JP2000211053A - 光学薄膜デバイス - Google Patents
光学薄膜デバイスInfo
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- JP2000211053A JP2000211053A JP11014674A JP1467499A JP2000211053A JP 2000211053 A JP2000211053 A JP 2000211053A JP 11014674 A JP11014674 A JP 11014674A JP 1467499 A JP1467499 A JP 1467499A JP 2000211053 A JP2000211053 A JP 2000211053A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示デバイスの形成材料として十分な気体バ
リア性及び液体バリア性を有する、透明プラスチックフ
ィルムからなる光学デバイスを得る。 【解決手段】 光学薄膜デバイス１０が、透明プラスチ
ックフィルム１の一方の面に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）
層２及び屈折率１．４〜４の高屈折率膜が順次積層さ
れ、透明プラスチックフィルム１の他面にＳｉＯx（０
≦ｘ≦２）層５が形成されてなる。高屈折率膜として
は、ＳｉＮy層（０≦ｙ≦１．３）３等を形成する。Ｓ
ｉＯx層２及びＳｉＮy層３を交互に積層し、積層膜４と
することが好ましい。
リア性及び液体バリア性を有する、透明プラスチックフ
ィルムからなる光学デバイスを得る。 【解決手段】 光学薄膜デバイス１０が、透明プラスチ
ックフィルム１の一方の面に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）
層２及び屈折率１．４〜４の高屈折率膜が順次積層さ
れ、透明プラスチックフィルム１の他面にＳｉＯx（０
≦ｘ≦２）層５が形成されてなる。高屈折率膜として
は、ＳｉＮy層（０≦ｙ≦１．３）３等を形成する。Ｓ
ｉＯx層２及びＳｉＮy層３を交互に積層し、積層膜４と
することが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶デバイス、プ
ラズマ液晶デバイス等の表示デバイスにおいて、液晶セ
ル又は真空セルを形成するガラス製の光学材料の代替材
料として有用なプラスチックフィルムからなる光学薄膜
デバイスに関する。
ラズマ液晶デバイス等の表示デバイスにおいて、液晶セ
ル又は真空セルを形成するガラス製の光学材料の代替材
料として有用なプラスチックフィルムからなる光学薄膜
デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶デバイス、プラズマ液晶デバ
イス等の表示デバイスにおいて、液晶セル又は真空セル
を形成し、セル内部を外部環境から遮蔽する光学材料と
してはガラスが使用されているが、近年では、生産性、
軽量化、ハンドリングの点から、ガラス製の光学材料を
プラスチック製の光学材料に置き換える試みもなされて
いる。
イス等の表示デバイスにおいて、液晶セル又は真空セル
を形成し、セル内部を外部環境から遮蔽する光学材料と
してはガラスが使用されているが、近年では、生産性、
軽量化、ハンドリングの点から、ガラス製の光学材料を
プラスチック製の光学材料に置き換える試みもなされて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、表示デ
バイスを形成するガラス製の光学材料をプラスチック製
の光学材料に置き換えると、外部環境あるいはデバイス
間の気体や液体の遮蔽を十分に行うことができない。そ
のため、例えば、液晶セル中の水分がプラズマ発光セル
内に浸入し、プラズマ発光セル内の電極が腐食したり、
所定の真空度を維持できなくなるなどの問題が生じる。
バイスを形成するガラス製の光学材料をプラスチック製
の光学材料に置き換えると、外部環境あるいはデバイス
間の気体や液体の遮蔽を十分に行うことができない。そ
のため、例えば、液晶セル中の水分がプラズマ発光セル
内に浸入し、プラズマ発光セル内の電極が腐食したり、
所定の真空度を維持できなくなるなどの問題が生じる。
【０００４】本発明は以上のような従来技術の問題点を
解決しようとするものであり、ガラス製の光学材料に代
えて使用することのできる十分な液体バリア性及び気体
バリア性を有する、プラスチックフィルムからなる光学
デバイスを提供することを目的としている。
解決しようとするものであり、ガラス製の光学材料に代
えて使用することのできる十分な液体バリア性及び気体
バリア性を有する、プラスチックフィルムからなる光学
デバイスを提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、透明プラスチックフィルムの一方の面
に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層及び屈折率１．４〜４の
高屈折率膜が順次積層され、透明プラスチックフィルム
の他面にＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層が形成されているこ
とを特徴とする光学薄膜デバイスを提供する。
め、本発明は、透明プラスチックフィルムの一方の面
に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層及び屈折率１．４〜４の
高屈折率膜が順次積層され、透明プラスチックフィルム
の他面にＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層が形成されているこ
とを特徴とする光学薄膜デバイスを提供する。
【０００６】特に、透明プラスチックフィルムの一方の
面に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層とＳｉＮy（０≦ｙ≦
１．３）層とからなる積層膜［ＳｉＯx／ＳｉＮy］
n（ｎ＝１〜１０００）、あるいはＳｉＯx（０≦ｘ≦
２）層とＡｌＯz（０≦ｚ≦１．５）層とからなる積層
膜［ＳｉＯx／ＡｌＯz］n（ｎ＝１〜１０００）が形成
されている態様を提供する。
面に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層とＳｉＮy（０≦ｙ≦
１．３）層とからなる積層膜［ＳｉＯx／ＳｉＮy］
n（ｎ＝１〜１０００）、あるいはＳｉＯx（０≦ｘ≦
２）層とＡｌＯz（０≦ｚ≦１．５）層とからなる積層
膜［ＳｉＯx／ＡｌＯz］n（ｎ＝１〜１０００）が形成
されている態様を提供する。
【０００７】本発明の光学薄膜デバイスによれば、透明
プラスチックフィルムの両面にＳｉＯx（０≦ｘ≦２）
層が形成されている。したがって、この光学薄膜デバイ
スをプラズマセルの形成材料として使用しても、この光
学薄膜デバイス内の透明プラスチックフィルムは、Ｓｉ
Ｏx層によってプラズマから保護され、所定の透明度を
維持することが可能となる。さらに、透明プラスチック
フィルムの一方の面上には高屈折率膜（屈折率１．４〜
４）も積層されており、好ましくは、ＳｉＯx（０≦ｘ
≦２）層と高屈折率膜（屈折率１．８〜２．４）とが交
互に積層されているので、光学薄膜デバイスを通過する
水分は、その通過距離が長くなり、通過抵抗が大きくな
る。よって、光学薄膜デバイスを通過する水分量を著し
く抑制することができる。
プラスチックフィルムの両面にＳｉＯx（０≦ｘ≦２）
層が形成されている。したがって、この光学薄膜デバイ
スをプラズマセルの形成材料として使用しても、この光
学薄膜デバイス内の透明プラスチックフィルムは、Ｓｉ
Ｏx層によってプラズマから保護され、所定の透明度を
維持することが可能となる。さらに、透明プラスチック
フィルムの一方の面上には高屈折率膜（屈折率１．４〜
４）も積層されており、好ましくは、ＳｉＯx（０≦ｘ
≦２）層と高屈折率膜（屈折率１．８〜２．４）とが交
互に積層されているので、光学薄膜デバイスを通過する
水分は、その通過距離が長くなり、通過抵抗が大きくな
る。よって、光学薄膜デバイスを通過する水分量を著し
く抑制することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ詳細に説明する。
を参照しつつ詳細に説明する。
【０００９】図１は、本発明の一実施例の光学薄膜デバ
イス１０の層構成図である。この光学薄膜デバイス１０
は、透明プラスチックフィルム１の一方の面にＳｉＯx
（０≦ｘ≦２）層２が形成され、その上に屈折率１．４
〜４の高屈折率膜としてＳｉＮy（０≦ｙ≦１．３）層
３が形成され、さらにその上にもＳｉＯx層２とＳｉＮy
層３とが交互に積層され、結局、透明プラスチックフィ
ルム１の一方の面に、ＳｉＯx層２とＳｉＮy層３とから
なる積層膜４（［ＳｉＯx／ＳｉＮy］n、ｎ＝１〜１０
００）が形成された構成となっている。なお、ここでｎ
はＳｉＯx層２とＳｉＮy層３との繰り返し数である。
イス１０の層構成図である。この光学薄膜デバイス１０
は、透明プラスチックフィルム１の一方の面にＳｉＯx
（０≦ｘ≦２）層２が形成され、その上に屈折率１．４
〜４の高屈折率膜としてＳｉＮy（０≦ｙ≦１．３）層
３が形成され、さらにその上にもＳｉＯx層２とＳｉＮy
層３とが交互に積層され、結局、透明プラスチックフィ
ルム１の一方の面に、ＳｉＯx層２とＳｉＮy層３とから
なる積層膜４（［ＳｉＯx／ＳｉＮy］n、ｎ＝１〜１０
００）が形成された構成となっている。なお、ここでｎ
はＳｉＯx層２とＳｉＮy層３との繰り返し数である。
【００１０】一方、透明プラスチックフィルム１の他面
には、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層５が形成されている。
には、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層５が形成されている。
【００１１】この光学薄膜デバイス１０において、透明
プラスチックフィルム１としては、ポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯ
Ｈ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン、シクロ
ヘキサン系高分子ポリマー等からなるフィルムを使用す
ることができる。
プラスチックフィルム１としては、ポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯ
Ｈ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリエチレン、シクロ
ヘキサン系高分子ポリマー等からなるフィルムを使用す
ることができる。
【００１２】透明プラスチックフィルム１の厚さは、誘
電率の点から、１０μｍ〜２ｍｍとすることが好まし
い。
電率の点から、１０μｍ〜２ｍｍとすることが好まし
い。
【００１３】ＳｉＯx層２は、それ自体がガスバリア性
を有し、また、透明プラスチックフィルム１上に形成す
る積層膜４の該透明プラスチックフィルム１への接着性
を向上させるアンカー層としての作用を有する。
を有し、また、透明プラスチックフィルム１上に形成す
る積層膜４の該透明プラスチックフィルム１への接着性
を向上させるアンカー層としての作用を有する。
【００１４】ＳｉＯx層２の厚さは、過度に大きすぎる
とクラックの原因となるので、１００ｎｍ以下とするこ
とが好ましい。
とクラックの原因となるので、１００ｎｍ以下とするこ
とが好ましい。
【００１５】ＳｉＮy層３も、光学薄膜デバイス１０の
気体及び液体に対するバリア性を高めるために設けられ
ている。特に、ポリカーボネートフィルム上に、ＳｉＯ
x層２に加えてＳｉＮy層３を積層することにより水蒸気
バリア性を向上させることができる。
気体及び液体に対するバリア性を高めるために設けられ
ている。特に、ポリカーボネートフィルム上に、ＳｉＯ
x層２に加えてＳｉＮy層３を積層することにより水蒸気
バリア性を向上させることができる。
【００１６】ＳｉＮy層３の屈折率は、透明性（光線透
過率）の点から１．８≦ｎ≦２．４とすることが好まし
い。屈折率ｎを高くすることにより緻密な薄膜を形成す
ることができ、また、光学薄膜デバイス１０に反射防止
機能を持たせることができる。なお、この屈折率ｎの調
整は、Ｓｉの窒化度により行うことができる。
過率）の点から１．８≦ｎ≦２．４とすることが好まし
い。屈折率ｎを高くすることにより緻密な薄膜を形成す
ることができ、また、光学薄膜デバイス１０に反射防止
機能を持たせることができる。なお、この屈折率ｎの調
整は、Ｓｉの窒化度により行うことができる。
【００１７】ＳｉＮy層３は、ＳｉＯx層２上にその単層
を設けてもよいが、ＳｉＯx層２と交互に積層を繰り返
し、透明プラスチックフィルム１上にＳｉＯx層２とＳ
ｉＮy層３とからなる積層膜４（［ＳｉＯx／Ｓｉ
Ｎy］n、ｎ＝１〜１０００）を形成することにより光学
薄膜デバイス１０の気体及び液体に対するバリア性を大
きく向上させることができる。図１には、ＳｉＯx層２
とＳｉＮy層３との繰り返し数ｎとして、ｎ＝４の場合
を示したが、繰り返し数ｎは応力の緩和等に応じて適宜
定めることができる。また、積層膜４の最外層は、Ｓｉ
Ｏx層２あるいはＳｉＮy層３のいずれでもよい。
を設けてもよいが、ＳｉＯx層２と交互に積層を繰り返
し、透明プラスチックフィルム１上にＳｉＯx層２とＳ
ｉＮy層３とからなる積層膜４（［ＳｉＯx／Ｓｉ
Ｎy］n、ｎ＝１〜１０００）を形成することにより光学
薄膜デバイス１０の気体及び液体に対するバリア性を大
きく向上させることができる。図１には、ＳｉＯx層２
とＳｉＮy層３との繰り返し数ｎとして、ｎ＝４の場合
を示したが、繰り返し数ｎは応力の緩和等に応じて適宜
定めることができる。また、積層膜４の最外層は、Ｓｉ
Ｏx層２あるいはＳｉＮy層３のいずれでもよい。
【００１８】ＳｉＯx層２とＳｉＮy層３とからなる積層
膜４の形成方法としては、例えば、ＳｉＮy層とＳｉＯx
層とを交互にスパッタすることにより積層してもよく、
また共スパッタにより形成してもよい。
膜４の形成方法としては、例えば、ＳｉＮy層とＳｉＯx
層とを交互にスパッタすることにより積層してもよく、
また共スパッタにより形成してもよい。
【００１９】積層膜４の厚さは、薄すぎると水蒸気バリ
ア性が不十分となり、厚すぎると膜応力によるそりが発
生しやすくなるので、透明プラスチックフィルム１の他
面のＳｉＯx層５の膜厚の５０〜１５０％とすることが
好ましい。例えば、ＳｉＯx層５を厚さ６〜８０ｎｍと
する場合に、積層膜４を厚さ３〜２００ｎｍとする。
ア性が不十分となり、厚すぎると膜応力によるそりが発
生しやすくなるので、透明プラスチックフィルム１の他
面のＳｉＯx層５の膜厚の５０〜１５０％とすることが
好ましい。例えば、ＳｉＯx層５を厚さ６〜８０ｎｍと
する場合に、積層膜４を厚さ３〜２００ｎｍとする。
【００２０】また、積層膜４中、ＳｉＯx層２の占める
割合が多くなると光の透過率が低下するので、ＳｉＯx
層２の合計の厚さを、ＳｉＮy層３の合計の厚さに対し
て１〜６０％とすることが好ましい。
割合が多くなると光の透過率が低下するので、ＳｉＯx
層２の合計の厚さを、ＳｉＮy層３の合計の厚さに対し
て１〜６０％とすることが好ましい。
【００２１】透明プラスチックフィルム１の他面のＳｉ
Ｏx層５は、上述のＳｉＯx層２と同様に構成することが
できる。
Ｏx層５は、上述のＳｉＯx層２と同様に構成することが
できる。
【００２２】光学薄膜デバイス１０は、表示デバイスに
使用する光学薄膜デバイスとしての要求特性を満たすた
め、その積層膜４側から入射した光の透過率が波長４０
０〜７００ｎｍの範囲で６０％以上となるようにするこ
とが望ましい。
使用する光学薄膜デバイスとしての要求特性を満たすた
め、その積層膜４側から入射した光の透過率が波長４０
０〜７００ｎｍの範囲で６０％以上となるようにするこ
とが望ましい。
【００２３】また、波長２００ｎｍの紫外線の透過率が
１０％以下となるようにすることが望ましい。これによ
り、この光学薄膜デバイス１０を、プラズマ発光セルと
液晶セルとを隔てる光学薄膜デバイスとして使用した場
合に、プラズマ発光セルの内側から出射し、液晶に損傷
を与えるおそれのある紫外線をカットすることができ
る。
１０％以下となるようにすることが望ましい。これによ
り、この光学薄膜デバイス１０を、プラズマ発光セルと
液晶セルとを隔てる光学薄膜デバイスとして使用した場
合に、プラズマ発光セルの内側から出射し、液晶に損傷
を与えるおそれのある紫外線をカットすることができ
る。
【００２４】さらに、光学薄膜デバイス１０は、透湿度
が１００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下、かつ酸素透過率が１０
ｃｍ3（ＳＴＤ）／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下となるよ
うにすることが好ましい。
が１００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下、かつ酸素透過率が１０
ｃｍ3（ＳＴＤ）／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下となるよ
うにすることが好ましい。
【００２５】これらの光の透過率、透湿度あるいは酸素
透過率に関する光学薄膜デバイス１０への要求特性は、
上述した各層の層厚、酸化度あるいは窒化度等を適宜設
定することにより満足させる。
透過率に関する光学薄膜デバイス１０への要求特性は、
上述した各層の層厚、酸化度あるいは窒化度等を適宜設
定することにより満足させる。
【００２６】以上、図１に示した光学薄膜デバイス１０
に基づいて本発明を説明したが、本発明はこの他種々の
態様をとることができる。
に基づいて本発明を説明したが、本発明はこの他種々の
態様をとることができる。
【００２７】例えば、上述のＳｉＮy層３に代えて、Ａ
ｌＯz（０≦ｚ≦１．５）層を形成することができる。
この場合、ＡｌＯz層の屈折率は、透明性（光線透過
率）の点から１．５≦ｎ≦２．４とすることが好まし
い。
ｌＯz（０≦ｚ≦１．５）層を形成することができる。
この場合、ＡｌＯz層の屈折率は、透明性（光線透過
率）の点から１．５≦ｎ≦２．４とすることが好まし
い。
【００２８】本発明の光学薄膜デバイスは、液晶デバイ
ス、プラズマ液晶デバイス等の表示デバイスにおいて、
液晶セル又は真空セルの一部又は全てを構成する光学材
料として有用なものとなる。特に、プラズマディスプレ
イにおいて、プラズマを発光させる真空セルと液晶セル
とを隔てる光学材料として使用する場合において、積層
膜４側を液晶セル側に配し、ＳｉＯx層５を真空セル側
に配することにより、液晶セルから真空セルへ水分が浸
入することを積層膜４によって防止し、真空セルから出
射した紫外線が液晶セルに悪影響を及ぼすことをＳｉＯ
x層５によって防止することが可能となる。
ス、プラズマ液晶デバイス等の表示デバイスにおいて、
液晶セル又は真空セルの一部又は全てを構成する光学材
料として有用なものとなる。特に、プラズマディスプレ
イにおいて、プラズマを発光させる真空セルと液晶セル
とを隔てる光学材料として使用する場合において、積層
膜４側を液晶セル側に配し、ＳｉＯx層５を真空セル側
に配することにより、液晶セルから真空セルへ水分が浸
入することを積層膜４によって防止し、真空セルから出
射した紫外線が液晶セルに悪影響を及ぼすことをＳｉＯ
x層５によって防止することが可能となる。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、透明プラスチックフィ
ルムからなり、かつ液晶デバイス、プラズマ液晶デバイ
ス等の表示デバイスの形成材料として十分な液体及び気
体に対するバリア性を有する光学デバイスを得ることが
できる。したがって、従来のガラス製の光学デバイスに
代えて本発明の光学薄膜デバイスを使用することによ
り、光学デバイスを軽量化し、ハンドリングを容易にす
ることが可能となる。また、ロール・ツー・ロールによ
り生産性を向上させることができ、光学デバイスの大面
積化も可能となる。
ルムからなり、かつ液晶デバイス、プラズマ液晶デバイ
ス等の表示デバイスの形成材料として十分な液体及び気
体に対するバリア性を有する光学デバイスを得ることが
できる。したがって、従来のガラス製の光学デバイスに
代えて本発明の光学薄膜デバイスを使用することによ
り、光学デバイスを軽量化し、ハンドリングを容易にす
ることが可能となる。また、ロール・ツー・ロールによ
り生産性を向上させることができ、光学デバイスの大面
積化も可能となる。
【図１】光学薄膜デバイスの層構成図である。
１…透明プラスチックフィルム、 ２…ＳｉＯx層、
３…ＳｉＮy層、 ４…積層膜、 ５…ＳｉＯx層、 １
０…光学薄膜デバイス
３…ＳｉＮy層、 ４…積層膜、 ５…ＳｉＯx層、 １
０…光学薄膜デバイス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA09 GA15 GA33 GA60 GA61 2H090 JA07 JB03 JB12 JC07 JD03 JD11 JD12 2K009 AA01 BB11 CC02 CC03 DD04 EE02 4F100 AA12C AA12E AA19C AA19E AA20B AA20D AK01A BA03 BA05 BA07 BA10B BA10E BA26 GB41 JD02 JD04 JD05 JM02C JM02E JN01A JN08 JN18C JN18E YY00 5C094 AA00 AA14 AA38 AA43 AA46 DA06 DA13 EB01 EB02 FA02 FB01 FB02 FB15 GB10 JA01 JA08 JA11 JA20
Claims (9)
- 【請求項１】 透明プラスチックフィルムの一方の面
に、ＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層及び屈折率１．４〜４の
高屈折率膜が順次積層され、透明プラスチックフィルム
の他面にＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層が形成されているこ
とを特徴とする光学薄膜デバイス。 - 【請求項２】 透明プラスチックフィルムの一方の面の
高屈折率膜上に、さらにＳｉＯx（０≦ｘ≦２）層と高
屈折率膜とが交互に積層されている請求項１記載の光学
薄膜デバイス。 - 【請求項３】 高屈折率膜としてＳｉＮy（０≦ｙ≦
１．３）層が形成され、透明プラスチックフィルムの一
方の面に、ＳｉＯx層とＳｉＮy層とからなる積層膜［Ｓ
ｉＯx／ＳｉＮy］n（ｎ＝１〜１０００）が形成されて
いる請求項２記載の光学薄膜デバイス。 - 【請求項４】 高屈折率膜としてＡｌＯz（０≦ｚ≦
１．５）層が形成され、透明プラスチックフィルムの一
方の面に、ＳｉＯx層とＡｌＯz層とからなる積層膜［Ｓ
ｉＯx／ＡｌＯz］n（ｎ＝１〜１０００）が形成されて
いる請求項２記載の光学薄膜デバイス。 - 【請求項５】 積層膜の厚さが、透明プラスチックフィ
ルムの他面のＳｉＯx層の厚さの５０〜１５０％である
請求項３又は４に記載の光学薄膜デバイス。 - 【請求項６】 積層膜中、ＳｉＯx層の合計の厚さが、
ＳｉＮy層の合計の厚さに対して１〜６０％である請求
項３記載の光学薄膜デバイス。 - 【請求項７】 波長４００〜７００ｎｍの範囲で積層膜
側から入射した光の透過率が６０％以上である請求項１
〜６のいずれかに記載の光学薄膜デバイス。 - 【請求項８】 波長２００ｎｍの紫外線の透過率が１０
％以下である請求項１〜６のいずれかに記載の光学薄膜
デバイス。 - 【請求項９】 透湿度が１００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下、
かつ酸素透過率が１０ｃｍ3（ＳＴＤ）／ｍ2・２４ｈｒ
・ａｔｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の光
学薄膜デバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014674A JP2000211053A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 光学薄膜デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014674A JP2000211053A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 光学薄膜デバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000211053A true JP2000211053A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11867779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11014674A Pending JP2000211053A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 光学薄膜デバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000211053A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003040782A1 (fr) * | 2001-11-06 | 2003-05-15 | Sony Corporation | Dispositif d'affichage et substrat antireflet |
| WO2006033233A1 (ja) * | 2004-09-21 | 2006-03-30 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 透明ガスバリア性フィルム |
| JP2006088422A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア積層体 |
| JP2008142941A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | ガスバリア積層体 |
| JP4499180B1 (ja) * | 2009-05-13 | 2010-07-07 | 旭硝子株式会社 | 液晶プロジェクタ用基板、およびこれを用いた液晶プロジェクタ用液晶パネル、液晶プロジェクタ |
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