KR20130143658A - 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 - Google Patents
민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130143658A KR20130143658A KR1020137028835A KR20137028835A KR20130143658A KR 20130143658 A KR20130143658 A KR 20130143658A KR 1020137028835 A KR1020137028835 A KR 1020137028835A KR 20137028835 A KR20137028835 A KR 20137028835A KR 20130143658 A KR20130143658 A KR 20130143658A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- barrier stack
- crystallinity
- layers
- multilayer component
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
- H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
- H10K39/10—Organic photovoltaic [PV] modules; Arrays of single organic PV cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/542—Dye sensitized solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31507—Of polycarbonate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31536—Including interfacial reaction product of adjacent layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31544—Addition polymer is perhalogenated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31721—Of polyimide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31725—Of polyamide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
공기 및/또는 수분에 민감한 소자(12)를 밀봉하기 위한 다층 부품(11)은 유기 폴리머 층(1)과 적어도 하나의 배리어 스택(2)을 포함한다. 배리어 스택(2)은 낮은 결정도와 높은 결정도가 교번하는 적어도 3개의 연속적인 박막 층들(21~23)을 포함하고, 높은 결정도의 층의 결정도 대 낮은 결정도의 층의 결정도의 비는 1.1 이상이다
Description
본 발명은 공기 및/또는 수분에 민감한 소자, 예를 들면 유기 발광 다이오드 또는 광기전 셀(photovoltaic cell)을 밀봉(encapsulating)하기 위한 다층 부품(multilayer component)에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 다층 부품을 포함하는 장치, 특히 다층 전자 장치 및 이러한 다층 부품의 제조방법에 관한 것이다.
다층 전자 장치는, 활성부(active part) 및 이 활성부의 양쪽에 있는 2개의 전기 전도성 접촉부(contact)들(소위 전극들)로 구성된 기능성 소자를 포함한다. 다층 전자 장치들의 예들은 특히: 기능성 소자가 OLED로서, 장치의 활성부가 전기 에너지를 방사선으로 전환시키도록 설계된 유기 발광 다이오드(OLED) 장치; 기능성 소자가 광기전 셀이고, 장치의 활성부가 방사선으로부터 에너지를 전기 에너지로 전환시키도록 설계된 광기전 장치; 기능성 소자가 전기변색(electrochromic) 시스템이고, 장치의 활성부가 제1 상태와 제1 상태와는 각각 다른 광 전송 특성 및/또는 에너지 전달 특성을 갖는 제2 상태 간에 가역적으로 스위칭되도록 설계된 전기변색 장치; 및 기능성 소자가, 전극들 간에 인가되는 전압에 따라 이동할 수 있는 전기적으로 대전된 색소들을 포함하는 전자 잉크 시스템인 전자 디스플레이 장치를 포함한다.
공지된 바와 같이, 사용되는 기술에 관계없이, 다층 전자 장치의 기능성 소자들은, 환경 조건의 영향으로 인해, 특히 공기 또는 수분에 대한 노출의 영향으로 인해 열화되기 쉽다. 예를 들면, OLED 또는 유기 광기전 셀의 경우, 유기 물질들은 환경 조건에 특히 민감하다. 전기변색 시스템의 경우, 전자 잉크 시스템 또는, 무기 흡수층, TCO(투명 전도성 산화물)층계 또는 투명 금속층계 투명 전극들을 포함하는 박막 광기전 셀은, 또한 환경 조건의 영향으로 인해 열화되기 쉽다.
다층 전자 장치의 기능성 소자들을 공기 또는 수분에 대한 노출로 인한 열화로부터 보호하기 위해, 기능성 소자들을 전면 보호 기판 및 가능하면 후면 보호 기판으로 밀봉한 적층 구조를 갖는 장치를 제조하는 것이 알려져있다.
장치의 응용에 따라, 전면 및 후면 기판들은 유리 또는 유기 폴리머 물질로 구성될 수 있다. 유리 기판보다 연성의 폴리머 기판으로 밀봉된 OLED 또는 광기전 셀은, 유연하고, 초박형이며 가볍다는 이점을 갖는다. 또한, 황동광 화합물계 흡수층, 특히 구리, 인듐 및 셀레늄(소위 CIS 흡수층, 임의로 갈륨이 추가될 수 있음(CIGS 흡수층)), 알루미나 또는 황을 포함하는 흡수층을 포함하는 광기전 셀 또는 전기변색 시스템의 경우, 장치는, 통상 유기 폴리머 물질로 구성된 중간층을 사용하여 라미네이션(lamination)으로 조립된다. 이어서, 기능성 소자의 전극과 대응 보호 기판 사이에 위치한 라미네이션 중간층은 장치의 적절한 결합을 보장할 수 있다.
그러나, 다층 전자 장치가, 공기 및/또는 수분에 민감한 기능성 소자에 대해 맞대어 유기 폴리머 라미네이션 중간층 또는 유기 폴리머 기판을 포함할 때, 장치는 높은 열화율을 갖는다. 이는, 수분을 저장하는 경향이 있는 유기 폴리머 라미네이션 중간층의 존재 또는 높은 투수성을 갖는 유기 폴리머 기판의 존재가, 수증기 또는 산소와 같은 오염 종(contaminating species)들의 민감한 기능성 소자로의 이동을 촉진시키고, 따라서 이 기능성 소자의 특성을 손상시키기 때문이다.
본 발명은, 다층 전자 장치로 결합될 때, 이 장치에 특히 공기 및 수분에 대한 개선된 저항성을 제공하고, 적어도 일부가 공기 및/또는 수분에 민감한 소자인, 장치의 기능성 소자들의 장기간에 걸친 효과적인 보호를 보장하는 다층 부품을 제공함으로써, 이러한 문제점들을 해결하는 것을 특히 목적으로 한다.
이러한 목적을 위해, 본 발명의 하나의 과제는 공기 및/또는 수분에 민감한 소자, 예를 들면 유기 발광 다이오드 또는 광기전 셀을 밀봉하는 다층 부품이다. 다층 부품은 유기 폴리머 층과 적어도 하나의 배리어 스택(barrier stack)을 포함할 수 있다. 각각의 배리어 스택은 적어도 3개의 연속적인(succesive) 층들을 포함할 수 있다. 배리어 스택의 층들은 낮은 결정도(degree of crystallinity)와 높은 결정도를 교번하여 가질 수 있다. 높은 결정도의 층의 결정도 대 낮은 결정도의 층의 결정도의 비는 1.1 이상일 수 있다.
본 발명의 또 하나의 과제는, 공기 및/또는 수분에 민감한 소자와 앞서 개시된 바와 같이 민감한 소자를 위한 전면 및/또는 후면 밀봉재(encapsulant)인 다층 부품을 포함하는 장치이다.
비제한적인 예들에 따르면, 민감한 소자는 광기전 셀, 유기 발광 다이오드, 전기변색 시스템, 전자잉크 디스플레이 시스템 또는 무기 발광 시스템의 전체 또는 부분이다.
본 발명의 또 하나의 과제는, 유기 폴리머 층 및 적어도 하나의 배리어 스택을 포함하는 다층 부품을 제조하는 방법이다. 각각의 배리어 스택은 층들을 포함한다. 배리어 스택의 층들 중 적어도 일부는 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다. 일 실시형태에서, 스퍼터링은 마그네트론 스퍼터링을 포함할 수 있다. 배리어 스택의 층들의 적어도 일부는 화학 기상 증착에 의해 증착될 수 있다. 일 실시형태에서, 화학 기상 증착은 플라즈마-촉진 화학 기상 증착을 포함할 수 있다. 추가의 일 실시형태에서, 화학 기상 증착은 원자층 증착을 포함할 수 있다. 또한, 배리어 스택의 층들은 이들 기술들의 조합에 의해 증착될 수 있다.
본 발명의 특징들 및 이점들은 본 발명에 따른 다층 부품의 복수의 실시형태들의 다음 설명에서 명백히 알 수 있을 것이고, 이 설명은 단지 첨부된 도면들을 참조하여 예시적으로 주어진다.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 다층 부품을 포함하는 OLED 장치의 단면도이다.
도 2는 도 1의 다층 부품을 포함하는 태양광 모듈에 대한 도 1과 유사한 단면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2의 다층 부품을 확대한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 다층 부품에 대한 도 3과 유사한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시형태에 따른 다층 부품에 대한 도 3과 유사한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시형태에 따른 다층 부품을 포함하는 태양광 모듈에 대한 도 3과 유사한 단면도이다.
도 7은 도 6의 다층 부품을 포함하는 전기변색 장치에 대한 도 6과 유사한 도면이다.
가시성을 위해, 층들의 상대적인 두께는 도 1 내지 7에서 정확하게 나타내지 않았다.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 다층 부품을 포함하는 OLED 장치의 단면도이다.
도 2는 도 1의 다층 부품을 포함하는 태양광 모듈에 대한 도 1과 유사한 단면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2의 다층 부품을 확대한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 다층 부품에 대한 도 3과 유사한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시형태에 따른 다층 부품에 대한 도 3과 유사한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시형태에 따른 다층 부품을 포함하는 태양광 모듈에 대한 도 3과 유사한 단면도이다.
도 7은 도 6의 다층 부품을 포함하는 전기변색 장치에 대한 도 6과 유사한 도면이다.
가시성을 위해, 층들의 상대적인 두께는 도 1 내지 7에서 정확하게 나타내지 않았다.
도면들과 조합하여 다음 설명이 본 명세서에서 개시된 교시들을 이해하는 것을 돕기 위해 제공된다. 다음 논의는 교시들의 특정 구현예들 및 실시형태들에 초첨을 맞출 것이다. 이 초점은 교시들을 설명하는 것을 돕기 위해 제공되며, 교시들의 범위 또는 응용의 제한으로 해석되지 않을 것이다.
본 명세서에서 사용되는 용어 "구성하다(comprises)", "구성하는(comprising)", "포함하다(includes)", "포함하는(including)", "갖다(has)", "갖는(having)" 또는 그들의 임의의 다른 변형은 비제한적으로 포함되도록 의도된다. 예를 들어, 특징 목록을 포함하는 방법, 물품 또는 장치는 이 특징에 반드시 제한되는 것은 아니며 열거되지 않거나, 이러한 방법, 제품 또는 장치에 내재된 다른 특징을 포함할 수 있다. 더욱이, 명백히 반대로 기술되지 않는다면, "또는"은 포괄적인`또는`을 말하며 배타적인`또는`을 말하는 것은 아니다. 예를 들어, 조건 A 또는 B는 하기 중 어느 하나를 충족한다: A는 참(또는 존재함)이고 B는 거짓(또는 존재하지 않음), A는 거짓(또는 존재하지 않음)이고 B는 참(또는 존재함), A 및 B가 모두 참(또는 존재함).
또한, 부정관사 "a" 또는 "an"은 본 명세서에서 기술된 소자 및 부품을 기술하는데 사용된다. 이는 단순히 편의를 위한 것이고 본 발명의 범위에서 일반적인 의미를 갖는다. 이 표현은 하나 또는 적어도 하나를 포함하는 것으로 해석되어야 하며, 단수형은 또한 그것이 달리 의미하는 것이 명확하지 않는 한 복수형을 포함하고 또는 복수형도 단수형을 포함한다. 예를 들어, 단일 물품이 본 명세서에 기술될 때, 하나보다 많은 물품이 단일 물품 대신에 사용될 수 있다. 유사하게, 하나보다 많은 물품이 본 명세서에서 기술될 때, 단일 물품이 하나 보다 많은 물품을 대신할 수 있다.
달리 정의되지 않으면, 본 명세서에서 사용된 모든 기술 및 과학 용어는 본 발명이 속하는 기술분야의 숙련자가 일반적으로 이해하는 것과 동일한 의미를 갖는다. 물질들, 방법들 및 들은 단지 설명하는 것이고 제한을 의도하지 않는다. 본 명세서에 기재되지 않은 범위까지, 특정 물질 및 제조 기술에 대한 상세한 설명들은 통상적인 것이고, 교과서와 기타 자료의 지붕 생산 분야 및 대응 제조 분야 내에서 찾을 수 있다.
일 실시형태에서, 다층 부품은 공기 및/또는 수분에 민감한 소자를 밀봉한다. 이러한 소자는 유기 발광 다이오드 또는 광기전 셀일 수 있다. 다층 부품은 유기 폴리머 층 및 적어도 하나의 배리어 스택을 포함할 수 있다. 각각의 배리어 스택은 적어도 3개의 연속적인 층들을 포함할 수 있다. 배리어 스택의 층들은 낮은 결정도와 높은 결정도를 교번하여 가질 수 있다.
여기서 고려된 결정도는, 층에서 존재하는 결정질 물질의 부피 대 층에서 물질의 총 부피의 비로서 정의된 부피 결정도일 수 있다.
본 발명과 관련하여, 표현 "민감한 소자의 밀봉"은, 민감한 소자가 환경 조건에 노출되지 않도록 민감한 소자의 적어도 일부가 보호되는 것을 의미하는 것으로 이해된다. 특히, 다층 부품은 민감한 소자를 덮거나, 그렇지 않으면 민감한 소자는 다층 부품상에 증착될 수 있다. 박막 기능성 소자, 예를 들어 OLED의 민감한 층들의 보호의 경우, 배리어 스택은 기능성 소자, 예를 들면 OLED의 전극을 구성하는 스택에 포함될 수 있다. 본 발명과 관련하여 소자의 구성 층들이 서로 증착되는 순서와 관계없이, 다층 부품이 서로 맞대어 위치한 층들의 조립체(assembly)인 점에 주목해야 한다.
본 발명의 목적에 따르면, 실질적으로 다른 결정도를 갖는 교번하는 층들을 포함하는 적어도 하나의 배리어 스택의 존재는, 폴리머 층으로부터 민감한 소자로의 수증기의 이동을 제한하는 것을 가능하게 한다. 이는 각각 다른 결정도를 갖는 상기 교번하는 층들이, 한 층과 그 다음 층의 사이에서, 오염 종들, 예를 들면 수증기 또는 산소의 침투 경로를 분리시키는(decouple) 것을 가능하게 한다. 배리어 스택에서 침투 경로 및 그에 따른 침투 시간은, 따라서 상당히 증가된다. 이 침투 경로 분리 효과를 위한 하나의 특히 바람직한 구성은 비정질 층들과 결정질 층들이 교번하는 것이다.
본 발명과 관련하여, 배리어 스택의 2개의 연속하는 층들의 결정도는 특히 브래그-브렌타노(Bragg-Brentano) 구성에서, 2개의 층들의 각각에 대해 X-선 회절 측정을 함으로써 결정되고 비교된다. 투과 전자 현미경(TEM) 측정은 또한, 특히 배리어 스택의 2개의 연속하는 층들이 동일한 화학 종이지만 다른 결정도를 갖는 경우에, 수행될 수 있다.
일 실시형태에서, 앞서 언급된 적어도 3개의 연속하는 층들은, 비정질 상태와 적어도 부분적으로 결정질 상태가 교번한다. 다시 말해, 낮은 결정도의 층 또는 각각의 층은, 0의 결정도를 갖는 비정질 상태이다. 본 발명과 관련하여, 층에 대해 브래그-브렌타노 구성에서 X-선 회절 측정을 사용하여, 측정의 배경 잡음의 표준 편차의 2배와 동일하거나 그보다 큰 강도(intensity)를 갖는 회절 피크가 검출되지 않으면, 층은 비정질 상태라고 한다. 반대로, 층에 브래그-브렌타노 구성에서 X-선 회절 측정을 사용할 때, 측정의 배경 잡음의 표준 편차의 2배와 동일하거나 그보다 큰 강도(intensity)를 갖는 적어도 하나의 회절 피크가 검출되면 층이 적어도 부분적으로 결정질 상태라고 한다.
2개의 층들 간의 결정도는 유사한 회절 피크들의 강도를 비교함으로써 결정될 수 있다. 높은 결정도를 갖는 층의 강도 대 낮은 결정도를 갖는 층의 강도의 비는 1 초과일 것이다. 유사한 피크들 간의 비교는 회절 측정의 범위에 걸쳐 평균이 될 수 있다. 실시형태들에서, 높은 결정도를 갖는 층의 강도 대 낮은 결정도를 갖는 층의 강도의 비는, 1 초과, 예를 들면, 1.1 이상, 1.2 이상, 1.5 이상, 1.7 이상, 2.0 이상 또는 심지어 3.0 이상일 것이다. 또 하나의 실시형태에서, 높은 결정도를 갖는 층의 강도 대 낮은 결정도를 갖는 층의 강도의 비는 4.0 미만, 예를 들면, 3.0 미만 또는 2.5 미만일 것이다.
본 발명의 다른 실시형태들은 아래에 기술되며, 이는 별개로 또는 임의의 기술적으로 가능한 조합으로 얻어질 수 있다.
한 특징에 따르면, 높은 결정도의 층의 부피 결정도와 낮은 결정도의 층의 부피 결정도 사이의 차이는 10% 이상, 예를 들면, 15% 이상, 20% 이상, 또는 심지어 25%이상이다.
또 하나의 특징에 따르면, 높은 결정도를 갖는 층의 결정도 대 낮은 결정도를 갖는 층의 결정도의 비는 1.2 이상, 예를 들면, 1.5 이상, 1.7 이상, 2.0 이상 또는 심지어 3.0 이상이다.
한 특징에 따르면, 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 각각의 층은 5 내지 200 nm, 바람직하게는 5 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 5 내지 70 nm의 기하학적인 두께를 갖는다. 일 실시형태에서, 두께는 적어도 5 nm, 예를 들면, 적어도 10 nm, 적어도 20 nm, 적어도 40 nm 또는 심지어 적어도 100 nm일 수 있다. 또 하나의 실시형태에서, 두께는 200 nm 이하, 예를 들면, 150 nm 이하, 120 nm 이하, 100 nm 이하 또는 심지어 80 nm 이하일 수 있다.
본 발명과 관련하여, 앞서 언급된 적어도 3개의 연속적인 층들은 동일한 화학 종류 또는 각각 다른 화학 종류의 무기 층들일 수 있다. 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 각각의 층은 무기물이고, 특히, 금속, 산화물, 질화물 또는 산질화물 층일 수 있다. 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 각각의 층 이 산화물, 질화물 또는 산질화물 층일 때, 이는 도핑될 수 있다. 예를 들면, ZnO, Si3N4 또는 SiO2 층들은 특히 전기 전도성을 개선하도록 알루미늄으로 도핑될 수 있다. 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 층들은, 종래의 박막 증착 공정들, 예를 들면, 다음의 비 제한적인 예들: 마그네트론 스퍼터링; 화학 기상 증착(CVD), 특히 플라즈마 촉진 화학 기상 증착(PECVD); 원자층 증착(ALD) 또는 이들의 조합에 의해 증착될 수 있고, 증착 공정은 배리어 스택의 층마다 서로 다를 수 있게 선택된다.
일 실시형태에 따르면, 다층 부품은 폴리머 층과 배리어 스택 간에 위치한 계면층(interfacial layer)을 포함한다. 이 계면층은 유기층, 예를 들면, 아크릴 또는 에폭시 수지 형태, 또는 예를 들면, 실리카 SiOx일 수 있는 무기 부분이 층의 부피의 0 내지 50%를 나타내는 하이브리드 유기-무기 층이다. 이 계면층은 특히 평활(smoothing)층 또는 평탄(planarization)층으로서 작용한다. 계면 층은, 적어도 1 미크론, 예를 들면, 적어도 2 미크론, 적어도 3 미크론, 또는 심지어 적어도 4 미크론의 두께를 가질 수 있다. 추가 실시형태에서, 계면층은 10 미크론 이하, 예를 들면, 8 미크론 이하, 또는 6 미크론 이하의 두께를 갖는다. 실시형태에서, 계면층은 약 1 내지 10 미크론, 예를 들면 4 내지 5 미크론의 두께를 갖는 UV-경화 아크릴레이트 층이다.
또 하나의 실시형태에 따르면, 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 구성층들은 고 굴절률과 저 굴절률이 교번한다. 이어서, 이들 구성층들의 적합한 기하학적인 두께들에 있어서, 배리어 스택은 간섭 필터를 구성할 수 있고 반사방지 코팅으로 작용할 수 있다. 특정 실시형태에서, 다층 부품은, 방사선 집광 또는, OLED 또는 광기전 셀과 같은 방출 기능성 소자의 전면 밀봉재로서 역할을 한다. 따라서, 이는 기능성 소자로부터 추출되거나 또는 기능성 소자로 도달하는 광속(light flux)이 큰 것을 보장하고, OLED 또는 광기전 셀의 경우에, 높은 에너지 변환 효율을 얻는 것을 가능하게 한다. 배리어 스택의 층들의 적합한 기하학적인 두께들은, 특히 최적화 소프트웨어를 사용하여 선택될 수 있다.
일 실시형태에 따르면, 폴리머 층 및 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택은 투명하다. 본 발명과 관련하여, 층 또는 층들의 스택은, 의도된 응용을 위한 적어도 유용한 파장 범위 내에서 투명할 때, 투명한 것으로 본다. 예를 들어, 다결정 실리콘계 광기전 셀들을 포함하는 광기전 장치의 경우에, 각각의 투명층은 400 nm 내지 1200 nm 의 파장 범위 내에서 투명하고, 이는 이러한 유형의 셀에 유용한 파장이다. 특히, 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택은, 박막들의 스택이고, 이 스택의 기하학적인 두께는, 반사방지 효과에 의해, 다층 부품을 통과하는 또는, 민감한 소자로 또는 민감한 소자로부터의 방사선의 전달을 최대화하도록 설계된다. 본 발명과 관련하여, 박막은 1 미크론 미만의 두께를 갖는 층을 의미하는 것으로 이해된다.
한 특징에 따르면, 다층 부품은, 폴리머 층으로부터 시작하여, 유기 또는 하이브리드 유기-무기 중간체 층에 의해 분리되는 적어도 2개의 배리어 스택들을 포함한다. 예를 들면 폴리아크릴레이트 층일 수 있는 이 중간체 층은 2개의 기능들을 갖는다. 첫째로, 2개의 무기 배리어 스택들을 기계적으로 분리함으로써 전체 스택의 기계적인 거동을 개선하고, 그에 따라 균열 전파를 방지하는 것을 가능하게 한다. 둘째로, 하나의 무기 배리어 스택으로부터 다른 배리어 스택으로의 대응하는 결함의 성장을 제한하고, 그에 따라 전체 스택에서 산소 및 수증기와 같은 오염 종들의 침투 경로의 유효 길이를 증가시키는 것을 가능하게 한다.
본 발명과 관련하여, 다층 부품은, 민감한 소자를 향하는 폴리머 층의 면과 평행한 적어도 하나의 배리어 스택 및/또는 민감한 소자로부터 멀어지는 쪽으로 향해진 폴리머 층의 면과 평행한 적어도 하나의 배리어 스택을 포함할 수 있다.
다층 부품의 폴리머 층은 기판, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리메틸 메타아크릴레이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 플루오로폴리머(예를 들면, 에틸렌-테트라플루오로에틸렌(ETFE), 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 에틸렌-클로로트리플루오로에틸렌(ECTFE) 및 플루오로화 에틸렌-프로필렌 공중합체(FEP)계 층일 수 있다.
변형예로서, 다층 부품의 폴리머 층은 강성 또는 연성 기판을 결합하는 라미네이션 중간층일 수 있다. 이 폴리머 라미네이션 중간층은, 특히 폴리비닐 부티랄(PVB), 에틸렌-비닐 아세테이트(EVA), 폴리에틸렌(PE), 폴리비닐 클로라이드(PVC), 열가소성 우레탄, 이오노머, 폴리올레핀계 접착제 또는 열가소성 실리콘계 층일 수 있다.
본 발명의 또 하나의 과제는, 상기 기술된 바와 같이, 공기 및/또는 수분에 민감한 소자, 예를 들면 유기 발광 다이오드 또는 광기전 셀을 밀봉하는 다층 부품의 사용이다.
본 발명의 또 하나의 과제는 공기 및/또는 수분에 민감한 소자 및 민감한 소자를 위한 전면 및/또는 후면 밀봉재로서 앞서 기술된 바와 같은 다층 부품을 포함하는 장치이다.
비제한적인 예에 따르면, 민감한 소자는, 광기전 셀, 유기 발광 다이오드, 전기변색 시스템, 전자-잉크 디스플레이 시스템 또는 무기 발광 시스템의 전체 또는 부분이다.
마지막으로, 본 발명의 또 하나의 과제는 앞서 기술된 바와 같은, 다층 부품을 제조하는 방법이고, 여기서 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택의 층들 중 적어도 일부는, 스퍼터링, 특히 마그네트론 스퍼터링 또는 화학 기상 증착, 특히 플라즈마-촉진 화학 기상 증착, 또는 원자층 기상증착, 또는 이들 기술의 조합에 의해 증착된다.
도 1에 도시된 OLED 장치(10)는, 글레이징(glazing) 기능을 갖는 전면 기판(1)과, 전면 전극(5), 유기 전계발광(electroluminescent) 층들의 스택(6) 및 후면 전극(7)의 병렬배치에 의해 형성된 OLED(12)를 포함한다. OLED(12)는 장치(10)의 기능성 소자다. 전면 기판(1)은, 방사선이 장치(10)로부터 얻어지는 측면에 놓이고, 투명 폴리머, 특히 예를 들면, 25 내지 175 미크론의 기하학적인 두께를 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)로 구성된다. 실시형태들에서, 기판(1)의 두께는 적어도 25 미크론, 예를 들면, 적어도 50 미크론, 적어도 75 미크론, 적어도 100 미크론, 또는 심지어 적어도 150 미크론 일 수 있다. 또 하나의 실시형태에서, 기판(1)의 두께는 200 미크론 이하, 예를 들면, 175 미크론 이하 또는 150 미크론 이하이다.
전면 전극(5)은 투명 전기전도성 코팅, 예를 들면, 주석이 도핑된 인듐 산화물(ITO) 또는 은 층을 갖는 스택에 기초한 코팅을 포함한다. 유기층들(6)의 스택은 전자 전달(electron transport) 층과 홀 전달(hole transport) 층 간에 중앙 전계발광 층을 개재하고, 전계발광 층은 전자 주입 층과 홀 주입 층간에 스스로 개재된다. 후면 전극(7)은, 전기 전도성 물질, 특히, 은 또는 알루미늄 유형의 금속 재료로 구성되고, 또는 특히 OLED 장치(10)가 전면 방출 및 후면 방출 모두 일 때 TCO로 구성된다. 유기층들(6)과 전극들(5 및 7)은 민감한 층들이고, 이들의 특성은 공기 또는 수분에 대한 노출의 영향으로 인해 열화되기 쉽다. 특히, 수증기 또는 산소가 존재하는 경우, 유기층들(6)의 발광 특성과 전극들(5 및 7)의 전도성 특성이 열화될 수 있다.
외부 환경 조건들에 노출될 때 이들 민감한 층들을 보호하기 위해, 장치(10)는 전면 기판(1)과 전면 전극(5) 간에 삽입된 배리어 스택(2)을 포함한다. 중첩된(superposed) 기판(1)/배리어 스택(2) 조합은 도 3에 확대도로 도시된 다층 부품(11)을 형성하고, 여기서 배리어 스택(2)은, OLED 장치의 내부 쪽으로 향한 기판(1)의 면(1A)에 맞대어 놓인다. 실제로, 배리어 스택(2)의 층들은, 특히 마그네트론 스퍼터링에 의해, 폴리머 기판(1)의 면(1A)상에 순차적으로 증착된다. 이후, 전면 전극(5), 유기층들(6) 및 후면 전극(7)이 증착된다.
이 실시형태에서, 배리어 스택(2)은 낮은 결정도와 높은 결정도를 교번하여 갖는 3개의 투명 박 층들(21, 22, 23)의 스택으로 구성된다. 실시형태들에서, 층들(21 내지 23)은 비정질 상태와 결정질 상태가 교번한다. 예를 들어, 실시형태에서, 층(21)은 비정질 상태일 수 있고, 층(22)은 결정질 상태일 수 있고, 그리고 층(23)은 비정질 상태일 수 있다. 본 발명에 따르면, 배리어 스택(2)은, 이들 층들을 향한 오염 종들, 예를 들면 수증기 또는 수분의 이동을 방지함으로써 민감한 층들(5, 6, 7)을 보호하는 역할을 한다. 바람직하게는, 배리어 스택(2)은 또한, 기판(1)과 전면 전극(5) 사이의 계면에 반사방지 효과에 의해 OLED(12)로부터 양호한 방사선을 추출하는 것을 보장하도록 최적화된다. 기판(1)과 전면 전극(5)의 구성 물질들의 굴절률 차이로 인해, OLED(12)에 의해 방출된 방사선의 손실이 반사에 의해 이 계면에서 발생할 수 있다. 그러나, 박막 층들(21, 22, 23)의 교번하는 고 굴절률 및 저 굴절률과 이 층들의 적합한 기하학적인 두께를 제공함으로써, 배리어 스택(2)은 간섭 필터를 구성할 수 있고, 기판(1)과 전면 전극(5) 사이의 계면에 반사방지 기능을 제공할 수 있다. 배리어 스택(2)의 이들 층들의 적합한 기하학적인 두께는, 특히 최적화 소프트웨어를 사용하여 선택될 수 있다.
도 2는, 박막 태양광 모듈(20)이 도 1의 다층 부품(11)으로 구비된 경우를 설명한다. 다층 부품(11)의 폴리머 기판(1)은 모듈(20)의 전면 기판을 형성하고, 다층 부품(11)은 태양 방사선이 모듈에 입사하는 면에 위치하며, 배리어 스택(2)은 모듈의 내부를 향한다. 모듈(20)은 또한, 알려진 바와 같이, 지지 기능을 갖는 후면 기판(18)을 포함하고, 이는 투명하거나 또는 투명하지 않은 임의의 적절한 물질로 구성된다.
후면 기판(18)은, 모듈(20)의 내부를 향하는 그의 면에, 즉 태양 방사선이 모듈에 입사되는 면에, 모듈(20)의 광기전 셀(13)의 후면 전극을 형성하는 전기 전도성 층(17)을 지지한다. 예를 들어, 층(17)은 특히 은 또는 알루미늄으로 구성된 금속층이다. 후면 전극을 형성하는 층(17)에는 비정질 실리콘계 흡수층(16)이 놓이고, 태양 에너지를 전기 에너지로 변환하는데 적합하다. 흡수층(16)에 예를 들면 알루미늄-도핑 아연 산화물(AZO)계 수분-민감한 전기 전도성 층(15)이 놓이고, 층(15)은 셀(13)의 전면 전극을 형성한다. 따라서, 모듈(20)의 광기전 셀(13)이 층들(15, 16 및 17)의 스택에 의해 형성된다.
OLED 장치(10)의 경우와 같이, 모듈(20)에 포함된 다층 부품(11)은, 밑에있는 민감한 층들(15, 16 및 17)을 향한 오염 종들의 이동을 제한하고 지연시키는 배리어 스택(2)에 의해, 층들(15, 16 및 17)의 효과적인 보호와, 모듈(20)의 외부로부터 흡수층(16)으로의 최적의 방사선 전달 모두를 제공한다.
도 4에 도시된 다층 부품의 제2 실시형태에서, 제1 실시형태의 소자들과 유사한 소자들은 100을 더한 동일한 도면 부호를 갖는다. 제2 실시형태에 따른 다층 부품(111)은 공기 및/또는 수분에 민감한 소자를 포함하는 장치, 예를 들면 광기전 모듈 또는 OLED 장치를 구비하도록 의도된다. 다층 부품(111)은, 투명 폴리머, 특히, 예를 들면, 수백 미크론의 기하학적인 두께를 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)로 구성된 기판(101) 및 민감한 소자로부터 멀어지는 쪽으로 향해진 기판의 면(101B) 상에 있는 배리어 스택(102)를 포함한다. 따라서, 다층 부품(111)은 배리어 스택이, 민감한 소자를 향하는 기판의 면 상이 아닌 민감한 소자로부터 멀어지는 쪽으로 향해진 기판의 면 상에 위치한다는 점에서, 제1 실시형태의 다층 부품(11)과 차이가 있다.
제1 실시형태와 유사한 방식으로, 배리어 스택(102)은 낮은 결정도와 높은 결정도를 교번하여 갖는 3개의 투명 박막 층들(121, 122, 123)의 스택으로 구성된다. 일 실시형태에서, 층들(121 내지 123)은 비정질 상태와 결정질 상태가 교번한다. 예를 들어, 일 실시형태에서, 층(121)은 비정질 상태일 수 있고, 층(122)은 결정질 상태일 수 있고, 그리고 층(123)은 비정질 상태일 수 있다. 본 발명에 따르면, 배리어 스택(102)은, 오염 종들, 예를 들면 수증기 또는 수분의 이동을 제한하고 지연시키는 역할을 한다. 일 실시형태에서, 배리어 스택(102)은 또한, 배리어 스택(102)이 폴리머 기판(101)과 공기 사이의 계면에 반사방지 기능을 제공하도록, 층들(121, 122, 123)의 적합한 기하학적인 두께와 굴절률을 갖고 설계된다. 이 계면에서 배리어 스택(102)의 존재는, 기판(101)의 구성 폴리머 재료와 공기 사이의 굴절률의 큰 차이로 인해, 이 계면에서 반사의 레벨이 높을 때, 다층 부품을 투과하는 방사선의 전달을 최대화 하는데 더욱 효과적이다.
도 5에 도시된 다층 부품의 제3 실시형태에서, 제1 실시형태와 동일한 소자는 200을 더한 동일한 도면 부호를 갖는다. 제3 실시형태에 따른 다층 부품(211)은, 공기 및/또는 수분에 민감한 소자를 포함하는 장치, 예를 들면 광기전 모듈 또는 OLED 장치를 구비하도록 의도된다. 다층 부품(211)은 투명 폴리머, 특히, 예를 들면, 수백 미크론의 기하학적인 두께를 갖는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)로 구성된 기판(201)을 포함하고, 이전 실시형태들의 다층 부품들(11 및 111)과, 민감한 소자를 향한 기판(201)의 면(201A)과 민감한 소자로부터 멀어지는 쪽으로 향해진 기판(201)의 면(201B) 각각에 증착되는 2개의 3층 배리어 스택들(202 및 202`)을 포함하는 점에서 차이가 있다.
2개의 배리어 스택들(202 및 202`)의 각각은 낮은 결정도와 높은 결정도를 교번하여 갖는 3개의 투명 박막 층들(221, 222, 223 또는 221`, 222`, 223`)의 스택으로 구성된다. 실시형태들에서, 층들은 비정질 상태와 결정질 상태가 교번할 수 있다. 2개의 배리어 스택을 갖는 다층 부품(211)은 오염 종들, 예를 들면 수증기 또는 수분에 대한 아래있는 민감한 층들의 효과적인 보호를 제공하고, 공기와 다층 부품 사이의 계면 및 다층 부품과 다층 부품이 결합되는 장치의 아래에 있는 층 사이의 계면 모두에서 방사선 반사를 최소화한다.
도 6 및 7에 도시된 다층 부품의 제4 실시형태에서, 제1 실시형태의 소자와 유사한 소자들은 300을 더한 동일한 도면 부호를 갖는다.
도 6에 도시된 태양광 모듈(320)은 도 2의 모듈(20)과, 흡수층(316)이 황동광 화합물계, 특히 CIS 또는 CIGS계인 점에서 차이가 있다. 알려진 바와 같이, 흡수체가 실리콘 또는 카드뮴 텔루라이드 계인 박막 광기전 모듈은, 슈퍼스트레이트(superstrate) 모드, 즉 전면 기판에서 시작하여 장치의 구성 층들의 순차적인 적층에 의해 제조되는 반면, 흡수체가 황동광 화합물 계인 박막 광기전 모듈은 기판 모드, 즉 후면 기판 상에 셀의 구성 층들의 순차적인 적층에 의해 제조된다. 이어서, 황동광 흡수체를 갖는 모듈의 조립은, 모듈의 전면 전극과 전면 기판 사이에 위치한 폴리머 중간층을 사용하는 라미네이션에 의해 통상 이루어진다.
도 6에서, 태양광 모듈(320)은, 유리 또는 투명 폴리머 중 어느 하나로 구성된 전면 기판(301)을 포함한다. 모듈(320)은 또한, 모듈(320)의 내부를 향한 후면 기판(318)의 면에서, 모듈의 광기전 셀(313)의 후면 전극을 형성하는 전기 전도성 층(317)을 지지하는 후면 기판(318)을 포함한다. 예를 들어, 층(317)은 몰리브덴계이다.
후면 전극을 형성하는 층(317)에는 황동광 화합물, 특히 CIS 또는 CIGS 계인 흡수층(316)이 놓인다. 흡수층(316)에는, 도핑되지 않은 고유의 ZnO의 층(도시되지 않음)과 임의로 조합되는 카드뮴 설파이드 CdS의 층(도시되지 않음)이 놓이고, 이어서 예를 들면 알루미늄-도핑 아연 산화물(AZO) 계이고, 셀(313)의 전면 전극을 형성하는 수분-민감한 전기 전도성 층(315)이 놓인다. 따라서, 모듈(320)의 광기전 셀(313)은 층들(315, 316 및 317)의 스택에 의해 형성된다.
EVA로 구성된 폴리머 라미네이션 중간층(304)은, 전면 기판(301)과 후면 기판(318) 사이의 모듈(320)의 기능성 층들을 결합하도록 설계되고, 전면 기판(101)에 맞대어 전극(315)의 위에 위치한다. 변형예로서, 라미네이션 중간층(304)은 PVB 또는 적합한 특성을 갖는 임의의 다른 물질로 구성될 수 있다. 라미네이션 중간층(304)에 저장될 수 있는 수분으로부터, 수분에 민감한 층인 AZO 층(315)을 보호하기 위해, 모듈(320)은 층들(304 및 315) 간에 개재된 배리어 스택(302)을 포함한다.
겹쳐진 라미네이션 중간층(304) 및 배리어 스택(302)은 다층 부품(311)을 형성하고, 여기서 배리어 스택(302)은, 모듈의 내부를 향한 층(304)의 면(304A)에 맞대어 위치한다. 제1 실시형태에서와 같이, 배리어 스택(302)은, 낮은 결정도와 높은 결정도가 교번하는, 바람직하게는 비정질 상태와 결정질 상태가 교번하는 3개의 투명 박막 층들(321, 322, 323)의 스택으로 구성되고, 여기서 스택(302)의 각각의 박막 층의 기하학적인 두께는, EVA 라미네이션 중간층(304)과 전면 전극을 형성하는 AZO 층(315) 사이의 계면에서 반사방지 효과를 얻기 위한 광학적 관점에서 최적화된다. 배리어 스택(302)으로 인해 이러한 예에서 달성될 수 있는 반사의 감소는, 라미네이션 중간층과 AZO 간의 굴절률의 큰 차이로 인해 특히 크다는 점에 주목해야 한다.
도 7은 전기변색 장치(330)가 도 6의 다층 부품(311)을 구비하는 경우를 예시한다. 도 7에서, 도 6의 소자들과 동일한 소자들은 동일한 도면 부호를 갖는다. 장치(330)는 임의의 적절한 투명 물질로 구성된 2개의 기판들(301` 및 318`)을 포함한다. 전기변색 시스템(314)은 기판들(301` 및 318`) 사이에 위치한다. 전기변색 시스템(314)은 임의의 적절한 유형일 수 있다. 이는 2개의 미네랄 전기변색 층들이 유기 전해질에 의해 분리되는 하이브리드 전기변색 시스템으로 불리는 것일 수 있고, 또는 전기변색 층들 및 전해질이 미네랄 층들인 전고체(all-solid-state) 전기변색 시스템일 수 있다.
그 유형에 관계없이, 전기변색 시스템(314)은, 기판(318`)에서 시작하여, 특히, TCO로 구성될 수 있는 투명 전극(317`), 전기변색 활성층들의 스택(316`), 및 역시 TCO로 구성될 수 있는 제2 투명 전극(315`)을 연속적으로 포함한다. 다층 부품(311)의 폴리머 라미네이션 중간층(304)은 기판(301`)에 맞대어 전극(315`) 위에 위치하고, 다층 부품(311)의 배리어 스택(302)은, 층(315`)을 보호하도록 층들(304 및 315`) 간에 개재된다.
상기에서 기술된 4개의 실시형태들에서 비제한적인 예에 따르면, 각각의 배리어 스택은 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 층들의 다음 배열을 포함한다:Si3N4/ZnO/Si3N4.
상기 실시형태들로부터 명백한 바와 같이, 본 발명에 따른 다층 부품은 배리어 스택을 포함하고, 배리어 스택의 층들은 교번하는 낮은 결정도와 높은 결정도를 갖고, 공기 또는 수분에 대한 노출에 의해 유도되는 임의의 열화에 대한 높은 저항성을 제공하는 장치를 제공하는 것을 가능하게 한다. 이 개선된 저항성은, 배리어 스택이 광학적으로 최적화될 수 있기 때문에, 장치의 활성층들로부터 또는 활성층으로의 방사선의 전달을 손상시키지 않고 얻는다.
실시예
폴리에틸렌 테레프탈레이트로 구성된 연성 기판에 증착되고, 0.125 mm의 기하학적인 두께를 갖는 기판(본 명세서에서 "PET"로 나타남)의 배리어 증착 표면에 계면층을 갖는 배리어 스택들의 실시예들은 아래의 표 1에 주어진다. 실시형태에서, 계면층은 1 내지 10 미크론, 예를 들면 4 내지 5 미크론의 두께를 갖는 UV-경화 아크릴레이트 층이다. 계면층은 폴리에틸렌 테레프탈레이트 표면을 평탄화하고 평활화한다.
스택들의 특성들은 다음 표 1에 주어진다:
- TL: 광원(illuminant) D65/2° 관측 조건하에서 측정된, 가시 범위의 광 전달 %
- RL: 광원 D65/2° 관측 조건하에서 측정된, 가시 범위의 광 반사 %
- A: 다음을 만족하는, 가시 범위의 광 흡수 %:
TL+RL+A=1;
- WVTR(수증기 전달률): 37.8℃ 및 100% 상대 습도에서 MOCON AQUATRAN 시스템을 사용하여 8시간 주기로 측정된 수증기 전달률(g/m2.day) [NB: MOCON 시스템의 검출 임계치는 5x10-4 g/m2.day].
본 발명에 따른 실시예 1에서, 배리어 스택은 결정도가 교번하는 3개의 층들을 포함하고, 여기서 Si3N4 층들은 비정질 상태이고, ZnO 는 적어도 부분적으로 결정질 상태이다.
비교예 2 및 3에 따르면, 배리어 스택은 모두 비정질 상태인 3개의 층들을 포함한다.
본 발명에 따른 실시예 1의 배리어 스택이, 비교예 2 및 3의 배리어 스택의 WVTR보다 10배 양호한 WVTR을 달성하는 것을 가능하게 하는 것을 알 수 있다.
표 1에서 각각의 실시예들에 있어서, 마그네트론 스퍼터링으로 층들을 증착할 때의 증착 조건들은 다음과 같다:
본 발명은 기술되고 도시된 실시예들에 제한되지 않는다.
특히, 앞서 기술된 실시예들에서, 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택은 투명하다. 실시형태들에서, 적어도 하나의 배리어 스택을 포함하는 다층 부품은, 적어도 75%, 예를 들면, 적어도 80%, 적어도 85%, 적어도 90%, 적어도 92%, 또는 심지어 적어도 94%의 광원 D65/2° 관측 조건하에서 투명하다. 변형예로서, 본 발명에 따른 다층 부품의 적어도 하나의 배리어 스택은, 특히 다층 부품이, 전면을 통해서만 방출하는 광기전 셀 또는 OLED의 후면 밀봉 또는, 투명 조건이 요구되지 않지만 환경 조건들의 영향으로 인해 열화되기 쉬운 소자의 전면 및/또는 후면 밀봉에 사용될 때, 투명성이 요구되지 않는다.
또한, 다층 부품의 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택은 3 이상의 임의의 수로 겹쳐진 층들을 포함할 수 있고, 이들 층들의 화학 조성 및 두께를 앞서 기술된 것들과 다르게 하는 것이 가능하다. 배리어 스택의 각각의 층은 금속 박막 또는, 특히 임의의 수소화된, 탄화된 또는 도핑된 MOx, MNy 또는 MOxNy 유형의 화학 조성을 갖는 산화물, 질화물 또는 산질화물의 박막일 수 있고, 여기서 M은, 예를 들어 Si, Al, Sn, Zn, Zr, Ti, Hf, Bi 및 Ta 또는 이들의 합금으로 부터 선택된 금속이다. 배리어 스택의 층들의 주어진 화학 조성에 대하여, 각각의 층들의 기하학적인 두께들은, 다층 부품을 투과하는 방사선 전달을 최대화 하도록, 예컨대 최적화 소프트웨어를 사용하여 선택된다.
추가로, 다층 부품의 층들이 폴리머 층 상에 증착될 때, 유기 계면층, 예를 들면 아크릴릭 또는 에폭시 수지 유형 또는 하이브리드 유기-무기 유형의 유기 계면층은, 특히 평활화 또는 평탄화 기능을 제공하도록, 폴리머 층 이전에 놓일 수 있다.
마지막으로, 본 발명에 따른 다층 부품은 공기 및/또는 수분에 민감한 소자를 포함하는 임의의 유형의 장치에 사용될 수 있고, 기술되고 도시된 OLED, 광기전 및 전기 변색 장치들에 제한되지 않는다. 특히, 본 발명은 박막 광기전 셀의 밀봉에 적용될 수 있고, 흡수 층은 비정질 또는 미정질(microcrystalline) 실리콘 계 또는 카드뮴 텔루라이드 계 또는, CIS 또는 CIGS와 같은 황동광 화합물 계 박막이다. 본 발명은 또한, 유기 광기전 셀의 유기 흡수층이, 특히 환경 조건들에 민감한 유기 광기전 셀의 밀봉하는데 적용되거나 p/n 접합(junction)을 형성하는 다결정 또는 단결정 실리콘 웨이퍼(wafer)를 포함하는 광기전 셀의 밀봉에 적용될 수 있다. 본 발명은 또한, 감광성 색소를 갖는 그라첼() 셀들(소위 DSSC; 염료 감응 태양 전지)로 구성된 모듈에 적용될 수 있는데, 수분에 대한 노출은, 전극 열화(deterioration) 외에도, 원치 않는 전기화학 반응을 일으키는 전해질의 기능장애(malfunction)를 일으킨다. 본 발명을 적용할 수 있는 다층 전자 장치들의 다른 실시예들은: 전자 디스플레이 장치로서, 그 활성부가 전극들 간에 인가되는 전압에 따라 이동할 수 있는 전기적으로 대전된 색소들을 포함하는, 전자 디스플레이 장치; 및 무기 전계발광 장치로서, 그 활성부가 유전체들 간에 개재된 활성 매질을 포함하고, 여기서 활성 매질은, 특히 황화물 또는 산화물 계인 호스트 매트릭스(host matrix)로서 작용하는 결정 격자 및 발광(luminescence)을 일으키는 도펀트, 예를 들면 ZnS:Mn 또는 SrS:Cu, Ag로 구성되는 무기 전계발광 장치이다.
폴리머 층 및 적어도 하나의 다층 배리어 스택을 포함하는, 본 발명에 따른 다층 부품을 제조하는 공정은, 배리어 스택의 층들의 박막 증착을 포함한다. 층들을 증착하는 하나의 가능한 기술은 마그네트론 스퍼터링이다.
이 공정에서, 플라즈마는, 증착되는 화학 소자들을 포함하는 타겟에 인접한 고 진공에서 생성된다. 타겟에 충격(bombarding)을 가하는 플라즈마의 활성 종들은, 기판 상에 증착된 상기 화학 소자들을 떼어내고, 원하는 박막을 형성한다. 이 공정은, 층이 타겟으로부터 떨어진 소자들과 플라즈마 중에 함유된 기체 사이의 화학 반응으로부터 얻어진 물질로 구성될 때, "반응하는(reactive)"공정이다. 이 공정의 주요 이점은, 기판을 다양한 타겟들 아래에 연속하여 통과시킴으로써 하나의 동일 라인에서 매우 복잡한 다층 스택을 증착하는 것이 가능하다는 것이다.
스퍼터링은, 파라미터, 예를 들면 증착 챔버의 압력, 전력, 반응 기체의 종류 또는 양을 변경함으로써, 배리어 스택의 특정 물리화학적(physic-chemical) 특성들, 특히 밀도, 화학양론 및 화학적 조성을 가변하는 것을 가능케 한다.
또한, 배리어 스택의 층들을 증착하기 위한 마그네트론 스퍼터링외의 다른 증착 기술들, 특히 화학 기상 증착(CVD), 특히 플라즈마-강화 화학 기상 증착(PECVD), 원자층 증착(ALD) 및 증발(evaporation) 기술들이 고려된다.
다층 스택의 층들이 폴리머 층상에 필수적으로 증착되지 않아도 되는 것에주의해야 한다. 따라서, 예를 들어, 슈퍼스트레이트 모드로 제조되는 도 1 및 2에 도시된 장치의 경우, 배리어 스택의 박막은 폴리머 기판(1)에 연속하여 증착되는 반면, 기판 모드로 제조되는 도 6 및 7에 도시된 장치의 경우, 배리어 스택의 박막이 전극(315)상에 연속하여 증착되고, 폴리머 라미네이션 중간층이 후속 단계에서 배리어 스택에 추가된다.
Claims (18)
- 유기 발광 다이오드 또는 광기전 셀과 같은 공기 및/또는 수분에 민감한 소자(12; 13; 313; 314)를 밀봉하기 위한 다층 부품(11; 111; 211; 311)으로서, 상기 다층 부품은 유기 폴리머 층(1; 101; 201; 304) 및 적어도 하나의 배리어 스택(2; 102; 202, 202`; 302)을 포함하고, 상기 배리어 스택은 낮은 결정도와 높은 결정도가 교번하는 적어도 3개의 연속적인 층들을 포함하고, 높은 결정도의 층의 결정도 대 낮은 결정도의 층의 결정도의 비는 1.1 이상인, 다층 부품.
- 제1항에 있어서,
높은 결정도의 층의 부피 결정도와 낮은 결정도의 층의 부피 결정도 사이의 차이는 10% 이상인, 다층 부품. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
높은 결정도의 층의 결정도 대 낮은 결정도의 층의 결정도의 비는 1.5 이상인, 다층 부품. - 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 적어도 3개의 연속하는 층들은 비정질 상태와 적어도 부분적으로 결정질 상태가 교번하는, 다층 부품. - 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
배리어 스택의 각각의 층은 5 내지 200 nm, 바람직하게는 5 내지 100 nm의 기하학적인 두께를 갖는, 다층 부품. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배리어 스택의 각각의 층은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 산질화물 층인, 다층 부품. - 제6항에 있어서,
상기 금속은, Si, Al, Sn, Zn, Zr, Ti, Hf, Bi, Ta 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 다층 부품. - 제6항에 있어서,
상기 금속 산화물, 상기 금속 질화물 또는 상기 금속 산질화물은 Si, Al, Sn, Zn, Zr, Ti, Hf, Bi, Ta 및 이들의 합금으로 구성된 군으로부터의 산화물, 질화물 또는 산질화물을 포함하는 것인, 다층 부품. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리머 층과 배리어 스택 사이에 위치한 유기 또는 하이브리드 유기-무기 계면층을 포함하는, 다층 부품. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
배리어 스택의 구성 층들은 고 굴절률과 저 굴절률을 교번하여 갖는, 다층 부품. - 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리머 층 및 배리어 스택 또는 각각의 배리어 스택은 투명한, 다층 부품. - 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
폴리머 층으로부터 시작하여, 유기 또는 하이브리드 유기-무기 중간체 층에 의해 분리되는 적어도 2개의 배리어 스택들을 포함하는, 다층 부품. - 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
민감한 소자를 향한 폴리머 층의 면(1A; 201A; 304A)과 평행한 적어도 하나의 배리어 스택 및/또는 민감한 소자로부터 멀어지는 쪽으로 향해진 폴리머 층의 면(101B; 201B)과 평행한 적어도 하나의 배리어 스택을 포함하는, 다층 부품. - 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리머 층(1; 101; 201)은 기판 폴리머인, 다층 부품. - 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리머 층(304)은 폴리머 라미네이션 중간층인, 다층 부품. - 공기 및/또는 수분에 민감한 소자를 포함하고, 민감한 소자에 대한 전면 및/또는 후면 밀봉재로서, 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 다층 부품을 포함하는, 장치.
- 제14항에 있어서,
민감한 소자는, 유기 발광 다이오드(12), 광기전 셀(13; 313), 전기변색 시스템(314), 전자잉크 디스플레이 시스템 또는 무기 발광 시스템의 전체 또는 부분인, 장치. - 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 다층 부품을 제조하는 방법으로서, 배리어 스택의 층들 중 적어도 일부가 스퍼터링, 특히 마그네트론 스퍼터링 또는 화학 기상 증착, 특히 플라즈마-촉진 화학 기상 증착, 또는 원자층 증착 또는 이들 기술의 조합에 의해 증착되는, 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1153113 | 2011-04-08 | ||
FR1153113A FR2973939A1 (fr) | 2011-04-08 | 2011-04-08 | Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible |
PCT/US2012/032618 WO2012139057A2 (en) | 2011-04-08 | 2012-04-06 | Multilayer component for the encapsulation of a sensitive element |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167025593A Division KR20160112022A (ko) | 2011-04-08 | 2012-04-06 | 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130143658A true KR20130143658A (ko) | 2013-12-31 |
Family
ID=44548852
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020137028835A KR20130143658A (ko) | 2011-04-08 | 2012-04-06 | 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 |
KR1020167025593A KR20160112022A (ko) | 2011-04-08 | 2012-04-06 | 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020167025593A KR20160112022A (ko) | 2011-04-08 | 2012-04-06 | 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10036832B2 (ko) |
EP (1) | EP2695217A4 (ko) |
JP (2) | JP2014514703A (ko) |
KR (2) | KR20130143658A (ko) |
CN (2) | CN103460433A (ko) |
FR (1) | FR2973939A1 (ko) |
WO (1) | WO2012139057A2 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170067427A (ko) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 한국생산기술연구원 | 다층무기봉지박막 및 이의 제조방법 |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2949775B1 (fr) | 2009-09-10 | 2013-08-09 | Saint Gobain Performance Plast | Substrat de protection pour dispositif collecteur ou emetteur de rayonnement |
FR2949776B1 (fr) | 2009-09-10 | 2013-05-17 | Saint Gobain Performance Plast | Element en couches pour l'encapsulation d'un element sensible |
US8574728B2 (en) | 2011-03-15 | 2013-11-05 | Kennametal Inc. | Aluminum oxynitride coated article and method of making the same |
FR2973939A1 (fr) | 2011-04-08 | 2012-10-12 | Saint Gobain | Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible |
US9397318B2 (en) | 2012-09-04 | 2016-07-19 | Applied Materials, Inc. | Method for hybrid encapsulation of an organic light emitting diode |
US9017809B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-04-28 | Kennametal Inc. | Coatings for cutting tools |
US9138864B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-09-22 | Kennametal Inc. | Green colored refractory coatings for cutting tools |
WO2014123544A1 (en) * | 2013-02-11 | 2014-08-14 | Halliburton Energy Services, Inc. | Fluid analysis system with integrated computation element formed using atomic layer deposition |
US9427808B2 (en) | 2013-08-30 | 2016-08-30 | Kennametal Inc. | Refractory coatings for cutting tools |
CN105518895B (zh) * | 2013-09-30 | 2017-08-01 | 株式会社Lg化学 | 用于有机电子器件的基板及其制造方法 |
US9741951B2 (en) * | 2013-09-30 | 2017-08-22 | Lg Chem, Ltd. | Substrate for organic electronic device and method for manufacturing same |
KR102088203B1 (ko) * | 2013-10-01 | 2020-03-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 및 이의 제조방법 |
JP2015133247A (ja) * | 2014-01-14 | 2015-07-23 | 日東電工株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置 |
CN104070742A (zh) * | 2014-06-17 | 2014-10-01 | 中国科学院广州能源研究所 | 一种阻隔水汽和防氧渗透的薄膜 |
US9502686B2 (en) * | 2014-07-03 | 2016-11-22 | Applied Materials, Inc. | Fluorine-containing polymerized HMDSO applications for OLED thin film encapsulation |
EP3219482B1 (en) | 2014-11-14 | 2024-02-07 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical barrier film, color conversion film, and backlight unit |
KR102382025B1 (ko) * | 2015-03-04 | 2022-04-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN104716270A (zh) | 2015-03-16 | 2015-06-17 | 上海和辉光电有限公司 | 一种薄膜封装结构和具有该结构的有机发光装置 |
CN107430223B (zh) * | 2015-03-30 | 2020-12-04 | 凸版印刷株式会社 | 光学膜及其制造方法、以及光学阻隔膜及颜色转换膜 |
CN106783800B (zh) * | 2015-11-19 | 2020-07-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 芯片的阻挡层及其制备方法 |
CN105552247B (zh) * | 2015-12-08 | 2018-10-26 | 上海天马微电子有限公司 | 复合基板、柔性显示装置及其制备方法 |
KR102322016B1 (ko) | 2016-06-01 | 2021-11-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 및 그 제조방법 |
WO2018199572A1 (ko) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 주식회사 엘지화학 | 도전성 적층체 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
KR102202928B1 (ko) | 2017-04-24 | 2021-01-14 | 주식회사 엘지화학 | 투광성 필름 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
KR20180119120A (ko) * | 2017-04-24 | 2018-11-01 | 주식회사 엘지화학 | 도전성 적층체 및 이를 포함하는 전기변색소자 |
GB2567873A (en) * | 2017-10-27 | 2019-05-01 | Flexenable Ltd | Air species barriers in liquid crystal display devices |
EP3713763A1 (en) * | 2017-11-20 | 2020-09-30 | Sage Electrochromics, Inc. | Non-light-emitting, variable transmission device and a process of fabricating the same |
EP3843166A4 (en) * | 2018-09-03 | 2021-10-27 | LG Chem, Ltd. | ENCAPSULATION FILM |
US11171313B2 (en) * | 2018-09-24 | 2021-11-09 | Apple Inc. | Incoherent thin film encapsulation for display |
JP7299028B2 (ja) * | 2019-01-25 | 2023-06-27 | 神港精機株式会社 | マグネトロンスパッタ法による成膜装置および成膜方法 |
FR3098997B1 (fr) * | 2019-07-18 | 2021-11-26 | Tecmoled | Dispositif d’émission de lumière |
CN112736204B (zh) * | 2020-12-30 | 2021-08-06 | 山东永聚医药科技有限公司 | 金属诱导非晶结晶化转变超高阻隔膜及其制备方法 |
Family Cites Families (89)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0782996B2 (ja) | 1986-03-28 | 1995-09-06 | キヤノン株式会社 | 結晶の形成方法 |
JPH07111484B2 (ja) | 1989-06-26 | 1995-11-29 | 松下電器産業株式会社 | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
FR2673633B1 (fr) | 1991-03-06 | 1993-06-11 | Air Liquide | Revetement multicouche pour substrat polycarbonate. |
US5254904A (en) | 1991-05-21 | 1993-10-19 | U.S. Philips Corporation | Antireflective coating layer in particular for a cathode ray tube |
US5234748A (en) | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
FR2748743B1 (fr) | 1996-05-14 | 1998-06-19 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a revetement antireflet |
JPH11218603A (ja) | 1997-11-27 | 1999-08-10 | Sony Corp | 反射防止膜およびその製造方法 |
US6335479B1 (en) | 1998-10-13 | 2002-01-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
TW439308B (en) * | 1998-12-16 | 2001-06-07 | Battelle Memorial Institute | Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making |
US6268695B1 (en) | 1998-12-16 | 2001-07-31 | Battelle Memorial Institute | Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making |
JP2000211053A (ja) | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Sony Corp | 光学薄膜デバイス |
JP3509804B2 (ja) | 1999-09-30 | 2004-03-22 | 株式会社ニコン | 多層薄膜付き光学素子及びそれを備える露光装置 |
US6573652B1 (en) * | 1999-10-25 | 2003-06-03 | Battelle Memorial Institute | Encapsulated display devices |
US20100330748A1 (en) | 1999-10-25 | 2010-12-30 | Xi Chu | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
FR2800998B1 (fr) | 1999-11-17 | 2002-04-26 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
US20030186064A1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-10-02 | Kenji Murata | Transparent laminate having low emissivity |
US20020090521A1 (en) | 2000-09-29 | 2002-07-11 | Tatsuji Nakajima | Silica layers and antireflection film using same |
JP4147008B2 (ja) | 2001-03-05 | 2008-09-10 | 株式会社日立製作所 | 有機el素子に用いるフィルム及び有機el素子 |
US7071613B2 (en) | 2001-10-10 | 2006-07-04 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
JP2003133070A (ja) | 2001-10-30 | 2003-05-09 | Seiko Epson Corp | 積層膜の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器 |
JP4016178B2 (ja) | 2001-11-06 | 2007-12-05 | ソニー株式会社 | 表示装置及び反射防止用基体 |
US6589658B1 (en) | 2001-11-29 | 2003-07-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
CN100381898C (zh) | 2001-11-29 | 2008-04-16 | 大宇电子Service株式会社 | 制造塑料基板的方法 |
JP3650366B2 (ja) | 2002-03-08 | 2005-05-18 | 株式会社エイコー・エンジニアリング | 無機材料封止された有機発光装置 |
JP4145636B2 (ja) | 2002-04-12 | 2008-09-03 | 住友ベークライト株式会社 | 光学フィルムシートおよびこれを用いた表示素子 |
US20030203210A1 (en) | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Vitex Systems, Inc. | Barrier coatings and methods of making same |
JP4062981B2 (ja) * | 2002-06-14 | 2008-03-19 | 株式会社デンソー | 有機el素子 |
US20040229051A1 (en) * | 2003-05-15 | 2004-11-18 | General Electric Company | Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices |
CN1176565C (zh) | 2002-11-25 | 2004-11-17 | 清华大学 | 一种有机电致发光器件的封装层及其制备方法和应用 |
JP2004198590A (ja) | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 薄膜有するを物品、その製造方法及び低反射体並びに透明導電性体 |
US7807225B2 (en) | 2003-01-31 | 2010-10-05 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | High density plasma non-stoichiometric SiOxNy films |
US20080171184A9 (en) | 2003-04-17 | 2008-07-17 | Minoru Komada | Barrier film and laminated material, container for wrapping and image display medium using the saw, and manufacturing method for barrier film |
JP2004345223A (ja) | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学機能性フィルム、および画像表示装置 |
US20060159892A1 (en) | 2003-06-16 | 2006-07-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Barrier laminate for an electroluminescent device |
FR2858975B1 (fr) | 2003-08-20 | 2006-01-27 | Saint Gobain | Substrat transparent revetu d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
JP4703108B2 (ja) | 2003-09-10 | 2011-06-15 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 発光素子基板およびそれを用いた発光素子 |
US6842288B1 (en) | 2003-10-30 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical adhesives and articles |
US20050093437A1 (en) | 2003-10-31 | 2005-05-05 | Ouyang Michael X. | OLED structures with strain relief, antireflection and barrier layers |
WO2005081333A2 (en) * | 2004-02-20 | 2005-09-01 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Diffusion barrier layer and method for manufacturing a diffusion barrier layer |
US20050207016A1 (en) | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Antireflection film, polarizing plate and liquid crystal display |
KR101279914B1 (ko) | 2004-06-25 | 2013-07-01 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 밀봉 필름의 차수 성능 개선 방법 및 장치 |
JP4837271B2 (ja) | 2004-10-04 | 2011-12-14 | 株式会社アルバック | 反射防止膜の形成方法 |
JP2006338947A (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 保護膜形成方法および保護膜 |
JP2007017668A (ja) | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルム |
JP2007038529A (ja) | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材および有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
JP2007098931A (ja) | 2005-09-09 | 2007-04-19 | Seiko Epson Corp | スクリーン印刷装置、発光装置の製造方法および製造装置 |
WO2007037525A1 (en) | 2005-09-28 | 2007-04-05 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate and image display |
JP2007090702A (ja) | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 水蒸気バリアフィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 |
US8153282B2 (en) | 2005-11-22 | 2012-04-10 | Guardian Industries Corp. | Solar cell with antireflective coating with graded layer including mixture of titanium oxide and silicon oxide |
US20090128916A1 (en) | 2006-01-16 | 2009-05-21 | Masaki Noro | Curable composition and cured product, laminate film and antireflective film using the same and polarizing plate and image display device using the antireflective film |
JP5135753B2 (ja) | 2006-02-01 | 2013-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | 光学物品 |
US20070212498A1 (en) | 2006-02-24 | 2007-09-13 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, polarizing plate, display apparatus and method for manufacturing optical film |
US20100326429A1 (en) | 2006-05-19 | 2010-12-30 | Cumpston Brian H | Hermetically sealed cylindrical solar cells |
JP4722746B2 (ja) | 2006-03-29 | 2011-07-13 | 京セラ株式会社 | El装置 |
JP2007277631A (ja) | 2006-04-06 | 2007-10-25 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性薄膜積層体の製造方法、ガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材及び有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
US20100208349A1 (en) | 2006-07-28 | 2010-08-19 | Robert Beer | Flexible materials for optical applications |
US20080049431A1 (en) | 2006-08-24 | 2008-02-28 | Heather Debra Boek | Light emitting device including anti-reflection layer(s) |
EP2082619B1 (en) * | 2006-11-06 | 2022-10-12 | Agency for Science, Technology And Research | Nanoparticulate encapsulation barrier stack |
US7781031B2 (en) * | 2006-12-06 | 2010-08-24 | General Electric Company | Barrier layer, composite article comprising the same, electroactive device, and method |
JP2008216429A (ja) | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Toppan Printing Co Ltd | 防眩フィルム |
JP2008288012A (ja) | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Seiko Epson Corp | エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法 |
JP5296343B2 (ja) | 2007-07-31 | 2013-09-25 | 住友化学株式会社 | バリア層つき基板、表示素子および表示素子の製造方法 |
US8586189B2 (en) | 2007-09-19 | 2013-11-19 | Fujifilm Corporation | Gas-barrier film and organic device comprising same |
JP5139153B2 (ja) | 2007-09-19 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリア性フィルムおよびこれを用いた有機デバイス |
JP5417698B2 (ja) | 2007-09-21 | 2014-02-19 | 凸版印刷株式会社 | 機能性フィルムの製造方法 |
WO2009046060A2 (en) | 2007-10-01 | 2009-04-09 | Davis, Joseph And Negley | Apparatus and methods to produce electrical energy by enhanced down-conversion of photons |
US20090096106A1 (en) | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Antireflective coatings |
US8987039B2 (en) | 2007-10-12 | 2015-03-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Antireflective coatings for photovoltaic applications |
JP2009133000A (ja) | 2007-10-30 | 2009-06-18 | Fujifilm Corp | シリコン窒化物膜及びそれを用いたガスバリア膜、薄膜素子 |
DE102008031405A1 (de) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines organischen elektronischen Bauelements und organisches elektronisches Bauelement |
TWI420722B (zh) * | 2008-01-30 | 2013-12-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 具有封裝單元之裝置 |
WO2009098793A1 (ja) | 2008-02-07 | 2009-08-13 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | 有機elディスプレイおよびその製造方法 |
US20090199901A1 (en) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Applied Materials, Inc. | Photovoltaic device comprising a sputter deposited passivation layer as well as a method and apparatus for producing such a device |
KR20090107882A (ko) * | 2008-04-10 | 2009-10-14 | 삼성전자주식회사 | 고정층을 포함하는 경사 조성 봉지 박막 및 그의 제조방법 |
KR20090126863A (ko) | 2008-06-05 | 2009-12-09 | 삼성전자주식회사 | 광학적 기능성을 갖는 다층 봉지 박막의 형성방법 및 그에 의해 제조된 다층 봉지 박막 |
JP5381017B2 (ja) | 2008-10-31 | 2014-01-08 | 凸版印刷株式会社 | 積層体 |
US20110250441A1 (en) | 2008-12-19 | 2011-10-13 | Sabine Amberg-Schwab | High-barrier composites and method for the production thereof |
US20100167002A1 (en) | 2008-12-30 | 2010-07-01 | Vitex Systems, Inc. | Method for encapsulating environmentally sensitive devices |
EP2382054A4 (en) | 2008-12-31 | 2013-04-03 | 3M Innovative Properties Co | SUBSTRATE WITH PLANARIZING COATING AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME |
KR101084267B1 (ko) | 2009-02-26 | 2011-11-16 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
DE102009024411A1 (de) | 2009-03-24 | 2010-09-30 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Dünnschichtverkapselung für ein optoelektronisches Bauelement, Verfahren zu dessen Herstellung und optoelektronisches Bauelement |
JP5424091B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | 紫外反射膜を有するフィルムミラー |
KR101560234B1 (ko) | 2009-06-29 | 2015-10-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법 |
TWI510688B (zh) | 2009-07-07 | 2015-12-01 | Kuraray Kuraflex Co Ltd | 積層片及其製造方法 |
FR2949775B1 (fr) | 2009-09-10 | 2013-08-09 | Saint Gobain Performance Plast | Substrat de protection pour dispositif collecteur ou emetteur de rayonnement |
FR2949776B1 (fr) | 2009-09-10 | 2013-05-17 | Saint Gobain Performance Plast | Element en couches pour l'encapsulation d'un element sensible |
JP2011100111A (ja) | 2009-10-09 | 2011-05-19 | Seiko Epson Corp | 光学物品、光学物品の製造方法、電子機器 |
FR2973940A1 (fr) | 2011-04-08 | 2012-10-12 | Saint Gobain | Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible |
FR2973939A1 (fr) | 2011-04-08 | 2012-10-12 | Saint Gobain | Element en couches pour l’encapsulation d’un element sensible |
-
2011
- 2011-04-08 FR FR1153113A patent/FR2973939A1/fr active Pending
-
2012
- 2012-04-06 CN CN201280016547XA patent/CN103460433A/zh active Pending
- 2012-04-06 KR KR1020137028835A patent/KR20130143658A/ko active Search and Examination
- 2012-04-06 US US13/441,766 patent/US10036832B2/en active Active
- 2012-04-06 CN CN201711429452.1A patent/CN108258138B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-04-06 KR KR1020167025593A patent/KR20160112022A/ko active Search and Examination
- 2012-04-06 JP JP2014502703A patent/JP2014514703A/ja active Pending
- 2012-04-06 WO PCT/US2012/032618 patent/WO2012139057A2/en active Application Filing
- 2012-04-06 EP EP12768074.2A patent/EP2695217A4/en not_active Withdrawn
-
2016
- 2016-11-30 JP JP2016233479A patent/JP2017107855A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170067427A (ko) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 한국생산기술연구원 | 다층무기봉지박막 및 이의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017107855A (ja) | 2017-06-15 |
CN108258138A (zh) | 2018-07-06 |
WO2012139057A2 (en) | 2012-10-11 |
CN108258138B (zh) | 2021-04-09 |
EP2695217A2 (en) | 2014-02-12 |
CN103460433A (zh) | 2013-12-18 |
WO2012139057A3 (en) | 2013-01-17 |
EP2695217A4 (en) | 2014-11-05 |
US10036832B2 (en) | 2018-07-31 |
FR2973939A1 (fr) | 2012-10-12 |
US20120258295A1 (en) | 2012-10-11 |
JP2014514703A (ja) | 2014-06-19 |
KR20160112022A (ko) | 2016-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108258138B (zh) | 用于敏感元件的封装的多层部件 | |
KR101587792B1 (ko) | 민감한 소자의 밀봉을 위한 다층 부품 | |
JP5607166B2 (ja) | 感受性要素を封入するための層状要素 | |
JP6181637B2 (ja) | 多層電子デバイス | |
US8766280B2 (en) | Protective substrate for a device that collects or emits radiation | |
US20080053519A1 (en) | Laminated photovoltaic cell | |
US20100243029A1 (en) | Flexible solar cell module | |
US20120145240A1 (en) | Barrier films for thin-film photovoltaic cells | |
JP2012510723A (ja) | 層状素子およびその層状素子を含む光起電力デバイス | |
US20140034126A1 (en) | Thin film solar cell module and method of manufacturing the same | |
WO2012053042A1 (en) | Solar cell module and method of manufacturing the same | |
KR20090105822A (ko) | 박막 태양전지 및 제조방법, 박막 태양전지 모듈 | |
JP2013089749A (ja) | フレームレス太陽電池モジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment |