KR20120028319A - 적층 폴리에스테르 필름 - Google Patents

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미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤
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Abstract

외광 반사에 의한 간섭 얼룩이 경감되고, 하드 코트 등의 각종의 표면기능층과의 밀착성이 우수한 적층 폴리에스테르 필름을 제공한다. 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖고, 당해 도포층의 두께가 0.04~0.15㎛인 적층 폴리에스테르 필름.

Description

적층 폴리에스테르 필름{Laminated polyester film}
본 발명은, 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이고, 예컨대, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 패널, 유기 엘렉트로루미네센스 등, 외광 반사에 의한 간섭 얼룩의 경감이 필요한 용도에 적합한 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
근년, 폴리에스테르 필름은, 각종의 광학용 필름에 많이 사용되며, 액정이나 플라즈마 디스플레이 등의 부재인 반사방지 필름, 터치 패널, 프리즘 시트, 광확산 시트, 전자파 실드 필름 등의 용도에 사용되고 있다. 이들 부재에 사용되는 베이스 필름에는 우수한 투명성, 시인성이 요구된다.
이들 필름에는 커얼 방지나 상처 방지 등의 성능을 향상시키기 위하여, 하드 코트 가공되는 일이 많다. 기재인 폴리에스테르 필름과 하드 코트층과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 중간층으로서 접착용이성의 도포층이 제공되는 경우가 일반적이다. 그를 위하여, 폴리에스테르 필름, 접착용이성의 도포층, 하드 코트층의 3층의 굴절률을 고려하지 않으면 간섭 얼룩이 발생하여, 시인성이 악화되어 버린다.
근년에는, 간섭 얼룩에 대하여, 경제성 등의 면에서, 하드 코트층을 고굴절률화하여 그 위에 형성하는 반사방지층의 구성을 간략화하는 것이나, 또는, 반사방지층을 제공하지 않고 하드 코트층을 고굴절률화하는 것만으로 간섭 얼룩 대책을 하는 것이 요청되고 있다. 그를 위하여, 접착용이성의 도포층에 있어서도 굴절률을 높게 조정하는 것이 필요로 되고 있다. 일반적으로는, 간섭 얼룩을 경감시키기 위한 도포층의 굴절률은, 기재인 폴리에스테르 필름의 굴절률과 하드 코트층의 굴절률의 상승 평균으로 되어 있고, 이 근처의 굴절률로 조정하는 것이 요청되고 있다.
도포층의 굴절률을 높게 하여, 간섭 얼룩을 개선한 예로서는, 예컨대, 도포층 중에 굴절률이 높은 금속 산화물을 함유시키는 것에 의해, 도포층 중의 굴절률을 높이는 방법이 있다. 이 경우는, 필름의 투명성이 저하되고, 각종의 광학용으로서 충분한 성능을 발휘할 수 없는 경우가 있다(특허문헌 1). 다른 별도의 예로서는, 금속 킬레이트 화합물과 수지를 조합하는 방법이 있다. 이 경우는, 수용액 중에서의 금속 킬레이트의 불안정으로 인하여, 조합에 의해서는 도포액의 안정성이 충분하지 않은 경우가 있고, 장기간의 생산을 행하는 경우, 액교환 작업의 증가를 초래할 가능성이 있다(특허문헌 2). 또한 통상 사용되는 고굴절률 재료는 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성이 열등하다. 그 때문에 고굴절률 재료와 조합시켜도 효과적으로 밀착성을 향상시킬 수 있는 도포층이 요청되고 있다.
특허문헌 1: 특개2004-54161호 공보 특허문헌 2: 특개2005-97571호 공보
본 발명은, 상기 실정을 감안하여 실시된 것으로, 그의 해결과제는, 외광 반사에 의한 간섭 얼룩이 경감되고, 하드 코트 등의 각종의 표면기능층과의 밀착성이 우수한 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은, 상기 실정을 감안하여, 예의 검토한 결과, 특정의 구성을 포함하는 적층 폴리에스테르 필름을 사용하면, 상술한 과제를 용이하게 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명의 요지는, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖고, 당해 도포층의 두께가 0.04~0.15㎛인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름에 존재한다.
본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 의하면, 하드 코트 등의 각종의 표면기능층을 적층했을 때에 외광 반사에 의한 간섭 얼룩이 적고, 각종의 표면기능층과의 밀착성이 우수한 필름을 제공할 수 있어, 그의 공업적 가치는 높다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름은단층 구성이어도 다층 구성이어도 좋고, 2층, 3층 구성 이외에도 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 한, 4층 또는 그 이상의 다층이어도 좋고, 특히 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서 사용하는 폴리에스테르는, 호모폴리에스테르이어도 공중합폴리에스테르이어도 좋다. 호모폴리에스테르로 이루어지는 경우, 방향족 디카복시산과 지방족 글리콜을 중축합시켜 얻을 수 있는 것이 바람직하다. 방향족 디카복시산으로서는, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카복시산 등을 들 수 있고, 지방족 글리콜로서는, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 1,4-시클로헥산 디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등이 예시된다. 한편, 공중합 폴리에스테르의 디카복시산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카복시산, 아디핀산, 세바신산, 옥시카복시산(예컨대, p-옥시벤조산 등) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부탄디올, 4-시클로헥산 디메탄올, 네오펜틸 글리콜 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.
또한, 필름의 내후성의 향상, 컬러 필터 등에 사용되는 색소의 열화 방지를 위하여, 폴리에스테르 필름 중에 자외선흡수제를 함유시켜도 좋다. 자외선흡수제는, 자외선 흡수능을 갖는 화합물이며, 폴리에스테르 필름의 제조 공정에서 부가되는 열에 견딜 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않는다.
자외선흡수제로서는, 유기계 자외선흡수제와 무기계 자외선흡수제가 있지만, 투명성의 관점에서는 유기계 자외선흡수제가 바람직하다. 유기계 자외선흡수제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대, 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계, 벤조페논계 등을 들 수 있다. 내구성의 관점에서는 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계가 더욱 바람직하다. 또한, 자외선흡수제를 2종류 이상 병용하여 사용하는 것도 가능하다.
본 발명의 필름의 폴리에스테르층 중에는, 이활성의 부여 및 각 공정에서의 상처 발생 방지를 주된 목적으로 하여, 입자를 배합하는 것이 바람직하다. 배합하는 입자의 종류는, 이활성 부여 가능한 입자이면 특별히 한정되는 것은 아니며, 구체예로서는, 예컨대, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 인산칼슘, 인산마그네슘, 카올린, 산화알루미늄, 산화티탄 등의 입자를 들 수 있다. 또한, 특공소59-5216호 공보, 특개소59-217755호 공보 등에 기재되어 있는 내열성 유기 입자를 사용하여도 좋다. 그 외의 내열성 유기 입자의 예로서, 열경화성 요소 수지, 열경화성 페놀 수지, 열경화성 에폭시 수지, 벤조구안아민 수지 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에스테르 제조 공정중, 촉매 등의 금속 화합물의 일부를 침전, 미분산시킨 석출 입자를 사용할 수 있다.
한편, 사용하는 입자의 형상에 관해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 구상, 괴상, 봉상, 편평상 등의 어느 것을 사용하여도 좋다. 또한, 그의 경도, 비중, 색 등에 관해서도 특별한 제한은 없다. 이들 일련의 입자는, 필요에 따라서 2종류 이상을 병용하여도 좋다.
또한, 사용하는 입자의 평균 입경은, 통상 0.01~3㎛, 바람직하게는 0.01~2㎛ 범위이다. 평균 입경이 0.01㎛ 미만인 경우에는, 이활성을 충분히 부여할 수 없거나, 입자가 응집하여, 분산성이 불충분하게 되어, 필름의 투명성을 저하시키거나 하는 경우가 있다. 한편, 3㎛를 초과하는 경우에는, 필름의 표면조도가 너무 거칠어져서, 후공정에서 각종의 표면기능층을 도설시키는 경우 등에 문제가 생기는 경우가 있다.
또한 폴리에스테르 층 중의 입자 함유량은, 통상 0.001~5 중량%, 바람직하게는 0.005~3중량% 범위이다. 입자 함유량이 0.001중량% 미만인 경우에는, 필름의 이활성이 불충분한 경우가 있고, 한편, 5 중량%를 초과하여 첨가하는 경우에는 필름의 투명성이 불충분한 경우가 있다.
폴리에스테르층 중에 입자를 첨가하는 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 각 층을 구성하는 폴리에스테르를 제조하는 임의의 단계에서 첨가할 수 있지만, 바람직하게는 에스테르화 또는 에스테르 교환반응 종료후, 첨가하는 것이 좋다.
또한, 벤트부착 혼련압출기를 이용하여, 에틸렌 글리콜 또는 물 등에 분산시킨 입자의 슬러리와 폴리에스테르 원료를 블렌드하는 방법, 또는 혼련압출기를 이용하여, 건조시킨 입자와 폴리에스테르 원료를 블렌드하는 방법 등에 의해 행해진다.
또한, 본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름 중에는, 상술한 입자 이외에 필요에 따라서 종래 공지의 산화방지제, 대전방지제, 열안정제, 윤활제, 염료, 안료 등을 첨가할 수 있다.
본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름의 두께는, 필름으로서 제막가능한 범위라면 특히 한정되는 것은 아니지만, 통상 10~300㎛, 바람직하게는 50~250㎛ 범위이다.
이어서 본 발명에 있어서 폴리에스테르 필름의 제조예에 관하여 구체적으로 설명하지만, 이하의 제조예에 조금도 한정되는 것은 아니다. 즉, 먼저 서술한 폴리에스테르 원료를 사용하여, 다이로부터 압출된 용융 시트를 냉각 롤로 냉각 고화시켜 미연신 시트를 얻는 방법이 바람직하다. 이 경우, 시트의 평면성을 향상시키기 위하여 시트와 회전 냉각 드럼과의 밀착성을 높이는 것이 바람직하고, 정전인가밀착법 및/또는 액체도포 밀착법이 바람직하게 채용된다. 이어서 얻어진 미연신 시트는 2축 방향으로 연신된다. 그 경우, 먼저, 상기 미연신 시트를 1방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기에 의해 연신한다. 연신온도는, 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃이고, 연신 배율은 통상 2.5~7배, 바람직하게는 3.0~6배이다. 이어서, 1단째의 연신방향과 직교하는 방향으로 연신하지만, 그 경우, 연신온도는 통상 70~170℃이고, 연신 배율은 통상 3.0~7배, 바람직하게는 3.5~6배이다. 그리고, 이어서 180~270℃의 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 2축 배향 필름을 얻는다. 상기의 연신에 있어서는, 1방향의 연신을 2단계 이상으로 행하는 방법을 채용할 수 있다. 그 경우, 최종적으로 2방향의 연신배율이 각각 상기 범위로 되도록 행하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서는 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름 제조에 관하여는 동시2축 연신법을 채용할 수 있다. 동시2축 연신법은, 상기 미연신 시트를 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃에서 온도 제어된 상태에서 기계방향 및 폭방향으로 동시에 연신배향시키는 방법이고, 연신배율로서는, 면적배율로 4~50배, 바람직하게는 7~35배, 더욱 바람직하게는 10~25배이다. 그리고, 이어서, 170~250℃의 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 연신배향 필름을 얻는다. 상술한 연신방식을 채용하는 동시2축 연신장치에 관해서는, 스크류 방식, 펜터그래프 방식, 리니어 구동 방식 등, 종래 공지의 연신방식을 채용할 수 있다.
이어서 본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층의 형성에 관하여 설명한다. 도포층에 관해서는, 폴리에스테르 필름의 연신공정 중에 필름표면을 처리하는, 인라인 코팅에 의해 제공되어도 좋고, 일단 제조한 필름 상에 계외에서 도포하는, 오프라인 코팅을 채용하여도 좋고, 양자를 병용하여도 좋다. 제막과 동시에 도포가 가능하기 때문에, 제조가 저가로 대응가능하고, 도포층의 두께를 연신배율에 의해 변화시킬 수 있는 점에서 인라인 코팅이 바람직하게 사용된다.
인라인 코팅에 관하여는, 이하에 한정되는 것은 아니지만, 예컨대, 축차 2축 연신에 있어서는, 특히 종연신이 종료한 횡연신 전에 코팅 처리를 실시할 수 있다. 인라인 코팅에 의해 폴리에스테르 필름 상에 도포층이 제공되는 경우에는, 제막과 동시에 도포가 가능하게 되는 것과 함께 도포층을 고온에서 처리할 수 있어, 폴리에스테르 필름으로서 적합한 필름을 제조할 수 있다.
본 발명에 있어서는, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖는 것을 필수의 요건으로 하는 것이다.
본 발명에 있어서 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물의 구체예로서는, 하기 식으로 표시되는 화합물이다. 이들은, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌, 나프타센, 벤조[a]안트라센, 벤조[a]페난트렌, 피렌, 벤조[c]]페난트렌, 페릴렌이다.
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폴리에스테르 필름 상으로의 도포성을 고려하면, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물은, 예컨대, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 고분자 화합물이 바람직하다. 특히 폴리에스테르 수지에는 더욱 많은 축합 다환식 방향족을 도입할 수 있기 때문에 더욱 바람직하다.
축합 다환식 방향족 구조를 폴리에스테르 수지에 조립하는 방법으로서는, 예컨대, 축합 다환식 방향족 구조에 치환기로서 수산기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디올 성분 또는 다가 수산기 성분으로 하든가, 또는 카복시산기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디카복시산 성분 또는 다가 카복시산 성분으로 하여 작성하는 방법이 있다.
적층 폴리에스테르 필름 제조 공정에 있어서, 착색이 어려운 점에서, 도포층 에 함유하는 축합 다환식 방향족 구조는 나프탈렌 골격이 바람직하다. 또한, 도포층 상에 형성하는 광확산층 또는 스티킹 방지층과의 밀착성이나, 투명성이 양호한 점에서, 폴리에스테르 구성 성분으로서 나프탈렌 골격을 조립한 수지가 가장 적합하게 사용된다. 당해 나프탈렌 골격으로서는, 대표적인 것으로서, 1,5-나프탈렌 디카복시산 및 2,6-나프탈렌 디카복시산, 2,7-나프탈렌 디카복시산을 들 수 있다.
또한, 축합 다환식 방향족 구조에는, 수산기나 카복시산기 이외에도, 유황 원소를 함유하는 치환기, 페닐기 등의 방향족 치환기, 할로겐 원소 기 등을 도입하는 것에 의해, 굴절률의 향상이 기대될 수 있고, 도포성이나 밀착성의 관점에서, 알킬기, 에스테르기, 아미드기 등의 치환기를 도입하여도 좋다.
옥사졸린 화합물이라는 것은, 분자 내에 옥사졸린 기를 갖는 화합물이다. 특히 옥사졸린 기를 함유하는 중합체가 바람직하고, 부가 중합성 옥사졸린 기 함유 모노머 단독 또는 다른 모노머와의 중합에 의해 작성될 수 있다. 부가 중합성 옥사졸린 기 함유 모노머는, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-에틸-2-옥사졸린 등을 들 수 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상의혼합물을 사용할 수 있다. 이들 중에서도 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으로도 입수가 용이하여 적합하다. 다른 모노머는, 부가 중합성 옥사졸린 기 함유 모노머와 공중합 가능한 모노머라면 제한없고, 예컨대 알킬 (메타)아크릴레이트 (알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기) 등의 (메타)아크릴산 에스테르류; 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 크로톤산, 스티렌술폰산 및 그의 염(나트륨염, 칼륨염, 암모늄염, 제3급 아민염 등) 등의 불포화 카복시산류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴류; (메타)아크릴 아미드, N-알킬(메타)아크릴 아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴 아미드, (알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 2-에틸헥실기, 시클로헥실기 등) 등의 불포화 아미드류; 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류; 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르 등의 비닐에테르 류; 에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀류; 염화비닐, 염화비닐리덴, 플루오르화비닐 등의 함할로겐 α,β-불포화 모노머류; 스티렌, α-메틸스티렌 등의 α,β-불포화 방향족 모노머 등을 들 수 있고, 이들의 1종 또는 2종 이상의 모노머를 사용할 수 있다.
특히, 옥사졸린 기를 측쇄에 갖는 중합체가 바람직하고, 이러한 중합체는, 부가 중합성 옥사졸린 기 함유 모노머와 다른 모노머와의 중합에 의해 용이하게 얻을 수 있다. 다른 모노머로서 아크릴계 모노머를 사용한 옥사졸린 화합물의 상품의 일례로서는, 옥사졸린 기가 아크릴계 수지에 브랜치된 폴리머형 가교제인,「에포크로스 WS-500(니혼쇼쿠바이샤 제조)」 등을 들 수 있다.
에폭시 화합물로서는, 예컨대, 분자 내에 에폭시 기를 포함하는 화합물, 그 의 프리폴리머 및 경화물을 들 수 있다. 예컨대, 에피클로로히드린과 에틸렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜, 글리세린, 폴리글리세린, 비스페놀 A 등의 수산기나 아미노기와의 축합물을 들 수 있고, 폴리에폭시 화합물, 디에폭시 화합물, 모노에폭시 화합물, 글리시딜아민 화합물 등이 있다. 폴리에폭시 화합물로서는, 예컨대, 소르비톨, 폴리글리시딜 에테르, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르, 디글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 트리글리시딜 트리스(2-히드록시에틸)이소시아네이트, 글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 트리메틸올 프로판폴리글리시딜 에테르, 디에폭시 화합물로서는, 예컨대, 네오펜틸글리콜 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 레조르신디글리시딜 에테르, 에틸렌글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리에틸렌글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리프로필렌글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜 디글리시딜 에테르, 모노에폭시 화합물로서는, 예컨대, 알릴글리시딜 에테르, 2-에틸헥실글리시딜 에테르, 페닐글리시딜 에테르, 글리시딜아민 화합물로서는 N,N, N',N'-테트라글리시딜-m-크실릴렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노)시클로헥산 등을 들 수 있다.
특히, 다관능 에폭시 화합물이 바람직하고, 적어도 2개의 글리시딜 에테르 구조를 갖는 다관능 에폭시 화합물이 더욱 바람직하다. 시판품의 일례로서는, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르인,「데나콜 EX-521」(나가세켐테크스 제조) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 도포면상의 향상, 도포면 상에 하드 코트층 등의 각종의 표면기능층이 적층되었을 때의 간섭 얼룩의 저감이나 투명성을 향상시키기 위하여 각종의 바인더 폴리머를 병용하는 것도 가능하다.
본 발명에 있어서 사용하는 「바인더 폴리머」라는 것은 고분자 화합물 안전성 평가 플로우 스킴(소화 60년 11월 화학물질심의회 주최)에 준하여, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 측정에 의한 수평균 분자량(Mn)이 1000 이상인 고분자 화합물이며, 또 조막성을 갖는 것으로 정의한다.
바인더 폴리머의 구체예로서는, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리비닐(폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 염화비닐아세트산비닐 공중합체 등), 폴리알킬렌 글리콜, 폴리알킬렌이민, 메틸셀룰로오스, 히드록시셀룰로오스, 전분류 등을 들 수 있다.
또한 도포층 중에는 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 옥사졸린 화합물 및 에폭시 화합물 이외의 가교제를 병용하는 것도 가능하다. 이들 화합물 이외의 가교제로서는, 각종 공지의 수지를 사용할 수 있지만, 예컨대, 멜라민 화합물, 이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.
멜라민 화합물이라는 것은, 화합물 중에 멜라민 골격을 갖는 화합물이다. 예컨대, 알킬올화 멜라민 유도체, 알킬올화 멜라민 유도체에 알코올을 반응시켜 부분적으로 또는 완전히 에테르화된 화합물, 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 에테르화에 사용하는 알코올로서는, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, n-부탄올, 이소부탄올 등이 적합하게 사용된다. 또한, 멜라민 화합물로서는, 단량체, 또는 2량체 이상의 다량체의 어느 것이어도 좋고, 또는 이들의 혼합물을 사용하여도 좋다. 또한, 멜라민의 일부에 요소 등을 공축합한 것도 사용할 수 있고, 멜라민 화합물의 반응성을 높이기 위하여 촉매를 사용하는 것도 가능하다. 특히, 알킬화 멜라민 화합물이 바람직하고, 완전 알킬형 멜라민 화합물이 더욱 바람직하고, 그 구체예로서는 헥사메톡시메틸 멜라민 등을 들 수 있다.
이소시아네이트 화합물로서는, 분자 내에 이소시아네이트기를 가진 화합물을 지칭하고, 구체적으로는, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트, 시클로헥실렌 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트, 트릴렌 디이소시아네이트나, 이들의 중합체, 블록체, 유도체 등을 들 수 있다.
이들 가교제는, 단독으로 사용하여도 좋고, 복수종을 혼합하여 사용하여도 좋다. 또한 인라인 코팅으로의 적용 등을 배려한 경우, 수용성 또는 수분산성을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 도포층의 고착성, 미끄럼성 개량을 목적으로 하여, 불활성 입자를 함유시켜도 좋고, 구체예로서는 실리카, 알루미나, 카올린, 탄산칼슘, 산화티탄, 유기 입자 등을 들 수 있다.
또한 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 도포층에는 필요에 따라서 소포제, 도포성개량제, 증점제, 유기계 윤활제, 대전방지제, 자외선흡수제, 산화방지제, 발포제, 염료 등이 함유되어도 좋다.
본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층에 사용되는 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물은, 그 화합물 중에서 축합 다환식 방향족 구조가 점하는 비율은, 바람직하게는 5~80중량% 범위이고, 더욱 바람직하게는 10~60 중량% 범위이다. 또한, 도포층 전체에 점하는 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물의 비율은, 바람직하게는 50~99 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 60~97 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 70~95 중량% 범위이다. 이들 범위로부터 벗어나는 경우는, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성한 후의 간섭 얼룩에 의해 시인성이 나빠지는 경우가 있다. 또한, 축합 다환식 방향족 구조의 비율은, 예컨대, 적절한 용매 또는 온수로 도포층을 용해 추출하여, 크로마토그래피로 분취하여, NMR이나 IR로 구조를 해석, 또한 열분해 GC-MS(가스 크로마토그래피 질량분석)로 해석하는 것에 의해 구할 수 있다.
본 발명에 있어서, 옥사졸린 화합물을 사용하여 과제를 해결하는 경우, 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층 중의 옥사졸린 화합물의 비율은, 바람직하게는1~50 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 1~30 중량%, 또한 바람직하게는 3~20 중량% 범위이다. 1중량% 미만인 경우, 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성이 저하될 가능성이 염려되며, 50 중량%를 초과하는 경우, 도포층의 굴절률이 낮아지는 것에 의해, 하드 코트층 등의 표면기능층 형성후의 간섭 얼룩에 의해, 시인성이 좋지 않은 경우가 있다.
본 발명에 있어서, 에폭시 화합물을 사용하여 과제를 해결하는 경우, 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층 중의 에폭시 화합물의 비율은, 바람직하게는1~80 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 10~60 중량% 범위이다. 이들 범위로부터 벗어나는 경우는, 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성이 저하될 가능성이 염려되는 경우와, 도포면상이 악화되는 경우가 있다.
본 발명의 폴리에스테르 필름에 있어서, 상술한 도포층을 제공한 면과 반대측의 면에도 도포층을 제공하는 것도 가능하다. 예컨대, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성하는 반대측에 마이크로렌즈층, 프리즘층, 스티킹 방지층, 광확산층, 하드 코트 등의 기능층을 형성하는 경우에, 당해 기능층과의 밀착성을 향상시키는 것이 가능하다. 반대측의 면에 형성하는 도포층의 성분으로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 예컨대, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 바인더 폴리머, 에폭시 화합물, 옥사졸린 화합물, 멜라민 화합물, 이소시아네이트 화합물 등의 가교제 등을 들 수 있고, 이들 재료를 단독으로 사용하여도 좋고, 복수종을 병용하여 사용하여도 좋다. 또한, 상술한 바와 같은 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층(폴리에스테르 필름에 양면 동일한 도포층)이어도 좋다.
도포층 중의 성분의 분석은, 예컨대, TOF-SIMS 등의 표면 분석에 의해 행할 수 있다.
인라인 코팅에 의해 도포층을 제공하는 경우는, 상술한 일련의 화합물을 수용액 또는 수분산체로 하여, 고형분 농도가 0.1~ 50 중량% 정도를 기준으로 조정한 도포액을 폴리에스테르 필름 상에 도포하는 요령으로 적층 폴리에스테르 필름을 제조하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 물로의 분산성 개량, 조막성 개량 등을 목적으로 하여, 도포액 중에는 소량의 유기 용매를 함유하고 있어도 좋다. 유기 용매는 1종류 만이어도 좋고, 적절히, 2종류 이상을 사용하여도 좋다.
본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름에 관하여, 폴리에스테르 필름 상에 제공되는 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층의 막 두께는, 통상 0.04~0.15㎛, 바람직하게는 0.07~0.15㎛ 범위이다. 막 두께가 상기 범위로부터 벗어나는 경우는, 표면기능층을 적층한 후의 간섭 얼룩에 의해, 시인성이 악화되는 경우가 있다. 또한, 근년, 도포층을 상기 범위보다도 얇게 하여, 도포층의 굴절률의 영향을 적게 하는 것에 의해, 간섭 얼룩을 경감시키려 하는 제안도 되어 있다. 그러나, 도포층 위에 하드 코트층 등의 활성 에너지선 조사에 의해, 고밀도의 가교 구조를 형성하면, 경화수축이 크게 되기 때문에, 기재에 대한 응력이 걸려, 필름의 커얼이 염려된다. 도포층을 상기 범위와 같이 두껍게 하는 것에 의해, 응력을 완화할 수 있어, 필름의 커얼을 억제할 수 있는 이점도 있다.
본 발명에 있어서, 도포층을 제공하는 방법은 리버스 그라비아 코트, 다이렉트 그라비아 코트, 롤 코트, 다이 코트, 바 코트, 커텐 코트 등, 종래 공지의 도공 방식을 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름 상에 도포층을 형성할 때의 건조 및 경화 요건에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 오프라인 코팅에 의해 도포층을 제공하는 경우, 통상, 80~200℃에서 3~40초간, 바람직하게는 100~180℃에서 3~40초간을 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.
한편, 인라인 코팅에 의해 도포층을 제공하는경우, 통상, 70~280℃에서 3~200초간을 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.
또한, 오프라인 코팅 또는 인라인 코팅에 관계없이, 필요에 따라서 열처리와 자외선조사 등의 활성 에너지선 조사를 병용하여도 좋다. 본 발명에 있어서 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름에는 미리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면 처리를 실시하여도 좋다.
본 발명에 있어서 도포층은 간섭 얼룩의 발생을 억제하기 위하여, 굴절률의 조정이 실시된 것이고, 그 굴절률은 기재인 폴리에스테르 필름과 하드 코트층 등의 표면기능층의 상승 평균 부근으로 설계한 것이다. 도포층의 굴절률과 도포층의 반사율은 밀접한 관계가 있다. 본 발명의 범위에서 막 두께에 있어서, 횡축에 파장, 종축에 반사율을 나타내는 그래프를 그리고, 반사율의 극소치가 파장 400~800 nm 범위에 극소치가 1개 나타나는 경우가 바람직하고, 그 극소치가 동일 파장에 나타나면, 극소치의 반사율은, 굴절률이 높은 경우는 높은 값으로 되고, 굴절률이 낮은 경우는 낮은 값으로 된다.
본 발명에 있어서 양호한 반사율이라는 것은, 절대반사율에 있어서, 파장 400~800 nm 범위에 극소치가 1개 존재하고, 더욱 바람직하게는 파장 500~700 nm 범위에 극소치가 1개 존재하는 것이다. 또한, 그 극소치의 값이, 바람직하게는 4.0~6.5%, 더욱 바람직하게는 4.5~6.2% 범위이다. 파장 400~800 nm 범위에 있는 극소치가 1개가 아닌 경우, 또, 극소치의 절대반사율이 상기 값을 벗어나는 경우는, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성한 후에 간섭 얼룩이 발생하여, 필름의 시인성이 저하되는 경우가 있다.
본 발명의 폴리에스테르 필름에는, 도포층 상에 하드 코트층 등의 표면기능층을 제공하는 것이 일반적이다. 하드 코트층에 사용되는 재료로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대, 단관능 (메타)아크릴레이트, 다관능 (메타)아크릴레이트, 테트라에톡시실란 등의 반응성 규소 화합물 등의 경화물을 들 수 있다. 이들 중 생산성 및 경도의 양립의 관점에서, 자외선 경화성의 다관능 (메타)아크릴레이트를 포함하는 조성물의 중합경화물인 것이 특히 바람직하다.
자외선 경화성의 다관능 (메타)아크릴레이트를 포함하는 조성물로서는 특히 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 공지의 자외선 경화성의 다관능 (메타)아크릴레이트를 1종류 이상 혼합한 것, 자외선 경화성 하드 코트재로서 시판되는 것, 또는 이들 이외에 본 실시형태의 목적을 손상하지 않는 범위에 있어서, 그외의 성분을 또한 첨가한 것을 사용할 수 있다.
자외선 경화성의 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 테트라(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-비스(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)헥산 등의 다관능 알코올의 (메타)아크릴 유도체나, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 그리고 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
자외선 경화성의 다관능 (메타)아크릴레이트를 포함하는 조성물에 포함되는 그외의 성분은 특히 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 무기 또는 유기 미립자, 중합개시제, 중합금지제, 산화방지제, 대전방지제, 분산제, 계면활성제, 광안정제 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 또한, 웨트 코팅법에 있어서 성막후 건조시키는 경우에는, 임의 양의 용매를 첨가할 수 있다.
하드 코트층의 형성방법은, 유기 재료를 사용한 경우에는 롤 코트법, 다이 코트법 등의 일반적인 웨트 코트법이 채용된다. 형성된 하드 코트층에는 필요에 따라서 가열이나 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선 조사를 실시하고, 경화반응을 행할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명에서 사용된 측정법 및 평가방법은 다음과 같다.
(1) 폴리에스테르의 고유점도의 측정
폴리에스테르에 비상용인 다른 폴리머 성분 및 안료를 제거한 폴리에스테르 1 g을 정칭하고, 페놀/테트라클로로에탄 = 50/50(중량비)의 혼합 용매 100 ml를 부가하여 용해시켜, 30℃에서 측정하였다.
(2) 평균 입경(d50:㎛)의 측정
원심침강식 입도분포측정장치(주식회사 시마리즈세이사꾸죠샤 제조「SA-CP3형」)을 사용하여 측정한 등가구형분포에 따른 적산(중량 기준) 50%의 값을 평균 입경으로 하였다.
(3) 도포층의 막두께 측정방법
도포층의 표면을 RuO4 로 염색하고, 에폭시 수지 중에 묻었다. 그 후, 초박절편법에 의해 작성된 절편을 RuO4 로 염색하고, 도포층 단면을 TEM(히타치 제조「H-7650」가속전압 100V)을 이용하여 측정하였다.
(4) 폴리에스테르 필름에서 도포층 표면으로부터의 절대반사율의 평가방법
미리, 폴리에스테르 필름의 측정 이면에 흑 테이프(니치반 주식회사 제조 비닐 테이프「VT-50」)를 붙이고, 분광광도계(일본분광주식회사 제조 자외가시분광광도계「V-570」및 자동절대반사율 측정장치「AM-500N」)를 사용하여 동기 모드, 입사각 5°, N 편광, 리스폰스 패스트, 데이터 취득 구간 간격 1.0 nm, 밴드 폭 10 nm, 주사속도 1000 m/분으로 도포층 면을 파장 범위 300~800 nm의 절대반사율을 측정하고, 그 극소치에서 파장(보톰파장)과 반사율을 평가하였다.
(5) 간섭 얼룩의 평가방법
폴리에스테르 필름의 도포층 측에, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 72 중량부, 2-히드록시-3-페녹시프로필 아크릴레이트 18 중량부, 오산화 안티몬 10 중량부, 광중합개시제(상품명:「이르가큐어 184」시바 스폐셜티 케미컬 제조) 1 중량부, 메틸에틸케톤 200 중량부의 혼합 도액을 건조 막두께가 5㎛로 되도록 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시켜 하드 코트층을 형성하였다. 얻어진 필름을 3파장 광역형 형광등 하에서 육안으로, 간섭 얼룩을 관찰하고, 간섭 얼룩이 확인될 수 없는 것을 ◎, 얇고 드문드문한 간섭 얼룩이 확인되는 것을 ○, 얇지만 선상의 간섭 얼룩이 확인될 수 있는 것을 △, 명료한 간섭 얼룩이 확인되는 것을 ×로 하였다.
(6) 밀착성 1의 평가방법
더욱 엄밀한 밀착성의 평가를 행하기 위하여, 상기 (5)의 평가에서 사용한 하드 코트액으로부터 오산화 안티몬을 제외한 재료로 검토하였다. 즉, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 80 중량부, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 20 중량부, 광중합개시제(상품명:「이르가큐어 184」시바 스폐셜티 케미컬 제조) 5 중량부, 메틸에틸케톤 200 중량부의 혼합 도액을 건조 막두께가 5㎛로 되도록 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시켜 하드 코트층을 형성하였다. 얻어진 필름을 60℃, 90% RH의 환경하에서 50시간 방치하였다. 그 후, 10×10의 크로스 커트를 하고, 그 위에 18mm 폭의 테이프(니치반 주식회사제조 셀로테이프(등록상표)「CT-18」)를 붙이고, 180도의 박리각도로 급격하게 벗겨낸 후의 박리면을 관찰하여, 박리 면적이 5% 미만이면 ○, 5% 이상 20% 미만이면 △, 20% 이상이면 ×로 하였다.
(7) 밀착성 2의 평가방법
얻어진 필름을 80℃, 85% RH의 환경하에서 50시간 방치한 이외는, 상기 (6)과 동일한 평가를 실시하였다.
실시예 및 비교예에 있어서 사용한 폴리에스테르는, 이하와 같이 하여 준비한 것이다.
<폴리에스테르 (A)의 제조방법>
테레프탈산 디메틸 100 중량부와 에틸렌 글리콜 60 중량부를 출발원료로 하고, 촉매로서 아세트산 마그네슘?4수염 0.09 중량부를 반응기에 넣고, 반응개시 온도를 150℃로 하여, 메탄올의 증류제거와 함께 서서히 반응온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 하였다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물에 에틸 애시드 포스페이트 0.04부를 첨가한 후, 삼산화 안티몬 0.04 부를 가하여, 4시간 중축합 반응을 행하였다. 즉, 온도를 230℃로부터 서서히 승온시켜 280℃로 하였다. 한편, 압력은 상압으로부터 서서히 감소시켜, 최종적으로는 0.3 mmHg로 하였다. 반응 개시 후, 반응조의 교반동력의 변화에 의해, 극한점도 0.63에 상당하는 시점에서 반응을 정지시키고, 질소 가압하 폴리머를 토출시켰다. 얻어진 폴리에스테르(A)의 극한 점도는 0.63이었다.
<폴리에스테르(B)의 제조방법>
폴리에스테르(A)의 제조방법에 있어서, 에틸애시드 포스페이트 0.04부를 첨가한 후, 평균 입자경 1.6 ㎛의 에틸렌 글리콜에 분산시킨 실리카 입자를 0.2부, 삼산화 안티몬 0.04부를 가하여, 극한점도 0.65에 상당하는 시점에서 중축합 반응을 정지시킨 이외는, 폴리에스테르(A)의 제조방법과 동일한 방법을 이용하여 폴리에스테르(B)를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르(B)는, 극한점도 0.65이었다.
도포층을 구성하는 화합물 예는 이하와 같다:
(화합물 예)
● 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물: (I)
하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체
모노머 조성:(산성분) 2,6-나프탈렌 디카복시산/5-소듐술포이소프탈산//(디올 성분) 에틸렌 글리콜/디에틸렌 글리콜 = 92/8//80/20(몰%)
● 옥사졸린 화합물: (IIA)
옥사졸린 기 함유 아크릴 폴리머「에포크로스 WS-300」(니혼쇼쿠바이 제조)
● 옥사졸린 화합물: (IIB)
옥사졸린 기 및 폴리알킬렌 옥시드 사슬을 갖는 아크릴 폴리머「에포크로스 WS-500」(니혼쇼쿠바이 제조, 1-메톡시-2-프로판올 용매 약 38 중량%를 함유하는 타입)
● 옥사졸린 화합물: (IIC)
옥사졸린 기 및 폴리알킬렌 옥시드 사슬을 갖는 아크릴 폴리머「에포크로스 WS-700」(니혼쇼쿠바이 제조, VOC 프리 타입)
● 에폭시 화합물: (IID) 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르인「데나콜 EX-521」(나가세켐테크스 제조).
● 에폭시 화합물: (IIE) 에폭시 수지인 「데나콜 EX-1410」(나가세켐테크스 제조).
● 에폭시 화합물: (IIF) 에폭시 수지인 「데나콜 EX-1610」(나가세켐테크스 제조).
● 우레탄 수지 (III)
카복시산 수분산형 폴리에스테르 폴리우레탄 수지인 「하이드란 AP-40」(DIC 사 제조)
● 헥사메톡시메틸멜라민(IV)
● 입자: (V) 평균 입경 65 nm의 실리카졸
실시예 1:
폴리에스테르 (A), (B)를 각각 90%, 10%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 최외층(표층)의 원료로 하고, 폴리에스테르(A)를 중간층의 원료로 하며, 2대의 압출기에 각각을 공급하여, 각각 285℃에서 용융시킨 후, 40℃로 설정된 냉각롤 상에, 2종 3층(표층/중간층/표층 = 1:18:1의 토출량)의 층구성으로 공압출하고 냉각고화시켜서 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 종방향으로 3.4배 연신시킨 후, 이 종연신 필름의 양면에, 하기 표 1에 나타내는 도포액 1을 도포하고, 텐터에 걸어, 횡방향으로 120℃에서 3.8배 연신시키고, 225℃에서 열처리를 행한 후, 횡방향으로 2% 이완하고, 막 두께(건조후)가 0.11 ㎛의 도포층을 갖는 두께 100 ㎛의 폴리에스테르 필름을 얻었다.
얻어진 폴리에스테르 필름의 절대반사율을 측정해보니, 극소치는 640 nm이고, 그 반사율은 5.0% 이었다. 하드 코트층을 적층한 후의 필름에는 간섭 얼룩은 확인되지 않고, 또 밀착성도 양호하였다. 이 필름의 특성을 하기 표 3에 나타낸다.
실시예 2~26:
실시예 1에 있어서, 도포제 조성을 표 1 또는 하기 표 2에 나타내는 도포제 조성으로 변경하는 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 제조하여, 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 폴리에스테르 필름은 표 3 및 하기 표 4에 나타낸 바와 같이, 높은 반사율을 갖고, 간섭 얼룩 레벨도 양호하며, 밀착성도 양호한 것이었다.
비교예 1~3:
실시예 1에 있어서, 도포제 조성을 표 1 또는 2에 나타내는 도포제 조성으로 변경하는 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 제조하여, 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 적층 폴리에스테르 필름을 평가해보니, 표 3 또는 4에 나타낸 바와 같이, 명료한 간섭 얼룩이 관찰될 수 있는 것과, 밀착성이 좋지 않은 것이었다.
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
Figure pct00005
산업상의 이용가능성
본 발명의 필름은, 예컨대, 액정이나 플라즈마 디스플레이 등의 부재인 각종의 광학용 필름 등에 있어서, 하드 코트층 등과의 밀착성 및 시인성을 중시하는 용도에 적합하게 이용될 수 있다.

Claims (14)

  1. 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물과 옥사졸린 화합물 또는 에폭시 화합물을 함유하는 도포액을 도포하여 형성된 도포층을 갖고, 당해 도포층의 두께가 0.04~0.15㎛인 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
  2. 제1항에 있어서, 도포층 표면의 절대반사율이 파장 400~800 nm 범위에서 극소치를 1개 갖고, 당해 극소치에 따른 절대반사율이 4.0% 이상인 적층 폴리에스테르 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물 중의 축합 다환식 방향족 구조가 점하는 비율이 5~80중량% 범위인 적층 폴리에스테르 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 도포층 전체에 점하는 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물의 비율이 50~99중량% 범위인 적층 폴리에스테르 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 화합물이 축합 다환식 방향족 구조를 갖는 고분자 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
  6. 제5항에 있어서, 고분자 화합물이 폴리에스테르 구성 성분으로서 나프탈렌 골격을 조립한 수지인 적층 폴리에스테르 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 도포층 전체에 점하는 옥사졸린 화합물의 비율이 1~50중량% 범위인 적층 폴리에스테르 필름.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 옥사졸린 화합물이 옥사졸린 기를 측쇄에 갖는 중합체인 적층 폴리에스테르 필름.
  9. 제8항에 있어서, 옥사졸린 기를 갖는 중합체가 부가 중합성 옥사졸린 기 함유 모노머와 다른 모노머와의 중합에 의해 얻어진 것인 적층 폴리에스테르 필름.
  10. 제9항에 있어서, 다른 모노머가 아크릴계 모노머인 적층 폴리에스테르 필름.
  11. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 도포층 전체에 점하는 에폭시 화합물의 비율이 1~80중량% 범위인 적층 폴리에스테르 필름.
  12. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 에폭시 화합물이 다관능 에폭시 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
  13. 제12항에 있어서, 다관능 에폭시 화합물이 적어도 2개의 글리시딜 에테르 구조를 갖는 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
  14. 제13항에 있어서, 적어도 2개의 글리시딜 에테르 구조를 갖는 화합물이 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르인 적층 폴리에스테르 필름.
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