KR20240052892A - 반사 방지막을 구비한 투명 기체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

반사 방지막을 구비한 투명 기체 및 화상 표시 장치 Download PDF

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KR20240052892A
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가즈야 다케모토
다모츠 모리모토
아이치 이노우에
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에이지씨 가부시키가이샤
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Abstract

본 실시 형태는, 2개의 주면을 갖는 투명 기체 및 해당 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층과 반사 방지막을 이 순으로 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이며, 시감 투과율, D65 광원 하의 투과색 b*값, 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y) 및 반사 방지막의 시트 저항을 특정 범위로 하고, 반사 방지막은, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이며, Diffusion의 값 및 확산광의 명도(SCE L*)를 특정 범위로 하는 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 관한 것이다.

Description

반사 방지막을 구비한 투명 기체 및 화상 표시 장치{ANTI-REFLECTIVE FILM-ATTACHED TRANSPARENT SUBSTRATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 반사 방지막을 구비한 투명 기체 및 그것을 구비한 화상 표시 장치에 관한 것이다.
근년, 미관성의 관점에서, 액정 디스플레이와 같은 화상 표시 장치의 전방면에 커버 유리를 설치하는 방법이 사용되고 있다. 당해 방법에서는, 커버 유리가 외광을 반사하는 것에 의한 비침이 하나의 과제가 되고 있고, 관련된 과제를 해결하기 위해 커버 유리의 표면에 다층막을 설치하고 있는 경우가 많다. 그러나, 종래의 반사 방지막에서는 화상 표시 장치의 흑색 프레임 부분과, 화상 표시부의 경계선이 두드러져 버려 미관성이 떨어졌다.
그래서, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 다층막인 반사 방지막에 광 흡수능을 부여함으로써 화상 표시 장치의 흑색 프레임 부분과 화상 표시부의 경계선을 눈에 띄지 않게 할 수 있고, 또한 커버 유리와 반사 방지막의 계면으로부터의 반사도 억제할 수 있음이 알려져 있다.
예를 들어 특허문헌 1에는, 광 흡수능을 갖고, 절연성인 반사 방지막을 구비한 투명 기체가 개시되어 있다. 특허문헌 2에는, 산화규소층과 구리층이 차례로 적층된 투명 도전 적층체가 개시되어 있다. 특허문헌 3에는, 유리판 표면에 고굴절률 재료로 이루어지는 피막과 저굴절률 재료로 이루어지는 피막을 갖고, 저굴절률 재료로 이루어지는 피막이 최표면에 배치된 반사 방지막이 개시되어 있다.
그러나, 가일층의 흑색감의 미관성이 높은 반사 방지막을 구비한 투명 기체가 요구되고 있었다.
일본 특허 공개 제2018-115105호 공보 일본 특허 공개 제2016-068470호 공보 일본 특허 공개 제2008-201633호 공보
본 발명은 광 흡수능을 갖고, 절연성이며, 또한 투과광이 황색을 띠지 않는 반사 방지막을 구비한 투명 기체 및 그것을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 2개의 주면을 갖는 투명 기체 및 해당 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층과 반사 방지막을 이 순으로 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이며,
(A) 시감 투과율이 20 내지 90％이며, (B) D65 광원 하의 투과색 b*값이 5 이하이며, (C) 상기 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y)이 0.4％ 이하이며, (D) 상기 반사 방지막의 시트 저항이 104Ω/□ 이상이며, (E) 상기 반사 방지막은, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이며, (F) 디퓨젼(diffusion)의 값이 0.2 이상이며, 또한 확산광의 명도(SCE L*)가 4 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 유전체층 중 적어도 1층이, 주로, Si의 산화물로 구성되어 있고, 상기 적층 구조의 층 중 다른 적어도 1층이, 주로, Mo 및 W로 이루어지는 A군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물과, Si, Nb, Ti, Zr, Ta, Al, Sn 및 In으로 이루어지는 B군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물의 혼합 산화물로 구성되며, 해당 혼합 산화물에 포함되는 A군의 원소와 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 합계에 대한, 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 함유율이 65질량％ 이하인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 반사 방지막 상에 방오막을 더 갖는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 투명 기체가 유리 기판인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 투명 기체가 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴, 실리콘 또는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 투명 기체가, 유리와, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴, 실리콘 또는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 중에서 선택되는 적어도 하나의 수지의 적층체인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 유리가 화학 강화되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 상기 투명 기판은, 상기 반사 방지막을 갖는 측의 주면에 방현 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서, 반사 방지막을 구비한 투명 기체를 구비한 화상 표시 장치인 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 광 흡수능을 갖고, 절연성이며, 또한 투과광이 황색을 띠지 않는 반사 방지막을 구비한 투명 기체가 제공된다.
상기의 특징에 의해, 본 실시 형태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 화상 표시 장치의 커버 유리, 특히, 차량 등에 탑재되는 내비게이션 시스템의 화상 표시 장치와 같은 차량 등에 탑재되는 화상 표시 장치의 커버 유리로서 적합하다.
도 1은 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 일 구성예를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 Diffusion의 값을 측정할 때 사용되는 측정 장치의 일례를 모식적으로 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다.
본 실시 형태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 2개의 주면을 갖는 투명 기체 및 해당 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층과 반사 방지막을 이 순으로 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이며, (A) 시감 투과율이 20 내지 90％이며, (B) D65 광원 하의 투과색 b*값이 5 이하이며, (C) 상기 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y)이 0.4％ 이하이며, (D) 상기 반사 방지막의 시트 저항이 104Ω/□ 이상이며, (E) 상기 반사 방지막은, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이며, (F) Diffusion의 값이 0.2 이상이며, 또한 확산광의 명도(SCE L*)가 4 이하이다.
본 발명의 일 양태는, 투명 기체의 한쪽 주면에 반사 방지막을 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이다.
(시감 투과율)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 시감 투과율이 20 내지 90％이다. 시감 투과율이 상기 범위이면, 적당한 광 흡수능을 갖기 때문에, 화상 표시 장치의 커버 유리로서 사용한 경우에, 커버 유리와 다층막의 계면으로부터의 반사를 억제할 수 있다. 이에 의해 화상 표시 장치의 명소 콘트라스트가 향상된다.
또한, 시감 투과율은 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS Z 8709(1999년)에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 시감 투과율은 50 내지 90％가 바람직하고, 60 내지 90％가 보다 바람직하다.
(D65 광원 하의 투과색에서 b*값)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 D65 광원 하의 투과색 b*값이 5 이하이다. b*값이 상기 범위이면, 투과광이 황색을 띠고 있지 않기 때문에, 화상 표시 장치의 커버 유리로서의 사용에 적합하다.
또한, D65 광원 하의 투과색에서의 b*값은, 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS Z 8729(2004년)에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 b*값의 상한값은 3 이하가 보다 바람직하고, 2 이하가 더욱 바람직하다. b*값의 하한값은 -6 이상이 바람직하고, -4 이상이 보다 바람직하다. 상기의 범위이면 투과광이 무색이 되어, 투과광의 광을 저해하지 않기 때문에 바람직하다.
(최표면층의 시감 반사율)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율이 0.4％ 이하이다. 최표면의 시감 반사율은 투명 기체 이면에 흑색 테이프를 붙이거나 하여 이면 반사를 제거한 상태에서 측정할 수 있다. 반사 방지막의 시감 반사율이 상기 범위이면, 화상 표시 장치의 커버 유리로서 사용한 경우에, 화면에 대한 외광의 비침 방지 효과가 높다.
또한, 시감 반사율은 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS Z 8701(1999년)에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율은 0.4％ 이하이며, 0.35％ 이하가 바람직하고, 0.3％ 이하가 보다 바람직하다.
(시감 반사율)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 비성막면 측에 액정 디스플레이를 배치하고, 상기 액정 디스플레이의 전원을 끊은 상태에서의 반사 방지막의 시감 반사율은 1.6％ 이하가 바람직하다. 상기 반사 방지막의 시감 반사율이 상기 범위이면, 화상 표시 장치의 커버 유리로서 사용한 경우에, 화면에 대한 외광의 비침 방지 효과가 높다.
또한, 비성막면 측에 액정 디스플레이를 배치한 상태에서의 반사 방지막의 시감 반사율은 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS Z 8701(1999년)에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 비성막면 측에 액정 디스플레이를 배치한 상태에서의 반사 방지막의 시감 반사율은 1.6％ 이하가 바람직하고, 1.3％ 이하가 보다 바람직하다.
(시트 저항)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 반사 방지막의 시트 저항이 104Ω/□ 이상이다. 반사 방지막의 시트 저항이 상기 범위이면, 반사 방지막이 절연성이기 때문에, 화상 표시 장치의 커버 유리로서 사용한 경우에, 터치 패널을 부여해도, 정전 용량식 터치 센서에 필요한 손가락의 접촉에 의한 정전 용량의 변화가 유지되어, 터치 패널을 기능시킬 수 있다.
또한, 시트 저항은 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS K 6911에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 반사 방지막의 시트 저항은 106Ω/□ 이상이 바람직하고, 108Ω/□ 이상이 보다 바람직하다.
(Diffusion의 값)
Diffusion의 값은, 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 주위상의 비침의 정도, 즉 방현성에 관한 지표이며, 값이 클수록, 비침이 억제되며, 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 방현성이 높음을 나타낸다.
다음으로, 도 2를 참조하여, 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 Diffusion의 값의 측정 방법에 대하여 설명한다.
도 2에는, Diffusion의 값을 측정할 때 사용되는 측정 장치의 일례를 모식적으로 나타낸다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 측정 장치(300)는 광원(350) 및 검출기(370)를 갖고, 측정 장치(300) 내에, 피측정 시료, 즉 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A가 배치된다.
반사 방지막을 구비한 투명 기체 A는, 제1 표면(212) 및 제2 표면(214)을 갖는다. 광원(350)은 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A를 향하여, 101mm 폭의 슬릿상의 제1 광(362)을 방사한다. 검출기(370)는 제1 표면(212)으로부터, 소정의 각도로 반사되는 반사광을 수광하여, 그 휘도를 검출한다.
또한, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A는, 제1 표면(212)이 광원(350) 및 검출기(370)의 측이 되도록 배치된다. 따라서, 검출기(370)가 검출하는 광은, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A에서 반사된 반사광이다.
또한, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 한쪽 표면이 방현 처리되어 있는 경우, 이 방현 처리되어 있는 표면이, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 제1 표면(212)이 된다. 즉, 이 경우, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A는, 방현 처리되어 있는 표면이 광원(350) 및 검출기(370)의 측이 되도록 하여, 측정 장치(300) 내에 배치된다. 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 배면에는 아크릴 점착제에 의해 액정 디스플레이가 접합되어 있다.
측정 시에는, 측정 장치(300)의 광원(350)으로부터 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A를 향하여, 제1 광(362)이 조사된다.
제1 광(362)은 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 법선 L의 방향에 대하여, 반시계 방향으로 2° 경사진 각도 φ로 투명 기체 A에 조사된다. 또한, 실제의 측정에는 오차가 포함되기 때문에, 각도 φ는, 보다 정확하게는, 2°±0.1°의 범위를 포함한다.
다음으로, 검출기(370)를 사용하여, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 제1 표면(212)으로부터 정반사되는 광(이하, 「제1 반사광(364)」이라고 함)의 휘도 R1을 측정한다.
또한, 실제로는, 제1 반사광(364)의 법선 L에 대한 각도(제1 각도 α1)는 α1=-φ이기 때문에, α1=-2°±0.1°이다. 마이너스(-)의 부호는, 각도가 상기 법선 L에 대하여 반시계 방향으로 경사져 있음을 나타내고, 플러스(+)의 부호는, 각도가 상기 법선에 대하여 시계 방향으로 경사져 있음을 나타낸다.
단, 여기서는, 제1 반사광(364)의 제1 각도 α1을 기준으로 하기 때문에, 각도 α1=0°±0.1°로 규정한다.
마찬가지로, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 제1 표면(212)으로부터, 제2 각도 α2로 반사되는 반사광(이하, 「제2 반사광(366)」이라고 함)의 휘도 R2 및 제3 각도 α3으로 반사되는 반사광(이하, 「제3 반사광(368)」이라고 함)의 휘도 R3을 측정한다.
여기서, 제2 각도 α2는, 제1 각도 α1을 기준으로 하여, α2=-0.5°±0.1°이다. 또한, 제3 각도 α3은, 제1 각도 α1을 기준으로 하여, α3=+0.5°±0.1°이다.
얻어진 각 휘도 R1, R2, R3을 사용하여, 이하의 식 (2)에 의해, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 Diffusion의 값이 산출된다:
Diffusion의 값=(R2+R3)/(2×R1) 식 (2)
이 Diffusion의 값은, 관찰자의 눈으로 본 반사상 확산성의 판단 결과와 상관하여, 사람의 시감에 가까운 거동을 나타냄이 확인되었다. 예를 들어, Diffusion의 값이 큰 값(1에 가까운 값)을 나타내는 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 반사상 확산성이 우수하고, 반대로 Diffusion의 값이 작은 값을 나타내는 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 반사상 확산성이 떨어지는 경향이 있다.
또한, 이러한 측정은, 예를 들어, DM&S사제의 장치 SMS-1000을 사용함으로써 실시할 수 있다.
이 장치를 사용하는 경우, 초점 거리가 16mm인 C1614A 렌즈가 조리개 5.6으로 사용된다. 또한, 반사 방지막을 구비한 투명 기체 A의 제1 표면(212)으로부터 카메라 렌즈까지의 거리는, 약 300mm이며, 이미징 스케일(Imaging Scale)은, 0.0276 내지 0.0278의 범위로 설정된다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 Diffusion의 값은 0.2 이상이며, 0.3 이상이 바람직하다.
(확산광의 명도)
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 반사 방지막의 확산광의 명도(L*)가 4 이하이다. 반사 방지막의 확산광의 명도가 상기 범위이면, 화상 표시 장치의 커버 유리로서 사용한 경우에, 화면에 대한 외광의 비침 방지 효과가 높다.
또한, 확산광의 명도(L*)는 후술하는 실시예에 기재된 바와 같이, JIS Z 8722(2009년)에 규정된 방법으로 측정할 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 반사 방지막의 확산광의 명도(L*)는 4 이하이며, 3.5 이하가 바람직하다.
본 실시 형태에 관한, 상기 투명 기체는 투광성이 우수한 투명한 기체인 한 특별히 한정되지 않지만, 유리나 수지를 들 수 있다.
본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 있어서의 다층막은 하기 구성이 바람직하다.
도 1은 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 일 구성예를 모식적으로 나타낸 단면도이다. 투명 기체(10) 상에 확산층(31)이 형성되고, 확산층(31) 상에 다층막(반사 방지막)(30)이 형성되어 있다.
도 1에 나타내는 다층막(반사 방지막)(30)은, 서로 굴절률이 다른 유전체층(32, 34)을 2층 적층시킨 적층 구조이다. 서로 굴절률이 다른 유전체층(32, 34)을 적층시킴으로써, 광의 반사를 억제한다. 유전체층(32)이 고굴절률층이며, 유전체층(34)이 저굴절률층이다.
도 1에 나타내는 다층막(반사 방지막)(30)에 있어서, 유전체층(32)은 Mo 및 W로 이루어지는 A군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물과, Si, Nb, Ti, Zr, Ta, Al, Sn 및 In으로 이루어지는 B군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물의 혼합 산화물로 구성되는 것이 바람직하다.
단, 해당 혼합 산화물은, 해당 혼합 산화물에 포함되는 A군의 원소와 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 합계에 대한, 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 함유율(이하, B군 함유율이라고 기재함)이 65질량％ 이하인 것이 바람직하다.
층(34)은 SiOx로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
층(32)은 상기 Mo 및 W로 이루어지는 A군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물과, Si, Nb, Ti, Zr, Ta, Al, Sn 및 In으로 이루어지는 B군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물의 혼합 산화물로 구성되는 것이 바람직하다. 이들 중에서도 A군으로서는 Mo, B군으로서는 Nb가 바람직하다.
산소 결손되어 있는 산화규소층인 층(34)과, 층(32)을 Mo 및 Nb를 사용함으로써, 종래 산소 결손되어 있는 산화규소층은 가시광에 있어서 황색을 띠지만, Mo 및 Nb를 사용함으로써 산소 결손되어 있어도 산화규소층이 황색을 띠지 않는 것보다 바람직하다.
상기 층(32)의 파장 550nm에 있어서의 굴절률은, 투명 기체와의 투과율의 관점에서, 1.8 내지 2.3이 바람직하다.
상기 층(32)의 소쇠 계수는 0.005 내지 3이 바람직하고, 0.04 내지 0.38이 보다 바람직하다. 소쇠 계수가 0.005 이상이면, 원하는 흡수율을 적절한 층수로 실현할 수 있다. 또한 소쇠 계수가 3 이하이면, 반사 색감과 투과율의 양립이 비교적 실현되기 쉽다.
본 실시 형태에서는, 유전체층(32)에 분산시키는 미립자로서, 가시광선의 전체 파장 영역에서 높은 광선 흡수능을 갖는 것을 사용함으로써, 투과광이 황색을 띠는 것을 보다 효과적으로 방지한다. 본 실시 형태에서는, 유전체층(32)에 분산시키는 미립자로서, Ag, Mo, W, Cu, Au, Pd, Pt, Ir, Ni, Co, Fe, Cr, C, TiC, SiC, TiN 및 CrN으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 사용하는 것이 바람직하다.
미립자의 선택지로서 예시한 것은 도전성이 높지만, 유전체층(32)에 미립자로서 분산시키고 있기 때문에, 반사 방지막(30)은 절연성이 된다.
도 1에 나타내는 다층막(반사 방지막)(30)은, 2층의 유전체층(32, 34)을 적층시킨 적층 구조이지만, 본 실시 형태에 있어서의 다층막(반사 방지막)은 이에 한정되지 않고, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이면 된다. 즉, 서로 굴절률이 다른 층을 3층 이상 적층시킨 적층 구조여도 된다. 이 경우, 모든 층의 굴절률이 상이할 필요는 없다.
예를 들어, 3층 적층 구조의 경우, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층의 3층 적층 구조나, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층의 3층 적층 구조로 할 수 있다. 전자의 경우에는 2층 존재하는 저굴절률층, 후자의 경우에는 2층 존재하는 고굴절률층이 동일한 굴절률이어도 된다.
4층 적층 구조의 경우, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층의 4층 적층 구조나, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층의 4층 적층 구조로 할 수 있다. 이 경우, 각각 2층 존재하는 저굴절률층 및 고굴절률층이 동일한 굴절률이어도 된다.
광 흡수능을 가지며, 또한 절연성인 광투과막으로서는, 반도체 제조 분야에서 사용되는 하프톤 마스크가 알려져 있다. 하프톤 마스크로서는, Mo를 소량 포함하는 Mo-SiOx막과 같은 산소 결손막이 사용된다. 또한, 광 흡수능을 가지며, 또한 절연성인 광투과막으로서는, 반도체 제조 분야에서 사용되는 좁은 밴드 갭 막이 있다.
그러나, 이들 막은 가시광선 중, 단파장측의 광선 흡수능이 높기 때문에, 투과광이 황색을 띤다. 그 때문에, 화상 표시 장치의 커버 유리에는 부적합하다.
본 실시 형태에 있어서, Mo의 함유율을 높인 층(32)과, SiOx로 구성되는 층(34)을 가짐으로써, 광선 흡수능을 갖고, 절연성이며, 또한 밀착성 및 강도가 우수한 반사 방지막을 구비한 투명 기체가 얻어진다.
도 1에 나타내는 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 다층막(반사 방지막)(30)이 상술한 구성임으로써, 상술한 본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 특성을 충족시킨다.
Mo 및 W로 이루어지는 A군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물과, Si, Nb, Ti, Zr, Ta, Al, Sn 및 In으로 이루어지는 B군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물의 혼합 산화물로 구성되는 층(A-B-O)(32)에 있어서의 B군 함유율이 65질량％ 이하이면, b*값이 5 초과가 되는 것을 억제할 수 있다.
서로 굴절률이 다른 층을 3층 이상 적층시킨 적층 구조의 경우, 층(A-B-O) 및 층(SiOx) 이외의 층을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 층(A-B-O) 및 층(SiOx)을 포함하여 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층의 3층 적층 구조, 혹은, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층의 3층 적층 구조, 혹은, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층의 4층 적층 구조, 혹은, 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층의 4층 적층 구조가 되도록 각 층을 선택할 필요가 있다.
단, 최표면의 층은 층(SiOx)인 것이 바람직하다. 저반사성을 얻기 위해서는 최표면의 층이 층(SiOx)이면 비교적 용이하게 제작할 수 있기 때문이다. 또한, 방오막을 형성하는 경우, 방오막의 내구성에 관련된 결합성의 관점에서 층(SiOx) 상에 형성하는 것이 바람직하다.
층(A-B-O)(32)은 아몰퍼스인 것이 바람직하다. 아몰퍼스이면, 비교적 저온에서 작성할 수 있고, 투명 기체가 수지인 경우 등에, 수지가 열로 대미지를 받는 일이 없어, 적합하게 적용할 수 있다.
이하, 본 실시 형태에 관한 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대하여 더 기재한다.
<투명 기체>
투명 기체는, 굴절률이 1.4 이상 1.7 이하인 재질이 바람직하다. 이는 디스플레이나 터치 패널 등을 광학적으로 접착하는 경우, 접착면에 있어서의 반사를 충분히 억제할 수 있기 때문이다.
투명 기체로서는, 유리 기판 또는 수지 기판이 바람직하다. 투명 기체는 유리와 수지로 구성되는 적층체여도 된다.
유리 기판으로서는, 다양한 조성을 갖는 유리를 이용할 수 있다. 예를 들어, 본 실시 형태에서 사용되는 유리는 나트륨을 포함하고 있는 것이 바람직하고, 성형, 화학 강화 처리에 의한 강화가 가능한 조성인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어 알루미노실리케이트 유리, 소다 석회 유리, 붕규산 유리, 납유리, 알칼리바륨 유리, 알루미노붕규산 유리 등을 들 수 있다.
유리 기판의 두께는, 특별히 제한은 없지만, 화학 강화 처리를 행하는 경우에는 이것을 효과적으로 행하기 위해, 통상 5mm 이하가 바람직하고, 3mm 이하가 보다 바람직하다.
유리 기판은, 커버 유리의 강도를 높이기 위해 화학 강화된 화학 강화 유리가 바람직하다. 또한, 유리 기판에 방현 처리를 실시하는 경우, 화학 강화는 방현 처리 후, 다층막을 형성하기 전에 행한다.
유리 기판은, 다층막을 갖는 측의 주면에 방현 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 방현 처리 방법은 특별히 한정되지 않고, 유리 주면에 대하여 표면 처리를 실시하여, 원하는 요철을 형성하는 방법을 이용할 수 있다.
구체적으로는, 유리 기판의 주면에 화학적 처리를 행하는 방법, 예를 들어 프로스트 처리를 실시하는 방법을 들 수 있다. 프로스트 처리는, 예를 들어 불화수소와 불화암모늄의 혼합 용액에, 피처리체인 유리 기판을 침지시키고, 침지면을 화학적으로 표면 처리할 수 있다.
또한, 이러한 화학적 처리에 의한 방법 이외에도, 예를 들어 결정질 이산화규소분, 탄화규소분 등을 가압 공기로 유리 기판 표면에 분사하는 소위 샌드블라스트 처리나, 결정질 이산화규소분, 탄화규소분 등을 부착시킨 브러시를 물로 적신 것으로 닦는 등의 물리적 처리에 의한 방법도 이용할 수 있다.
수지 기판으로서는 수지 필름이 바람직하다. 수지 필름으로서는, 열가소성 수지 또는 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리염화비닐 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스계 수지, 아크릴 수지, AS(아크릴로니트릴-스티렌) 수지, ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌) 수지, 불소계 수지, 열가소성 엘라스토머, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리카보네이트 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리락트산계 수지, 환상 폴리올레핀 수지, 폴리페닐렌술피드 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 셀룰로오스계 수지가 바람직하고, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지가 보다 바람직하다. 이들 수지는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
또는, 수지 기판으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴, 실리콘 또는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 중에서 선택되는 적어도 하나의 수지가 바람직하다.
필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 20 내지 150㎛가 바람직하고, 40 내지 80㎛가 보다 바람직하다.
투명 기체(10)로서 필름을 사용하는 경우에는, 실시 형태의 하나로서, 투명 기체(10) 위에 하드 코트층(도시하지 않음)을 배치하고, 그 위에 다층막(반사 방지막)(30)을 마련하는 구성이어도 된다.
또한, 다른 실시 형태로서, 상기 하드 코트층 위에 방현층(도시하지 않음, 안티글레어층)을 배치하고, 그 위에 다층막(반사 방지막)(30)을 마련하는 구성이어도 된다.
하드 코트층으로서는, 고분자 수지를 용해시킨 것을 도포할 수 있다. 안티글레어층은 필름의 편면에 요철 형상을 형성함으로써 헤이즈를 높게 하여, 방현성을 부여하는 것이다. 안티글레어층은 하드 코트층과 마찬가지로, 고분자 수지를 용해시킨 것을 도포할 수 있다. 안티글레어층을 구성하는 안티글레어층 조성물은, 적어도 그 자신이 방현성을 갖는 입자상의 물질을, 바인더로서의 고분자 수지를 용해시킨 용액 중에 분산시킨 것으로 이루어진다.
상기 방현성을 갖는 입자상의 물질로서는, 실리카, 클레이, 탈크, 탄산칼슘, 황산칼슘, 황산바륨, 규산알루미늄, 산화티탄, 합성 제올라이트, 알루미나, 스멕타이트 등의 무기 미립자 외에, 스티렌 수지, 우레탄 수지, 벤조구아나민 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지 등으로 이루어지는 유기 미립자를 들 수 있다.
또한, 상기 하드 코트층, 상기 안티글레어층의 바인더로서의 고분자 수지에는, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄아크릴레이트계 수지, 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지로 이루어지는 고분자 수지를 사용할 수 있다.
<다층막>
상술한 다층막은, 스퍼터링법, 진공 증착법이나 도포법 등의 공지의 성막 방법을 사용하여, 투명 기체의 주면에 형성할 수 있다. 즉, 다층막을 구성하는 유전체층 또는 층을, 그 적층순에 따라, 투명 기체의 주면에 스퍼터링법, 진공 증착법이나 도포법 등의 공지의 성막 방법을 사용하여 형성한다.
스퍼터링법으로서는, 마그네트론 스퍼터, 펄스 스퍼터, AC 스퍼터, 디지털 스퍼터 등의 방법을 들 수 있다.
예를 들어, 마그네트론 스퍼터법은, 모체가 되는 유전체 재료의 이면에 자석을 설치하여 자계를 발생시켜, 가스 이온 원자가 상기 유전체 재료 표면에 충돌하여, 두들김으로써 수 nm의 두께로 스퍼터 성막하는 방법이며, 유전체 재료의 산화물 또는 질화물인 유전체의 연속막을 형성할 수 있다.
예를 들어, 디지털 스퍼터법은, 통상의 마그네트론 스퍼터링법과는 달리, 먼저 스퍼터링에 의해 금속의 극박막을 형성하고 나서, 산소 플라스마 혹은 산소 이온 혹은 산소 라디칼을 조사함으로써 산화하는 공정을 동일 챔버 내에서 반복하여 금속 산화물의 박막을 형성하는 방법이다. 이 경우, 성막 분자가 기판에 착막했을 때는 금속이므로, 금속 산화물로 착막하는 경우에 비하여 연성이 있을 것으로 추정된다. 따라서 동일한 에너지로도 성막 분자의 재배치는 일어나기 쉬워져, 결과적으로 조밀하고 평활한 막이 만들어질 것으로 생각된다.
<방오막>
본 실시 형태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 막 최표면을 보호하는 관점에서, 상기 반사 방지막 상에, 추가로 방오막(「Anti Finger Print(AFP)막」이라고도 칭함)을 가져도 된다. 방오막은 예를 들어, 불소 함유 유기 규소 화합물에 의해 구성할 수 있다.
불소 함유 유기 규소 화합물로서는, 방오성, 발수성, 발유성을 부여할 수 있으면 특별히 한정되지 않고 사용할 수 있고, 예를 들어 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물을 들 수 있다. 또한, 폴리플루오로폴리에테르기란, 폴리플루오로알킬렌기와 에테르성 산소 원자가 교호로 결합된 구조를 갖는 2가의 기이다.
또한, 시판되고 있는 폴리플루오로폴리에테르기, 폴리플루오로알킬렌기 및 폴리플루오로알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 기를 갖는 불소 함유 유기 규소 화합물로서, KP-801(상품명, 신에츠 가가쿠사제), KY178(상품명, 신에츠 가가쿠사제), KY-130(상품명, 신에츠 가가쿠사제), KY-185(상품명, 신에츠 가가쿠사제) 옵툴(등록상표) DSX 및 옵툴 AES(모두 상품명, 다이킨사제) 등이 바람직하게 사용할 수 있다.
방오막은, 반사 방지막 상에 적층되게 된다. 유리 기판 또는 수지 기판의 양쪽 주면에 반사 방지막을 성막한 경우에는, 양쪽의 반사 방지막에 방오막을 성막할 수도 있지만, 어느 한쪽 면에 대해서만 방오막을 적층하는 구성으로 해도 된다. 이는, 방오막은 사람의 손 등이 접촉할 가능성이 있는 장소에 대하여 마련되어 있으면 되기 때문이며, 그 용도 등에 따라 선택할 수 있다.
본 실시 형태의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 화상 표시 장치의 커버 유리, 특히, 차량 등에 탑재되는 내비게이션 시스템의 화상 표시 장치와 같은 차량 등에 탑재되는 화상 표시 장치의 커버 유리로서 적합하다.
실시예
이하에 실시예를 들어, 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다. 예 1 내지 4는 실시예, 예 5 내지 7은 비교예이다.
(예 1)
이하의 방법으로, 투명 기체의 한쪽 주면에 반사 방지막을 형성하여, 반사 방지막을 구비한 투명 기체를 제작하였다.
투명 기체에는, 세로 50mm×가로 50mm×두께 2mm의 화학 강화 유리 기판(드래곤 트레일: 등록상표, AGC사제)을 사용하였다.
투명 기체의 한쪽 주면에 안티글레어 TAC 필름(토판 TOMOEGAWA 옵티컬 필름사제, 상품명 VZ50)을 아크릴 점착제에 의해 접합하였다.
다음으로, 유전체층 (1)(금속 산화물층)로서 디지털 스퍼터법으로 니오브와 몰리브덴을 중량비로 50:50의 비율로 혼합하여 소결한 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 금속막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 산화막을 성막하고, 확산층을 접합한 투명 기체의 주면에 Mo-Nb-O층을 20nm 성막하였다.
이어서, 유전체층 (2)(산화규소층)로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 실리콘 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 실리콘막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 실리콘 산화막을 성막하고, Mo-Nb-O층에 겹침 두께 30nm의 산화규소[실리카(SiOx)]로 이루어지는 층을 성막하였다. 여기서, 산소 가스로 산화시킬 때의 산소 유량은 500sccm, 산화원의 투입 전력은 1000W였다.
다음으로, 유전체층 (3)(금속 산화물층)으로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 니오브와 몰리브덴을 중량비로 50:50의 비율로 혼합하여 소결한 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 금속막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 산화막을 성막하고, 산화규소층에 겹침 두께 120nm의 Mo-Nb-O층을 성막하였다.
계속해서, 유전체층 (4)(산화규소층)로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 실리콘 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 실리콘막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 실리콘 산화막을 성막하고, Mo-Nb-O층에 겹침 두께 88nm의 산화규소[실리카(SiOx)]로 이루어지는 층을 성막하였다. 여기서, 산소 가스로 산화시킬 때의 산소 유량은 500sccm, 산화원의 투입 전력은 1000W였다.
제작한 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대하여 이하의 평가를 실시하였다.
(반사 방지막을 구비한 투명 기체의 시감 투과율)
분광 광도계(시마즈 세이사쿠쇼사제, 상품명: SolidSpec-3700)에 의해 분광 투과율을 측정하고, 계산에 의해 시감 투과율(JIS Z 8701: 1999에 있어서 규정되어 있는 자극값 Y)을 구하였다.
(반사 방지막을 구비한 투명 기체의 D65 광원 하의 투과색(b*값))
상기의 분광 투과율을 측정하여 얻어진 투과 스펙트럼으로부터, JIS Z 8729: 2004에 있어서 규정되어 있는 색 지표(b*값)을 구하였다. 광원은 D65 광원을 사용하였다.
(반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율 및 확산광의 명도)
분광 측색계(코니카 미놀타사제, 상품명: CM2600d)에 의해 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y) 및 확산광의 명도(SCE L*)를 측정하였다. 광원은 D65 광원으로 하였다. 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(투명 기체 최표면의 반사율)은 투명 기체의 이면에 흑색 테이프를 붙임으로써 이면 반사 성분을 제거하여 측정하였다. 또한 확산광의 명도는, 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 비성막면을, 아크릴 점착제를 사용하여 액정 디스플레이에 접합한 상태에서 측정하였다.
(반사 방지막의 시트 저항)
측정 장치(미쓰비시 가가쿠 아날리텍사제, 장치명: 하이레스타 UP(MCP-HT450형))을 사용하여 시트 저항값을 측정하였다. 반사 방지막을 구비한 투명 기체의 중앙에 프로브를 대고, 10V로 10초간 통전하여 측정하였다.
(Diffusion의 값)
측정 장치(DM&S사제의 장치 SMS-1000)를 사용하여 측정하고, 전술한 방법에 의해, Diffusion의 값을 산출하였다. 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
(예 2)
유전체층 (1) 및 (3)의 금속 산화물층을 성막할 때의 산소 가스 유량을 500sccm에서 800sccm으로 변경한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 성막하고, 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
(예 3)
투명 기체의 한쪽 주면에 안티글레어 TAC 필름(다이닛폰 인사츠사제, 상품명 DSR3)을 아크릴 점착제에 의해 접합한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 유전체층을 적층한 반사 방지막을 성막하고, 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
(예 4)
예 1과 마찬가지로 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층으로서 안티글레어 TAC 필름(토판 TOMOEGAWA 옵티컬 필름사제, 상품명 VH66H)을 아크릴 점착제에 의해 접합한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 유전체층을 적층한 반사 방지막을 성막하고, 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
(예 5)
예 1과 마찬가지로 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층으로서 안티글레어 TAC 필름(토판 TOMOEGAWA 옵티컬 필름사제, 상품명 VZ50)을 아크릴 점착제에 의해 접합하였다. 상기 확산층에 산화티탄과 산화규소로 이루어지는 반사 방지막을 이하의 방법으로 성막하였다.
반사 방지막의 성막 방법으로서, 먼저 유전체층 (1)(금속 산화물층)로서 디지털 스퍼터법으로 티탄 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 금속막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 산화막을 성막하고, 확산층을 접합한 투명 기체의 주면에 Ti-O층을 11nm 성막하였다.
이어서, 유전체층 (2)(산화규소층)로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 실리콘 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 실리콘막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 실리콘 산화막을 성막하고, Ti-O층에 겹침 두께 35nm의 산화규소[실리카(SiOx)]로 이루어지는 층을 성막하였다. 여기서, 산소 가스로 산화시킬 때의 산소 유량은 500sccm, 산화원의 투입 전력은 1000W였다.
다음으로, 유전체층 (3)(금속 산화물층)으로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 티탄 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 금속막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 산화막을 성막하고, 산화규소층에 겹침 두께 104nm의 Ti-O층을 성막하였다.
계속해서, 유전체층 (4)(산화규소층)로서 동일한 디지털 스퍼터법으로 실리콘 타깃을 사용하여, 아르곤 가스로 압력을 0.2Pa로 유지하면서, 주파수 100kHz, 전력 밀도 10.0W/cm2, 반전 펄스폭 3μsec의 조건에서 펄스 스퍼터링을 행하여, 미소 막 두께의 실리콘막을 성막하고, 그 직후에 산소 가스로 산화시키는 것을 고속으로 반복함으로써 실리콘 산화막을 성막하고, Ti-O층에 겹침 두께 86nm의 산화규소[실리카(SiOx)]로 이루어지는 층을 성막하였다. 여기서, 산소 가스로 산화시킬 때의 산소 유량은 500sccm, 산화원의 투입 전력은 1000W였다. 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
(예 6)
투명 기체의 한쪽 주면에 클리어 하드 코트 TAC 필름(토판 TOMOEGAWA 옵티컬 필름사제, 상품명 CHC)을 아크릴 점착제에 의해 접합한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 유전체층을 적층한 반사 방지막을 성막하고, 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
(예 7)
예 1과 마찬가지로 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층으로서 안티글레어 TAC 필름(토판 TOMOEGAWA 옵티컬 필름사제, 상품명 VZ50)을 아크릴 점착제에 의해 접합하고, 반사율이 높아지도록 각 층의 막 두께를 조정한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 유전체층을 적층한 반사 방지막을 성막하였다. 얻어진 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대한 평가 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
제작한 예 1 내지 7의 반사 방지막을 구비한 투명 기체에 대하여 상술한 평가를 실시하여, 결과를 하기 표 1 및 표 2에 나타낸다.
표 1, 2에 나타내는 바와 같이, 예 1 내지 4의 반사 방지막을 구비한 투명 기체는, 2개의 주면을 갖는 투명 기체 및 해당 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층과 반사 방지막을 이 순으로 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이며,
(A) 시감 투과율이 20 내지 90％이며,
(B) D65 광원 하의 투과색 b*값이 5 이하이며,
(C) 상기 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y)이 0.4％ 이하이며,
(D) 상기 반사 방지막의 시트 저항이 104Ω/□ 이상이며,
(E) 상기 반사 방지막은, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이며,
(F) Diffusion의 값이 0.2 이상이며, 또한 확산광의 명도(SCE L*)가 4 이하이며, 예 5 내지 7과 비교하여 광 흡수능을 갖고, 절연성이며, 또한 투과광이 황색을 띠지 않는 반사 방지막을 구비한 투명 기체였다.
이상, 도면을 참조하면서 각종 실시 형태에 대하여 설명했지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는 것은 말할 것도 없다. 당업자라면 특허 청구 범위에 기재된 범주 내에서, 각종 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 명확하여, 이들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것이라고 이해된다. 또한, 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 상기 실시 형태에 있어서의 각 구성 요소를 임의로 조합해도 된다.
또한, 본 출원은, 2020년 7월 22일 출원된 일본 특허 출원(일본 특허 출원 제2020-125648호)에 기초한 것이며, 그 내용은 본 출원 내에 참조로서 원용된다.
10: 투명 기체
30: 다층막(반사 방지막)
31: 확산층
32, 34: 유전체층
212: 제1 표면
214: 제2 표면
300: 측정 장치
350: 광원
362: 제1 광
364: 제1 반사광
366: 제2 반사광
368: 제3 반사광
370: 검출기
A: 반사 방지막을 구비한 투명 기체

Claims (9)

  1. 2개의 주면을 갖는 투명 기체 및 해당 투명 기체의 한쪽 주면에 확산층과 반사 방지막을 이 순으로 갖는 반사 방지막을 구비한 투명 기체이며,
    (A) 시감 투과율이 20 내지 90％이며,
    (B) D65 광원 하의 투과색 b*값이 5 이하이며,
    (C) 상기 반사 방지막의 최표면층의 시감 반사율(SCI Y)이 0.4％ 이하이며,
    (D) 상기 반사 방지막의 시트 저항이 104Ω/□ 이상이며,
    (E) 상기 반사 방지막은, 서로 굴절률이 다른 유전체층을 적어도 2층 적층시킨 적층 구조이며,
    (F) Diffusion의 값이 0.2 이상이고 확산광의 명도(SCE L*)가 4 이하인, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유전체층 중 적어도 1층이, 주로 Si의 산화물로 구성되어 있고, 상기 적층 구조의 층 중 다른 적어도 1층이, 주로, Mo 및 W로 이루어지는 A군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물과, Si, Nb, Ti, Zr, Ta, Al, Sn 및 In으로 이루어지는 B군에서 선택되는 적어도 하나의 산화물의 혼합 산화물로 구성되며, 해당 혼합 산화물에 포함되는 A군의 원소와 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 합계에 대한, 해당 혼합 산화물에 포함되는 B군의 원소의 함유율이 65질량％ 이하인 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반사 방지막 상에 방오막을 더 갖는, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 기체가 유리 기판인, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 기체가 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴, 실리콘 또는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 중에서 선택되는 적어도 하나의 수지인, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 기체가, 유리와, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴, 실리콘 또는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 중에서 선택되는 적어도 하나의 수지의 적층체인, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  7. 제4항 또는 제6항에 있어서,
    상기 유리가 화학 강화되어 있는, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 투명 기체는, 상기 반사 방지막을 갖는 측의 주면에 방현 처리가 실시되어 있는, 반사 방지막을 구비한 투명 기체.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 반사 방지막을 구비한 투명 기체를 구비한 화상 표시 장치.
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