KR20140064594A - 포토마스크 세정 방법 및 그 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토마스크 세정 방법에 관한 것으로서, 와이핑 소자를 가지는 세정 장치를 제공하는 단계, 와이핑면을 가지는 와이핑 소자를 이용하여 포토마스크를 습윤하게 와이핑하며, 포토마스크에 경사방향으로 물을 분사하여 와이핑 후에 느슨해진 오염물을 데려가는 단계, 적어도 하나의 안내경사면이 와이핑면의 외부 둘레를 둘러싸며 물 인도공간를 형성하고 포토마스크를 세정한 후의 물흐름이 신속하게 포토마스크에 멀리 떨어지게 해서 2차 오염을 방지하는 단계를 포함한다. 본 발명은 또한 포토마스크 세정 시스템을 제공한다.

Description

포토마스크 세정 방법 및 그 시스템{Method and system for cleaning photomask}
본 발명은 포토마스크 세정 방법 및 그 시스템에 대한 것으로서, 특히 씻고 닦는(rinse and wipe) 방식을 이용하여 포토마스크를 세정하는 세정 방법 및 그 시스템에 대한 것이다.
IC 회로판은 고정밀 집적회로 제조 공정으로 제조되는 데, 포토마스크를 이용하여 청정실의 환경 중에서 고정밀도의 기계를 사용하여 실리콘 회로에 대해 고정밀도의 적층 작업을 진행하는 등의 제조 공정을 통해 완성되며, 그 기계, 공장 등의 제조 원가가 아주 높으므로, 회로를 제조하는 과정 중에, 상품 우수율은 반도체 공장의 이윤 획득 여부를 결정할 수 있고, 그러므로 전력을 다해 상품의 우수율을 제고하는 것은 반도체 공장 경영자에게 가장 중요한 과제이다.
회로 우수율에 영향을 주는 가장 중요한 요소는 포토마스크의 오염 여부이다. 포토마스크 상에 먼지입자가 나타나면, 오염된 포토마스크를 사용하여 반도체 석판인쇄시에 웨이퍼에 서로 대응하는 결함(Defect)이 야기된다. 포토마스크를 깨끗하게 유지하기 위해, 통상적으로 포토마스크에 포토마스크 팰리클(Pellicle)을 설치하여 먼지입자가 포토마스크상에 부착하는 것을 방지한다. 포토마스크 보호막은 프레임을 투과해 지탱되며, 포토마스크와 거리를 유지하고, 포토마스크 상에 떨어진 먼지입자를 포토마스크 보호막상에 수집하도록 해서, 인쇄기간에 집중될 수 없도록 방지한다.
포토마스크를 세정하는 주지 방식과 시기에 관하여, 여전히 포토마스크는 출화 또는 사진석판인쇄 전에, 1차 스캔 동작을 먼저 진행하여, 포토마스크상의 도안의 에러 여부를 확인한다. 만약 결함이 존재하면, 곧 포토마스크상의 포토마스크보호막을 제거 혹은 마모해야 하며, 다음으로 포토마스크를 산조(acid bath)에 넣어 세정을 진행한다. 세정 시에, 황산 및 과산화수소 용액(SPM), 수산화암모늄과 과산화수소의 수용액(SC1)등 용액을 사용한다. 그중 황산과 과산화수소용액은 비교적 큰 유기분자를 제거하는데 쓰이며, 수산화암모늄과 과산화수소의 수용액은 비교적 작은 유기분자 및 미립자를 제거하는데 쓰인다. 다음으로 탈이온수(DI water, de-ionized water)를 다시 이용하여 잔존하는 세정 용액을 제거하여 포토마스크의 세정을 완성할 수 있다. 포토마스크 세정이 완전히 끝난 후에, 포토마스크상에 포토마스크 보호막을 새로 배치한다. 하지만, 포토마스크 보호막 비용이 싸지 않아 포토마스크상의 포토마스크 보호막을 마모하고 새로운 포토마스크를 갱환하는 것은 포토마스크의 사용원가를 대폭 증가시킨다. 또한, 일반 포토마스크 보호막으로 사용되는 비스코스는 에스테르류 구조(RCOOR)x이며, 예를 들면 폴리아크릴산 에스테르(polyacrylic ester)의 고분자구조이며, 포토마스크가 황산과 과산화수소용액의 세정조에 담기면, (RCOOR)x는 가수분해되어 유동되나 물에 녹지 않는 콜로이드 구조(RCOOH)x로 되며, (RCOOH)x는 포토마스크 도안상의 결함과 포토마스크 폐기를 조성할 수 있다. 이 때문에 매 하나의 포토마스크는 오직 3차 세정만 하고 폐기를 진행해야하며, 포토마스크 가격은 수십만에서 수백만에 달하므로 현재 포토마스크의 사용원가를 고가로 유지시킨다.
상술의 주지 세정 방식을 개선하기 위해, 본안 출원인은 중화민국 특허 공고호 I317149[포토마스크 세정 장치]를 제출하여 특수한 이젝터 장치(Ejector apparatus) 및 협지장치를 이용하여 포토마스크를 협지하고 포토마스크를 이동하여 세정 및 블로우 건조를 진행했다.
그러나 더 좋은 것을 계속 추구하는 정신에 근거하여 본안 발명인은 포토마스크를 세정하는 방법을 개선하여 포토마스크를 더 완벽하게 세정하는 방법을 더 제공하며, 포토마스크를 세정한 후의 물흐름이 다시 포토마스크를 접촉하여 오염물이 다시 부착되는 2차 오염 조성을 방지할 수 있다.
본 발명에서 해결하고자하는 기술 문제는 포토마스크를 더 완벽히 세정하는데에 있으며, 포토마스크 세정 후의 액체를 효과적이고 신속하게 포토마스크에 떨어지도록 흘려보내 2차 오염을 피한다.
이상의 상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명은 포토마스크 세정 시스템을 제공하여 포토마스크를 세정한다. 상기 포토마스크는 세정하려는 면을 포함하며, 상기 포토마스크 세정 시스템은 상기 포토마스크를 협지하는데 쓰이는 협지장치, 세정 장치, 승강대 및 통풍 건조 장치를 포함한다. 상기 세정 장치는 상기 세정하려는 면을 향하며, 출수 시트, 와이핑 소자, 압력 클램프, 고정 소자 및 베이스 스테이션을 포함한다. 상기 출수 시트는 경사방향 출수 유닛 및 정방향 출수 유닛을 포함하며, 상기 경사방향 출수 유닛은 상기 출수 시트의 측변에 위치하며, 상기 경사방향 출수 유닛은 상기 세정하려는 면에 경사방향으로 물을 분사한다. 상기 와이핑 소자는 상기 정방향 출수유닛상에 설치되어 세정하려는 면을 와이핑 한다. 상기 압력 클램프는 상기 정방향 출수 유닛의 외부둘레에 설치되어 상기 와이핑 소자를 상기 정방향 출수 유닛에 고정한다. 상기 고정 소자는 상기 압력 클램프를 상기 출수 시트에 고정한다. 상기 베이스 스테이션은 적어도 하나의 공수관 및 하나의 집수반을 포함하고, 상기 공수관의 일단은 상기 집수반에 연결되며, 상기 집수반은 상기 출수 시트의 다른 한 면에 대면하게 설치되고 상기 공수관은 상기 경사방향 출수 유닛 및 상기 정방향 출수 유닛에 물을 제공한다. 상기 승강대는 상기 포토마스크에 상대하게 상기 세정 장치에 설치되어 상기 세정 장치 및 상기 포토마스크의 상대위치를 조정한다. 상기 통풍 건조 장치는 상기 세정하려는 면을 향하며 상기 세정 장치 옆에 설치된다. 본 발명에서 와이핑 위치에 경사방향으로 물을 분사하는 것을 이용하여 물흐름으로 하여금 와이핑 후에 느슨해진 오염물을 데려가게 한다.
본 발명은 포토마스크를 세정하는 포토마스크 세정 방법을 또한 제공한다. 상기 포토마스크는 세정하려는 면을 포함하고, 상기 포토마스크 세정 방법은 와이핑 소자를 포함하는 세정 장치를 제공하는 단계, 상기 포토마스크를 협지하고 이동하여 세정하려는 면을 상기 와이핑 소자를 향하도록 하는 단계, 상기 와이핑 소자 및 상기 포토마스크의 사이에 예압을 형성하여 상기 와이핑 소자를 미리 결정된 압력으로 상기 포토마스크에 접촉하는 단계, 상기 와이핑 소자의 국소 영역을 와이핑 면에 노출하고 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면을 습윤하게 와이핑 하는 단계, 상기 세정 장치를 이용하여 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면에 경사방향으로 물을 분사하고 와이핑 하여 느슨해진 이물을 데려가는 단계, 상기 포토마스크에 뿌리는 물흐름이 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면과 비직각의 각도를 나타내도록 하는 단계, 적어도 하나의 안내경사면이 상기 와이핑면의 외부둘레를 둘러싸도록 형성하며, 상기 안내경사면이 경사방향으로 분사되는 물흐름을 향하여 하나의 물 인도공간를 형성하며, 상기 포토마스크를 세정한 후의 물을 상기 포토마스크와 멀리 떨어지게 흘러보내는 단계, 물 인도후의 액체를 수집하여 배출하는 단계, 및 상기 포토마스크를 통풍 건조 영역에 이동하여 상기 포토마스크를 통풍 건조하는 단계를 포함한다.
본 발명은 이로써 포토마스크를 세정한 후의 액체가 신속하게 포토마스크에 멀리 떨어져서 흐르도록 해서 2차 오염을 피한다.
본 발명의 특징 및 기술내용을 더 명료하게 하기 위해 이하 본 발명 관련의 상세한 설명 및 도면을 참조하지만, 이는 오직 참고 및 설명용이며, 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
도 1은 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 설명도이다.
도 2는 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 세정 장치의 설명도이다.
도 3은 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 세정 장치의 조합 설명도이다.
도 4는 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 세정 장치의 분해도이다.
도 5는 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 세정 장치의 단면도이다.
도 6은 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 고정 소자 조합 설명도이다.
도 7은 본 발명 포토마스크 세정 시스템의 베이스 및 안내 블록 설명도이다.
도 8은 본 발명 포토마스크 세정 방법의 흐름도이다.
도 1 및 도 2를 참조한다. 도 1은 세정 시스템의 설명도이며, 도 2는 포토마스크 세정 시스템의 세정 장치의 설명도이다. 본 발명의 일 실시 예는 포토마스크(9)를 세정하는 포토마스크 세정 시스템(1)을 제공한다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 포토마스크 세정 시스템(1)은 협지(夾持) 장치(10), 세정 장치(20), 승강대(30), 통풍 건조 장치(air dry devie)(40), 처리 유닛(50) 및 감지 소자(60)를 포함한다. 포토마스크(9)는 세정하려는 면(91)을 포함하며, 이 세정하려는 면(91)은 오염물(예를 들면 화학 잔류물, 미립자, 먼지 등등) 혹은 무화가 부착될 가능성이 있다. 협지 장치(10)는 포토마스크(9)를 협지하며, 세정하려는 면(91)을 세정 장치(20) 및 통풍 건조 장치(40)에 향하게 한다. 승강대(30)는 포토마스크(9)에 상대하는(opposite) 세정 장치(20)의 일면에 설치되며, 감지 소자(60)는 세정 장치(20)와 포토마스크의 상대 위치를 감지할 수 있고, 이 수치는 처리유닛(50)에 보내어져 판단되고, 그 후에 처리유닛(50)은 승강대(30)의 높낮이를 제어하여 세정 장치(20)와 포토마스크(9)의 상대위치를 조정한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시 예에서, 포토마스크(9)를 포토마스크 세정 시스템(1)의 취치구(取置區) A에 먼저 배치하고 협지장치(10)를 제공하여 협취(夾取)한다. 다음으로, 협지장치(10)는 포토마스크(9)를 세정영역 B로 이동하고, 세정하려는 면(91)을 세정 장치(20)에 향하게 한다. 세정 장치(20)는 세정 영역 B에 설치되며, 승강대(30)를 이용하여 세정 장치(20)의 높이를 조정하여 세정 장치(20)와 포토마스크(9)가 압력적으로 접촉하도록 한다. 세정을 완성한 후에, 포토마스크(9)를 통풍 건조 장치(40)를 설치한 건조 영역 C로 이동하고, 세정하려는 면(91)을 통풍 건조 장치(40)에 향하게 하고, 통풍 건조 장치(40)를 이용하여 포토마스크(9)를 건조하며, 건조된 포토마스크(9)를 다시 이동하여 취치구 A에 배치한다.
도 3은 세정 장치의 조합 설명도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상술한 세정 장치(20)는 베이스 스테이션(25), 베이스 스테이션(25)상에 설치되는 출수 시트(seat)(21), 출수 시트(21) 및 베이스(25) 사이에 설치되는 안내 블록(26), 출수 시트(21)상에 설치되는 와이핑 소자(wiping element)(22), 와이핑 소자(22)를 출수 시트(21)에 고정하는 압력 클램프(23), 및 압력 클램프(23) 및 출수 시트(21)를 고정하는 고정 소자(24)를 포함한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 포토마스크(9)를 세정하려 할 때, 포토마스크(9)를 세정장치(20)의 위쪽에 협지하며, 그 세정하려는 면(91)은 세정 장치(20)를 향하게 하고, 와이핑 소자(20)를 이용하여 포토마스크(9)상의 오염물을 느슨하게 하며, 물흐름을 이용하여 오염물을 데려간다. 이하에서 언급하는 물흐름은, 맹물에 한정되는 것은 아니며, 포토마스크를 세정하는데 쓰일 수 있는 세정 액체일 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 베이스 스테이션(25)은 집수반(集水盤)(251) 및 몇 개의 공수관(供水管)(252)을 포함한다. 공수관(252)의 일단은 집수반(251)에 연결된다. 도 7에 도시된 바와 같이, 집수반(251)에 배수공(排水孔)(2512) 및 배수홈(2511)을 설치하고, 배수홈(2511)은 공수관(252)에 상대하는(opposite) 일면에 설치된다. 배수공(2512)은 집수반(251)의 일측에 설치되어 배수시에 장치에 비교적 영향을 끼치기 쉽지 않다.
도 3에 도시된 바와 같이, 안내 블록(26)은 공수관(252)에 상대하는(opposite) 집수반(251)의 일면에 설치된다. 도 4 및 도 7에 도시된 바와 같이, 도 4는 세정 장치의 분해도이며, 도 7은 베이스 스테이션 및 안내 블록의 설명도이다. 안내 블록(26)는 몇 개의 액체통로(261)를 포함하며, 액체통로(261)는 간격을 두고 서로 평행으로 배열된다. 수관(水管)은 물흐름을 액체통로(261)에 유입한다. 집수반(251)에 상대하는(opposite) 안내 블록(26)의 일면은 사면(斜面)(262)(도 5에 도시됨)이며, 사면(262)은 중앙으로부터 외부 둘레를 향해 경사지며, 물흐름이(또는 세정 액일 수 있다) 사면을 따라 집수반(251)에 유입되도록 한다. 안내 블록(20)의 설치는 출수 시트(10)와 집수반(251)이 일정 거리를 가지도록 하며, 출수 시트(21)가 유출되는 물흐름 중에 담길 필요 없고 심지어 적수(積水)를 조성하여 세정된 미립자가 다시 포토마스크(9)에 부착되는 것을 방지한다.
도 5는 세정 장치(20)의 단면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이 출수 시트(21)는 그 양측에 설치되는 두 개의 경사방향 출수 유닛(211), 경사방향 출수 유닛(211)들 사이에 설치되는 정방향 출수 유닛(212) 및 두 개의 볼록부(213)를 포함한다. 경사방향 출수 유닛(211) 및 정방향 출수 유닛(212)의 위치는 액체 통로(251)에 대응된다. 두 개의 볼록부(213)는 각각 정방향 출수 유닛(212)의 일측을 향하도록 경사방향 출수 유닛(211)에 설치되며, 즉 정방향 출수 유닛(212)의 양측에 설치된다. 정방향 출수 유닛(212) 및 경사 방향 출수 유닛(211)의 수량 및 위치는 이에 제한되지 않는다. 와이핑 소자(22)는 정방향 출수 유닛(212)에 설치되며, 와이핑 소자(22)는 스펀지(221) 및 와이핑 천(222)을 포함한다. 스펀지(221)는 와이핑 천(222)과 정방향 출수 유닛(212)의 사이에 설치되며, 스펀지(221)의 유연하고 압축 가능한 특성을 이용하여 와이핑 천(222)으로 하여금 부드럽게 포토마스크(9)를 와이핑하여, 와이핑 천(222)이 강하게 포토마스크(9)를 와이핑 하여 포토마스크의 손상을 조성하는 것을 방지한다.
정방향 출수 유닛(212)은 출수 노즐 혹은 몇 개의 출수공으로 조성된 면일 수 있으며 이에 제한되지 않는다. 정방향 출수 유닛(212)은 정수리면으로부터 포토마스크의 방향으로 출수하며, 와이핑 소자(22)는 정방향 출수 유닛(212)의 정수리면을 완전히 덮으며, 물흐름이 유출할 시에, 더 와이핑 소자(22)를 완전히 습윤하게 하고 와이핑 과정 중에 여전히 습윤상태를 유지한다. 습윤한 와이핑 소자(22)는 건조한 와이핑 소자(22)보다 포토마스크상에 긁힌 흔적을 남기기 쉽지 않다. 정방향 출수 유닛(212)은 경사방향 출수 유닛(211)보다 높으며, 바꾸어 말하면, 와이핑 소자(22)가 포토마스크(9)를 접촉할 시에, 경사방향 출수 유닛(211)은 포토마스크(9)와 접촉할 수 없어 포토마스크상에 긁힘 흔적이 생기는 것을 방지한다. 와이핑 소자(22)가 하나의 와이핑면(2221)을 가진다고 정의하면, 와이핑면(2222)은 상술한 세정하려는 면(91)의 부분에 접촉된다.
경사방향 출수 유닛(211)은 정방향출수 유닛(12)를 향하는 일측으로부터 포토마스크(9)의 방향으로 경사방향으로 출수하며, 경사방향 출수 유닛(11)으로부터 유출되는 물흐름으로 하여금 포토마스크(9)를 경사방향으로 세척(washing)시키며, 물을 와이핑 소자(20)와 포토마스크(9)의 접촉부분에 분사하고, 또한 물을 와이핑면(2221)의 외부둘레를 향해 분사한다. 물흐름이 하나의 각도를 가지고 포토마스크(9)를 세척하는 것이 물흐름이 포토마스크를 정방향(정면)으로 세척하는 것보다 더 물흐름을자와 포토마스크(9) 이에 충입할수 있다. 따라서 본 발명에 따르면, 미립자와 포토마스크를 보다 쉽게 분리시키므로 비교적 쉽게 포토마스크(9)상의 미립자를 데려간다. 경사방향 출수 유닛(211)은 노즐로부터 출수할 수 있으며, 또한 몇 개의 출수공으로부터 출수할 수도 있고 이에 제한되지 않는다. 이러한 구조의 배치 방식은 와이핑 소자(22)가 느슨해진 미립자를 경사방향 물흐름을 이용하여 데려갈 수 있다.
도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이, 나타내듯이 압력 클램프(23) 프레임은 정방향 출수 유닛(212)에 설치되며, 압력 클램프(23)와 경사방향 출수 유닛(211)간에 일정한 거리를 가진다. 와이핑 소자(22)는 부분적으로 출수 시트(21)와 압력 클램프(23)의 사이에 위치되며, 와이핑소자(22)가 정방향 출수 유닛(212)을 전반적으로 덮을 수 있도록 한다. 압력 클램프(23)는 집수관(251)에 상대하는 일면은 중앙으로부터 외부둘레를 향해 경사지는 하나의 안내경사면(232)이 되며, 바꾸어 말하면, 이 안내경사면(232)은 와이핑면(2222)의 외부둘레를 둘러싼다. 안내경사면(232)의 설치는 물 인도공간(234)을 형성하며, 포토마스크를 세정한 후의 물흐름이 물 안내(234)를 경과한 후에 안내경사면(232)을 따라 집수반(251)에 흐르도록 한다. 압력 클램프(23)와 경사방향 출수 유닛(211)간에 일정 거리가 있으므로 물흐름이 이에 쌓이지 않고, 이러한 구조는 일반 압력 클램프보다 더 배수를 도울 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 압력 클램프(23)는 그 양단으로부터 집수반 방향으로 연장된 고정부(233)를 더 포함하며, 고정부(233)는 위치제한판(2331) 및 중공부(2332)를 가지며, 위치제한판(2331)은 고정부(233)의 말단에 위치하며, 위치제한판(2331)과 집수반(251)은 평행하다.
도 5를 참조하면, 압력 클램프(23)는 집수반(251)을 향하는 일면은 볼록부(213)에 대응하는 하나의 트렌치(231)를 더 가지며, 와이핑 천(222) 부분을 볼록부(213)에 의해 상기 트렌치(231)에 협지하며, 와이핑 소자(22)가 정방향 출수 유닛(212)상에 견고하게 고정되도록 한다.
사용자가 와이핑 천(222)의 갱환이 필요하다고 판단하면 단지 압력 클램프(30)를 들기만 하면 와이핑 천(222)을 교체할 수 있다.
도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 도 6은 고정 소자의 설명도이다. 고정 소자(24)는 갈고리 본체(243), 클립(242), 프레임(241), 제1탄성체(244) 및 제2탄성체(245)를 포함한다. 프레임(241)은 정방향 출수 유닛(212)을 둘러싸고, 압력 클램프(23) 및 출수 시트(21) 사이에 설치된다. 프레임(241)의 양단은 각각 돌출단(2411)을 가지며, 돌출단(2411)은 중공부(2331)를 관통한다. 제2탄성체(245)는 프레임(241)과 압력 클램프(23)의 사이에 설치되며, 제2탄성체(245)는 압축상태이다.
갈고리 본체(243)는 출수 시트(21)의 양단에 설치되며, 클립(242)은 갈고리 본체(243)에 추접(pivot connection)된다. 이하 클립(242)과 갈고리 본체(243)가 추접하는 위치를 '추접 위치'라고 칭한다. 제1탄성체(244)는 갈고리 본체(243)상에 설치되며, 클립(242)은 추접 위치의 일측과 제1탄성체(244)에 충돌(抵觸)한다. 클립(242)는 추접 위치의 다른 일측에 압부(2421)을 가지며, 압부(2421)와 위치제한판(2331)은 포토마스크(9)의 일면에 상대하여 서로 충돌되며, 압력 클램프(23)와 프레임(241) 사이의 제2탄성체(245)가 압축상태가 되기 때문에 제2탄성체(245)는 압력 클램프(23)에 위를 향한 힘을 제공한다. 제1탄성체(244)는 클립(242)의 압부(2421)로 하여금 위치제한판(2331)에 아래를 향한 힘을 제공하며, 이러한 구조는 압력 클램프(23)를 출수 시트(21)에 고정하고, 클립(242)의 압부(2421)가 있는 일측상에 제1탄성체(244)에 저항하는 힘을 가하기만 하면 더욱 압력 클램프(23)를 느슨하게 하여 와이핑 소자(22)를 교체할 수 있다. 이러한 구조 배치는 와이핑 소자(22)를 교체하기 더 쉽게 할 수 있다.
도 8은 포토마스크 세정 방법의 흐름도이다. 도 8에 도시된 바와 같이 본 발명은 일종의 포토마스크 세정방법을 더 제공하며 아래의 단계를 포함한다.
우선 단계 S01을 행한다: 세정 장치(21)를 제공하며 이 세정 장치(20)는 와이핑 소자(22)를 포함하고, 본 발명의 실시 예에서 중 와이핑 소자(22)는 스펀지(221) 및 와이핑 천(222)을 포함하나 이에 한정하지는 않는다. (도 3 및 도 4 참고)
상술한 와이핑 소자(2)를 고정하는 방식에 관하여, 전면에 상술한 내용 및 도 5에서 나타낸 것과 같이, 압력 클램프(23)는 와이핑 소자(22)를 고정하며, 압력 클램프(23)는 한 쌍의 서로 대응하는 요철 구조를 이용하여 와이핑 소자의 양측을 협지하며, 본 발명의 실시 예에서 요철 구조로 협지하는 것은 와이핑 소자(222)이나 이에 한정하지 않는다(도 5 참고).
다음으로 단계 S02를 진행한다: 취치구 A에 포토마스크(9)를 협지하며 포토마스크(9)를 세정 장치(20)를 가지는 세정영역 B로 이동하며, 포토마스크(9)의 세정하려는 면(91)은 세정 장치(20)를 향한다.(도 1 및 도 2 참고)
다음으로 단계S03을 진행한다: 와이핑 소자(22)와 상기 포토마스크(9)사이에 예압(預壓)을 형성하고, 와이핑 소자(22)가 소정의 압력으로 포토마스크(9)에 접촉하도록 한다. 예압을 형성하는 방식에 관하여 세정 구조(20)의 위치를 조정해도 좋고 포토마스크(9)의 위치를 조정해도 좋으며, 포토마스크와 와이핑 소자(22)간에 예압을 형성하도록 한다.
다음으로 단계 S04를 진행한다: 세정 장치(20)의 구조 특성을 이용하여, 와이핑 소자(22)의 국부를 와이핑면(2221)에 드러내며, 이 와이핑면(2221)은 포토마스트(9)를 습윤하게 와이핑한다(도 5 참고)
다음으로 단계 S05를 진행한다: 세정 장치(20)는 와이핑 면(2221)의 양측에 경사방향으로 물을 분사하여 와이핑에 의해 느슨해진 오염물을 데려가고 여기서 경사방향 분사는 포토마스크에 분사되는 물흐름과 세정하려는 면(91)이 직각이 아닌 각도를 나타내는 것을 가리킨다.
다음으로 단계S06을 진행한다: 와이핑면(2221)을 둘러싸는 외부 둘레에 안내경사면(232)을 형성하며, 이 안내경사면(232)이 경사방향으로 물을 분사하는 물흐름을 향하여 하나의 물 인도공간(234)를 형성하고, 포토마스크(9)를 세정한 물은 물 인도공간(234)에 떨어뜨린 다음에 안내경사면(232)에 접촉하며, 이것들은 오염물을 가지는 물이 포토마스크(9)에 멀리 떨어지는 것을 가능하게 하여 다시 포토마스크(9)에 접촉하는 것을 방지한다 (도 5 참고)
다음으로 단계S07을 진행한다: 상술한 물 인도후의 물을 수집하여 그것을 배출한다. 본 발명의 실시 예에 있어서, 세정 장치(20)는 하나의 집수반(251)을 가지며 상술의 물흐름을 수집한다.(도 3 참고)
다음으로 S08을 진행한다: 협지장치(10)를 이용하여 포토마스크(9)를 건조 영역 C로 이동하며, 세정용 물에 젖어 있는 포토마스크(9)를 통풍 건조 한다(도 1 참고)
이상의 단계를 진행완료한 후에 다시 포토마스크(9)를 취치구 A에 배치한다.(도 2 참고)
종합적으로 말하면, 본 발명은 적어도 이하의 장점을 가진다.
1. 경사방향 출수 유닛(11) 및 와이핑 소자(20)의 설치를 이용하여 포토마스크(9)상의 오염물을 경사방향으로 세척하는 방식으로 데려가며, 포토마스크를 더욱 청결하게 한다.
2. 안내경사면(232)을 설치하여 물 인도공간(234)을 제공하는 것을 이용하여 오염물을 가지는 물흐름이 신속하게 포토마스크(9)를 멀리 떨어지도록 해서 다시 포토마스크(9)를 오염시키는 것을 방지한다.
이상 상술한 것은 단지 본 고안의 비교적 바람직한 실시 예이며, 본 고안의 권리 보호 범위를 국한하고자 하는 것은 아니므로 본 고안의 설명서 및 도식 내용에 소위 동일한 효과의 변화를 행해도 본 고안의 권리 보호 범위 내에 모두 포함된다.
1 포토마스크 세정 시스템
10 협지 장치
20 세정 장치
21 출수 시트
211 경사방향 출수 유닛
212 정방향 출수 유닛
213 볼록부
22 와이핑 소자
221 스펀지
222 와이핑천
2221 와이핑면
23 압력 클램프
231 오목홈
232 안내경사면
233 고정부
2331 위치제한판
2332 중공부
234 물 인도공간
24 고정 소자
241 프레임
2411 돌출단
242 클립
2421 압부
243 갈고리 본체
244 제1탄성체
245 제2탄성체
25 베이스
251 집수반
2511 배수홈
2512 배수공
252 공수관
26 안내 블록
261 액체 통로
262 사면
30 승강대
40 통풍 건조 장치
50 처리 유닛
60 감지 소자
9 포토마스크
91 세정하려는 면
A 취치 영역
B 세정 영역
C 건조 영역

Claims (10)

  1. 포토마스크를 세정하는 포토마스크 세정 시스템에 있어서, 상기 포토마스크는 세정하려는 면을 포함하며, 상기 포토마스크 세정 시스템은,
    상기 포토마스크를 협지하는 협지장치; 그리고,
    상기 세정하려는 면을 향하는 세정 장치를 포함하며,
    상기 세정 장치는:
    적어도 하나의 경사방향 출수 유닛 및 하나의 정방향 출수 유닛을 포함하는 출수 시트;
    상기 정방향 출수 유닛상에 설치되고 상기 세정하려는 면을 와이핑 하는 와이핑 소자;
    상기 정방향 출수 유닛의 외부 둘레에 설치되며, 상기 와이핑 소자를 상기 정방향 출수 유닛에 고정하는 압력 클램프;
    상기 압력 클램프를 상기 출수 시트에 고정하는 고정 소자;
    적어도 하나의 공수관 및 하나의 집수반을 포함하는 베이스 스테이션;
    상기 포토마스크의 일면에 상대하여 상기 세정 장치에 설치되며, 상기 세정 장치 및 상기 포토마스크의 상대 위치를 조정하는 승강대; 그리고
    상기 세정하려는 면을 향하며 상기 세정 장치 옆에 설치되는 통풍 건조 장치를 포함하며,
    상기 경사방향 출수 유닛은 상기 세정하려는 면에 경사방향으로 물을 분사하고,
    상기 공수관의 일단은 상기 집수반에 연결되며,
    상기 집수반은 상기 포토마스크를 대하는 상기 출수 시트 면의 반대면에 설치되며,
    상기 공수관은 상기 경사방향 출수 유닛 및 상기 정방향 출수 유닛에 물을 공급하는 포토마스크 세정 시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 경사방향 출수 유닛의 수량은 한 쌍이며, 상기 한 쌍의 경사 방향 출수 유닛은 상기 출수 시트의 양측에 설치되며, 상기 정방향 출수 유닛은 상기 경사방향 출수 유닛과의 사이에 설치되며, 상기 정방향 출수 유닛은 상기 경사방향 출수 유닛보다 상기 포토마스크에 근접하는 포토마스크 세정 시스템.
  3. 제 1항에 있어서
    상기 출수 시트는 볼록부를 더 포함하며, 상기 볼록부는 상기 정방향 출수 유닛의 양측에 설치되고,
    상기 압력 클램프는 상기 집수반을 향하는 일면에 오목홈을 구비하고, 상기 오목홈은 상기 볼록부에 대응하며,
    상기 와이핑 소자는 부분적으로 만곡되며, 상기 볼록부는 상기 와이핑 소자를 상기 오목 홈 내에 협지하는 포토마스크 세정 시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 압력 클램프가 상기 포토마스크를 향하는 일면은 안내경사면이 되며, 외부를 향하고 상기 집수반을 향해 경사지는 포토마스크 세정 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    처리 유닛 및 감지 소자를 더 포함하며,
    상기 처리 유닛은 상기 승강대의 위치를 조정하는데 쓰이며,
    상기 감지 소자는 상기 포토마스크 및 상기 세정 장치의 위치를 감지하는데 쓰이며, 상기 감지 소자의 데이터는 상기 처리 유닛에 전송되는 포토마스크 세정 시스템.
  6. 포토마스크를 세정하는 포토마스크 세정 방법에 있어서,
    상기 포토마스크는 세정하려는 면을 포함하고, 상기 포토마스크 세정 방법은:
    와이핑 소자를 포함하는 세정 장치를 제공하는 단계;
    상기 포토마스크를 협지하고 이동하며, 상기 세정하려는 면을 상기 와이핑 소자를 향하도록 하는 단계;
    예압을 상기 와이핑 소자 및 상기 포토마스크 사이에 형성하여 상기 와이핑 소자를 상기 소정 압력으로 상기 포토마스크에 접촉시키는 단계;
    상기 와이핑 소자 국부를 와이핑 면에 노출시켜 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면을 습윤하게 와이핑하는 단계;
    상기 세정 장치를 이용하여 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면에 경사 방향으로 물을 분사하여 와이핑 하고 느슨해진 이물을 데려가며, 상기 포토마스크의 물흐름에 분사되는 물흐름 및 상기 포토마스크의 상기 세정하려는 면이 비직각의 각도를 나타내는 단계;
    적어도 하나의 안내경사면을 상기 와이핑면의 외부둘레에 둘어싸게 형성하며, 상기 안내경사면은 경사방향으로 분사되는 물흐름을 향하여 물안내 공간을 형성하며, 상기 포토마스크를 세정한 후의 물을 인도하여 상기 포토마스크를 멀리 떨어트리는 단계;
    물 인도 후 물 액체를 수집하고 배출하는 단계; 및
    상기 포토마스크를 건조 영역으로 이동시켜서 상기 포토마스크를 건조하는 단계를 포함하는 포토마스크 세정 방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    압력 클램프를 제공하여 상기 와이핑 소자의 양측을 고정되게 누르고, 한 쌍의 서로 대응하는 요철 구조를 이용하여 상기 와이핑 소자의 가장자리를 협지하는 단계를 더 포함하는 포토마스크 세정 방법.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 경사방향으로 물을 분사하는 단계는 상기 와이핑 면의 양측에 경사방향으로 물을 분사하는 것을 포함하는 포토마스크 세정 방법.
  9. 제 6항에 있어서,
    상기 세정 구조의 위치를 조정하여 상기 예압을 형성하는 단계를 더 포함하는 포토마스크 세정 방법.
  10. 제 6항에 있어서,
    상기 포토마스크의 위치를 조정하여 상기 예압을 형성하는 단계를 더 포함하는 포토마스크 세정 방법
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