KR20120031022A

KR20120031022A - 적층 폴리에스테르 필름

Info

Publication number: KR20120031022A
Application number: KR20117031273A
Authority: KR
Inventors: 타이시 가와사키; 마사토 후지타
Original assignee: 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤
Priority date: 2009-07-01
Filing date: 2010-06-29
Publication date: 2012-03-29
Also published as: KR101767911B1; WO2011001971A1; EP2450188A4; US20120128985A1; EP2450188A1; CN102470654A

Abstract

광확산층 또는 스티킹 방지층 등을 형성할 때 밀착성이 우수한 적층폴리에스테르 필름을 제공한다. 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 아크릴 수지, 에폭시 화합물 및 옥사졸린 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름으로서, 도포층 중에 점하는 아크릴 수지의 함유량이 20~90중량%, 도포층 중에 점하는 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 양이 합계로 10~80중량%이고, 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 중량비가 1~10：1~10이다.

Description

적층 폴리에스테르 필름{Laminated polyester film}

본 발명은 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 예컨대 액정 디스플레이의 백라이트 유닛 등에 있어서 광확산층이나 스티킹 방지층 등과의 양호한 밀착성이 필요한 각종 광학용 부재로서 적합하게 사용되는 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

최근, 액정 디스플레이가 텔레비젼, 개인용 컴퓨터, 디지털 카메라, 휴대 전화 등의 표시장치로서 널리 사용되고 있다. 이들 액정 디스플레이는 액정 표시 유닛 단독으로는 발광 기능을 갖고 있지 않기 때문에, 이면측으로부터 백라이트를 사용하여 광을 조사하는 것에 의해 표시시키는 방식이 보급되어 있다.

백라이트 방식에는 에지라이트형 또는 직하형이라 불리는 구조가 있다. 최근 액정 디스플레이를 박형화하는 경향이 있어 에지라이트형을 채용하는 경우가 많아지고 있다. 에지라이트형은 일반적으로는, 반사시트, 도광판, 광확산 시트, 프리즘 시트의 순서로 구성되어 있다. 광선의 흐름으로서는 백라이트로부터 도광판으로 입사된 광선이 반사시트에서 반사되어 도광판의 표면으로부터 출사된다. 도광판으로부터 출사된 광선은 광확산 시트에 입사되고, 광확산 시트에서 확산?출사되며, 이어서 존재하는 프리즘 시트에 입사된다. 프리즘 시트에서 광선은 법선 방향으로 집광되며, 액정층을 향하여 출사된다.

본 구성에서 사용되는 광확산 시트는 투과하는 광을 다방향에서 균일하게 확산시키기 위하여 사용되고 있고, 광확산성이 큰 것이나, 광투과성이 높은 것이 필요하다. 광확산 시트로서는, 마감(仕上げ) 가공시에 가열?가압에 의해 시트 표면에 요철을 내는, 소위 엠보스 가공을 실시한 것이나, 투명 기재 필름 상에, 입자를 함유한 투명 수지로 이루어지는 광확산층을 코팅에 의해 작성하는 것이 알려져 있다. 또한, 광확산 시트에 있어서, 투명 기재 필름의 광확산층과는 반대측면에, 광확산 시트와 도광판의 스티킹(부분적 밀착)을 방지하는 것 등을 위해, 바인더와 소량의 비즈를 함유하는 스티킹 방지층을 형성하는 것도 제안되어 있다(특허문헌 1~3).

광확산 시트를 형성하는 투명 기재 필름으로서는, 투명성, 기계특성을 고려하여 폴리에스테르 필름이 일반적으로 사용되며, 기재인 폴리에스테르 필름과 광확산층 또는 스티킹 방지층의 밀착성을 향상시키기 위해서, 이들의 중간층로서 이접착성의 도포층이 제공되는 경우가 일반적이다. 이접착성의 도포층으로서는, 예컨대, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등이 알려져 있다(특허문헌 4,5).

최근, 액정 디스플레이 분야에서는, 더욱 대면화 및 고화질화가 요구되고 있다. 또한, 액정 디스플레이의 대폭적인 가격저하에 의해, 광확산층이나 스티킹 방지층 등의 가공 공정에 있어서 대폭적인 비용 다운이 요구되고 있다. 이러한 이유에서, 광확산층이나 스티킹 방지층 등의 구성은 변화가 심하고, 다양한 층과의 밀착성이 양호한 것과 같은 이접착 성능을 갖는 폴리에스테르 필름이 요구되고 있다.

특개2000-89007호 공보 특개2004-4598호 공보 특개2007-286166호 공보 특개평 8-281890호 공보 특개2000-229395호 공보

본 발명은 상기 실정을 감안하여 실시된 것이고, 그 해결 과제는, 각종 광확산층이나 스티킹 방지층 등에 대하여 양호한 밀착성을 갖고, 예컨대 액정 디스플레이의 백라이트 유닛 등에 있어서 적합하게 이용될 수 있는 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은 상기 실정을 감안하여, 예의 검토한 결과, 특정 구성으로 이루어진 적층 폴리에스테르 필름을 사용하면, 상술한 과제를 용이하게 해결할 수 있는 것을 밝혀내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 요지는 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에 아크릴 수지, 에폭시 화합물 및 옥사졸린 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름에 존재한다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 의하면 광확산층 또는 스티킹 방지층 등을 형성한 때 밀착성이 우수한 적층 폴리에스테르 필름을 제공할 수 있어 그 공업적 가치는 높다.

이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명에서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름은 단층 구성이어도 다층 구성이어도 좋고, 2층, 3층 구성 이외에도 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 한, 4층 또는 그 이상의 다층이어도 좋고, 특별히 한정되는 것은 아니다.

본 발명에서 사용하는 폴리에스테르는 호모폴리에스테르이어도 공중합 폴리에스테르이어도 좋다. 호모폴리에스테르로 이루어지는 경우, 방향족 디카르복시산과 지방족 글리콜을 중축합시켜서 얻어지는 것이 바람직하다. 방향족 디카르복시산으로서는, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복시산 등을 들 수 있고, 지방족 글리콜로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등이 예시된다. 한편, 공중합 폴리에스테르의 디카르복시산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복시산, 아디핀산, 세바신산, 옥시카르복시산(예컨대, p-옥시벤조산 등) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.

본 발명의 폴리에스테르 필름 중에는 액정 디스플레이의 액정 등이 자외선에 의해 열화되는 것을 방지하기 위하여, 자외선 흡수제를 함유시켜도 좋다. 자외선 흡수제는 자외선 흡수능을 갖는 화합물이며, 폴리에스테르 필름의 제조 공정에서 부가되는 열에 견딜 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않는다.

자외선 흡수제로서는 유기계 자외선 흡수제와 무기계 자외선 흡수제가 있지만, 투명성의 관점에서는 유기계 자외선 흡수제가 바람직하다. 유기계 자외선 흡수제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대, 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계, 벤조페논계 등을 들 수 있다. 내구성의 관점에서는 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계가 더욱 바람직하다. 또한, 자외선 흡수제를 2종 이상 병용하여 사용하는 것도 가능하다.

본 발명의 필름의 폴리에스테르층 중에는 이활성의 부여 및 각 공정에서의 손상(傷) 발생 방지를 주된 목적으로 하여, 입자를 배합하는 것이 바람직하다. 배합하는 입자의 종류는 이활성 부여가능한 입자라면 특별히 한정되는 것은 아니고, 구체예로서는 예컨대, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 인산칼슘, 인산마그네슘, 카올린, 산화 알루미늄, 산화 티탄 등의 입자를 들 수 있다. 또한, 특공소 59-5216호 공보, 특개소 59-217755호 공보 등에 기재되어 있는 내열성 유기 입자를 사용해도 좋다. 이외의 내열성 유기 입자의 예로서, 열경화성 요소 수지, 열경화성 페놀 수지, 열경화성 에폭시 수지, 벤조구아나민 수지 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에스테르 제조 공정 중, 촉매 등의 금속 화합물의 일부를 침전, 미분산시킨 석출 입자를 사용할 수 있다.

한편, 사용하는 입자의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 구상, 괴상, 봉상, 편평상 등의 어느 것을 사용하여도 좋다. 또한, 그의 경도, 비중, 색 등에 관해서도 특별한 제한은 없다. 이들 일련의 입자는, 필요에 따라서 2종류 이상 병용해도 좋다.

또한, 사용하는 입자의 평균 입경은, 통상 0.01~3μm, 바람직하게는 0.1~2μm 범위이다. 평균 입경이 0.01μm 미만인 경우에는, 이활성을 충분하게 부여할 수 없게 되기도 하고, 입자가 응집하여, 분산성이 불충분하게 되며, 필름의 투명성을 저하시키기도 하는 경우가 있다. 한편, 3μm를 초과하는 경우에는, 필름의 표면조도가 너무 거칠어져서, 후공정에 있어서 광학산층이나 스티킹 방지층 등을 형성시키는 경우 등에 문제가 생기는 경우가 있다.

또한 폴리에스테르층 중의 입자 함유량은, 통상 0.001~5중량%, 바람직하게는 0.005~3중량% 범위이다. 입자 함유량이 0.001중량% 미만인 경우에는, 필름의 이활성이 불충분한 경우가 있고, 한편, 5중량%를 초과하여 첨가하는 경우에는 필름의 투명성이 불충분한 경우가 있다.

폴리에스테르층 중에 입자를 첨가하는 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 각 층을 구성하는 폴리에스테르를 제조하는 임의의 단계에서 첨가할 수 있지만, 바람직하게는 에스테르화 또는 에스테르 교환반응 종료후, 첨가하는 것이 좋다.

또한, 벤트 부착 혼련압출기를 사용하여, 에틸렌글리콜 또는 물 등에 분산시킨 입자의 슬러리와 폴리에스테르 원료를 블렌드하는 방법, 또는 혼련압출기를 사용하여, 건조시킨 입자와 폴리에스테르 원료를 블렌드하는 방법 등에 의해 행해진다.

또한, 본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름 중에는, 상술한 입자 이외에 필요에 따라서 종래 공지의 산화방지제, 대전방지제, 열안정제, 윤활제, 염료, 안료 등을 첨가할 수 있다.

본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름의 두께는, 필름으로서 제막가능한 범위라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 10~350μm, 바람직하게는 50~250μm 범위이다.

이어 본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름의 제조예에 관하여 구체적으로 설명하지만, 이하의 제조예에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상술한 폴리에스테르 원료를 사용하여, 다이로부터 압출된 용융 시트를 냉각 롤에서 냉각고화하여 미연신 시트를 얻는 방법이 바람직하다. 이 경우, 시트의 평면성을 향상시키기 위하여 시트와 회전 냉각 드럼과의 밀착성을 높이는 것이 바람직하고, 정전 인가 밀착법 및/또는 액체 도포 밀착법이 바람직하게 채용된다. 이어서 얻어진 미연신 시트는 이축방향으로 연신된다. 그 경우, 먼저, 상기 미연신 시트를 일방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기에 의해 연신한다. 연신 온도는, 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃이고, 연신배율은 통상 2.5~7배, 바람직하게는 3.0~６배이다. 이어서, 1단째의 연신방향과 직교하는 방향으로 연신하지만, 그 경우, 연신 온도는 통상 70~170℃이고, 연신배율은 통상 3.0~7배, 바람직하게는 3.５~６배이다. 그리고, 이어서 180~270℃ 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 2축 배향 필름을 얻는다. 상기 연신에 있어서는, 1방향의 연신을 2단계 이상으로 행하는 방법을 채용할 수 있다. 그 경우, 최종적으로 2방향의 연신배율이 각각 상기 범위로 되도록 행하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서는 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름 제조에 관해서는 동시 2축 연신법을 채용할 수 있다. 동시 2축 연신법은 상기 미연신 시트를 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃에서 온도 제어된 상태에서 기계방향 및 폭방향으로 동시에 연신하고 배향시키는 방법이고, 연신배율로서는 면적 배율로 ４~50배, 바람직하게는 7~35배, 더욱 바람직하게는 10~25배이다. 그리고, 이어서, 170~250℃ 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 연신 배향 필름을 얻는다. 상술한 연신 방식을 채용하는 동시 2축 연신 장치에 관해서는 스크류 방식, 팬터그래프 방식, 리니어 구동방식 등, 종래 공지의 연신 방식을 채용할 수 있다.

이어서, 본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층의 형성에 관하여 설명한다. 도포층에 관해서는, 폴리에스테르 필름의 연신 공정 중에 필름 표면을 처리하는 인라인 코팅에 의해 제공되어도 좋고, 일단 제조한 필름상에 계외에서 도포하는 오프라인 코팅을 채용하여도 좋고, 양자를 병용하여도 좋다. 제막과 동시에 도포가 가능하기 때문에, 제조가 저가로 대응 가능하고, 도포층의 두께를 연신배율에 의해 변화시킬 수 있는 점에서 인라인 코팅이 바람직하게 사용된다.

인라인 코팅에 관해서는 이하에 한정되는 것은 아니지만, 예컨대, 축차 2축 연신에 있어서는, 특히 종연신이 종료된 횡연신 전에 코팅 처리를 실시할 수 있다. 인라인 코팅에 의해 폴리에스테르 필름 상에 도포층이 제공되는 경우에는, 제막과 동시에 도포가 가능하게 되는 것과 함께 도포층을 고온에서 처리할 수 있으므로, 폴리에스테르 필름으로서 적합한 필름을 제조할 수 있다.

본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 아크릴 수지, 에폭시 화합물 및 옥사졸린 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖는 것을 필수 요건으로 한다.

본 발명에서 도포층은 광확산층이나 스티킹 방지층 등, 각종 열경화성층 및 활성 에너지선 경화성층과의 밀착성을 향상시킬 수 있는 것이다.

각종 검토를 행한 결과, 아크릴 수지와 에폭시 화합물, 또는 옥사졸린 화합물이라는 가교제를 1종류 병용하는 도포층을 형성하는 것으로, 광확산층이나 스티킹 방지층 등과의 밀착성이 향상되는 것이 판명되었다. 또한 검토를 행한 결과, 아크릴 수지와 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물에 의한 도포층이 매우 양호한 밀착성을 나타내는 것이 판명되었다.

본 발명에 이용하는 아크릴 수지는 아크릴계, 메타아크릴계의 모노머로 대표되는 것과 같은, 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 모노머로 이루어지는 중합체이다. 이들은 단독 중합체 또는 공중합체 어느 것이어도 좋다. 또, 이들 중합체와 다른 폴리머(예를들면 폴리에스테르, 폴리우레탄 등)와의 공중합체도 포함된다. 예를들면, 블록 공중합체, 그라프트 공중합체이다. 또는 폴리에스테르 용액 또는 폴리에스테르 분산액 중에서 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 모노머를 중합하여 얻어지는 폴리머(경우에 따라서는 폴리머의 혼합물)도 포함된다. 마찬가지로 폴리우레탄 용액, 폴리우레탄 분산액 중에서 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 모노머를 중합하여 얻어지는 폴리머(경우에 따라서는 폴리머의 혼합물)도 포함된다. 마찬가지로 다른 폴리머 용액 또는 분산액 중에서 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 모노머를 중합하여 얻어지는 폴리머(경우에 따라서는 폴리머 혼합물)도 포함된다.

상기 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 모노머로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 특히 대표적인 화합물로서는 예를들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 푸마르산, 말레인산, 시트라콘산과 같은 각종 카르복실기함유 모노머류 및 그의 염; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 모노부틸히드록시푸마레이트, 모노부틸히드록시이타코네이트와 같은 각종의 수산기 함유 모노머류; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트와 같은 각종의 (메타)아크릴산 에스테르류; (메타)아크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 또는 (메타)아크릴로니트릴 등과 같은 여러 가지 질소 함유 비닐계 모노머류; 스티렌, α-메틸스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔과 같은 각종 스티렌 유도체, 초산비닐, 프로피온산 비닐과 같은 각종 비닐 에스테르류; γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란 등과 같은 여러 가지 규소 함유 중합성 모노머류; 인 함유 비닐계 모노머류; 염화 비닐, 염화 비닐리덴, 불화 비닐, 불화 비닐리덴, 트리플루오로클로로에틸렌, 테트라플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌과 같은 각종 할로겐화 비닐류; 부타디엔과 같은 각종 공역 디엔류를 들 수 있다.

광확산층 또는 스티킹 방지층 등과의 밀착성을 향상시키기 위해서, 수산기, 아미노기, 아미드기 등의 관능기를 함유하는 아크릴 수지를 사용하는 것도 가능하다.

본 발명의 필름에 있어서 도포층 형성에는, 도포층의 도막을 강고하게 하고, 각종 광확산층 또는 스티킹 방지층 등과 충분한 밀착성을 가지며, 이러한 층을 형성한 후 내습열성 등을 향상시키기 위해서 가교제로서 에폭시 화합물 및 옥사졸린 화합물을 사용한다.

에폭시 화합물로서는 예를들면 분자내에 에폭시기를 포함하는 화합물, 그의 프리폴리머 및 경화물을 들 수 있다. 예를들면, 에피클로로히드린과 에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린, 폴리글리세린, 비스페놀 A 등의 수산기나 아미노기와의 축합물을 들 수 있고, 폴리에폭시 화합물, 디에폭시 화합물, 모노에폭시 화합물, 글리시딜아민 화합물 등이 있다. 폴리에폭시 화합물로서는 예를들면, 소르비톨, 폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜에테르, 디글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리글리시딜트리스(2-히드록시에틸)이소시아네이트, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 디에폭시 화합물로서는 예를들면, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 레조르신디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜디글리시딜에테르, 모노에폭시 화합물로서는 예를들면, 알릴글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, 글리시딜아민 화합물로서는 N,N,N＇, N＇-테트라글리시딜-m-크실릴렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노) 시클로헥산 등을 들 수 있다.

특히, 다관능 에폭시 화합물이 바람직하고, 적어도 2개의 글리시딜에테르 구조를 갖는 다관능 에폭시 화합물이 더욱 바람직하다. 시판품의 일례로서는, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르인,「데나코르 EX-521」(나가세켐텍스제) 등을 들 수 있다.

옥사졸린 화합물은 분자내에 옥사졸린기를 갖는 화합물이다. 특히 옥사졸린기를 함유하는 중합체가 바람직하고, 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머 단독 또는 다른 모노머와의 중합에 의해 작성할 수 있다. 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머는 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-에틸-2-옥사졸린 등을 들 수가 있고, 이들 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수가 있다. 이 중에서 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으로도 입수하기 쉬워 매우 적합하다. 다른 모노머는 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머와 공중합 가능한 모노머이면 제한 없이 사용가능하고, 예를들면 알킬(메타)아크릴레이트(알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기) 등의 (메타)아크릴산 에스테르류; 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 크로톤산, 스티렌술폰산 및 그 염(나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 제3급 아민염 등) 등의 불포화 카르복시산류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴류; (메타)아크릴 아미드, N-알킬(메타)아크릴 아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴 아미드, (알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로 헥실기 등) 등의 불포화 아미드류; 초산비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐 에스테르류; 메틸비닐 에테르, 에틸비닐 에테르 등의 비닐 에테르류; 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀류; 염화 비닐, 염화 비닐리덴, 불화 비닐 등의 함할로겐 α,β-불포화 모노머류; 스티렌, α-메틸스티렌 등의 α,β-불포화 방향족 모노머 등을 들 수가 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상의 모노머를 사용할 수 있다.

특히, 옥사졸린기를 측쇄에 갖는 중합체가 바람직하고, 이러한 중합체는 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머와 다른 모노머와의 중합에 의해 용이하게 얻을 수 있다. 다른 모노머로서 아크릴계 모노머를 사용한 옥사졸린 화합물의 상품의 일례로서는 옥사졸린기가 아크릴계 수지에 브랜치된 폴리머형 가교제인,「에포크로스 WS-500」,「에포크로스 WS-300」(니혼쇼쿠바이 사제) 등을 들 수 있다.

아크릴 수지와 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물에 의한 도포층이 매우 양호한 밀착성을 나타내는 것을 밝혀냈지만, 보다 엄격한 내구 시험을 실시했을 경우, 밀착성이 저하하는 경우가 있는 것이 판명되었다. 여기서, 그 해결책으로서 멜라민 화합물도 병용하는 것에 의해 내구 시험에서도 밀착성이 고도로 안정되는 것을 밝혀냈다.

본 발명에서 말하는 멜라민 화합물은 화합물 중에 멜라민 골격을 갖는 화합물이다. 예를들면, 알킬올화 멜라민 유도체, 알킬올화 멜라민 유도체에 알코올을 반응시켜 부분적 또는 완전하게 에테르화한 화합물 및 이러한 혼합물을 이용할 수가 있다. 에테르화에 이용하는 알코올로서는 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, n-부탄올, 이소부탄올 등이 매우 적합하게 이용된다. 또, 멜라민 화합물로서는 단량체, 또는 이량체 이상의 다량체 어느 것이어도 좋고, 또는 이러한 혼합물을 이용해도 좋다. 게다가 멜라민의 일부에 요소 등을 공축합한 것도 사용할 수 있고, 멜라민 화합물의 반응성을 높이기 위해서 촉매를 사용하는 것도 가능하다. 특히, 알킬화 멜라민 화합물이 바람직하고, 완전 알킬형 멜라민 화합물이 더욱 바람직하며, 그 구체적인 예로서는 헥사메톡시메틸멜라민을 들 수 있다.

본 발명에서의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 도포면상의 향상, 도포면 상에 여러 가지의 광확산층이나 스티킹 방지층이 형성되었을 때 시인성의 향상이나 투명성을 향상시키기 위해서 아크릴 수지 이외의 바인더 폴리머를 병용하는 것도 가능하다.

본 발명에서 사용하는「바인더 폴리머」는 고분자 화합물 안전성 평가 플로우 스킴(쇼와 60년 11월 화학물질 심의회 주최)에 따라, 겔투과크로마토그래피(GPC) 측정에 의한 수평균 분자량(Mn)이 1000 이상의 고분자 화합물로서, 또 조막성을 갖는 것으로 정의한다.

바인더 폴리머의 구체적인 예로서는 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 폴리비닐(폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 염화비닐초산비닐 공중합체 등), 폴리알킬렌 글리콜, 폴리알킬렌이민, 메틸셀룰로오스, 히드록시셀룰로오스, 전분류 등을 들 수 있다. 상기 중에서 특히 도포면상이나 밀착성의 향상이라는 관점에서 폴리에스테르 수지를 병용하는 것이 바람직하다.

또, 특히 투명성이 높은 광확산층이나 스티킹 방지층이 형성되었을 경우, 간섭 불균일(ムラ)이 현저하게 나타나는 경우가 있다. 광확산층이나 스티킹 방지층이 형성되었을 때 간섭 불균일을 경감시키기 위해서, 도포층의 굴절률을 조정하는 것도 가능하다. 간섭 불균일은 일반적으로는, 도포층의 굴절률이 낮은 것에 더 발생하는 경우가 많다. 따라서, 도포층에 고굴절률 재료를 병용하는 것에 의해 간섭 불균일이 경감된다. 고굴절률 재료로서는 종래 공지의 것을 사용할 수가 있다. 밀착성의 저하를 방지할 수 있다는 점에서, 예를들면, 축합다환식 방향족 화합물을 상술한 바인더 폴리머에 함유시키는 방법을 들 수 있다. 바인더 폴리머 중에서도, 특히 폴리에스테르 수지에는 보다 많은 축합다환식 방향족을 도입할 수가 있기 때문에 보다 효과적으로 굴절률 조정을 하는 것이 가능하다.

축합다환식 방향족을 폴리에스테르 수지에 삽입하는 방법으로서는 예를들면, 축합다환식 방향족에 치환기로서 수산기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디올 성분 또는 다가 수산기 성분으로 하거나 또는 카르복시산기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디카르복시산 성분 또는 다가 카르복시산 성분으로 하여 작성하는 방법이 있다.

적층 폴리에스테르 필름 제조 공정에 있어서, 착색하기 어렵다는 점에서, 도포층에 함유하는 축합다환식 방향족은 나프탈렌 골격을 갖는 화합물이 매우 적합하게 이용된다. 또, 도포층상에 형성하는 광확산층 또는 스티킹 방지층 등과의 밀착성이나, 투명성이 양호하다는 점에서, 폴리에스테르 구성 성분으로서 나프탈렌 골격을 삽입한 수지가 매우 적합하게 이용된다. 그 나프탈렌 골격으로서는 대표적인 것으로서, 1,5-나프탈렌디카르복시산 및 2,6-나프탈렌디카르복시산, 2,7-나프탈렌디카르복시산을 들 수 있다.

또, 도포층의 미끄러짐성(滑り性) 개량이나 블로킹 개량을 위해서 입자를 함유하는 것도 가능하다. 이용하는 입자로서는 예를들면, 실리카, 알루미나, 산화금속 등의 무기 입자, 또는 가교 고분자 입자 등의 유기 입자 등을 들 수 있다.

나아가 본 발명의 주지를 해치지 않는 범위에서 도포층에는 필요에 따라 소포제, 도포성 개량제, 증점제, 유기계 윤활제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 발포제, 염료 등이 함유되어도 좋다.

본 발명에서, 도포층 중에 점하는 상기 아크릴 수지의 함유량은 통상 20~90중량%, 바람직하게는 25~85중량%, 보다 바람직하게는 30~80중량%이다. 20중량% 미만의 경우는 아크릴 수지 성분이 적기 때문에 밀착성이 충분하지 않은 경우가 있고, 90중량%를 초과하는 경우는 가교제 성분이 적기 때문에 도포층이 약해지고, 밀착성이 충분하지 않은 경우나, 내습열성이 충분하지 않는 경우가 있다.

본 발명에서, 도포층 중에 점하는 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 양은 합계로, 통상 10~80중량%, 바람직하게는 15~75중량%, 보다 바람직하게는 20~70중량%이다. 10중량% 미만의 경우는, 도포층이 약해지고, 습기나 열에 충분히 견딜 수 없는 경우가 있고, 80중량%를 초과하는 경우는, 밀착성이 충분하지 않은 경우가 있다. 또, 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 적어도 일방은 5중량%를 초과하는 것이 바람직하다. 모두 5중량% 이하의 경우는, 고온 고습도 조건에 장시간 노출되었을 경우, 광확산층이나 스티킹 방지층 등과의 밀착성이 안정되지 않는 경우가 있다. 또, 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 중량비는 통상 1~10：1~10, 바람직하게는 1~3：1~3이다.

본 발명에서, 도포층 중에 점하는 상기 멜라민 화합물의 함유량은 도포층 중에 점하는 아크릴 수지, 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물의 합계량에 대해, 통상 1~50중량%, 바람직하게는 5~30중량%, 보다 바람직하게는 8~20중량%이다. 1중량% 미만의 경우는, 내구 시험 후에서의 밀착성이 안정되는 효과가 충분히 발휘되지 않는 경우가 있고, 50중량%를 초과하는 경우는 타성분이 적기 때문에 밀착성이 충분하지 않은 경우가 있다.

본 발명의 폴리에스테르 필름에서, 상술한 도포층을 설치한 면과 반대측 면에도 도포층을 설치하는 것도 가능하다. 예를들면, 광확산층을 형성한 반대 측에 스티킹 방지층, 프리즘층, 마이크로 렌즈층, 하드 코트층 등의 기능층을 형성하는 경우에, 해당 기능층과의 밀착성을 향상시키는 것이 가능하다. 반대측 면에 형성하는 도포층의 성분으로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수가 있다. 예를들면, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 바인더 폴리머, 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물, 멜라민 화합물, 이소시아네이트 화합물 등의 가교제 등을 들 수 있고 이러한 재료를 단독으로 이용해도 좋고, 복수종 병용하여 이용해도 좋다. 또, 상술한 것과 같은 아크릴 수지, 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물로부터 형성된 도포층(폴리에스테르 필름에 양면 동일의 도포층)이어도 좋다. 제조 및 필름 가공의 편리성을 고려하여, 도포층은 동일한 것이 바람직하다.

도포층 중의 성분의 분석은 예를들면, TOF－SIMS 등의 표면 분석에 의해 실시할 수 있다.

인 라인 코팅에 의해 도포층을 설치하는 경우는, 상술한 일련의 화합물을 수용액 또는 수분산체로서 고형분 농도가 0.1~50중량% 정도를 기준(目安)으로 조정한 도포액을 폴리에스테르 필름상에 도포하는 요령으로 적층 폴리에스테르 필름을 제조하는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 주지를 해치지 않는 범위에서, 물에의 분산성 개량, 조막성 개량 등을 목적으로 하여 도포액 중에 소량의 유기용제를 함유 하고 있어도 좋다. 유기용제는 1종류만이어도 좋고, 적당히 2종류 이상을 사용해도 좋다.

본 발명에서의 적층 폴리에스테르 필름에 관해서, 폴리에스테르 필름상에 설치되는 도포층의 막 두께는 통상 0.002~1.0g/m², 보다 바람직하게는 0.01~0.5g/m², 보다 더 바람직하게는 0.02~0.2g/m²의 범위이다. 막 두께가 0.002g/m² 미만의 경우는 충분한 밀착성을 얻을 수 없을 가능성이 있고, 1.0g/m²를 초과하는 경우는, 외관이나 투명성, 필름의 블로킹성이 악화될 가능성이 있다.

본 발명에서, 도포층을 설치하는 방법은 리버스 그라비아 코트, 다이렉트 그라비아 코트, 롤 코트, 다이코트, 바 코트, 커텐 코트 등, 종래 공지의 도공 방식을 이용할 수가 있다.

본 발명에서, 폴리에스테르 필름상에 도포층을 형성할 때의 건조 및 경화 조건에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를들면, 오프 라인 코팅에 의해 도포층을 설치하는 경우, 통상, 80~200℃에서 3~40초간, 바람직하게는 100~180℃에서 3~40초간을 기준으로서 열처리를 실시하는 것이 좋다.

한편, 인 라인 코팅에 의해 도포층을 설치하는 경우 통상, 70~280℃에서 3~200초간을 기준으로서 열처리를 실시하는 것이 좋다.

또, 오프 라인 코팅 또는 인 라인 코팅과 관계없이, 필요에 따라 열처리와 자외선 조사 등의 활성 에너지선 조사를 병용해도 좋다. 본 발명에서의 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름에는 미리 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 가해도 좋다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에는 도포층에 광확산층, 스티킹 방지층 등을 설치하는 것이 가능하다. 광확산층은 입자와 바인더를 함유하여 이루어진 것이다.

광확산층에 함유시키는 입자로서는, 빛을 확산하는 것과 같은 성질을 갖는 것이면 좋고, 아크릴 수지, 아크릴 우레탄 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지 등의 유기 입자나, 실리카, 금속산화물, 황산바륨 등의 무기 입자를 사용할 수 있다. 그 중에서 투명성이 양호한 아크릴 수지나 아크릴 우레탄 수지가 매우 적합하게 이용된다. 또, 이들 입자의 입경은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 평균 입경으로서 1~50μm, 보다 바람직하게는 5~15μm이다.

광확산층에 함유시키는 바인더는 입자를 고정하여 광확산성을 발현시키기 위해서 사용하는 것이고, 예를들면, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 폴리우레탄 수지, 불소 수지, 실리콘계 수지, 에폭시 수지, 자외선 경화형 수지 등을 들 수 있다. 가공성을 고려하면 폴리올 화합물이 매우 적합하게 이용되고, 예를들면 아크릴 폴리올이나 폴리에스테르 폴리올 등을 들 수 있다.

폴리올 화합물을 바인더로서 이용했을 경우, 경화제로서 이소시아네이트를 함유시키면 좋다. 이소시아네이트를 함유시키는 것에 의해, 보다 강고한 가교 구조를 형성할 수 있어 광확산층으로서의 물성이 향상한다. 또, 바인더로서 자외선 경화형 수지를 사용하는 경우는 아크릴레이트계 수지가 바람직하고, 광확산층의 경도의 향상에 유용하게 쓸 수 있다.

광확산층에는 광확산의 성능을 저해하지 않는 범위내에서, 계면활성제, 미소 무기 충전제, 가소제, 경화제, 항산화제, 자외선 흡수제, 방녹제 등을 함유하고 있어도 좋다.

광확산층에 있어서 바인더와 입자의 혼합 비율은 얻고자 하는 광확산성에 의해 적당히 설정할 수가 있고, 특별히 한정되지 않지만 예를들면, 중량비로, 바인더/입자가 0.1~50의 범위, 보다 바람직하게는 0.5~20의 범위이다.

광확산층을 형성하는 방법으로서는 바인더와 입자를 포함한 도포액을 조제하여, 도포?건조시키는 것에 의한 방법을 들 수 있다. 도포 방법으로서는 리버스 그라비아 코트, 다이렉트 그라비아 코트, 롤 코트, 다이코트, 바 코트, 커텐 코트, 스프레이 코트, 스핀 코트 등, 종래 공지의 도공 방식을 이용할 수 있다. 광확산층의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광확산성, 막강도 등을 고려하여, 1~100μm의 범위, 보다 바람직하게는 3~30μm의 범위이다.

광확산층과는 반대측의 면에는 스티킹 방지층을 형성하는 것도 가능하다. 스티킹 방지층은 광확산층과 동일한 바인더와 입자를 함유하는 것이고, 입자의 함유량은 광확산성이 목적은 아니기 때문에, 보다 작은 입경으로, 보다 적은 양을 함유시키는 방법이 일반적이다. 형성방법도 광확산층과 동일하게 도포에 의해 형성할 수 있고 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1~10μm의 범위인 것이 바람직하다.

실시예

이하, 본 발명을 실시예에 의해 한층 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 이상 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명에서 이용한 측정법 및 평가방법은 다음과 같다.

(1) 폴리에스테르의 고유 점도의 측정:

폴리에스테르에 비상용인 다른 폴리머 성분 및 안료를 제거한 폴리에스테르 1g를 정칭하고, 페놀/테트라클로로에탄=50/50(중량비)의 혼합 용매 100ml를 가해 용해시켜, 30℃에서 측정했다.

(2) 평균 입경(d₅₀：μm)의 측정:

원심 침강식 입도 분포 측정 장치(주식회사 시마즈 제작소 사제 SA－CP3형)를 사용하여 측정한 등가 구형 분포에 있어서의 적산(중량 기준) 50%의 값을 평균 입경으로 했다.

(3) 밀착성 1의 평가방법:

광확산층용 도포액으로서 수지(니혼쇼쿠바이제 할스 하이브리드　UV-G301) 100질량부, 이소시아네이트(주화 바이엘 우레탄제, 데스모쥬르　N-3200) 10질량부, 평균 입경 15μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-15) 30질량부, 톨루엔　100질량부, 메틸에틸케톤　100질량부를 조제하고, 도포?가열 경화시키는 것에 의해, 두께 15g/m²의 광확산층을 형성했다. 또, 광확산층과는 반대면측에 스티킹 방지층으로서 상기 광확산층용 도포액에 이용한 평균 입경 15μm의 아크릴 수지 입자를 평균 입경 5μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-5) 7질량부로 바꾸고, 두께 3g/m²의 층을 형성한 것 이외에는 동일한 방법으로, 양면 가공품을 작성했다. 그 후, 광확산층, 및 스티킹 방지층 각각에 대해서, 10×10의 크로스컷을 하고, 그 위에 18mm폭의 테이프(니치반 주식회사제 셀로테이프(등록상표) CT-18)를 붙여 180도의 박리 각도로 급격하게는 벗겨낸 후, 박리면을 관찰하여, 보다 박리 면적이 큰 쪽에 대하여, 박리 면적이 5% 이하이면 ○, 5% 초과 30% 이하이면 △, 30% 초과이면 ×로 했다. 통상은 스티킹 방지층 쪽이 표면 요철이 적기 때문에 박리하는 테이프와의 접착이 좋아서 광확산층에 비해 박리 면적이 커지는 경향이 있다.

(4) 밀착성 2의 평가방법:

광확산층용 도포액으로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 60질량부, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 6질량부, 광중합 개시제(시바 스페셜티 케미칼 제 이르가큐아　184) 4질량부, 평균 입경 12μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-12) 30질량부, 메틸에틸케톤　200질량부를 조정하고, 도포하며, 자외선을 조사하여 경화시켜 두께 10g/m²의 광확산층을 형성했다. 또, 광확산층과는 반대면측에 스티킹 방지층으로서 상기 광확산층용 도포액에 이용한 평균 입경 12μm의 아크릴 수지 입자를 평균 입경 5μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-5) 5질량부로 바꾸고, 두께 3g/m²의 층을 형성한 것 이외에는 동일한 방법으로, 양면 가공품을 작성했다. 그 직후(초기), 80℃／90%RH의 환경하에서 150시간 후(습열시험), 광확산층 및 스티킹 방지층 각각에 대해서 10×10의 크로스컷을 하고, 그 위에 18mm폭의 테이프(니치반 주식회사제 셀로테이프(등록상표) CT-18)를 붙여 180도의 박리 각도로 급격하게 벗겨낸 후, 박리면을 관찰하고, 보다 박리 면적이 큰 쪽에 대해서, 박리 면적이 5% 이하이면 ○, 5% 초과 30% 이하이면 △, 30% 초과이면 ×로 했다. 통상은 스티킹 방지층 쪽이 표면 요철이 적기 때문에, 박리하는 테이프와의 접착이 좋아서 광확산층에 비해 박리 면적이 커지는 경향이 있다.

(5) 밀착성 3의 평가방법:

광확산층용 도포액으로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 90질량부, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 10질량부, 광중합 개시제(시바 스페셜티 케미칼스 제 이르가큐아　184) 5질량부, 평균 입경 15μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-15) 30질량부, 톨루엔　100질량부, 메틸에틸케톤　100질량부를 조정하고, 도포하며, 자외선을 조사하여 경화시켜, 두께 10g/m²의 광확산층을 형성했다. 또, 광확산층과는 반대면측에 스티킹 방지층으로서 상기 광확산층용 도포액에 이용한 평균 입경 15μm의 아크릴 수지 입자를 평균 입경 5μm의 아크릴 수지 입자(세키스이 화성품공업제　MBX-5) 7질량부로 바꾸고, 두께 3g/m²의 층을 형성한 것 이외에는 동일한 방법으로, 양면 가공품을 작성했다. 그 직후(초기), 80℃／90%RH의 환경하에서 150시간 후(습열시험), 및 비등하는 열수에 20분간 담근 후(열수 시험), 광확산층 및 스티킹 방지층 각각에 대해서, 10×10의 크로스컷을 하고, 그 위에 18mm폭의 테이프(니치반 주식회사제 셀로테이프(등록상표) CT-18)를 붙여 180도의 박리 각도로 급격하게 벗겨낸 후, 박리면을 관찰하여, 보다 박리 면적이 큰 쪽에 대해서, 박리 면적이 5% 이하이면 ○, 5% 초과 30% 이하이면 △, 30% 초과이면 ×로 했다. 통상은 스티킹 방지층 쪽이 표면 요철이 적기 때문에 박리하는 테이프와의 접착이 좋아서 광확산층에 비해 박리 면적이 커지는 경향이 있다.

실시예 및 비교예에 대해 사용한 폴리에스테르는 하기와 같이 하여 준비한 것이다.

＜폴리에스테르(A)의 제조 방법＞

테레프탈산디메틸 100중량부와 에틸렌글리콜 60중량부를 출발 원료로 하고, 촉매로서 테트라부톡시티타네이트를 가해 반응기에 넣고, 반응 개시 온도를 150℃로 하고, 메탄올의 유거와 함께 서서히 반응 온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 했다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환 반응을 종료시킨 후, 4시간 중축합반응을 실시했다.

즉, 온도를 230℃에서 서서히 승온시켜 280℃로 했다. 한편, 압력은 상압에서부터 서서히 감소시켜 최종적으로는 0.3 mmHg로 했다. 반응 개시 후, 반응조의 교반 동력의 변화에 의해 극한 점도 0.63에 상당하는 시점에서 반응을 정지하고, 질소 가압하 폴리머를 토출시켜 극한 점도 0.63의 폴리에스테르(A)을 얻었다.

＜폴리에스테르(B)의 제조 방법＞

테레프탈산디메틸 100중량부와 에틸렌글리콜 60중량부를 출발 원료로 하고, 촉매로서 초산마그네슘?4수염을 가해 반응기에 넣고, 반응 개시 온도를 150℃로 하고, 메탄올의 유거와 함께 서서히 반응 온도를 상승시켜 3시간 후에 230℃로 했다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환 반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물을 중축합조로 옮기고, 정인산(正リン酸)을 첨가한 후, 이산화게르마늄을 가해 4시간 중축합반응을 실시했다. 즉, 온도를 230℃에서 서서히 승온시켜 280℃로 했다. 한편, 압력은 상압에서부터 서서히 감소시켜 최종적으로는 0.3 mmHg로 했다. 반응 개시 후, 반응조의 교반 동력의 변화에 의해 극한 점도 0.65에 상당하는 시점에서 반응을 정지하고, 질소 가압하 폴리머를 토출시켜 극한 점도 0.65의 폴리에스테르(B)을 얻었다.

＜폴리에스테르(C)의 제조 방법＞

폴리에스테르(A)의 제조 방법에서, 에틸렌글리콜에 분산시킨 평균 입자경 2.0μm의 실리카 입자 0.2부를 가하고, 극한 점도 0.66에 상당하는 시점에서 중축합반응을 정지한 것 이외에는 폴리에스테르(A)의 제조 방법과 같은 방법을 이용하여 극한 점도 0.66의 폴리에스테르(C)을 얻었다.

도포층을 구성하는 화합물 예는 하기와 같다.

(화합물예)

?아크릴 수지: (IA) 하기 조성으로 중합한 아크릴 수지의 수분산체

에틸아크릴레이트/n-부틸아크릴레이트/메틸메타크릴레이트/N-메틸올아크릴아미드/아크릴산=65/21/10/2/2(중량%)의 유화 중합체(유화제：음이온계 계면활성제)

?아크릴 수지: (IB) 하기 조성으로 중합한 아크릴 수지의 수분산체

에틸아크릴레이트/메틸메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트/N-메틸올아크릴아미드/아크릴산=65/28/3/2/2(중량%)의 유화 중합체(유화제：음이온계 계면활성제)

?폴리에스테르 수지: (IIA) 하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체

모노머 조성: (산성분)테레프탈산/이소프탈산/5-소듐술포이소푸탈산//(디올 성분)에틸렌글리콜/1,4-부탄디올/디에틸렌글리콜=56/40/4//70/20/10(mol%)

?축합다환식 방향족을 갖는 폴리에스테르 수지: (IIB) 하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체

모노머 조성: (산성분) 2,6-나프탈렌디카르복시산/5-소듐술포이소푸탈산//(디올 성분)에틸렌글리콜/디에틸렌글리콜=92/8//80/20(mol%)

?에폭시 화합물: (III) 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르인,「데나코르 EX－521」(나가세켐텍스제)

?옥사졸린 화합물: (IVA)

옥사졸린기 및 폴리알킬렌옥시드 쇄를 갖는 아크릴 폴리머「에포크로스 WS-500」(니혼쇼쿠바이제, 1-메톡시-2-프로판올 용제 약 38중량%를 함유하는 타입)

?옥사졸린 화합물: (IVB)

옥사졸린기 함유 아크릴 폴리머「에포크로스 WS-300」(니혼쇼쿠바이제)

?멜라민 화합물: (V) 헥사메톡시메틸멜라민

?입자: (VI) 평균 입경 65nm의 실리카졸

실시예 1:

폴리에스테르(A), (B), (C)를 각각 85%, 5%, 10%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 최외층(표층)의 원료로 하고, 폴리에스테르(A), (B)를 각각 95%, 5%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 중간층의 원료로서 2대의 압출기에 각각 공급하고, 각각 290℃에서 용융한 후, 40℃로 설정한 냉각 롤상에, 2종 3층(표층/중간층/표층=1：18：1의 토출량)의 층 구성으로 공압출하고 냉각 고화시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 종 방향으로 3.2배 연신한 후, 이 종 연신 필름의 양면에, 하기 표 1에 나타낸 도포액 1을 도포하고, 텐타에 도입하여, 횡방향으로 120℃에서 3.8배 연신하고, 225℃에서 열처리를 실시한 후, 횡방향으로 2%이완하고, 도포량(건조 후)이 표 2에 나타내는 바와 같은 도포층을 갖는 두께 188μm의 폴리에스테르 필름을 얻었다.

얻어진 폴리에스테르 필름에 관해서 각종 밀착성을 평가한 바, 어느 평가에서도 양호했다. 이 필름의 특성을 하기 표 2에 나타내었다.

실시예 2~7:

실시예 1에서, 도포제 조성을 표 1에 나타낸 도포제 조성으로 변경하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 제조하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 폴리에스테르 필름은 표 2에 나타낸 것과 같고, 밀착성은 양호했다.

비교예 1~3:

실시예 1에서, 도포제 조성을 표 1에 나타낸 도포제 조성으로 변경하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 제조하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 적층 폴리에스테르 필름을 평가한 바, 표 2에 나타낸 것과 같고, 밀착성이 약한 것이었다.

표 1

표 2

실시예 8~21:

실시예 1에서, 도포제 조성을 하기 표 3에 나타낸 도포제 조성으로 변경하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 제조하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 폴리에스테르 필름은 하기 표 4에 나타낸 것과 같고 밀착성은 양호했다.

비교예 4~7:

실시예 1에서, 도포제 조성을 표 3에 나타낸 도포제 조성으로 변경하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 제조하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 적층 폴리에스테르 필름을 평가한 바, 표 4에 나타낸 것과 같고 밀착성이 약한 것이었다.

표 3

표 4

산업상 이용가능성

본 발명의 필름은 예를들면, 액정 디스플레이의 백 라이트 유니트 등, 광확산층이나 스티킹 방지층 등과 양호한 밀착성이 필요한 용도로 매우 적합하게 이용할 수가 있다.

Claims

폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 아크릴 수지, 에폭시 화합물 및 옥사졸린 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제1항에 있어서, 도포층 중에 점하는 아크릴 수지의 함유량이 20~90중량%, 도포층 중에 점하는 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 양이 합계로 10~80중량%이고, 에폭시 화합물과 옥사졸린 화합물의 중량비가 1~10：1~10인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 또는 제2항에 있어서, 에폭시 화합물이 다관능 에폭시 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
제3항에 있어서, 다관능 에폭시 화합물이 적어도 2개의 글리시딜에테르 구조를 갖는 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
제4항에 있어서, 적어도 2개의 글리시딜에테르 구조를 갖는 화합물이 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 옥사졸린 화합물이 옥사졸린기를 측쇄에 갖는 중합체인 적층 폴리에스테르 필름.
제6항에 있어서, 옥사졸린기를 갖는 중합체가 부가 중합성 옥사졸린기 함유 모노머와 다른 모노머와의 중합에 의해 얻어지는 것인 적층 폴리에스테르 필름.
제7항에 있어서, 다른 모노머가 아크릴계 모노머인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 도포액이 멜라민 화합물을 함유하는 적층 폴리에스테르 필름.
제9항에 있어서, 도포층 중에 점하는 멜라민 화합물의 함유량이, 도포층 중에 점하는 아크릴 수지, 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물의 합계량에 대해, 1~50중량%인 적층 폴리에스테르 필름.
제9항 또는 제10항에 있어서, 멜라민 화합물이 알킬화 멜라민 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
제11항에 있어서, 알킬화 멜라민 화합물이 완전 알킬형 멜라민 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
제12항에 있어서, 완전 알킬형 멜라민 화합물이 헥사메톡시메틸멜라민인 적층 폴리에스테르 필름.