WO2013035629A1

WO2013035629A1 - 塗布フィルム

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Publication number: WO2013035629A1
Application number: PCT/JP2012/072064
Authority: WO
Inventors: 加藤雄三; 川崎泰史; 藤田真人
Original assignee: 三菱樹脂株式会社
Priority date: 2011-09-06
Filing date: 2012-08-30
Publication date: 2013-03-14
Also published as: KR101776597B1; EP2754555A4; CN103796831B; KR20140057561A; US20140356629A1; JP2013067164A; CN103796831A; EP2754555A1

Abstract

　ハードコート等の各種の表面機能層を設けた場合の干渉ムラ等を軽減し、良好な視認性を有するとともに、表面機能層との密着性に優れた塗布フィルムを提供する。　ポリエステルフィルムの一方の面に、ポリエステル樹脂、酸化チタン、およびエポキシ化合物を含有する塗布液から形成された第１塗布層を有し、他方の面に、金属酸化物および２種類以上の架橋剤を含有する塗布液から形成され、波長４００～８００ｎｍの範囲で極小値を一つ有し、当該極小値における絶対反射率が４．０％以上である第２塗布層を有する塗布フィルム。

Description

塗布フィルム

本発明は、塗布フィルムに関するものであり、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンス等、外光反射による干渉ムラの軽減が必要とされる塗布フィルムに関するものである。

　近年、ポリエステルフィルムは、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネルの部材であるタッチパネル、反射防止フィルム、プリズムシート、光拡散シート、電磁波シールドフィルムなどに用いられている。これらの部材に用いられるベースフィルムには、優れた透明性、視認性が要求されている。

　これらのフィルムには、カール防止や耐擦傷性の向上、表面硬度等の性能を向上させるために、ハードコート加工されることが多い。また、基材としては、透明性と機械特性に優れたポリエステルフィルムが一般的に使用されている。ポリエステルフィルムとハードコート層の密着性を向上させるために、中間層として易接着の塗布層が設けられる場合が一般的であるが、ハードコート層の一方の面での反射光と、反対面からの反射光が干渉することで、虹模様のムラ（干渉ムラ）が発生することがある。

　干渉ムラのあるフィルムをタッチパネル等のディスプレイ部材に使用すると、視認性が悪く、使用しづらいものとなってしまう。このため、干渉ムラを軽減したフィルムが求められている。干渉ムラを軽減させるためには、塗布層の屈折率を、基材の二軸延伸ポリエステルフィルムの屈折率とハードコート層の屈折率の相乗平均付近に調整すればよいと考えられ、この辺りの屈折率に調整することが理想的である。ポリエステルフィルムの屈折率が高いため、一般的には塗布層の屈折率を高く設計する必要がある。

　塗布層の屈折率を高くして、干渉ムラを改善した例としては、例えば、塗布層中に屈折率の高い金属キレート化合物や金属微粒子を配合する方法がある。キレート化合物の場合、水溶液中での金属キレートの不安定さから、組み合わせによっては塗布液の安定性が十分でない場合があり、長時間の生産を行う場合、液交換作業の増加を招く可能性がある（特許文献１）。また、ポリエステル樹脂と金属微粒子の組み合わせで屈折率を高くした例も知られているが、この場合は近年要求されている、厳しい耐湿熱密着性を十分に出すことができない場合がある（特許文献２、３）。

　さらに、干渉ムラの抑制のほかにも、ディスプレイの視認性を向上させるために高屈折率化された塗布層の必要性が高まっている。例えば、近年ではスマートフォン等の増加によって、タッチパネルの中でも透明電極をパターニングした静電容量方式が主流となりつつあり、ディスプレイの視認性をより向上させる目的で、ディスプレイの各層の屈折率差を小さくして透明電極のパターニングを不可視化する加工も必要となってきている（特許文献４、５）。

特開２００５－９７５７１号公報特開２００４－５４１６１号公報特開２００８－１６９２７７号公報特開２０１１－１３４４６４号公報特開２０１１－１３６５６２号公報

　本発明は、上記実情に鑑みなされたものであって、その解決課題は、ハードコート等の各種の表面機能層を設けた場合の干渉ムラ等を軽減し、良好な視認性を有するとともに、表面機能層との密着性に優れた塗布フィルムを提供することにある。

　本発明者らは、上記実情に鑑み、鋭意検討した結果、特定の構成からなる塗布フィルムを用いれば、上記の課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。

　すなわち、本発明の要旨は、ポリエステルフィルムの一方の面に、ポリエステル樹脂、酸化チタン、およびエポキシ化合物を含有する塗布液から形成された第１塗布層を有し、他方の面に、金属酸化物および２種類以上の架橋剤を含有する塗布液から形成され、絶対反射率が波長４００～８００ｎｍの範囲で極小値を一つ有し、当該極小値における絶対反射率が４．０％以上である第２塗布層を有することを特徴とする塗布フィルムに存する。

　本発明の塗布フィルムによれば、ハードコート等の種々の表面機能層を積層した際に外光反射による干渉ムラが少なく、種々の表面機能層との密着性に優れたフィルムを提供することができ、その工業的価値は高い。

　本発明の塗布フィルムを構成するポリエステルフィルムは単層構成であっても多層構成であってもよく、２層、３層構成以外にも本発明の要旨を越えない限り、４層またはそれ以上の多層であってもよく、特に限定されるものではない。

　ポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、ｐ－オキシ安息香酸など）等の１種または２種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、４－シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の１種または２種以上が挙げられる。

　ポリエステルの重合触媒としては、特に制限はなく、従来公知の化合物を使用することができ、例えば、アンチモン化合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物、マンガン化合物、アルミニウム化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物等が挙げられる。この中でも特にフィルムの輝度が高くなるという観点から、チタン化合物が好ましい。

　ポリエステルフィルム中にはフィルムの耐候性の向上、液晶などの劣化防止のために、紫外線吸収剤を含有させることも可能である。紫外線吸収剤は、紫外線を吸収する化合物で、ポリエステルフィルムの製造工程で付加される熱に耐えうるものであれば特に限定されない。

　紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤があるが、透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、環状イミノエステル系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系などが挙げられる。耐久性の観点からは環状イミノエステル系、ベンゾトリアゾール系がより好ましい。また、紫外線吸収剤を２種類以上併用して用いることも可能である。

　ポリエステルフィルム中には、易滑性の付与および各工程での傷発生防止を主たる目的として、粒子を配合することも可能である。配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、具体例としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等が挙げられる。さらに、ポリエステル製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。

　使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて２種類以上を併用してもよい。

　また、用いる粒子の平均粒径は、通常０．０１～３μｍの範囲である。平均粒径が０．０１μｍ未満の場合には、易滑性を十分に付与できなかったり、粒子が凝集して、分散性が不十分となり、フィルムの透明性を低下させたりする場合がある。一方、３μｍを超える場合には、フィルムの表面粗度が粗くなりすぎて、後工程においてハードコート層等の各種の表面機能層を形成させる場合等に不具合が生じる場合がある。

　さらにポリエステルフィルム中の粒子含有量は、通常５重量％未満、好ましくは０．０００５～３重量％の範囲である。粒子がない場合、あるいは少ない場合は、フィルムの透明性が高くなり、良好なフィルムとなるが、滑り性が不十分となる場合があるため、塗布層中に粒子を入れることにより、滑り性を向上させる等の工夫が必要な場合がある。また、粒子含有量が５重量％を超えて添加する場合には、フィルムの透明性が不十分な場合がある。

　ポリエステルフィルム中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化もしくはエステル交換反応終了後、添加するのが良い。

　また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。

　なお、ポリエステルフィルム中には、上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。

　ポリエステルフィルムの厚みは、フィルムとして製膜可能な範囲であれば特に限定されるものではないが、通常１０～３５０μｍ、好ましくは２５～２５０μｍの範囲である。

　次にポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。すなわち、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高めることが好ましく、静電印加密着法および／または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常７０～１２０℃、好ましくは８０～１１０℃であり、延伸倍率は通常２．５～７倍、好ましくは３．０～６倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に延伸するが、その場合、延伸温度は通常７０～１７０℃であり、延伸倍率は通常３．０～７倍、好ましくは３．５～６倍である。そして、引き続き１８０～２７０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を２段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。

　また、ポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は、前記の未延伸シートを通常７０～１２０℃、好ましくは８０～１１０℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法であり、延伸倍率としては、面積倍率で４～５０倍、好ましくは７～３５倍、さらに好ましくは１０～２５倍である。そして、引き続き、１７０～２５０℃の温度で緊張下または３０％以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。

　次に本発明の塗布フィルムを構成する塗布層の形成について説明する。塗布層に関しては、ポリエステルフィルムの製膜工程中にフィルム表面を処理する、インラインコーティングにより設けられてもよく、一旦製造したフィルム上に系外で塗布する、オフラインコーティングを採用してもよい。製膜と同時に塗布が可能であるため、製造が安価に対応可能であることから、インラインコーティングが好ましく用いられる。

　インラインコーティングについては、以下に限定するものではないが、例えば、逐次二軸延伸においては、特に縦延伸が終了した横延伸前にコーティング処理を施すことができる。インラインコーティングによりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、製膜と同時に塗布が可能になると共に、延伸後のポリエステルフィルムの熱処理工程で、塗布層を高温で処理することができるため、塗布層上に形成され得る各種の表面機能層との密着性や耐湿熱性等の性能を向上させることができる。また、延伸前にコーティングを行う場合は、塗布層の厚みを延伸倍率により変化させることもでき、オフラインコーティングに比べ、薄膜コーティングをより容易に行うことができる。すなわち、インラインコーティング、特に延伸前のコーティングにより、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造することができる。

　本発明においては、ポリエステルフィルムの一方の面に、ポリエステル樹脂、酸化チタン、およびエポキシ化合物を含有する塗布液から形成された第１塗布層を有し、他方の面に金属酸化物および２種類以上の架橋剤を含有する塗布液から形成され、絶対反射率が波長４００～８００ｎｍの範囲で極小値を一つ有し、当該極小値における絶対反射率が４．０％以上である第２塗布層を有することを必須の要件とするものである。

　第１塗布層は、ハードコート層等の表面機能層を設けた場合に視認性を向上させるため、ハードコート層等の表面機能層の屈折率と塗布層の屈折率を、二軸延伸ポリエステルフィルムの屈折率と同等付近になるよう設計したものである。これらの屈折率が同等付近になることで、それぞれの界面での反射が抑えられるため、干渉ムラが非常に高度に軽減される。

　さらに近年では、スマートフォン等の増加により、タッチパネルの中でも透明電極をパターニングした静電容量方式のタッチパネルが主流となりつつあり、画面の視認性をより向上させるために、干渉ムラ軽減とともに透明電極のパターニングを不可視化する加工の必要性が高まってきており、こうした加工の際には、基材のポリエステルフィルム上に屈折率の高い表面機能層が設けられることが多い。本発明者らは、塗布層の屈折率をハードコート層等の表面機能層、および基材の二軸延伸ポリエステルフィルムの屈折率と同等付近にすることで、干渉ムラを軽減するとともに、透明電極のパターニングを不可視化する加工にも有効に使用できると考えた。

　第１塗布層の形成に使用されるポリエステル樹脂とは、主な構成成分として例えば、下記のような多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物からなる。

　すなわち、多価カルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、フタル酸、４，４’－ジフェニルジカルボン酸、２，５－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸および、２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、２－カリウムスルホテレフタル酸、５－ソジウムスルホイソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、グルタル酸、コハク酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ－ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩およびそれらのエステル形成性誘導体などを用いることができ、中でも第１塗布層を高屈折率化し、ハードコート層などの表面機能層、および基材のポリエステルフィルムと同等付近に調整することで干渉ムラを高度に抑制できるため、ナフタレン構造を有することが好ましい。

　多価ヒドロキシ化合物としては、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、１，３－プロピレングリコール、１，３－プロパンジオ－ル、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオ－ル、２－メチル－１，５－ペンタンジオ－ル、ネオペンチルグリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノ－ル、ｐ－キシリレングリコ－ル、エチレングリコール変性ビスフェノールＡ、ジエチレングリコール変性ビスフェノールＡ、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコ－ル、ポリプロピレングリコ－ル、ポリテトラメチレングリコ－ル、ポリテトラメチレンオキシドグリコ－ル、ジメチロ－ルプロピオン酸、グリセリン、トリメチロ－ルプロパン、ジメチロ－ルエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロ－ルプロピオン酸カリウムなどを用いることができる。これらの多価カルボン酸と多価ヒドロキシ化合物の中からそれぞれ適宜１つ以上を選択し、常法の重縮合反応によりポリエステル樹脂を合成すればよい。

　第１塗布層の形成には、表面機能層との密着性や、塗布面状、表面機能層を形成したときの視認性や透明性を向上させるために、上述したポリエステル樹脂以外のポリマーを併用することも可能である。

　ポリマーの具体例としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル（ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体等）、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンイミン、メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、でんぷん類等が挙げられる。

　第１塗布層の形成に使用される酸化チタン粒子は、主に塗布層の屈折率調整のために使用するものである。酸化チタンは高い屈折率をもち、フィルムの透明性を損なうことなく塗布層の屈折率を上げることができる。特に塗布層中に使用する樹脂の屈折率が低いために、高い屈折率を有する酸化チタン粒子を使用することが好ましく、ポリエステルフィルムと同等付近の屈折率を有する塗布層を得るためには、屈折率として１．８以上のものを使用することが好ましい。必要に応じて、２種類以上の酸化チタン粒子を併用してもよい。

　酸化チタン粒子の平均粒径は透明性の観点から、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下、特に好ましくは１５ｎｍ以下である。また、滑り性やブロッキングを改良するために、第１塗布層の形成に酸化チタン粒子以外の粒子を併用してもよい。

　第１塗布層の形成に使用されるエポキシ化合物としては、例えば、エピクロロヒドリンとエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、ポリグリセリン、ビスフェノールＡ等の水酸基やアミノ基との縮合物が挙げられ、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等がある。ポリエポキシ化合物としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ジエポキシ化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、モノエポキシ化合物としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、グリシジルアミン化合物としてはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノ）シクロヘキサン等、およびこれらの反応物が挙げられる。これらは単独でも２種以上の併用であってもよい。

　さらに、本発明の要旨を損なわない範囲において、第１塗布層の形成にエポキシ化合物以外の各種の架橋剤を併用することも可能である。エポキシ化合物以外の架橋剤としては公知の架橋剤が使用でき、オキサゾリン化合物やイソシアネート系化合物、メラミン化合物、カルボジイミド系化合物等、シランカップリング化合物等が挙げられ、中でもオキサゾリン化合物やイソシアネート系化合物を併用することにより、密着性の向上が期待できる。

　オキサゾリン化合物としては、特にオキサゾリン基を含有する重合体が好ましく、付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、２－ビニル－２－オキサゾリン、２－ビニル－４－メチル－２－オキサゾリン、２－ビニル－５－メチル－２－オキサゾリン、２－イソプロペニル－２－オキサゾリン、２－イソプロペニル－４－メチル－２－オキサゾリン、２－イソプロペニル－５－エチル－２－オキサゾリン等を挙げることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも２－イソプロペニル－２－オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば制限なく、例えばアルキル（メタ）アクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、２－エチルヘキシル基、シクロヘキシル基）等の（メタ）アクリル酸エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸およびその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等の不飽和カルボン酸類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジアルキル（メタ）アクリルアミド、（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、２－エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）等の不飽和アミド類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；エチレン、プロピレン等のα－オレフィン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα，β－不飽和モノマー類；スチレン、α－メチルスチレン、等のα，β－不飽和芳香族モノマー等を挙げることができ、これらの１種または２種以上のモノマーを使用することができる。

　イソシアネート系化合物とは、イソシアネート、あるいはブロックイソシアネートに代表されるイソシアネート誘導体構造を有する化合物のことである。イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、α，α，α’，α’－テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族イソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族イソシアネート等が例示される。また、これらイソシアネートのビュレット化物、イソシアヌレート化物、ウレトジオン化物、カルボジイミド変性体等の重合体や誘導体も挙げられる。これらは単独で用いても、複数種併用してもよい。上記イソシアネートの中でも、紫外線による黄変を避けるために、芳香族イソシアネートよりも脂肪族イソシアネートまたは脂環族イソシアネートがより好ましい。

　ブロックイソシアネートの状態で使用する場合、そのブロック剤としては、例えば重亜硫酸塩類、フェノール、クレゾール、エチルフェノールなどのフェノール系化合物、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール、ベンジルアルコール、メタノール、エタノールなどのアルコール系化合物、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトンなどの活性メチレン系化合物、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのメルカプタン系化合物、ε‐カプロラクタム、δ‐バレロラクタムなどのラクタム系化合物、ジフェニルアニリン、アニリン、エチレンイミンなどのアミン系化合物、アセトアニリド、酢酸アミドの酸アミド化合物、ホルムアルデヒド、アセトアルドオキシム、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム系化合物が挙げられ、これらは単独でも２種以上の併用であってもよい。

　また、イソシアネート系化合物は単体で用いてもよいし、各種ポリマーとの混合物や結合物として用いてもよい。イソシアネート系化合物の分散性や架橋性を向上させるという意味において、ポリエステル樹脂やウレタン樹脂との混合物や結合物を使用することが好ましい。

　メラミン化合物としては、例えば、アルキロール化メラミン誘導体、アルキロール化メラミン誘導体にアルコールを反応させて部分的あるいは完全にエーテル化した化合物、およびこれらの混合物を用いることができる。エーテル化に用いるアルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、イソブタノール等が好適に用いられる。また、メラミン化合物としては、単量体、あるいは２量体以上の多量体のいずれであってもよく、あるいはこれらの混合物を用いてもよい。さらに、メラミンの一部に尿素等を共縮合したものも使用できるし、メラミン化合物の反応性を上げるために触媒を使用することも可能である。

　カルボジイミド系化合物は、特に、密着性等の向上のために用いられる。カルボジイミド化合物としては、分子内に２つ以上のカルボジイミドやカルボジイミド誘導体構造を有するポリカルボジイミド化合物が好ましい。

　カルボジイミド系化合物は従来公知の技術で合成することができ、一般的には、ジイソシアネート化合物の縮合反応が用いられる。ジイソシアネート化合物としては、特に限定されるものではなく、芳香族系、脂肪族系いずれも使用することができ、具体的には、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどが挙げられる。

　さらに本発明の効果を消失させない範囲において、ポリカルボジイミド系化合物の水溶性や水分散性を向上するために、界面活性剤を添加することや、ポリアルキレンオキシド、ジアルキルアミノアルコールの四級アンモニウム塩、ヒドロキシアルキルスルホン酸塩などの親水性モノマーを添加して用いてもよい。

　なお、これら架橋剤は、乾燥過程や、製膜過程において、反応させて塗布層の性能を向上させる設計で用いている。できあがった塗布層中には、これら架橋剤の未反応物、反応後の化合物、あるいはそれらの混合物が存在しているものと推測できる。

　第２塗布層は、ハードコート層などの種々の表面機能層と良好な密着性を有し、また表面機能層を形成した際に、外光による干渉ムラを抑制するために屈折率が調整されたものであり、その屈折率は基材のポリエステルフィルムとハードコート層等の表面機能層の相乗平均付近に設計したものである。

　第２塗布層の形成に使用される金属酸化物は、主に塗布層の屈折率調整のために使用するものである。特に塗布層中に使用する樹脂の屈折率が低いために、高い屈折率を有する金属酸化物を使用することが好ましく、屈折率として１．７以上のものを使用することが好ましい。金属酸化物の具体例としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化亜鉛、アンチモンチンオキサイド、インジウムチンオキサイド等が挙げられ、これらを単独で使用しても良いし、２種類以上使用してもよい。これらの中でも酸化ジルコニウムや酸化チタンがより好適に用いられる。

　金属酸化物は、使用形態によっては密着性が低下する懸念があるため、粒子の状態で使用することが好ましく、また、その平均粒径は透明性の観点から、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。

　２種類以上の架橋剤は塗布層上に設けられるハードコート層等の表面機能層との密着性を向上させるために使用される。本発明者らは、１種類の架橋剤でも密着性を向上させることができることを見いだしたが、２種類以上の架橋剤を併用することにより、さらに密着性を向上させることができ、特に湿熱試験後の密着性を改善できることを見いだした。

　架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物、イソシアネート系化合物、カルボジイミド系化合物、シランカップリング化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の中でも密着性が良好であるという観点において、特にオキサゾリン化合物あるいはエポキシ化合物を使用することが好ましく、さらに好ましくはオキサゾリン化合物とエポキシ化合物を併用することである。

　第２塗布層の形成に使用されるエポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物、イソシアネート系化合物、カルボジイミド系化合物は、第１塗布層で説明した各種の化合物を使用することが可能である。

　第２塗布層の形成には、塗布外観の向上、塗布面上にハードコート層等の種々の表面機能層が積層されたときの干渉ムラの低減、透明性や密着性の向上等のために各種のポリマーを併用することが好ましい。

　ポリマーの具体例としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル（ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体等）、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンイミン、メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、でんぷん類等が挙げられる。これらの中でもハードコート層等の表面機能層との密着性向上、塗布外観向上の観点から、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂を使用することが好ましい。また、分子内にベンゼン環等の芳香族化合物を数多く含有させることができ、それにより屈折率を高くすることができるという観点から、特にポリエステル樹脂が好ましい。

　また、さらに塗布層の屈折率をより調整しやすくするため、下記式で例示されるような、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ナフタセン、ベンゾ［ａ］アントラセン、ベンゾ［ａ］フェナントレン、ピレン、ベンゾ［ｃ］フェナントレン、ペリレン等の縮合多環式芳香族構造を有する化合物を併用することが好ましい。

　ポリエステルフィルム上への塗布性を考慮すると、縮合多環式芳香族構造を有する化合物は、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の高分子化合物が好ましい。特にポリエステル樹脂にはより多くの縮合多環式芳香族構造を導入することができるためより好ましい。

　縮合多環式芳香族構造をポリエステル樹脂に組み込む方法としては、例えば、縮合多環式芳香族構造に置換基として水酸基を２つあるいはそれ以上導入してジオール成分あるいは多価水酸基成分とするか、あるいはカルボン酸基を２つあるいはそれ以上導入してジカルボン酸成分あるいは多価カルボン酸成分として作成する方法がある。

　塗布フィルム製造工程において、着色がしにくいという点で、塗布層に含有する縮合多環式芳香族構造はナフタレン構造を有する化合物が好ましい。また、塗布層上に形成される各種表面機能層との密着性や、透明性が良好であるという点で、ポリエステル構成成分としてナフタレン構造を組み込んだ樹脂が好適に用いられる。当該ナフタレン構造としては、代表的なものとして、１，５－ナフタレンジカルボン酸および２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸が挙げられる。

　なお、縮合多環式芳香族構造には、水酸基やカルボン酸基以外にも、硫黄元素を含有する置換基、フェニル基等の芳香族置換基、ハロゲン元素基等を導入することにより、屈折率の向上が期待でき、塗布性や密着性の観点から、アルキル基、エステル基、アミド基、スルホン酸基、カルボン酸基、水酸基等の置換基を導入してもよい。

　また、第２塗布層中には、塗布層の固着性、滑り性改良を目的として上述の金属酸化物以外の粒子を使用してもよい。その平均粒径はフィルムの透明性の観点から通常１．０μｍ以下の範囲であり、好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．２μｍ以下の範囲である。粒子の具体例としてはシリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、有機粒子等が挙げられる。

　さらに本発明の主旨を損なわない範囲において、第１塗布層および第２塗布層には必要に応じて消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、発泡剤、染料、顔料等が含有されてもよい。

　第１塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対するポリエステル樹脂の割合は、通常１０～９０重量％の範囲、好ましくは４０～８５重量％の範囲である。この範囲で使用することにより、塗布層の屈折率の調整が容易になり、ハードコート層など表面機能層を設けた場合に干渉ムラを抑制しやすくなる。また、この範囲以外で使用した場合、表面機能層との密着性が低下する場合がある。

　第１塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対する酸化チタン粒子の割合は、通常５～６０重量％、好ましくは８～５０重量％、さらに好ましくは２０～４０重量％の範囲である。酸化チタン粒子の含量が５重量％未満の場合は塗布層の屈折率が高くならないことで干渉ムラが軽減できない場合があり、６０重量％を超える場合は塗布層のヘーズが悪化する場合がある。

　第１塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対するエポキシ化合物の割合は、通常１～５０重量％の範囲、好ましくは５～３０重量％の範囲、さらに好ましくは１０～２０重量％の範囲である。１重量％未満の場合はハードコート層等の表面機能層との密着性が低下する可能性が懸念され、５０重量％を超える場合は塗布層のヘーズが悪化する場合がある。

　第２塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対する金属酸化物の割合は、通常３～７０重量％の範囲、好ましくは５～５０重量％の範囲、さらに好ましくは５～４０重量％の範囲、特に好ましくは８～３０重量％の範囲である。金属酸化物の量が３重量％未満の場合は塗布層の屈折率を十分に高くすることができないことにより、干渉ムラが軽減されない場合があり、７０重量％を超える場合は、塗布層の透明性が悪化する場合がある。

　第２塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対する２種類以上の架橋剤の割合は、通常２～８０重量％の範囲、好ましくは４～６０重量％の範囲、さらに好ましくは１０～４０重量％の範囲である。これらの範囲より外れる場合は、ハードコート層等の表面機能層との密着性が低下する可能性が懸念される場合、塗布外観が悪化する場合、ハードコート層等の表面機能層形成後の干渉ムラにより、視認性が良くない場合がある。

　架橋剤としてオキサゾリン化合物を使用する場合、第２塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対するオキサゾリン化合物の割合は、通常１～５０重量％、好ましくは１～３０重量％、さらに好ましくは３～２０重量％である。１重量％未満の場合、ハードコート層等の表面機能層との密着性が低下する可能性が懸念され、５０重量％を超える場合、塗布層の屈折率が低くなることにより、ハードコート層等の表面機能層形成後の干渉ムラにより、視認性が良くない場合がある。

　架橋剤としてエポキシ化合物を使用する場合、第２塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対するエポキシ化合物の割合は、通常１～５０重量％、好ましくは３～３０重量％、さらに好ましくは５～２０重量％である。これらの範囲より外れる場合は、ハードコート層等の表面機能層との密着性が低下する可能性が懸念される場合や、塗布外観が悪化する場合がある。

　縮合多環式芳香族構造を有する化合物中の縮合多環式芳香族構造の占める割合は、通常５～８０重量％、好ましくは１０～６０重量％である。また、縮合多環式芳香族構造を有する化合物を使用する場合、塗布液中の全不揮発成分に対するその割合は、通常５～８０重量％、好ましくは５～７０重量％、さらに好ましくは１０～５０重量％である。これらの範囲で使用することにより、塗布層の屈折率の調整が容易となり、ハードコート層等の表面機能層を形成後の干渉ムラの軽減がしやすくなる。なお、縮合多環式芳香族構造の割合は、例えば、適当な溶剤または温水で塗布層を溶解抽出し、クロマトグラフィーで分取し、ＮＭＲやＩＲで構造を解析、さらに熱分解ＧＣ－ＭＳ（ガスクロマトグラフィー質量分析）や光学的な分析等で解析することにより求めることができる。

　塗布層中の各種成分の分析は、例えば、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ、ＥＳＣＡ、蛍光Ｘ線等の分析によって行うことができる。

　インラインコーティングによって塗布層を設ける場合は、上述の一連の化合物を水溶液または水分散体として、固形分濃度が０．１～５０重量％程度を目安に調整した塗布液をポリエステルフィルム上に塗布する要領にて塗布フィルムを製造するのが好ましい。また、本発明の主旨を損なわない範囲において、水への分散性改良、造膜性改良等を目的として、塗布液中には少量の有機溶剤を含有していてもよい。有機溶剤は１種類のみでもよく、適宜、２種類以上を使用してもよい。

　第１塗布層の膜厚は、通常０．０１～０．２０μｍ、好ましくは０．０２～０．１０μｍの範囲である。塗布量が０．０１μｍ未満の場合は十分な密着性が得られない可能性があり、０．２０μｍを超える場合は、外観や透明性、フィルムのブロッキング性が悪化する可能性がある。

　第２塗布層の塗布厚みは、通常０．０４～０．２０μｍ、好ましくは０．０７～０．１５μｍの範囲である。膜厚が上記範囲より外れる場合は、表面機能層を積層後の干渉ムラにより、視認性が悪化する場合がある。

　本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。

　ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の乾燥および硬化条件に関しては、特に限定されるわけではなく、例えば、オフラインコーティングにより塗布層を設ける場合、通常、８０～２００℃で３～４０秒間、好ましくは１００～１８０℃で３～４０秒間を目安として熱処理を行うのが良い。

　一方、インラインコーティングにより塗布層を設ける場合、通常、７０～２８０℃で３～２００秒間を目安として熱処理を行うのが良い。

　また、オフラインコーティングあるいはインラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。本発明の塗布フィルムを構成するポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。

　第１塗布層は干渉ムラ等をより高度に抑制するために、屈折率を基材のポリエステルフィルムと同等付近（１．６０～１．７０）に調整したものである。塗布層の屈折率と塗布層の反射率は密接な関係がある。第１塗布層の絶対反射率は、横軸に波長、縦軸に反射率を示すグラフを描き、その反射率の最小値が４００～８００ｎｍの任意の波長において、通常５．５～６．５％、好ましくは５．６～６．４％、さらに好ましくは５．７～６．３％である。反射率がこの範囲から外れた場合、第１塗布層上に設けられるハードコート層等の表面機能層との屈折率（１．６０～１．７０）との差が大きくなるため、干渉ムラが強くなり、視認性が低下する場合がある。

　第２塗布層は外光反射による干渉ムラの発生を抑制するために屈折率の調整がなされたものであり、その屈折率は基材のポリエステルフィルム（１．６０～１．７０）とハードコート層等の表面機能層の屈折率（１．４５～１．６５）の相乗平均付近、具体的には、屈折率が１．５５～１．６０の範囲になるよう設計したものである。第２塗布層の絶対反射率は、横軸に波長、縦軸に反射率を示すグラフを描き、反射率の極小値が波長４００～８００ｎｍの範囲に１つである必要があり、その極小値は、４．０%以上である。好ましくは波長５００～７００ｎｍの範囲に極小値を１つ有する。また、その極小値の値は、好ましくは４．０～６．５％、より好ましくは４．５～６．２％である。波長４００～８００ｎｍの範囲にある極小値が１つではない場合、また絶対反射率の極小値が上記の値を外れる場合は、第２塗布層上に設けられるハードコート層等の表面機能層を形成後に干渉ムラが発生し、フィルムの視認性が低下する場合がある。

　本発明の塗布フィルムには、塗布層の上にハードコート層等の表面機能層を設けるのが一般的である。ハードコート層に使用される材料としては、特に限定されないが、例えば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレート、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物等の硬化物が挙げられる。これらのうち生産性および硬度の両立の観点より、紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを含む組成物の重合硬化物であることが特に好ましい。

　紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを含む組成物としては特に限定されるものではない。例えば、公知の紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを１種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート剤として市販されているもの、あるいはこれら以外に本実施形態の目的を損なわない範囲において、その他の成分をさらに添加したものを用いることができる。

　紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートとしては、特に限定されるものではないが、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ビス（３－アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールの（メタ）アクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、そしてポリウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを含む組成物に含まれるその他の成分は特に限定されるものではない。例えば、無機または有機の微粒子、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤およびレベリング剤等が挙げられる。また、ウェットコーティング法において製膜後乾燥させる場合には、任意の量の溶媒を添加することができる。

　ハードコート層の形成方法は、有機材料を用いた場合にはロールコート法、ダイコート法等の一般的なウェットコート法が採用される。形成されたハードコート層には必要に応じて加熱や紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射を施し、硬化反応を行うことができる。

　以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない範囲において、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法および評価方法は次の通りである。

（１）ポリエステルの固有粘度の測定：
　ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル１ｇを精秤し、フェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌを加えて溶解させ、３０℃で測定した。

（２）平均粒径の測定：
　ＴＥＭ（Ｈｉｔａｃｈｉ社製「Ｈ－７６５０」加速電圧１００Ｖ）を使用して塗布層を観察し、粒子１０個の粒径の平均値を平均粒径とした。

（３）塗布層の膜厚測定：
　塗布層の表面をＲｕＯ_４で染色し、エポキシ樹脂中に包埋した。その後、超薄切片法により作成した切片をＲｕＯ_４染色し、塗布層断面をＴＥＭ（Ｈｉｔａｃｈｉ社製「Ｈ－７６５０」加速電圧１００Ｖ）を用いて測定した。

（４）ポリエステルフィルムにおける一方の塗布層表面からの絶対反射率の測定：
　あらかじめ、ポリエステルフィルムの測定裏面に黒テープ（ニチバン株式会社製「ビニールテープＶＴ－５０」）を貼り、分光光度計（日本分光株式会社製、紫外可視分光光度計Ｖ－５７０、および自動絶対反射測定装置「ＡＲＭ－５００Ｎ」）を使用して同期モード、入射角５°、Ｎ偏光、レスポンスＦａｓｔ、データ取区間隔１．０ｎｍ、バンド幅１０ｎｍ、走査速度１０００ｎｍ／ｍｉｎで塗布層面を波長範囲４００～８００ｎｍの絶対反射率を測定した。

（５）第１塗布層の干渉ムラの評価：
　ポリエステルフィルムの第１塗布層側に、ジペンタエリスリトールアクリレート６０重量部、１，６－ヘキサンジオールアクリレート１５重量部、五酸化アンチモン２５重量部、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」チバスペシャリティケミカル製）１重量部、メチルエチルケトン２００重量部の混合塗液を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ポリエステルフィルムと同等の屈折率を有するハードコート層を形成した。得られたフィルムを３波長域型蛍光灯下にて、目視で第１塗布層側の干渉ムラを観察し、干渉ムラが確認できないものをＡ、薄くまばらな干渉ムラが確認されるものをＢ、薄いが線状の干渉ムラが確認できるものをＣ、明瞭な干渉ムラが確認されるものをＤとした。

（６）第１塗布層の密着性の評価：
　密着性の評価を行うために、上記（６）の評価で使用したハードコート液から五酸化アンチモンを除いた材料で検討した。すなわち、ジペンタエリスリトールアクリレート８０重量部、１，６－ヘキサンジオールアクリレート２０重量部、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」チバスペシャリティケミカル製）５重量部、メチルエチルケトン２００重量部の混合塗液を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し、紫外線を照射して硬化させハードコート層を形成した。得られたフィルムに対して、６０℃、９０％ＲＨの環境下で１００時間後、１０×１０のクロスカットをして、１８ｍｍ幅のテープ（ニチバン株式会社製セロテープ（登録商標）「ＣＴ－１８」を貼り付け、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後の剥離面を観察し、剥離面積が３％未満ならばＡ、３％以上１０％未満ならＢ、１０％以上５０％未満ならＣ、５０％以上ならＤとした。）

（７）第２塗布層の干渉ムラの評価：
　ポリエステルフィルムの第２塗布層側に、ジペンタエリスリトールアクリレート７２重量部、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート１８重量部、五酸化アンチモン１０重量部、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」チバスペシャリティケミカル製）１重量部、メチルエチルケトン２００重量部の混合塗液を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。得られたフィルムを３波長域型蛍光灯下にて、目視で第２塗布層側の干渉ムラを観察し、干渉ムラが確認できないものをＡ、薄くまばらな干渉ムラが確認されるものをＢ、薄いが線状の干渉ムラが確認できるものをＣ、明瞭な干渉ムラが確認されるものをＤとした。

（８）第２塗布層の密着性の評価：
　密着性の評価を行うために、上記（８）の評価で使用したハードコート液から五酸化アンチモンを除いた材料で検討した。すなわち、ジペンタエリスリトールアクリレート７２重量部、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート１８重量部、五酸化アンチモン１０重量部、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」チバスペシャリティケミカル製）１重量部、メチルエチルケトン２００重量部の混合塗液を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し、紫外線を照射して硬化させハードコート層を形成した。得られたフィルムに対して、６０℃、９０％ＲＨの環境下で１００時間後、１０×１０のクロスカットをして、１８ｍｍ幅のテープ（ニチバン株式会社製セロテープ（登録商標）「ＣＴ－１８」を貼り付け、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後の剥離面を観察し、剥離面積が３％未満ならばＡ、３％以上１０％未満ならＢ、１０％以上５０％未満ならＣ、５０％以上ならＤとした。）

　実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
＜ポリエステル（Ａ）の製造方法＞
　テレフタル酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部、エチルアシッドフォスフェートを生成ポリエステルに対して３０ｐｐｍ、触媒として酢酸マグネシウム・四水和物を生成ポリエステルに対して１００ｐｐｍを窒素雰囲気下、２６０℃でエステル化反応をさせた。引き続いて、テトラブチルチタネートを生成ポリエステルに対して５０ｐｐｍ添加し、２時間３０分かけて２８０℃まで昇温すると共に、絶対圧力０．３ｋＰａまで減圧し、さらに８０分、溶融重縮合させ、極限粘度０．６３のポリエステル（Ａ）を得た。

＜ポリエステル（Ｂ）の製造方法＞
　テレフタル酸ジメチル１００重量部、エチレングリコール６０重量部、触媒として酢酸マグネシウム・四水和物を生成ポリエステルに対して９００ｐｐｍを窒素雰囲気下、２２５℃でエステル化反応をさせた。引き続いて、正リン酸を生成ポリエステルに対して３５００ｐｐｍ、二酸化ゲルマニウムを生成ポリエステルに対して７０ｐｐｍ添加し、２時間３０分かけて２８０℃まで昇温すると共に、絶対圧力０．４ｋＰａまで減圧し、さらに８５分、溶融重縮合させ、極限粘度０．６４のポリエステル（Ｂ）を得た。

＜ポリエステル（Ｃ）の製造方法＞
　テレフタル酸ジメチル１００重量部とエチレングリコール６０重量部とジエチレングリコール２重量部とを出発原料とし、触媒として三酸化アンチモンを反応器にとり、反応開始温度を１５０℃とし、メタノールの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、３時間後に２３０℃とした。４時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた後、４時間重縮合反応を行った。すなわち、温度を２３０℃から徐々に昇温し２８０℃とした。一方、圧力は常圧より徐々に減じ、最終的には０．３ｍｍＨｇとした。反応開始後、反応槽の攪拌動力の変化により、極限粘度０．６３に相当する時点で反応を停止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させた。得られたチップをあらかじめ１６０℃で予備結晶化させた後、温度２２０℃の窒素雰囲気下で固相重合し、極限粘度０．８５のポリエステル（Ｃ）を得た。

＜ポリエステル（Ｄ）の製造方法＞
　ポリエステル（Ａ）の製造方法において、溶融重合前に平均粒径２μｍのシリカ粒子を０．３重量部添加する以外はポリエステル（Ａ）の製造方法と同様の方法を用いてポリエステル（Ｄ）を得た。

　塗布層を構成する化合物例は以下の通りである。
（化合物例）
・ポリエステル樹脂（ＥＩ）
　下記の組成で共重合したポリエステル樹脂の水分散体
　モノマー組成：（酸成分）テレフタル酸／イソフタル酸／５－ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／１，４－ブタンジオール／ジエチレングリコール＝５６／４０／４／／７０／２０／１０（ｍｏｌ％）
・縮合多環式芳香族構造を有するポリエステル樹脂（ＥII）
　下記の組成で共重合したポリエステル樹脂の水分散体
　モノマー組成：（酸成分）２，６－ナフタレンジカルボン酸／５－ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／ジエチレングリコール＝９２／８／／８０／２０（ｍｏｌ％）
・アクリル樹脂：（ＡＩ）
　下記の組成で重合したアクリル樹脂の水分散体
　モノマー組成：エチルアクリレート／ｎ－ブチルアクリレート／メチルメタクリレート／Ｎ－メチロールアクリルアミド／アクリル酸＝６５／２１／１０／２／２（重量％）の乳化重合体（乳化剤：アニオン系界面活性剤）

・ウレタン樹脂（ＵＩ）
　カルボン酸水分散型ポリエステルポリウレタン樹脂である「ハイドランＡＰ－４０」（ＤＩＣ株式会社製）
・エポキシ化合物（ＣＩＡ）
　ポリグリセロールポリグリシジルエーテルである「デナコールＥＸ－５２１」（ナガセケムテックス株式会社製）
・エポキシ化合物（ＣＩＢ）
　エポキシ樹脂である「デナコールＥＸ－１４１０」（ナガセケムテックス株式会社製）
・オキサゾリン化合物（ＣIIＡ）
　オキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリルポリマー「エポクロスＷＳ－５００」（株式会社日本触媒製、１－メトキシ－２－プロパノール溶剤約３８％を含有するタイプ）
・オキサゾリン化合物（ＣIIＢ）
　オキサゾリン基およびポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリルポリマー「エポクロスＷＳ－７００」（株式会社日本触媒製、ＶＯＣフリータイプ）

・イソシアネート化合物（ＣIII）
　ビスフェノールＡのエチレンオキサイド２モル付加物とマレイン酸からなる平均分子量１０００のポリエステル２００部と、ヘキサメチレンジイソシアネート３３．６部からなるポリイソシアネートのイソシアネート基を重亜硫酸ナトリウム８４部でブロックして得られる、ポリエステル樹脂含有ブロックイソシアネート系化合物。
・ヘキサメトキシメチルメラミン（ＣIV）
・平均粒径１５ｎｍの酸化チタン粒子（ＦＩ）
・平均粒径１５ｎｍの酸化ジルコニウム粒子（ＦII）
・平均粒径０．０７μｍのシリカ粒子（ＦIII）
・平均粒径０．１５μｍのシリカ粒子（ＦIV）

実施例１：
　ポリエステル（Ａ）、（Ｂ）をそれぞれ９５％、５％の割合で混合した混合原料を中間層の原料とし、ポリエステル（Ｃ）、（Ｄ）をそれぞれ９０％、１０％の割合で混合した混合原料を最外層（表層）の原料として、２台の押出機に各々を供給し、各々２９０℃で溶融した後、４０℃に設定した冷却ロール上に、２種３層（表層／中間層／表層＝１／３８／１の吐出量）の層構成で共押出し冷却固化させて未延伸シートを得た。次いで、ロール周速差を利用してフィルム温度８５℃で縦方向に３．４倍延伸した後、この縦延伸フィルムの片面に、下記表１に示す塗布液Ａ１を塗布し（第１塗布層の形成）、反対面に下記表２に示す塗布液Ｂ１を塗布し（第２塗布層の形成）、テンターに導き、横方向に１２０℃で４．０倍延伸し、２２５℃で熱処理を行ったのち、横方向に２％弛緩し、膜厚（乾燥後）が第１塗布層、第２塗布層ともに０．１０μｍの塗布層を有する厚さ１２５μｍのポリエステルフィルムを得た。

　得られたポリエステルフィルムの絶対反射率を測定したところ、第１塗布層の４００～８００ｎｍの任意の波長における最低反射率は５．５％であり、ハードコート層を積層後のフィルムには明瞭な干渉ムラはなく、密着性も良好であった。また、第２塗布層の絶対反射率を測定したところ、極小値は６００ｎｍで、その反射率は５．０％であり、ハードコート層を形成後のフィルムには明瞭な干渉ムラはなく、また密着性も良好であった。このフィルムの特性を下記表３に示す。

　実施例２～３７：
　実施例１において、塗布剤組成を表１および表２に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして製造し、ポリエステルフィルムを得た。得られたポリエステルフィルムは下記表３および４に示すとおり、第１塗布層および第２塗布層の密着性は良好であり、干渉ムラレベルも良好なものであった。

　比較例１～１１：
　実施例１において、第１塗布層の塗布剤組成を表１および表２に示す塗布剤組成に変更する以外は実施例１と同様にして製造し、ポリエステルフィルムを得た。得られた塗布フィルムは下記表５に示すとおり、干渉ムラが悪いものや、ハードコートに対する密着性が劣るものであった。

　比較例１２：
　実施例１において、第１塗布層を設けなかったこと以外は実施例１と同様にして製造し、ポリエステルフィルムを得た。得られた塗布フィルムは表５に示すとおり、ハードコートに対する密着性が劣るものであった。

　本発明の塗布フィルムは、例えば、液晶やプラズマディスプレイ等の部材である各種の光学用フィルムや、ハードコート層などの表面機能層との密着性および視認性を重視する用途に好適に用いることができる。

Claims

　ポリエステルフィルムの一方の面に、ポリエステル樹脂、酸化チタン、およびエポキシ化合物を含有する塗布液から形成された第１塗布層を有し、他方の面に、金属酸化物および２種類以上の架橋剤を含有する塗布液から形成され、波長４００～８００ｎｍの範囲で極小値を一つ有し、当該極小値における絶対反射率が４．０％以上である第２塗布層を有することを特徴とする塗布フィルム。
　第２塗布層を形成する塗布液中の金属酸化物が酸化ジルコニウムまたは酸化チタンである請求項１に記載の塗布フィルム。
　第２塗布層を形成する塗布液中の架橋剤の１種がオキサゾリン化合物またはエポキシ化合物であるか、架橋剤の２種がオキサゾリン化合物およびエポキシ化合物である請求項１または２に記載の塗布フィルム。
　第１塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対するポリエステル樹脂の割合が１０～９０重量％、酸化チタンの割合が５～６０重量％、エポキシ化合物の割合が１～５０重量％であり、第２塗布層を形成する塗布液中の全不揮発成分に対する金属酸化物の割合が３～７０重量％、２種類以上の架橋剤の割合が２～８０重量％である請求項１～３のいずれかに記載の塗布フィルム。
　第２塗布層を形成する塗布液が更に縮合多環式芳香族構造を有する化合物を含有し、塗布液中の全不揮発成分に対するその割合が５～８０重量％である請求項１～４のいずれかに記載の塗布フィルム。