KR20130085940A

KR20130085940A - 적층 폴리에스테르 필름

Info

Publication number: KR20130085940A
Application number: KR1020127028392A
Authority: KR
Inventors: 타이시 가와사키; 마사토 후지타
Original assignee: 미쓰비시 쥬시 가부시끼가이샤
Priority date: 2010-05-15
Filing date: 2011-04-07
Publication date: 2013-07-30
Also published as: KR101768460B1; EP2572881A4; JP2011240533A; EP2572881A1; US20130089730A1; JP5700953B2; WO2011145405A1; CN102892582A

Abstract

하드 코트층 등에 대하여 양호한 시인성이나 밀착성을 갖는 것이 요구되는 용도, 예컨대 액정 디스플레이의 부재 등의 각종의 광학용 필름이나 성형용 필름에 있어서 적합하게 이용될 수 있는 적층 폴리에스테르 필름을 제공한다.
폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지, 금속 산화물 및 방향족 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포액으로 형성된 도포층을 갖는 적층 폴리에스테르 필름.

Description

적층 폴리에스테르 필름{Laminated polyester film}

본 발명은, 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이고, 예컨대, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 패널, 유기 엘렉트로루미네센스 등, 외광 반사에 의한 간섭 얼룩의 감소가 필요한 적층 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

근년, 폴리에스테르 필름은, 각종의 광학용 필름이나 성형용 필름에 많이 사용되며, 액정이나 플라즈마 디스플레이 등의 부재인 터치 패널, 반사방지 필름, 프리즘 시트, 광확산 시트, 전자파 실드 필름이나, 인몰드 전사 필름, 인몰드 라벨 필름 등의 용도에 사용되고 있다. 이들 부재에 사용되는 베이스 필름에는 우수한 투명성, 시인성이 요구된다.

이들 필름에는 커얼 방지나 상처 방지, 표면경도 등의 성능을 향상시키기 위하여, 하드 코트 가공되는 일이 많다. 또, 기재로서는, 투명성, 기계특성이 우수한 폴리에스테르 필름이 일반적으로 사용된다. 폴리에스테르 필름과 하드 코트층과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 중간층으로서 접착용이성의 도포층이 제공되는 경우가 일반적이다. 그 때문에, 폴리에스테르 필름, 접착용이성의 도포층, 하드 코트층의 3층의 굴절률을 고려하지 않으면 간섭 얼룩이 발생하여 버린다.

간섭 얼룩이 있는 필름을 터치 패널 등의 디스플레이에 사용하면, 시인성이 나쁜 것으로 되어 버려, 사용하기 어려운 것으로 되어 버린다. 그 때문에 간섭 얼룩 대책을 하는 것이 요구되고 있다. 일반적으로, 간섭 얼룩을 경감시키기 위한 도포층의 굴절률은, 기재 폴리에스테르 필름의 굴절률과 하드 코트층의 굴절률의 상승평균 부근으로 생각되며, 이 부근의 굴절률로 조정하는 것이 이상적이다. 폴리에스테르 필름의 굴절률이 높기 때문에, 일반적으로는 도포층의 굴절률을 높게 설계할 필요가 있다.

도포층의 굴절률을 높게 하여, 간섭 얼룩을 개선한 예로서는, 예컨대, 도포층 중에 굴절률이 높은 금속 산화물과 고분자 바인더를 조합하여 도포층 중의 굴절률을 높이는 방법이 있다(특허문헌 1). 또 다른 예로서는, 금속 킬레이트 화합물과 수지를 조합시키는 방법이 있다. 이 경우는, 수용액 중에서의 금속 킬레이트의 불안정성으로부터, 조합에 따라서는 도포액의 안정성이 충분하지 않은 경우가 있고, 장시간의 생산을 행하는 경우, 액 교환 작업의 증가를 초래할 가능성이 있다(특허문헌 2). 이들 방법으로 간섭 얼룩을 개선하기 위해서는, 도포층이 용매에 용해되어서, 도포층의 두께가 변하는 것에 의한 간섭 얼룩의 발생을 억제하기 위하여, 도포층 상에 형성하는 하드 코트층 등의 표면기능층의 형성에서 사용할 용매를 선택할 필요가 있는 경우가 있었다. 그 때문에, 예컨대, 생산성을 향상시키기 위하여 사용하는 속건성 용매, 면상(面狀)을 양화(良化)시키기 위하여 사용하는 레벨링제, 표면기능층에 사용하는 수지의 용해성을 향상시키기 위한 각종의 용매 등을 문제 없이 사용할 수 있는 도포층이 요구되고 있었다.

특허문헌 1: 특개 2004-54161호 공보 특허문헌 2: 특개 2005-97571호 공보

본 발명은, 상기 실정을 감안한 것이고, 그 해결과제는, 외광 반사에 의한 간섭 얼룩이 경감되고, 하드 코트 등의 각종의 표면기능층과의 밀착성이 우수한 적층 폴리에스테르 필름을 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은, 상기 실정을 감안하여, 예의 검토한 결과, 특정의 구성을 포함하는 적층 폴리에스테르 필름을 사용하면, 상술한 문제를 용이하게 해결할 수 있는 것을 발견하고 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 요지는, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지, 금속 산화물 및 방향족 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포액으로부터 형성된 도포층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름에 존재한다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름에 의하면, 하드 코트 등의 각종의 표면기능층을 적층할 때에 외광 반사에 의한 간섭 얼룩이 적고, 각종의 표면기능층과의 밀착성이 우수한 필름을 제공할 수 있어, 그의 공업적 가치는 높다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

본 발명에 있어서의 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름은 단층 구성이어도 다층 구성이어도 좋고, 2층, 3층 구성 이외에도 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 한, 4층 또는 그 이상의 다층이어도 좋고, 특히 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 있어서 사용하는 폴리에스테르는, 호모폴리에스테르이어도 공중합 폴리에스테르이어도 좋다. 호모폴리에스테르로 이루어지는 경우, 방향족 디카복시산과 지방족 글리콜을 중축합시켜 얻을 수 있는 것이 바람직하다. 방향족 디카복시산으로서는, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카복시산 등을 들 수 있고, 지방족 글리콜로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등이 예시된다. 한편, 공중합 폴리에스테르의 디카복시산 성분으로서는, 이소프탈산, 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카복시산, 아디핀산, 세바신산, 옥시카복시산(예컨대, p-옥시벤조산 등) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 4-시클로헥산디메탄올, 네오펜틸글리콜 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다.

또, 필름의 내후성의 향상, 컬러 필터 등에 사용되는 색소의 열화 방지를 위하여, 폴리에스테르 필름 중에 자외선흡수제를 함유시켜도 좋다. 자외선 흡수제는, 자외선흡수 기능을 갖는 화합물이며, 폴리에스테르 필름의 제조 공정에서 부가되는 열에 견딜 수 있는 것이라면 특히 한정되지 않는다.

자외선흡수제로서는, 유기계 자외선흡수제와 무기계 자외선흡수제가 있지만, 투명성의 관점에서는 유기계 자외선흡수제가 바람직하다. 유기계 자외선흡수제로서는, 특히 한정되지 않지만, 예컨대, 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계, 벤조페논계 등을 들 수 있다. 내구성의 관점에서는 환상 이미노에스테르계, 벤조트리아졸계가 더욱 바람직하다. 또, 자외선흡수제를 2종 이상 병용하여 사용하는 것도 가능하다.

본 발명의 필름의 폴리에스테르층 중에는, 이활성의 부여 및 각 공정에서의 상처 발생 방지를 주목적으로 하여, 입자를 배합하여도 좋다. 배합하는 입자의 종류는, 이활성 부여가능한 입자라면 특히 한정되지 않고, 구체예로서는, 예컨대, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 인산칼슘, 인산마그네슘, 카올린, 산화알루미늄, 산화티탄, 유기 입자 등의 입자를 들 수 있다. 또한, 폴리에스테르 제조 공정 중, 촉매 등의 금속 화합물의 일부를 침전, 미분산시킨 석출 입자를 사용할 수 있다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은, 각종의 광학용 필름이나 장식용 필름에 사용하기 위하여, 투명성이나 선명성을 높게 하는 것이 바람직하다. 투명성, 선명성을 높게 하기 위하여, 폴리에스테르 필름 중으로의 입자의 함유량은 적은 편이 바람직하다. 그 때문에, 필름의 표층에만 입자를 함유시킨 다층 구성으로 하든가, 또는, 폴리에스테르 필름 중에는 입자를 함유하지 않는 설계로 하는 것이 바람직하다. 폴리에스테르 필름 중에 입자를 함유하지 않는 설계의 경우는, 필름의 이활성 등의 취급성을 개선하기 위하여, 도포층에 입자를 함유하는 설계로 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름 중에는, 필요에 따라서 종래 공지의 산화방지제, 대전방지제, 열안정제, 윤활제, 염료, 안료 등을 첨가할 수 있다.

본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름의 두께는, 필름으로서 제막가능한 범위이라면 특히 한정되는 것은 아니나, 통상 10~300μｍ, 바람직하게는 25~250μｍ 범위이다.

이어서 본 발명에 있어서의 폴리에스테르 필름의 제조예에 관하여 구체적으로 설명하지만, 이하의 제조예에 전혀 한정되는 것은 아니다. 즉, 앞서 서술한 폴리에스테르 원료를 사용하여, 다이로부터 압출된 용융 시트를 냉각 롤에서 냉각고화시켜 미연신 시트를 얻는 방법이 바람직하다. 이 경우, 시트의 평면성을 향상시키기 위하여 시트와 회전 냉각 드럼과의 밀착성을 높이는 것이 바람직하고, 대전인가밀착법 및/또는 액체도포밀착법이 바람직하게 채용된다. 이어 얻어진 미연신 시트는 이축 방향으로 연신된다. 이 경우, 먼저, 상기 미연신 시트를 일방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기에 의해 연신한다. 연신온도는, 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃이고, 연신배율은 통상 2.5~7배, 바람직하게는 3.0~6배이다. 이어서, 일단째의 연신방향과 직교하는 방향으로 연신하지만, 이 경우, 연신온도는 통상 70~170℃이고, 연신배율은 통상 3.0~7배, 바람직하게는 3.5~6배이다. 그리고, 이어서 180~270℃ 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 2축 배향 필름을 얻는다. 상기 연신에 있어서는, 일방향의 연신을 2단계 이상으로 행하는 방법을 채용할 수 있다. 그 경우, 최종적으로 2방향의 연신 배율이 각각 상기 범위로 되도록 행하는 것이 바람직하다.

또, 본 발명에 있어서는 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름 제조에 관해서는 동시이축 연신법을 채용할 수 있다. 동시이축 연신법은 상기 미연신 시트를 통상 70~120℃, 바람직하게는 80~110℃에서 온도 제어된 상태에서 기계 방향 및 폭방향으로 동시에 연신하여 배향시키는 방법이고, 연신 배율로서는 면적배율로 4~50배, 바람직하게는 7~35배, 또한 바람직하게는 10~25배이다. 그리고, 이어서, 170~250℃의 온도에서 긴장하 또는 30% 이내의 이완하에서 열처리를 행하여, 연신 배향 필름을 얻는다. 상술한 연신 방식을 채용하는 동시이축 연신장치에 관해서는, 스크류 방식, 펜터그래프 방식, 리니어 구동 방식 등, 종래 공지의 연신 방식을 채용할 수 있다.

이어서 본 발명에 있어서의 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 도포층의 형성에 사용하는 도포액에 관하여 설명한다. 도포층에 관해서는, 폴리에스테르 필름의 연신 공정 중에 필름 표면을 처리하는, 인라인코팅에 의해 제공되어도 좋고, 일단 제조한 필름 상에 계외에서 도포하는, 오프라인코팅을 채용하여도 좋고, 양자를 채용하여도 좋다. 제막과 동시에 도포가 가능하기 때문에, 제조가 저가로 대응가능하고, 도포층의 두께를 연신 배율에 따라서 변화시킬 수 있는 점에서 인라인코팅이 바람직하게 사용된다.

인라인코팅에 관해서는, 이하에 한정되는 것은 아니나, 예컨대, 축차이축 연신에 있어서는, 특히 종연신이 종료한 횡연신 전에 코팅 처리를 실시할 수 있다. 인라인코팅에 의해 폴리에스테르 필름 상에 도포층이 제공되는 경우에는, 제막과 동시에 도포가 가능하게 되는 것과 함께 도포층을 고온에서 처리할 수 있어, 폴리에스테르 필름으로서 적합한 필름을 제조할 수 있다.

본 발명의 적층 폴리에스테르 필름은, 폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지, 금속 산화물 및 방향족 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포액으로 형성된 도포층을 갖는 것을 필수의 요건으로 한다.

본 발명에 있어서의 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지는, 주로 도포층의 굴절률의 조정, 및 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성을 개선하기 위하여 사용하는 것이다.

나프탈렌 골격을 폴리에스테르 수지에 조립하는 방법으로서는, 예컨대, 나프탈렌 고리에 치환기로서 수산기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디올 성분 또는 다가 수산기 성분으로 하든가, 또는 카복시산 기를 2개 또는 그 이상 도입하여 디카복시산 성분 또는 다가 카복시산 성분으로서 작성하는 방법이 있다. 폴리에스테르 수지 의 안정성의 관점에서, 나프탈렌 고리에 카복시산 기를 도입하여, 산성분으로 하는 것이 바람직하다. 카복시산 기를 도입한 나프탈렌 골격으로서는, 대표적인 것으로서, 2,6-나프탈렌 디카복시산, 1,5-나프탈렌 디카복시산, 및 2,7-나프탈렌 디카복시산 등을 들 수 있다. 이 중에서도 2,6-나프탈렌 디카복시산이 특히 바람직하다.

또, 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지의 구성 성분으로서, 나프탈렌 골격을 갖지 않는, 예컨대, 하기와 같은 다가 카복시산 및 다가 히드록시 화합물을 병용하여도 좋다. 즉, 다가 카복시산으로서는, 테레프탈산, 이소프탈산, 오르토프탈산, 프탈산, 4,4'-디페닐디카복시산, 1,4-시클로헥산디카복시산, 2-칼륨술포테레프탈산, 5-소듐술포이소프탈산, 아디핀산, 아젤라인산, 세바신산, 도데칸디카복시산, 글루타르산, 숙신산, 트리멜리트산, 트리메식산, 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 무수 프탈산, p-히드록시벤조산, 트리멜리트산 모노칼륨염 및 그들의 에스테르 형성성 유도체 등을 사용할 수 있고, 다가 히드록시 화합물으로서는, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올, p-크실릴렌글리콜, 비스페놀 A-에틸렌글리콜 부가물, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 폴리테트라메틸렌옥시드글리콜, 디메틸올 프로피온산, 글리세린, 트리메틸올프로판, 디메틸올에틸술폰산 나트륨, 디메틸올 프로피온산칼륨 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서의 금속 산화물은, 주로 도포층의 굴절률 조정을 위하여 사용하는 것이다.

특히 도포층 중에 사용하는 수지의 굴절률이 낮기 때문에, 높은 굴절률을 갖는 금속 산화물을 사용하는 것이 바람직하고, 굴절률로서는 1.7 이상의 것을 사용하는 것이 바람직하다. 금속 산화물의 구체예로서는, 예컨대, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화주석, 산화이트륨, 산화안티몬, 산화인듐, 산화아연, 안티몬주석 옥사이드, 인듐주석 옥사이드 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 사용하여도 좋고, 2종류 이상 사용하여도 좋다. 이들 중에서도 산화지르코늄이나 산화티탄이 더욱 적합하게 사용되며, 특히, 내후성의 관점에서 산화지르코늄이 더욱 적합하게 사용된다.

금속 산화물은, 사용형태에 따라서는 밀착성이나 도포액의 안정성이 저하될 우려가 있기 때문에, 입자 상태로 사용하는 것이 바람직하고, 또, 그의 평균 입자경은 투명성과 도포액의 안정성의 관점에서, 바람직하게는 0.001~0.1μｍ 범위이고, 그 중에서도 입자경이 작은 것이 투명성을 유지한채 도포층의 굴절률의 조정을 더욱 용이하게 행할 수 있기 때문에 바람직하다. 단, 후술하는 바와 같이, 이활성 등의 취급성도 부여할 목적으로 사용하는 경우는, 투명성을 손상하지 않는 범위에서, 평균 입자경이 0.1~1.0μｍ 범위인 입자를 소량 사용하는 것도 가능하다.

본 발명에 있어서의 방향족 이소시아네이트 화합물은, 주로 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성을 향상시켜, 더욱 도포층을 강고하게 하여, 표면기능층을 형성할 때에 사용하는 각종 용매에 대한 내구성을 향상시키기 위하여 사용한다. 또한, 본 발명에 있어서는, 굴절률의 조정이 중요하고, 그 때문에, 지방족이나 지환족 이소시아네이트 화합물보다 굴절률이 높게 설계 가능한 방향족 이소시아네이트 화합물을 사용한다.

방향족 이소시아네이트 화합물이라는 것은, 방향족 이소시아네이트 또는 블록화 방향족 이소시아네이트로 대표되는 이소시아네이트 유도체, 및 그들의 이소시아네이트기가 도포층 형성시에 반응한 결과, 생성하는 화합물이다. 방향족 이소시아네이트로서는, 예컨대, 톨릴렌 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 메틸렌디페닐 디이소시아네이트, 페닐렌 디이소시아네이트, 나프탈렌 디이소시아네이트 등을 들 수 있고, 그 중에서도 특히 밀착성의 관점에서 톨릴렌 디이소시아네이트가 바람직하다.

블록 이소시아네이트의 상태로 사용하는 경우, 그의 블록제로서는, 예컨대중아황산염류, 페놀, 크레졸, 에틸페놀 등의 페놀계 화합물, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜, 벤질알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올계 화합물, 말론산 디메틸, 말론산 디에틸, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 아세틸아세톤 등의 활성 메틸렌계 화합물, 부틸머캅탄, 도데실머캅탄 등의 머캅탄계 화합물, ε-카프로락탐, δ-발레로락탐 등의 락탐계 화합물, 디페닐아닐린, 아닐린, 에틸렌이민 등의 아민계 화합물, 아세토아닐리드, 아세트산아미드의 산아미드 화합물, 포름알데히드, 아세토알독심, 아세톤옥심, 메틸에틸케톤옥심, 시클로헥사논옥심 등의 옥심계 화합물을 들 수 있고, 이들은 단독이어도 2종 이상의 병용이어도 좋다.

또, 상술한 방향족 이소시아네이트 또는 블록화 방향족 이소시아네이트로 대표되는 이소시아네이트 유도체는 단체로 사용하여도 좋고, 각종 폴리머와의 혼합물이나 결합물로서 사용하여도 좋다.

본 발명에 있어서의 적층 폴리에스테르 필름에 있어서, 도포면상의 향상, 도포면 상에 하드코트층 등의 각종 표면기능층이 적층될 때의 간섭 얼룩의 저감, 투명성이나 밀착성의 향상 등을 위하여 각종 폴리머를 병용하는 것도 가능하다.

폴리머의 구체예로서는, 나프탈렌 골격을 함유하지 않는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리비닐(폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 염화비닐아세트산비닐 공중합체 등), 폴리알킬렌글리콜, 폴리알킬렌이민, 메틸셀룰로오스, 히드록시셀룰로오스, 전분류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성 향상의 관점에서, 나프탈렌 골격을 함유하지 않는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지가 바람직하다.

또한 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 방향족 이소시아네이트 화합물 이외의 가교제를 병용하여도 좋다. 가교제로서는, 각종 공지의 수지가 사용될 수 있지만, 예컨대, 지방족 또는 지환족 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥사졸린 화합물, 에폭시 화합물, 카르보디이미드 화합물 등을 들 수 있다.

또, 본 발명은, 도포층 중에, 도포층의 고착성, 미끄럼성 개량을 목적으로 하여 상술한 금속 산화물 이외의 입자를 함유하는 것이 바람직하다. 특히 폴리에스테르 필름 중에 입자를 함유하지 않는 설계의 경우는, 필름의 이활성 등의 취급성을 개선하기 위하여, 도포층에 상술한 금속 산화물 입자의 입자경보다도 큰 입자를 함유하는 설계로 하는 것이 바람직하다. 당해 목적으로 사용하는, 도포층 중에 함유하는 입자의 평균 입자경은 필름의 투명성 관점에서 바람직하게는 1.0μｍ 이하 범위이고, 더욱 바람직하게는 0.05~0.7μｍ 범위, 특히 바람직하게는 0.1~0.5μｍ 범위이다. 입자의 구체예로서는 실리카, 알루미나, 카올린, 탄산칼슘, 유기 입자 등을 들 수 있고, 특히 분산성 관점에서 실리카가 더욱 바람직하다.

본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 필름으로의 누출성을 향상시켜, 도포액을 균일하게 코트하기 위하여, 공지의 음이온성 계면활성제나 비이온성 계면활성제를 적당량 첨가하는 것도 가능하다. 더욱 필름으로의 누출성을 향상시키기 위하여, 불소계 계면활성제가 더욱 적합하게 사용된다.

불소계 계면활성제라는 것은, 수소원자의 일부 또는 전부가 불소 원자로 치환된 탄화수소 사슬을 지닌 화합물을 지칭한다. 또, 수계 도포액을 사용하는 경우는, 불소계 계면활성제는, 어느 정도의 수용성 또는 수분산성을 갖는 것이 바람직하고, 예컨대, 불소 치환된 탄화수소 사슬 이외에 친수성 기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 친수성 기로서는, 예컨대, 술폰산, 카복시산, 인산 등의 아민 또는 금속염, 3급 아민의 할로겐화염, 수산기, 또는 에테르기 등을 들 수 있다.

음이온성의 불소계 계면활성제로서는, 퍼플루오로알킬(C4~C12)술폰산의 리튬염, 칼륨염, 나트륨염, 및 암모늄염, 퍼플루오로알킬(C7~C20) 카복시산의 칼륨염, 나트륨염, 및 암모늄염, 퍼플루오로알킬디카복시산 칼륨염, 퍼플루오로알킬인산염 등을 들 수 있다. 또, 비이온성의 불소계 계면활성제로서는, 퍼플루오로옥탄술폰산디에탄올아미드, N-프로필-N-(2-히드록시에틸)퍼플루오로옥탄술폰산아미드, 퍼플루오로알킬폴리옥시에틸렌에탄올, 퍼플루오로알킬알콕시레이트 등을 들 수 있다.

또한 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 도포층에는 필요에 따라서 소포제, 증점제, 유기계 윤활제, 대전방지제, 자외선흡수제, 산화방지제, 발포제, 염료, 안료 등을 함유하여도 좋다.

나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지에 있어서의 나프탈렌 고리의 비율은, 바람직하게는 5~80 중량% 범위이고, 더욱 바람직하게는 10~60 중량% 범위이다. 또, 도포액에 있어서의 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지의 비율은, 통상 5~90 중량% 범위, 바람직하게는 10~85 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 15~80 중량% 범위이다. 이들 범위에서 사용하는 것에 의해, 도포층의 굴절률의 조정이 용이하게 되고, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성한 후의 간섭 얼룩의 경감이 쉽게 된다. 나프탈렌 고리의 비율은, 예컨대, 적합한 용매 또는 온수로 도포층을 용해 추출하고, 크로마토그래피로 분취하여, NMR이나 IR로 구조를 해석, 또한열분해 GC-MS(가스 크로마토그래피 질량분석)나 광학적 분석 등으로 해석하는 것에 의해 구할 수 있다.

도포액에 있어서의 금속 산화물의 비율은, 통상 3~70 중량% 범위, 바람직하게는 5~50 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 5~40 중량% 범위, 특히 바람직하게는 6~30 중량% 범위이다. 금속 산화물의 양이 3 중량% 미만인 경우는 도포층의 굴절률을 충분하게 높게 할 수 없는 것에 의해, 간섭 얼룩이 경감되지 않는 경우가 있고, 70 중량%를 초과하는 경우는, 도포층의 투명성이 악화되는 경우나 밀착성이 저하되는 경우가 있다.

도포액에 있어서의 방향족 이소시아네이트 화합물의 비율은, 통상 1~50 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 5~40 중량%, 더욱 바람직하게는 10~30 중량% 범위이다. 1 중량% 미만인 경우, 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성이 저하되는 가능성이나 도포층이 약한 것에 의해, 내습열성이 저하될 가능성이 염려되며, 50 중량%를 초과하는 경우, 도포층의 굴절률이 낮아지는 것에 의해, 하드 코트층 등의 표면기능층 형성 후의 간섭 얼룩에 의해, 시인성이 좋지 않은 경우가 있다.

본 발명에 있어서, 도포층 중에 함유할 수 있는, 필름의 이활성 등의 취급성을 개선하기 위하여 사용하는 입자의 비율은, 바람직하게는 0.1~5 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 0.3~3 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 0.4~2 중량% 범위이다. 적은 경우는, 도포층 중에 함유하는 금속 산화물의 입자의 효과, 또는 필름 중에 입자를 함유시키는 것에 의해 취급성을 개선할 필요가 있고, 한편, 많은 경우는 필름의 투명성이 악화된다.

본 발명의 폴리에스테르 필름에 있어서, 상술한 도포층을 제공한 면과 반대측 면에도 도포층을 제공하는 것도 가능하다. 예컨대, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성하는 반대측에 마이크로렌즈층, 프리즘층, 스티킹방지층, 광확산층, 하드 코트층, 점착층, 인쇄층 등의 기능층을 형성하는 경우에, 당해 기능층과의 밀착성을 향상시키는 것이 가능하다. 반대측 면에 형성하는 도포층의 성분으로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 예컨대, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 바인더 폴리머, 옥사졸린계 화합물, 에폭시계 화합물, 멜라민계 화합물, 이소시아네이트계 화합물 등의 가교제 등을 들 수 있고, 이들 재료를 단독으로 사용하여도 좋고, 복수종을 병용하여 사용하여도 좋다. 또, 상술한 바와 같은 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지, 금속 산화물, 및 방향족 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포층(폴리에스테르 필름에 양면 동일한 도포층)이어도 좋다.

도포층 중의 성분의 분석은, 예컨대, TOF-SIMS, ESCA, 형광 X선 등의 분석에 의해 행할 수 있다.

인라인코팅에 의해 도포층을 제공하는 경우는, 상술한 일련의 화합물을 수용액 또는 분산체로 하여, 고형분 농도가 0.1~50 중량% 정도를 기준으로 조정한 도포액을 폴리에스테르 필름 상에 도포하는 요령으로 적층 폴리에스테르 필름을 제조하는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 주지를 손상하지 않는 범위에 있어서, 물로의 분산성 개량, 조막성 개량 등을 목적으로 하여, 도포액 중에는 소량의 유기 용매를 함유하고 있어도 좋다. 유기 용매는 1종류만이어도 좋고, 적당히 2종류 이상을 사용하여도 좋다.

본 발명에 있어서의 적층 폴리에스테르 필름에 관하여, 폴리에스테르 필름 상에 제공되는 도포층의 막 두께는, 통상 0.04~0.20μｍ, 바람직하게는 0.07~0.15μｍ 범위이다. 막 두께가 상기 범위로부터 벗어나는 경우는, 표면기능층을 적층 후의 간섭 얼룩에 의해, 시인성이 악화되는 경우가 있다.

본 발명에 있어서, 도포층을 제공하는 방법은 리버스 그라비아 코트, 다이렉트 그라비아 코트, 롤 코트, 다이 코트, 바 코트, 커텐 코트 등, 종래 공지의 도공 방식을 사용할 수 있다.

본 발명에 있어서, 폴리에스테르 필름 상에 도포층을 형성할 때의 건조 및 경화 조건에 관해서는 특히 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 오프라인코팅에 의해 도포층을 제공하는 경우, 통상, 80~200℃에서 3~40초간, 바람직하게는 100~180℃에서 3~40초간을 기준으로 하여 열처리를 실시하는 것이 좋다.

한편, 인라인코팅에 의해 도포층을 제공하는 경우, 통상, 70~280℃에서 3~200초간을 기준으로 하여 열처리를 행하는 것이 좋다.

또, 오프라인코팅 또는 인라인코팅에 상관없이, 필요에 따라서 열처리와 자외선 조사 등의 활성 에너지선 조사를 병용하여도 좋다. 본 발명에 있어서의 적층 폴리에스테르 필름을 구성하는 폴리에스테르 필름에는 미리, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 표면처리를 실시하여도 좋다.

본 발명에 있어서의 도포층은 간섭 얼룩의 발생을 억제하기 위하여, 굴절률의 조정이 된 것이고, 그 굴절률은 기재 폴리에스테르 필름과 하드 코트층 등의 표면기능층의 상승평균 부근으로 설계한 것이다. 도포층의 굴절률과 도포층의 반사율은 밀접한 관계가 있다. 본 발명의 절대반사율은, 횡축에 파장, 종축에 반사율을 나타내는 그래프를 그리고, 반사율의 극소치가 파장 400~800ｎｍ 범위에 1개인 것이 바람직하고, 그의 극소치는 4.0% 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 절대반사율 범위에 있어서는, 그의 극소치가 동일한 파장에 나타나면, 극소치의 반사율은, 굴절률이 높은 경우는 높은 값으로 되고, 굴절률이 낮은 경우는 낮은 값으로 된다.

본 발명에 있어서의 절대반사율은, 파장 400~800ｎｍ 범위에 극소치가 1개 존재하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 파장 500~700ｎｍ 범위에 극소치가 1개 존재하는 것이다. 또, 그 극소치의 값이, 바람직하게는 4.0~6.5%, 더욱 바람직하게는 4.5~6.2% 범위이다. 파장 400~800ｎｍ 범위에 있는 극소치가 1개가 아닌 경우, 또, 극소치의 절대반사율이 상기 값을 벗어나는 경우는, 하드 코트층 등의 표면기능층을 형성한 후에 간섭 얼룩이 발생하여, 필름의 시인성이 저하되는 경우가 있다.

본 발명의 폴리에스테르 필름에는, 도포층 위에 하드 코트층 등의 표면기능층을 제공하는 것이 일반적이다. 하드 코트층에 사용되는 재료로서는, 특히 한정되지 않지만, 예컨대, 단관능 (메타) 아크릴레이트, 다관능 (메타) 아크릴레이트, 테트라에톡시실란 등의 반응성 규소 화합물 등의 경화물을 들 수 있다. 이들 중 생산성 및 경도의 양립의 관점에서, 자외선경화성의 다관능 (메타) 아크릴레이트를 포함하는 조성물의 중합경화물인 것이 특히 바람직하다.

자외선경화성의 다관능 (메타) 아크릴레이트를 포함하는 조성물로서는 특히 한정되지 않는다. 예컨대, 공지의 자외선경화성의 다관능 (메타) 아크릴레이트를 1종류 이상 혼합한 것, 자외선경화성 하드 코트재로서 시판되고 있는 것, 또는 이들 이외에 본 실시형태의 목적을 손상하지 않는 범위에 있어서, 그외의 성분을 또한 첨가한 것을 사용할 수 있다.

자외선경화성의 다관능 (메타) 아크릴레이트로서는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 디펜타에리트리톨 헥사(메타) 아크릴레이트, 테트라메틸올 메탄테트라(메타) 아크릴레이트, 테트라메틸올 메탄트리(메타) 아크릴레이트, 트리메틸올 프로판트리(메타) 아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타) 아크릴레이트, 1,6-비스(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)헥산 등의 다관능 알코올의 (메타) 아크릴 유도체나, 폴리에틸렌글리콜 디(메타) 아크릴레이트, 그리고 폴리우레탄 (메타) 아크릴레이트 등을 들 수 있다.

자외선경화성의 다관능 (메타) 아크릴레이트를 포함하는 조성물에 포함되는 그 외의 성분은 특히 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 무기 또는 유기의 미립자, 중합개시제, 중합금지제, 산화방지제, 대전방지제, 분산제, 계면활성제, 광안정제 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 또, 웨트코팅법에 있어서 성막후 건조시키는 경우에는, 임의 양의 용매를 첨가할 수 있다.

하드 코트층의 형성방법은, 유기 재료를 사용한 경우에는 롤 코트법, 다이 코트법 등의 일반적인 웨트 코트법이 채용된다. 형성된 하드 코트층에는 필요에 따라서 가열이나 자외선, 전자성 등의 활성 에너지선 조사를 실시하여, 경화 반응을 실시할 수 있다.

실시예

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명에서 사용한 측정법 및 평가방법은 다음과 같다.

(1) 폴리에스테르의 고유점도의 측정방법:

폴리에스테르에 비상용성인 다른 폴리머 성분 및 안료를 제거한 폴리에스테르 1g을 정칭하고, 페놀/테트라클로로에탄 = 50/50(중량비)의 혼합 용매 100 ml 를 부가하여 용해시켜, 30℃에서 측정하였다.

(2) 평균 입자경의 측정방법:

TEM(Hitachi 제조 H-7650, 가속전압 100V)을 사용하여 도포층을 관찰하여, 입자 10개의 입자경의 평균치를 평균 입자경으로 하였다.

(3) 도포층의 막 두께 측정방법:

도포층의 표면을 RuO₄로 염색하여, 에폭시 수지 중에 매립시켰다. 그 후, 초박절편법에 의해 작성한 절편을 RuO₄로 염색하여, 도포층 단면을 TEM(Hitachi 제조 H-7650, 가속전압 100V)을 사용하여 측정하였다.

(4) 폴리에스테르 필름에 있어서의 도포층 표면으로부터의 절대반사율의 평가 방법:

미리, 폴리에스테르 필름의 측정 이면에 흑색 테이프(니치반 주식회사 제조 비닐 테이프 VT-50)를 점착하여, 분광광도계(일본분광주식회사 제조 자외가시분광광도계 V-570　및 자동 절대반사율 측정장치 AＭ-500Ｎ)를 사용하여 동기 모드, 입사각 5°, Ｎ 편광, 리스폰스 패스트(Response Fast), 데이터 취득구간 간격 1.0ｎｍ, 밴드폭 10ｎｍ, 주사속도 1000ｍ/분으로 도포층 면을 파장 범위 300~800ｎｍ의 절대반사율을 측정하여, 그의 극소치에 있어서의 파장(보톰 파장)과 반사율을 평가하였다.

(5) 간섭 얼룩의 평가방법:

폴리에스테르 필름의 도포층 측에, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 72 중량부, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 18중량부, 오산화안티몬 10중량부, 광중합개시제(상품명: 이르가큐어 184, 시바 스폐셜티케미컬 제조) 1중량부, 메틸에틸케톤200 중량부의 혼합 도액을 건조 막 두께가 5μｍ로 되도록 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시켜 하드 코트층을 형성하였다. 얻어진 필름을 3파장 광역형 형광등 하에서 육안으로 간섭 얼룩을 관찰하여, 간섭 얼룩이 확인될 수 없는 것을 ◎, 희미하게 간섭 얼룩이 확인되는 것을 ○, 희미하지만 선상의 간섭 얼룩이 확인될 수 있는 것을 △, 명확한 간섭 얼룩이 확인되는 것을 ×로 하였다.

(6) 밀착성의 평가방법:

더욱 엄밀한 밀착성의 평가를 행하기 위하여, 상기 (5)의 평가에서 사용한 하드 코트액으로부터 오산화 안티몬을 제거한 재료로 검토하였다. 즉, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 80중량부, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 20중량부, 광중합개시제(상품명: 이르가큐어 184, 시바 스폐셜티케미컬 제조) 5중량부, 메틸에틸케톤 200중량부의 혼합 도액을 건조 막 두께가 5μｍ로 되도록 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시켜 하드 코트층을 형성하였다. 얻어진 필름에 대하여, 60℃, 90% RH의 환경하에서 100 시간 후, 10×10의 크로스컷을 하여, 그 위에 18ｍｍ 폭의 테이프(니치반 주식회사 제조 셀로테이프(등록상표) CT-18)를 점착시키고, 180도의 박리 각도로 급격하게 벗긴 후의 박리면을 관찰하여, 박리면적이 3% 미만이면 ◎, 3% 이상 10% 미만이면 ○, 10% 이상 50% 미만이면 △, 50% 이상이면 ×로 하였다.

실시예 및 비교예에 있어서 사용한 폴리에스테르는, 이하와 같이 하여 준비한 것이다.

<폴리에스테르(A)의 제조방법>

테레프탈산 디메틸 100 중량부와 에틸렌글리콜 60 중량부를 출발원료로 하고, 촉매로서 아세트산마그네슘·4수염 0.09 중량부를 반응기에 넣고, 반응개시 온도를 150℃로 하여, 메탄올의 증류제거와 함께 서서히 반응온도를 상승시켜, 3시간 후에 230℃로 하였다. 4시간 후, 실질적으로 에스테르 교환반응을 종료시켰다. 이 반응 혼합물에 에틸 에시드 포스페이트 0.04 중량부를 첨가한 후, 삼산화안티몬0.04 중량부를 가하여, 4시간 중축합반응을 실시하였다. 즉, 온도를 230℃로부터 서서히 승온시켜 280℃로 하였다. 한편, 압력은 상압으로부터 서서히 감소시켜, 최종적으로는 0.3 mmHg로 하였다. 반응 개시후, 반응조의 교반동력의 변화에 의해, 극한 점도 0.63에 상당하는 시점에서 반응을 정지시키고, 질소 가압하 폴리머를 토출시켰다. 얻어진 폴리에스테르(A)의 극한점도는 0.63이었다.

<폴리에스테르(B)의 제조방법>

폴리에스테르(A)의 제조방법에 있어서, 에틸에시드 포스페이트 0.04 중량부를 첨가한 후, 평균 입자경 1.6μｍ의 에틸렌글리콜에 분산시킨 실리카 입자를 0.2 중량부, 삼산화안티몬 0.04 중량부를 가하고, 극한점도 0.65에 상당하는 시점에서 중축합반응을 정지시킨 이외는, 폴리에스테르(A)의 제조방법과 동일한 방법을 이용하여 폴리에스테르(B)를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르(B)는, 극한점도 0.65이었다.

도포층을 구성하는 화합물 예는 이하와 같다:

(화합물 예)

● 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지: (IA)

하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체

모노머 조성: (산성분) 2,6-나프탈렌 디카복시산/5-나트륨포스포이소프탈산//(디올 성분) 에틸렌글리콜/디에틸렌글리콜 = 92/8//80/20(mol%)

● 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지: (IB)

하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체

모노머 조성: (산성분) 2,6-나프탈렌 디카복시산/테레프탈산/5-나트륨술포이소프탈산//(디올 성분) 에틸렌글리콜/디에틸렌글리콜 = 78/15/7//90/10(mol%)

● 금속 산화물: (IIA) 평균 입자경 70nm의 산화지르코늄 입자

● 금속 산화물: (IIB) 평균 입자경 15nm의 산화지르코늄 입자

● 금속 산화물: (IIC) 평균 입자경 15nm의 산화티탄 입자

● 방향족 이소시아네이트 화합물: (III)

메틸에틸케톤 용매 중에서, 아디핀산/이소프탈산//1,6-헥산디올= 50/50//100 (mol%)의 폴리에스테르폴리올(평균분자량 1700) 100 중량부, 1,4-부탄디올 9 중량부, 트리메틸올 프로판 8 중량부에, 톨릴렌 디이소시아네이트 80 중량부를 첨가하여, 반응을 행한 후, 디메틸올 프로피온산 12 중량부, 폴리에틸렌글리콜 (평균분자량 600) 16 중량부, 아민 촉매를 첨가하여, 75℃에서 반응을 실시하였다. 이어서, 55℃에서 메틸에틸케톤옥심 16 중량부를 첨가하여, 블록화 이소시아네이트기 함유우레탄 프리폴리머로 하였다. 또한, 트리에틸아민 7.2 중량부, 물 450 중량부를 혼합하고, 트리에틸렌테트라민 2.9 중량부를 첨가하고, 반응시켜 메틸에틸케톤 용매를 제거하여 얻어진 블록화 방향족 이소시아네이트 화합물.

● 폴리에스테르 수지: (IV)

하기 조성으로 공중합한 폴리에스테르 수지의 수분산체

모노머 조성: (산성분) 테레프탈산/이소프탈산/5-나트륨술포이소프탈산//(디올 성분) 에틸렌글리콜/1,4-부탄디올/디에틸렌글리콜 = 56/40/4//70/20/10(mol%)

● 헥사메톡시메틸멜라민(V)

● 입자: (VIA) 평균 입자경 0.45μｍ의 실리카 입자

● 입자: (VIB) 평균 입자경 0.30μｍ의 실리카 입자

● 입자: (VIC) 평균 입자경 0.16μｍ의 실리카 입자

실시예 1:

폴리에스테르(A)를 압출기에 각각 공급하고, 285℃에서 용융시킨 후, 40℃로 설정된 냉각 롤 상에서 압출하고 냉각고화시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 종방향으로 3.4배 연신시킨 후, 이 종연신 필름의 양면에, 하기 표 1에 나타내는 도포액 1을 도포하고, 텐터에 걸어, 횡방향으로 120℃에서 4.0배 연신하며, 225℃에서 열처리를 행한 후, 횡방향으로 2% 이완하여, 막 두께(건조 후)가 0.09μｍ인 도포층을 갖는 두께 125μｍ의 폴리에스테르 필름을 얻었다.

얻어진 폴리에스테르 필름의 절대반사율을 측정해보니, 극소치는 580ｎｍ에서, 그의 반사율은 5.1%이었다. 하드 코트층을 적층한 후의 필름에는 명료한 간섭 얼룩은 없고, 또 밀착성도 양호하였다. 이 필름의 특성을 하기 표 2에 나타낸다.

실시예 2~18:

실시예 1에 있어서, 도포제 조성을 표 1에 나타내는 도포제 조성으로 변경하는 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 제조하여 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 폴리에스테르 필름은 표 2에 나타낸 바와 같이, 높은 반사율을 갖고, 간섭 얼룩 레벨도 양호하며, 밀착성도 양호한 것이었다.

실시예 19:

폴리에스테르(A), (B)를 각각 90%, 10%의 비율로 혼합한 혼합 원료를 최외층(표층)의 원료로 하고, 폴리에스테르(A)를 중간층의 원료로 하여, 2대의 압출기에 각각을 공급하며, 각각 285℃에서 용융시킨 후, 40℃로 설정된 냉각롤 상에, 2종3층(표층/중간층/표층= 1:18:1의 토출량)의 층구성으로 공압출하여 냉각고화시켜 미연신 시트를 얻었다. 이어서, 롤 주속차를 이용하여 필름 온도 85℃에서 종방향으로 3.4배 연신한 후, 이 종연신 필름의 양면에, 하기 표 1에 나타내는 도포액 4를 도포하여, 텐터에 걸고, 횡방향으로 120℃에서 4.0배 연신하며, 225℃에서 열처리를 실시한 후, 횡방향으로 2% 이완하여, 막 두께(건조후)가 0.09μｍ인 도포층 을 갖는 두께 125μｍ의 폴리에스테르 필름을 얻었다.

얻어진 폴리에스테르 필름의 절대반사율을 측정해보니, 극소치는 580ｎｍ에있고, 그의 반사율은 4.7%이었다. 하드 코트층을 적층한 후의 필름에는 명료한 간섭 얼룩은 없고, 또 밀착성도 양호하였다. 이 필름의 특성을 하기 표 2에 나타낸다.

실시예 20:

실시예 19에 있어서, 도포제 조성을 표 1에 나타내는 도포제 조성으로 변경하는 이외는 실시예 19와 동일하게 제조하여, 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 폴리에스테르 필름은 표 2에 나타낸 바와 같이, 높은 반사율을 갖고, 간섭 얼룩 레벨도 양호하며, 밀착성도 양호한 것이었다.

비교예 1~5:

실시예 1에 있어서, 도포제 조성을 표 1에 나타내는 도포제 조성으로 변경하는 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 폴리에스테르 필름을 얻었다. 완성된 적층 폴리에스테르 필름을 평가해보니, 표 2에 나타낸 바와 같이, 명료한 간섭 얼룩이 관찰될 수 있는 경우, 밀착성이 열등한 경우가 보였다.

실시예 5에 있어서, TOF-SIMS에 의해, 일차 이온으로서 Bi32+를 25 kV의 가속 전압으로 조사하여 측정한 결과, 나프탈렌 고리 유래의 이온 피크, 및 톨릴렌 디이소시아네이트 성분 유래의 이온 피크를 관찰할 수 있었다. 또한, 형광 X선 분석에 의해, 지르코늄 원소의 존재도 확인할 수 있었다.

산업상의 이용가능성

본 발명의 필름은, 예컨대, 액정이나 플라즈마 디스플레이 등의 부재인 각종의 광학용 필름이나 성형용 필름 등에 있어서, 하드 코트층 등의 표면기능층과의 밀착성 및 시인성을 중시하는 용도에 적합하게 이용할 수 있다.

Claims

폴리에스테르 필름의 적어도 편면에, 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지, 금속 산화물 및 방향족 이소시아네이트 화합물을 함유하는 도포액으로 형성된 도포층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층 폴리에스테르 필름.
제1항에 있어서, 도포층의 막 두께가 0.04~0.20μｍ인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 또는 제2항에 있어서, 도포액에 있어서의 나프탈렌 골격을 함유하는 폴리에스테르 수지의 비율이 5~90 중량%, 금속 산화물의 비율이 3~70 중량%, 방향족 이소시아네이트 화합물의 비율이 1~50 중량%인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 금속 산화물의 평균 입자경이 0.001~0.1μｍ인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 금속 산화물이 산화지르코늄 또는 산화티탄인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 방향족 이소시아네이트 화합물 이 톨릴렌 디이소시아네이트 화합물인 적층 폴리에스테르 필름.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 도포층의 절대반사율이 파장 400~800ｎｍ 범위에서 극소치를 1개 갖고, 당해 극소치에 있어서의 절대반사율이 4.0% 이상인 적층 폴리에스테르 필름.