500微米厚度之一可透氣基膜片(Estane 58237 TPU，路博潤公司，Lubrizol Co.) 之外)。
範例6
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了該化學抵抗性塗佈層被排除之外)。
比較範例7
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用一不透氣基膜片(moisture Barrier Films FG100，Materion Co.) 而非可透氣基膜片之外)。
實驗性範例
(1) 水蒸氣透過率(WVTR)之量測
於範例及比較範例中所製造之該基膜之水蒸氣透過率基於ASTM之E96-95-程序BW進行量測，且量測結果如表1所示。
(2)平坦性評估
於範例及比較範例中所形成之該透明電極積層經目視觀察，以辨識該積層是否係均勻地形成，以及表面電阻之面內均勻性被量測，以依據以下標準而評估該平坦性，且該評估結果如表1所示。
<評估標準>
◎：積層為均勻地形成，且表面電阻之面內均勻性係小於10%
○：積層為均勻地形成，且表面電阻之面內均勻性係小於20%
△：積層為相對均勻地形成，但表面電阻之面內均勻性超過20%
×：該基膜之剝離已產生，且因而該透明電極積層係非均勻地形成
(3)化學抵抗性評估
於範例及比較範例中所形成之每一透明電極積層在20ºC浸於丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene Glycol Methyl Ether Acetate，PGMEA)及5%氫氧化鉀(KOH)之水溶液中10分鐘。10分鐘後，撈出該積層，並以去離子水清洗，然後於室溫下乾燥5分鐘。
之後，該基膜之表面經目視觀察，以依據以下標準來評估該化學抵抗性。
<評估標準>
◎：該基膜之表面為乾淨，且無觀察到損害部分
○：該基膜之表面為乾淨，但觀察到輕微損害部分
△：該基膜之表面褪成黃色或已有收縮
×：該基膜之表面已被液體褪成白色或損害
表1
參閱表1，可觀察到範例1至3之該積層具有基膜之非常良好的平坦性及化學抵抗性。
此外，可觀察到範例4之具有基膜之低水蒸氣透過率之積層以及範例5之具有一高水蒸氣透過率之積層有輕微下降之平坦性，不過仍顯示良好的表現。
再者，可觀察到範例6沒有化學抵抗性塗佈層之該積層有輕微下降之化學抵抗性，不過其仍維持良好之水準，且顯示非常良好的平坦性。
然而，在比較範例中的該積層之情況，由於包含於該黏著劑中之該可揮發成分以及於ITO膜沉積程序中被蒸發之溶劑成分，氣泡被產生，且因而可觀察到該基膜之平坦性不佳。
該支撐體10可使用任何材料，只要是該材料可提供一適當強度，使得該支撐膜固定於其上(對於熱及化學處理具有極微影響，而不會在製造程序中彎折或扭曲)而沒有特別限制。例如，玻璃、石英、矽晶圓、或是不繡鋼可被使用作為該支撐體10之該材料，且優選地，玻璃可被使用。
該可透氣基膜30為形成一透明電極積層所在的一基板，其將如下述。於本發明中，該可透氣基膜30係黏著於具有最佳強度之該支撐體10的一表面，使得於該基膜上形成該透明電極之程序可被輕易執行。
該可透氣基膜30可以一膜片或一捲對捲(roll to roll)的形狀供應至該製造程序中，但不限定於此。此外，該可透氣基膜可以貼於至少其一表面上的一保護膜(未顯示)被供應至該製造程序中。在此種情況，該可透氣基膜係黏著於該支撐體10，隨後將黏著其上之該保護膜(未顯示)剝離(delaminating)。
該可透氣基膜30並無特別限定，只要其具有良好的耐熱性(使其可承受高溫程序，例如一熱處理程序、形成該透明電極積層之程序、或其類似者，其會於下描述)，以及具有氣體穿透性，使得包含於該黏著劑中的該溶劑成分及該可揮發成分可由其中穿過。例如，該可透氣基膜30可選自聚乙烯醚鄰苯二甲酸酯(polyethyleneetherphthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚芳香酯(polyarylate)、聚醚醯亞胺 (polyetherimide)、聚醚磺酸鹽 (polyethersulfonate)、聚醯亞胺(polyimide)、聚醚醚酮(polyetheretherketone)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate), 三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymer)、聚芳醯胺(aramide)、纖維強化塑膠(FRP)、聚氨酯(polyurethane)、聚丙烯酸酯(polyacrylate) 及其類似者之中至少一材料所製成。這些材料可被單獨或是以其中兩種或以上的組合而使用。
該可透氣基膜30之厚度並未特別限定，但其可為，例如，1至150微米之範圍內。
該可透氣基膜30之水蒸氣透過率並未特別限定於能夠允許包含於該黏著劑中之該溶劑成分及該可揮發成分由其穿過的範圍內(然而能夠具備足夠的耐久性)。例如，該可透氣基膜30可具有1至500/克/平方米/24小時之水蒸氣透過率。當該可透氣基膜可具有之水蒸氣透過率係於上述範圍內時，該基膜能夠允許包含於該黏著劑中之該可揮發成分及該被蒸發溶劑成分從其穿過，而同時能夠具有足夠之耐熱性及耐久性。
該黏著層20可藉由將一黏著組成物塗佈於該支撐體10或是該可透氣基膜30之一表面而形成。
作為塗佈該黏著組成物之方法，任何於相關領域中通常使用的方法可以無特別限定。例如，澆注(pouring)、旋轉塗佈、噴灑塗佈(spray coating)、浸漬塗佈(dip coating)、滴下塗佈(dropping)、滾輪塗佈(roll coating)、凹版塗佈(gravure coating) 或其類似的方法可以使用，但不限定於此。
或者，黏著層20可以黏著片(具有離型膜40黏著於其二表面)或是捲對捲的形狀而被供應至該製造程序中。
為了使包含於該接著劑中該溶劑成分之蒸發最小化，較優選為該黏著組成物具有一高熔點(Tm)，例如，150至400ºC，更優選為200至350ºC。當該黏著組成物具有150至400ºC之熔點時，包含於該接著劑中該溶劑成分之蒸發可被最小化。如果該黏著組成物低於150之熔點時，所形成之黏著層於如下描述之高溫程序中會熔化，且因此難以可靠地形成該透明電極積層。
依據本發明之黏著組成物並不特別限定，只要其可滿足上述條件，且可使用包含聚丙烯酸樹脂(polyacrylic acid resin)、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、矽氧烷樹脂、或其類似者於相關領域中通常使用之黏著組成物。
之後，該黏著層20經熱處理，以透過該可透氣基膜30釋放包含於形成該黏著層之該黏著劑中之該溶劑成分或該可揮發成分。
習知中，形成該黏著層30之該黏著劑中包含之該溶劑成分可藉由高溫程序(例如用以形成該透明電極積層的沉積程序、一熱處理程序、或其類似者)而被蒸發。在此種情況，該基膜之平坦性可能被於該黏著層所產生的氣泡所劣化。此一問題亦可能由於在包含於該黏著劑之可揮發成分所造成。
然而，依據本發明，可能於該透明電極積層形成之前，藉由預先釋放該溶劑成分或該可揮發成分，以解決上述問題。該溶劑成分或該可揮發成分穿過該可透氣基膜30而被釋放至空氣中。
熱處理之溫度及時間並未特別限定，但可於包含於該黏著劑之可揮發成分可被充分地蒸發而無損害該支撐體10及該可透氣基膜30之範圍中被適當選擇。例如，該熱處理可於該黏著劑組成物之熔點或更低所執行，且特別地，可於低於該熔點溫度20ºC之溫度被執行1至400分鐘。
熱處理的步驟可於一高溫被直接執行、可以一步驟接一步驟被執行、或可以當改變其溫度時被執行，以供應足夠蒸發包含於該黏著劑之可揮發成分所需要之熱能。每一步驟之加熱溫度、操作時間或其類似者，可以依所需要可適當地選擇。
本發明用來製造一可撓觸控螢幕面板之方法在該熱處理所接著的形成該透明電極積層步驟之前可更包含於該可透氣基膜30上形成一化學抵抗性塗佈層(未顯示) 。
該可透氣基膜30於之後程序期間被曝露於各種液體。然而，當該可透氣基膜30具有於其上形成之該化學抵抗性塗佈層時，由於該液體之損害可被避免。
該化學抵抗性塗佈層可藉由應用一組成物於該可透氣基膜30上(藉由使用例如澆注(pouring)、旋轉塗佈、噴灑塗佈(spray coating)、浸漬塗佈(dip coating)、滴下塗佈(dropping)、滾輪塗佈(roll coating)、凹版塗佈(gravure coating) 或其類似者之方法)而被形成，或者一化學抵抗性層可藉由使用例如化學氣相沉積、物理氣相沉積、濺鍍或其類似者之一方法直接形成，但不限定於此。
形成該化學抵抗性塗佈層之該組成物可包含例如：含有具有1至20碳原子之烷氧基的一反應性烷氧矽烷化合物、一丙烯酸化合物、一氟化合物等等之有機材料；例如二氧化矽(SiO2 )以及氮化矽(SiNx )等等之無機材料；或是有機無機混成材料(organic-inorganic hybrid materials)，但不限定於此。
其後，一透明電極積層50係形成於該可透氣基膜30上。
形成該透明電極積層50之方法可使用於相關領域中所知各種方法之任一(並無對其特別限制)。
依照一特定應用，該透明電極積層50可被形成，以具有各種結構。例如，該透明電極積層50可包含配置以提供於一使用者所接觸一點之座標上位置資訊之第一及第二透明電極層、設置介於該第一及第二透明電極層之間使該兩層互為電分離之一絕緣層、形成於該絕緣層中使得該第一及第二透明電極層互相電連接之接觸孔、及其類似者。
本發明用來製造一可撓觸控螢幕面板之方法，於形成該透明電極積層步驟之後，可更包含於將具有該透明電極積層50形成於其上之該可透氣基膜30從該黏著層20剝離。
對該黏著層20的該剝離程序之實施可以是藉由一雷射照射程序；一非雷射程序，例如，固定該可透氣基膜30及該支撐體10每一者至一夾具(jig)，以及應用一物理力於其上使互相分離之程序、或藉由空氣注入之分離程序；或是藉使用溫度變化之紫外線照射程序。優選地，該非雷射程序可被使用。
具有該透明電極積層50形成於其上之該可透氣基膜30可被結合至一顯示面板部分，以使用作為該觸控螢幕面板。
此外，本發明提供包括上述可撓觸控螢幕面板之一影像顯示裝置。
本發明之該影像顯示裝置，更包含於可撓觸控螢幕面板中通常使用的組件。
於此之後，所建議的優選實施例可更明確描述本發明。然而，後續範例僅作為說明本發明，且對於相同技術領域中具有通常知識者而言，於不脫離本發明之範疇及精神下，可能將範例作出各種改變及修正，此種改變及修正都適當地包含於後附申請專利範圍。
製備範例
製備範例1：黏著片之製備
將45重量分之丙烯酸十二烷酯、45重量分之丙烯酸甲酯，5重量分之丙烯酸、5重量分之丙烯酸2-羥乙酯、以及0.2重量分之perbutyl ND (日油株式会社)混合。之後，230重量分之乙酸乙酯加於其中，以及然後在攪拌狀態下於55ºC攪拌該混合物4小時，以製備該黏著劑組成物。該聚合樹脂具有700,000之重量平均分子量(Mw)，以及該粘著劑組成物具有350ºC之熔點溫度。
該已製備的黏著劑組成物施加於PET離型膜，並於120ºC溫度乾燥20分鐘，因此製造一黏著片。
製備範例2：黏著片之製備
將60重量分之7657(道康寧公司，Dow Corning Co.)作為一聚矽氧(silicone)黏著劑、40重量分之7336(道康寧公司)作為一聚矽氧離型劑、2重量分之7367(道康寧公司)作為一交聯劑(cross-linking agent)、1重量分之鉑催化劑、以及2重量分之9250 (道康寧公司)作為一錨定劑(anchorage agent)混合，以製備一聚矽氧黏著劑組成物，已製備之黏著劑組成物具有180ºC之熔點溫度。
該製備之黏著劑組成物施加於PET離型膜，並於100ºC溫度乾燥20分鐘，因此製造一黏著片。
範例1
製備範例1之該黏著片被黏著於液晶顯示器用之具有500微米厚度之一玻璃(EAGLE XG，三星康寧精密材料公司，Samsung Corning Precision Materials Co.)上，以形成一粘著層，以及具有25微米厚度之一可透氣基膜片(Kapton型HN膜，杜邦公司，DuPont Co.)，被黏著於該黏著層上，藉此製備具有該可透氣基膜之一黏合體(bonded body)。
該黏合體於一熱空氣乾燥烘箱中經150ºC、60分鐘熱處理，以釋放包含於形成該黏著層之該黏著劑中之可揮發成分及被蒸發溶劑成分。
之後，用於形成包含一反應性乙氧基矽烷化合物之一化學抵抗性塗佈層的一組成物被塗佈於該可透氣基膜，以形成一化學抵抗性塗佈層。
其次，於該可透氣基膜上(其上具有該化學抵抗性塗佈層)，將銦錫氧化物(ITO)沉積至500埃之厚度，以形成一透明電極積層。
然後，將具有該透明電極積層之該可透氣基膜以30米/分鐘之速度以180度之方向拉伸，以自該黏著層分離。
範例2
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用製備範例2之該黏著片之外)。
範例3
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有100微米厚度之一可透氣基膜片(SUMILITE FS-1300，住友培科株式會社，Sumitomo Bakelite Co.) 之外)。
範例4
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有250微米厚度之一可透氣基膜片(ZEONOR 1020R, Zeon Co.))。
範例5
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用具有500微米厚度之一可透氣基膜片(Estane 58237 TPU，路博潤公司，Lubrizol Co.) 之外)。
範例6
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了該化學抵抗性塗佈層被排除之外)。
比較範例7
一可透氣基膜依照與範例1所描述相同程序被製備(除了使用一不透氣基膜片(moisture Barrier Films FG100，Materion Co.) 而非可透氣基膜片之外)。
實驗性範例
(1) 水蒸氣透過率(WVTR)之量測
於範例及比較範例中所製造之該基膜之水蒸氣透過率基於ASTM之E96-95-程序BW進行量測，且量測結果如表1所示。
(2)平坦性評估
於範例及比較範例中所形成之該透明電極積層經目視觀察，以辨識該積層是否係均勻地形成，以及表面電阻之面內均勻性被量測，以依據以下標準而評估該平坦性，且該評估結果如表1所示。
<評估標準>
◎：積層為均勻地形成，且表面電阻之面內均勻性係小於10%
○：積層為均勻地形成，且表面電阻之面內均勻性係小於20%
△：積層為相對均勻地形成，但表面電阻之面內均勻性超過20%
×：該基膜之剝離已產生，且因而該透明電極積層係非均勻地形成
(3)化學抵抗性評估
於範例及比較範例中所形成之每一透明電極積層在20ºC浸於丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene Glycol Methyl Ether Acetate，PGMEA)及5%氫氧化鉀(KOH)之水溶液中10分鐘。10分鐘後，撈出該積層，並以去離子水清洗，然後於室溫下乾燥5分鐘。
之後，該基膜之表面經目視觀察，以依據以下標準來評估該化學抵抗性。
<評估標準>
◎：該基膜之表面為乾淨，且無觀察到損害部分
○：該基膜之表面為乾淨，但觀察到輕微損害部分
△：該基膜之表面褪成黃色或已有收縮
×：該基膜之表面已被液體褪成白色或損害
表1
參閱表1，可觀察到範例1至3之該積層具有基膜之非常良好的平坦性及化學抵抗性。
此外，可觀察到範例4之具有基膜之低水蒸氣透過率之積層以及範例5之具有一高水蒸氣透過率之積層有輕微下降之平坦性，不過仍顯示良好的表現。
再者，可觀察到範例6沒有化學抵抗性塗佈層之該積層有輕微下降之化學抵抗性，不過其仍維持良好之水準，且顯示非常良好的平坦性。
然而，在比較範例中的該積層之情況，由於包含於該黏著劑中之該可揮發成分以及於ITO膜沉積程序中被蒸發之溶劑成分，氣泡被產生，且因而可觀察到該基膜之平坦性不佳。
10‧‧‧支撐體
20‧‧‧黏著層
30‧‧‧可透氣基膜
40‧‧‧離型膜
50‧‧‧透明電極積層
Claims (1)
- 一種製造一觸控螢幕面板之方法，包括：
將一可透氣基膜藉由一黏著層黏著於一支撐體上；
熱處理該黏著層，以透過該可透氣基膜，使形成該黏著層的一黏著劑中所包含的溶劑成分或可揮發成分釋放；以及
於該可透氣基膜上形成一透明電極積層。
2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該支撐體係由一玻璃、石英、矽晶圓或是SUS所製成。
3. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該可透氣基膜係由選自聚乙烯醚鄰苯二甲酸酯(polyethyleneetherphthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚芳香酯(polyarylate)、聚醚醯亞胺 (polyetherimide)、聚醚磺酸鹽 (polyethersulfonate)、聚醯亞胺(polyimide)、聚醚醚酮(polyetheretherketone)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate), 三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、環烯烴聚合物(cyclo-olefin polymer)、聚芳醯胺(aramide)、纖維強化塑膠(FRP)、聚氨酯(polyurethane)以及聚丙烯酸酯(polyacrylate)所組成群組中至少一材料所形成。
4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該可透氣基膜具有1至500克/平方米/24小時之一水蒸氣透過率。
5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該黏著層係藉由於該支撐體之一表面或是該可透氣基膜塗佈一黏著組成物所形成。
6. 如申請專利範圍第5項所述之方法，其中該黏著組成物具有150至400ºC之一熔點。
7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該熱處理係於該黏著組成物之該熔點或之下所執行。
8. 如申請專利範圍第1項所述之方法，更包括，於熱處理所接著之形成該透明電極積層之該步骤前，於該可透氣基膜上形成一化學抵抗性塗佈層。
9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中該化學抵抗性塗佈層係藉由於該可透氣基膜塗佈形成該化學抵抗性塗佈層之一組成物所形成，該形成該化學抵抗性塗佈層之該組成物包含一反應性烷氧矽烷化合物、一丙烯酸化合物、一氟化合物、二氧化矽(SiO2)以及氮化矽(SiNx)，該反應性烷氧矽烷化合物含有具有1至20碳原子之一烷氧基。
10. 如申請專利範圍第1項所述之方法，更包括，於該可透氣基膜上形成該透明電極積層之該步骤後，從該粘著層將該可透氣基膜剝離(delaminate)，該可透氣基膜具有於其上所形成的該透明電極積層。
11. 一種如申請專利範圍第1項至第10項其中之任一項所述之方法所製造的可撓觸控螢幕面板。
12. 一種包括如申請專利範圍第11項所述之可撓觸控螢幕面板的可撓影像顯示裝置。
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2014
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