KR20140131479A - 전도성 유리 기판 및 전도성 유리 기판 제조방법 - Google Patents

전도성 유리 기판 및 전도성 유리 기판 제조방법 Download PDF

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Abstract

전도성 유리 기판은 유리 기판, 실리콘 이산화막 및 전도성 격자 라인을 포함하며, 상기 유리 기판은 상기 유리 기판의 표면 상에 격자 홈을 정의하며; 상기 실리콘 이산화막은 상기 홈을 정의하는 상기 유리 기판의 상기 표면에 부착되며; 상기 전도성 격자 라인은 상기 홈에 맞추어진 형태를 가지며, 상기 전도성 격자 라인은 상기 홈에 개재되고, 상기 실리콘 이산화막을 통해 상기 유리 기판에 부착된다. 상기 전도성 유리 기판에 있어서, 상기 전도성 격자 라인은 상기 홈 내에 개재되며, 종래의 전도성 유리 기판과 비교할 때, 연성 기판이 지지체로서 필요하지 않아서, 비용이 절감되며, 전도성 유리 기판의 구조가 간단하기 때문에 공정을 간소화하고 인력과 자원을 절약할 수 있다. 전도성 유리 기판 제작방법이 제공된다.

Description

전도성 유리 기판 및 전도성 유리 기판 제조방법{CONDUCTIVE GLASS SUBSTRATE AND PREPARATION METHOD THEREOF}
본 발명은 유리 기판 기술에 관한 것으로서, 특히, 전도성 유리 기판 및 전도성 유리 기판 제조방법에 관한 것이다.
터치 스크린은 “터치하는 곳이 획득하는 곳이다”라는 장점과 견고함과 내구성, 빠른 응답과 공간 절약이라는 다른 장점으로 인해 사람들에게 더욱더 각광받고 있다. 현재, 전도성 패턴이나 격자는 다양한 전자제품 분야, 특히 터치 스크린 분야에 넓게 적용되고 있는 전도성 유리 기판을 형성하기 위해 유리 기판 상에 형성된다.
상기 전도성 패턴이나 격자는 전도성 금속과 인듐 틴 옥사이드(ITO : indium tin oxide)의 물질로 이루어진다. ITO는 전도성 패턴을 형성하기 위해 이용되며, 전도성 격자는 전도성 금속으로 이루어진다. 전도성 유리 기판을 제작하기 위한 종래의 방법에 있어서, 전도성 유리 기판 상에 전도성 격자를 형성하기 위해, 연성 기판에 형성된 전도성 격자가 먼저 필요하게 되며, 연성 기판과 유리 기판이 접착되고, 마지막으로 전도성 유리 기판이 형성된다. 많은 연성 기판들이 위의 전도성 유리 기판 제작방법에 이용되고 있으며, 상기 프로세스는 복잡하며, 몰딩 프로세스와 다른 프로세스들을 필요로 하며, 많은 인력과 자원들도 필요되어, 비용이 비싸게 된다.
본 발명의 하나의 목적은 저렴한 전도성 유리 기판을 제공하는 것이다.
전도성 유리 기판은 :
표면 상에 격자 홈을 정의하는 유리 기판;
상기 홈을 정의하는 상기 유리 기판의 상기 표면에 부착되는 실리콘 이산화막;
상기 홈의 형태에 맞추어져 있으며, 상기 홈에 개재되고, 상기 실리콘 이산화막을 통해 상기 유리 기판에 부착되는 전도성 격자 라인;을 포함한다.
일 실시예에서, 상기 전도성 격자 라인은 금속, 전도성 폴리머, 그래핀(graphene), 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어진다.
일 실시예에서, 상기 전도성 격자 라인의 상기 물질은 유리 파우더를 더 포함한다.
상기 전도성 유리 기판에 있어서, 상기 전도성 격자 라인은 상기 홈 내에 개재되며, 종래의 전도성 유리 기판과 비교할 때, 연성 기판이 지지체로서 필요하지 않아서, 비용이 절감되며, 전도성 유리 기판의 구조가 간단하기 때문에 추가적으로 공정을 간소화하고 인력과 자원을 절약할 수 있다.
전도성 유리 기판 제작방법은 :
표면에 격자 홈을 정의하는 유리 기판을 제공하는 단계;
상기 홈을 정의하는 상기 유리 기판의 상기 표면에 실리콘 산화막을 코팅하는 단계;
전도성 잉크가 상기 홈에 안착되도록 실리콘 산화막을 갖는 상기 유리 기판의 표면에 상기 전도성 잉크를 인쇄하는 단계; 및
상기 전도성 잉크를 경화하여 상기 유리 기판의 표면 상에 전도성 격자 라인을 형성하고, 전도성 유리 기판을 획득하는 단계;를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 전도성 잉크는 금속 입자, 전도성 폴리머 입자, 그래핀 입자, 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 입자를 포함한다.
일 실시예에서, 상기 전도성 잉크는 유리 파우더를 더 포함한다.
일 실시예에서, 상기 유리 기판은,
표면이 편평한 최초 유리 기판을 제공하는 단계;
상기 최초 유리 기판의 상기 표면 상에 포토레지스트를 코팅하여, 상기 포토레지스트가 상기 최초 유리 기판의 상기 표면 상에 식각 보호막을 형성하는 단계;
상기 식각 보호막을 노출하고 현상하여, 상기 최초 유리 기판의 표면 상에서 상기 홈이 정의되도록 상기 식각 보호막을 제거하는 단계;
식각액을 이용해서 상기 최초 유리 기판의 표면을 식각하여, 상기 최초 유리 기판의 표면 상에 상기 홈을 형성하는 단계; 및
상기 식각 보호막을 세정하고 제거하여, 표면에 홈이 정의되어 있는 상기 유리 기판을 획득하는 단계;를 통해 제작된다.
일 실시예에서, 상기 식각액은 불산(hydrofluoric acid) 용액이다.
일 실시예에서, 상기 유리 기판은,
주입 챔버를 갖는 금형을 제공하는 단계, 여기서 상기 주입 챔버의 내부면은 홈을 정의하고, 상기 금형은 측벽 상에 주입부를 정의하고, 상기 주입부와 상기 주입 챔버는 연결되며; 및
상기 주입부를 통해 상기 주입 챔버에 녹은 유리를 주입하고, 냉각하여 상기 유리 기판을 획득하는 단계;를 통해 제작된다.
일 실시예에서, 상기 금형은 상부 금형 코어(core), 하부 금형 코어 및 고리형 캐비티 벽을 포함하며, 상기 상부 금형 코어, 상기 하부 금형 코어 및 상기 고리형 캐비티 벽이 협력하여 상기 주입 챔버를 형성하도록, 상기 상부 금형 코어와 상기 하부 금형 코어는 상기 고리형 캐비티 벽의 두 개의 면 상에 각각 위치한다.
일 실시예에서, 상기 유리 기판은 무기 규산염, 폴리카보네이트 및 폴리메틸메타크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어진다.
상기 전도성 유리 기판의 제작방법에 있어서, 상기 프로세스가 상대적으로 간단하므로, 인력과 자원을 절약하고 생산 비용을 줄일 수 있다. 게다가, 상기 방법으로 제작되는 전도성 유리 기판에 대해서는, 지지체로서 연성 기판을 사용할 필요가 없기 때문에, 비용이 더 절감된다.
도 1은 전도성 유리 기판의 일 실시예에 대해 도식화한 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 전도성 유리 기판의 유리 기판을 도식화한 단면도이다.
도 3은 전도성 유리 기판 제작방법의 일 실시예에 대한 순서도이다.
도 4는 도 3에 도시된 유리 기판의 제작방법에 대한 순서도이다.
도 5는 도 3에 도시된 유리 기판의 제작방법에 대한 프로세스 시퀀스를 나타낸 것이다.
도 6은 도 3에 도시된 유리 기판의 제작방법에 대한 프로세스 시퀀스의 또 다른 실시예를 나타낸 것이다.
도 7은 도 3에 도시된 유리 기판의 제작방법에 대한 또 다른 실시예의 순서도이다.
도 8은 유리 기판 제작을 위한 금형을 도식화한 조감도이다.
본 발명의 구체적인 실시예들을 아래에서 설명하도록 한다. 다음의 설명은 이러한 실시예들의 완전한 이해와 가능한 설명들을 위한 특정한 상세사항을 제공한다. 당업자는 본 발명이 그러한 상세사항 없이도 실행될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 즉, 본 실시예들의 설명을 불필요하게 흐리는 것을 피하기 위해, 종래의 구조와 기능들은 구체적으로 도시되거나 설명되지 않았다.
문맥이 명백하게 다른 사항들을 요구하지 않는 한, 발명의 상세한 설명, 청구범위, “포함한다”, “포함하는”와 같은 단어 등은, 배타적이거나 과도한 표현과는 달리 포괄적인 표현으로 이해되어야 한다; 즉, “포함하나, 반드시 이에 제한되지는 않는다”와 같은 표현. 단일 또는 복수의 숫자를 이용하는 단어들은 각각 복수 또는 단일의 숫자를 포함할 수도 있다. 부가적으로, “본 명세서에서”, “위에서”, “아래에서”와 같은 단어와 유사한 중요성의 단어가 본 출원에서 이용되는 경우, 본 출원의 전체를 지칭하는 것이며 본 출원의 특정한 일부분만을 지칭하는 것이 아니다. 청구범위가 두 개 이상의 항목에 대한 리스트를 참조하여 “또는”이라는 단어를 이용하는 경우, 상기 용어는 상기 단어에 대한 다음의 모든 해석을 커버하는 것이다 : 리스트 내의 임의의 항목들, 리스트 내의 모든 항목들 및 리스트 내의 항목들의 임의의 조합.
도 1을 참조하면, 전도성 유리 기판(100)의 일 실시예는 유리 기판(110), 실리콘 산화막(130) 및 전도성 격자 라인(150)을 포함한다.
도 2를 참조하면, 격자 홈(112)은 유리 기판의 표면에 정의된다. 유리 기판(110)은 무기 규산염 유리가 될 수 있으며, 폴리카보네이트 또는 폴리메틸메타크릴레이트 등으로 이루어진 유기 유리가 될 수도 있다.
실리콘 이산화막(130)은 홈(112)을 정의하는 유리 기판(110)의 표면에 부착된다. 전도성 격자 라인(150)의 형태는 홈(112)의 형태에 맞추어져 잇다. 전도성 격자 라인(150)은 홈(112) 내에 개재되어, 실리콘 이산화막(130)을 통해 유리 기판(110)에 부착된다. 실리콘 이산화막(130)은 전도성 격자 라인(150)과 유리 기판(110) 사이의 접착력을 증가시킬 수 있으며, 이는 전도성 격자 라인(150)이 유리 기판(110)으로부터 쉽게 떨어지지 않게 한다.
전도성 격자 라인(150)은 금속, 전도성 폴리머, 그래핀(graphene), 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어진다. 설명된 실시예에서, 전도성 격자 라인(150)은 은으로 이루어진다. 게다가, 전도성 격자 라인(150)의 물질은 유리 파우더를 더 포함하여, 전도성 격자 라인(150)과 유리 기판(110) 사이의 접착력을 증가시킨다.
전도성 유리 기판(100)에 있어서, 전도성 격자 라인(150)은 상기 유리 기판(100)의 홈(112)에 직접 개재되며, 종래의 전도성 유리 기판과 비교해 볼 때, 상기 방법에 의해 제작되는 전도성 유리 기판(100)에 대해서는 연성 기판이 지지체로서 사용될 필요가 없기 때문에, 비용이 더 절감된다. 게다가, 전도성 유리 기판(100)의 구조가 간단하므로, 프로세스를 간소화하고, 인력과 자원을 절약할 수 있다.
도 3을 참조하면, 전도성 유리 기판9100)의 제작방법에 대한 일 실시예는 다음의 단계들을 포함한다 :
단계 S310에서, 유리 기판이 제공되며, 상기 유리 기판은 표면 상에 홈을 정의하고, 상기 홈은 격자화된다. 유리 기판(110)은 표면 상에 홈(112)을 정의하며, 홈(112)은 격자화되어 있다. 도 4를 참조하면, 특히, 유리 기판(110)은 다음의 단계들을 통해 제작될 수 있다 :
단계 S311a에서, 최초 유리 기판이 제공되며, 최초 유리 기판의 표면은 편평하다. 도 5를 참조하면, 최초 유리 기판(510)이 제공되며, 최초 유리 기판(510)의 표면이 편평하게 되어 있다.
단계 S313a에서, 포토레지스트가 최초 유리 기판의 표면 상에 코팅되어, 포토레지스트는 최초 유리 기판의 표면 상에 식각 보호막을 형성한다. 최초 유리 기판(510)이 세정된 후, 포토레지스트는 최초 유리 기판(510)의 표면에 코팅되며, 포토레지스트는 최초 유리 기판(510)의 표면 상에 식각 보호막(520)을 형성한다.
단계 S315a에서, 식각 보호막이 노출되고 현상되어 최초 유리 기판의 표면 상에서 홈이 정의되도록 식각 보호막을 제거한다. 도 6을 참조하면, 식각 보호막(520)은 마스크판을 통해서 노출되어, 현상 용액을 통해 현상된다. 현상 후, 최초 유리 기판(510)의 표면 상의 식각 보호막(520)은 홈(112)이 정의되도록 제거된다.
포토레지스트는 자외선 조사를 통해 화학반응을 가질 수 있다. 구체적으로, 자외선 조사를 통해, 현상액 내에서 용해되지 않는 물질 내의 마이크로분자가 현상액 내에서 용해될 수 있는 마이크로분자로 분해된다. 마스크판에는 필요에 따라, 격자 홈(112)과 일치하는 윈도우가 제공된다. 자외선은 포토레지스트에 의해 형성된 식각 보호막(520)에 마스크판을 통해 조사되며, 식각 보호막(520)의 일부분은 현상액에서 분해되고 용해되어, 식각 보호막(520)은 홈(112)이 정의되도록 제거된다.
대체 실시예에서, 포토레지스트가 자외선 조사를 통해 경화되어 현상액에 용해되지 않게 될 수 있는 반면, 경화되지 않은 포토레지스트의 일부분은 현상액에 용해될 수 있음이 이해되어야 한다. 마스크판에 의해 정의된 윈도우는 홈이 없는 최초 유리 기판(510)의 일부분과 일치한다. 자외선은 포토레지스트로 형성된 식각 보호막(520)에 마스크판을 통해 조사되어, 식각 보호막(520)의 일부분이 경화되며, 경화되지 않은 포토레지스트의 일부분은 현상액에 용해되므로, 식각 보호막(520)은 홈(112)이 정의되도록 제거된다.
단계 S317a에서, 최초 유리 기판의 표면은 식각액을 이용하여 식각되어, 최초 유리 기판의 표면 상에 홈이 형성된다. 식각액은 최초 유리 기판(510) 상에 스프레이될 수 있으며, 식각 보호막(520)은 홈(112)이 정의되도록 제거되어 있기 때문에, 격자 홈(112)은 식각액을 이용함으로써 최초 유리 기판(510)의 표면 상에 형성될 수 있다. 홈(112)이 정의되지 않은 최초 유리 기판(510)의 영역이 식각 보호막(520)에 의해 보호되기 때문에, 상기 영역은 식각액과 반응할 수 없다.
설명된 실시예에서, 유리 기판(110)은 무기 규산염, 폴리카보네이트 및 폴리메틸메타크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어진다. 식각액은 불산(hydrofluoric acid) 용액이다. 식각액이 유리 기판(110)과 반응할 수 있으며, 원하는 패턴이나 격자가 식각을 통해 유리 기판(110)의 표면에 형성될 수 있는 한, 상기 식각액은 다른 용액이 될 수도 있음이 이해되어야 한다.
단계 S319a에서, 식각 보호막이 세정되어 표면에 홈이 정의되어 있는 유리 기판이 획득된다. 식각액(520)은 세정되어, 표면에 격자 홈(112)이 정의되어 있는 유리 기판(110)이 획득되어 있다.
대체 실시예에서, 도 7을 참조하여, 유리 기판(110)이 다음의 단계들을 통해서 제작될 수 있음을 주목해야 한다.
단계 S311b에서, 금형이 제공되며, 상기 금형은 주입 챔버를 갖고, 주입 챔버의 내부면은 홈을 정의하고, 금형은 상기 금형의 측벽 상에 주입부를 정의하며, 주입부와 주입 챔버는 연결된다. 도 8을 참조하면, 금형(800)은 상부 금형 코어(810), 하부 금형 코어(830) 및 고리형 캐비티 벽(850)을 포함한다. 상부 금형 코어(810)와 하부 금형 코어(830)는, 상기 상부 금형 코어(810), 상기 하부 금형 코어(830) 및 상기 고리형 캐비티 벽(850)이 협력하여 상기 주입 챔버를 형성하도록, 상기 고리형 캐비티 벽의 두 개의 면 상에 각각 위치하며, 주입 챔버의 형태는 유리 기판(110)의 형태에 맞추어져 있고, 주입 챔버의 내부면은 유리 기판(110)의 표면에 대응하는 홈을 정의한다. 고리형 캐비티 벽(850)은 주입 챔버와 연결된 주입부(852)를 정의한다.
단계 S313b에서, 녹은 유리가 주입부를 통해 주입 챔버에 주입되어, 냉각됨으로써 유리 기판이 획득된다. 녹은 유리는 주입부(852)를 통해 주입 챔버에 주입될 수 있으며, 이어서 냉각되어 격자 홈(112)을 정의할 완전히 주조된 유리 기판(110)이 획득될 수 있다. 설명된 실시예에서, 유리 기판은 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리카보네이트 등과 같은 유기 물질로 이루어진다.
단계 S320에서, 실리콘 이산화막이 홈을 정의하는 유리 기판의 표면에 코팅된다. 실리콘 이산화막은 홈(112)을 정의하는 유리 기판(110)의 표면 상에 코팅되며, 실리콘 이산화막(130)은 홈(112)을 정의하는 유리 기판(110)의 표면 상에 형성된다.
단계 S330에서, 전도성 잉크는 실리콘 이산화막을 갖는 유리 기판의 표면상에 인쇄되며, 상기 전도성 잉크는 상기 홈 내에 안착된다. 설명된 실시예에서, 전도성 잉크는 취화은 입자를 포함하는 취화은 용액이다. 대체 실시예에서, 전도성 잉크는 다른 금속에 대응하는 입자, 전도성 폴리머 입자, 그래핀 입자, 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드 입자로 구성된 군으로부터 선택되는 입자를 포함할 수 있다. 전도성 잉크는 실리콘 이산화막(130)을 갖는 유리 기판(110)의 표면 상에 인쇄되어, 전도성 잉크는 홈(112) 내에 안착된다.
단계 S340에서, 전도성 잉크가 경화되어 유리 기판의 표면 상에 전도성 격자 라인이 형성되며, 전도성 유리 기판이 획득된다. 전도성 잉크는 경화되어, 전도성 격자 라인(150)이 홈(112) 내에 형성되며, 전도성 격자 라인(150)은 홈(112) 내에 개재되어, 실리콘 이산화막(130)을 통해 유리 기판(110)에 부착된다. 실리콘 이산화막(130)은 전도성 격자 라인(150)과 유리 기판(110) 사이의 접착력을 증가시킬 수 있으며, 전도성 격자 라인(150)이 유리 기판(110)으로부터 쉽게 떨어지지 않게 할 수 있다.
전도성 격자 라인(150)과 유리 기판(110) 사이의 접착력을 더 증가시키기 위해, 전도성 잉크는 유리 파우더를 더 포함할 수 있으며, 제조된 전도성 격자 라인(150)은 유리 파우더를 포함하게 된다.
전도성 유리 기판 제작방법에 있어서, 상기 프로세스는 상대적으로 간단하므로, 인력과 자원을 절약할 수 있고, 생산 비용을 절감할 수 있다. 본 방법에 의해 제작된 전도성 유리 기판에 대해서는 연성 기판이 지지체로서 사용될 필요가 없으므로, 비용이 더 절감된다.
본 예시들의 설명이 명시적이고 구체적이더라도, 이러한 설명이 본 개시사항을 한정하도록 이용되는 것이 아님이 이해되어야 한다. 그러므로, 본 특허의 보호범위는 첨부된 청구항에 의해 규정되어야 한다.

Claims (11)

  1. 표면 상에 격자 홈을 정의하는 유리 기판;
    상기 홈을 정의하는 상기 유리 기판의 상기 표면에 부착되는 실리콘 이산화막; 및
    상기 홈의 형태에 맞추어져 있으며, 상기 홈에 개재되고, 상기 실리콘 이산화막을 통해 상기 유리 기판에 부착되는 전도성 격자 라인;
    을 포함하는 전도성 유리 기판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전도성 격자 라인은 금속, 전도성 폴리머, 그래핀(graphene), 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어지는, 전도성 유리 기판.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 전도성 격자 라인의 상기 물질은 유리 파우더를 더 포함하는, 전도성 유리 기판
  4. 표면에 격자 홈을 정의하는 유리 기판을 제공하는 단계;
    상기 홈을 정의하는 상기 유리 기판의 상기 표면에 실리콘 산화막을 코팅하는 단계;
    전도성 잉크가 상기 홈에 안착되도록 실리콘 산화막을 갖는 상기 유리 기판의 표면에 상기 전도성 잉크를 인쇄하는 단계; 및
    상기 전도성 잉크를 경화하여 상기 유리 기판의 표면 상에 전도성 격자 라인을 형성하고, 전도성 유리 기판을 획득하는 단계;
    를 포함하는 전도성 유리 기판 제작방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 전도성 잉크는 금속 입자, 전도성 폴리머 입자, 그래핀 입자, 카본 나노튜브 및 인듐 틴 옥사이드로 구성되는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 입자를 포함하는, 전도성 유리 기판 제작방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 전도성 잉크는 유리 파우더를 더 포함하는, 전도성 유리 기판 제작방법.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 유리 기판은,
    표면이 편평한 최초 유리 기판을 제공하는 단계;
    상기 최초 유리 기판의 상기 표면 상에 포토레지스트를 코팅하여, 상기 포토레지스트가 상기 최초 유리 기판의 상기 표면 상에 식각 보호막을 형성하는 단계;
    상기 식각 보호막을 노출하고 현상하여, 상기 최초 유리 기판의 표면 상에서 상기 홈이 정의되도록 상기 식각 보호막을 제거하는 단계;
    식각액을 이용해서 상기 최초 유리 기판의 표면을 식각하여, 상기 최초 유리 기판의 표면 상에 상기 홈을 형성하는 단계; 및
    상기 식각 보호막을 세정하고 제거하여, 표면에 홈이 정의되어 있는 상기 유리 기판을 획득하는 단계;
    를 통해 제작되는, 전도성 유리 기판 제작방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 식각액은 불산(hydrofluoric acid) 용액인, 전도성 유리 기판 제작방법.
  9. 제 4 항에 있어서,
    상기 유리 기판은,
    주입 챔버를 갖는 금형을 제공하는 단계로서, 상기 주입 챔버의 내부면은 홈을 정의하고, 상기 금형은 측벽 상에 주입부를 정의하고, 상기 주입부와 상기 주입 챔버는 연결되어 있는 것인, 상기 주입 챔버를 갖는 금형을 제공하는 단계; 및
    상기 주입부를 통해 상기 주입 챔버에 녹은 유리를 주입하고, 냉각하여 상기 유리 기판을 획득하는 단계;
    를 통해 제작되는, 전도성 유리 기판 제작방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 금형은 상부 금형 코어(core), 하부 금형 코어 및 고리형 캐비티 벽을 포함하며, 상기 상부 금형 코어, 상기 하부 금형 코어 및 상기 고리형 캐비티 벽이 협력하여 상기 주입 챔버를 형성하도록, 상기 상부 금형 코어와 상기 하부 금형 코어는 상기 고리형 캐비티 벽의 두 개의 면 상에 각각 위치하는, 전도성 유리 기판 제작방법.
  11. 제 4 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 무기 규산염, 폴리카보네이트 및 폴리메틸메타크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어지는, 전도성 유리 기판 제작방법.
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