KR20120010968A - 합성 석영 유리 기판용 연마제 및 이를 이용한 합성 석영 유리 기판의 제조 방법 - Google Patents

합성 석영 유리 기판용 연마제 및 이를 이용한 합성 석영 유리 기판의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 콜라겐 유래의 물질 및 콜로이드 용액을 포함하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제를 제공한다.
본 발명에 따르면, 포토마스크, 나노임프린트, 자기 디스크 등에 중요한 광리소그래피법에 사용되는 합성 석영 유리 기판 등의 합성 석영 유리의 제조에 있어서, 기판 표면의 고감도 결함 검사 장치에서 검출되는 결함의 생성이 억제되고, 제조의 수율 향상 뿐만 아니라, 반도체 공업의 추가적인 고정밀화로 이어진다.

Description

합성 석영 유리 기판용 연마제 및 이를 이용한 합성 석영 유리 기판의 제조 방법 {SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE POLISHING SLURRY AND MANUFACTURE OF SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE USING THE SAME}
본 발명은 주로 반도체 관련 전자 재료에 이용되는 합성 석영 유리 기판, 특히 최첨단 용도의 합성 석영 유리 기판에 이용되는 합성 석영 유리 기판용 연마제 및 그 연마제를 이용한 합성 석영 유리 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
합성 석영 유리 기판의 품질로는, 광리소그래피에 의한 패턴의 미세화 등의 이유로부터, 기판 상의 결함 크기 및 결함 밀도, 평탄도, 면 조도, 재질의 광화학적 안정성, 표면의 화학적 안정성 등을 들 수 있다. 이 중, 기판 상의 결함에 관해서는, IC의 고정밀화, 자기 미디어의 용량 확대 등의 추세에 따라, 점점 더 엄격한 것이 요구되고 있다.
이러한 배경 중, 최근 고감도의 결함 검사 장치가 개발되어, 동일한 장치를 이용한 표면 미세 결함 제어를 위한 연구가 진행되고 있다. 특허문헌 1: 일본 특허 공개 (소)64-40267호 공보에서는, 유리 기판 위를 콜로이달 실리카로 연마함으로써 정밀하게 연마하는 방법이 기재되어 있지만, 상기 고감도 결함 검사 장치를 이용하여 유리의 표면 결함 검사를 실시하면, 미세한 요철 결함의 존재가 확인되어, 미소 결함 억제 방법으로는 불충분하다.
또한, 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2004-98278호 공보에 따르면, 고순도 콜로이달 실리카를 중성 부근에서 사용함으로써, 미소한 볼록 결함을 감소시킬 수 있는 것이 기재되어 있지만, 콜로이달 실리카의 등전점을 고려하면, 중성 부근에서는 콜로이달 실리카는 불안정하다. 그 결과, 연마를 반복함에 따라, 증점하거나, 연마 지립의 입도 분포가 변위하여 안정적으로 사용할 수 없다.
따라서, 상기 방법에서는 연마제를 순환, 반복하여 사용하는 것이 곤란하고, 필연적으로 일회용 상태가 되어, 경제적, 환경적으로 바람직하지 않다는 문제점이 있었다.
일본 특허 공개 (소)64-40267호 공보 일본 특허 공개 제2004-98278호 공보
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 결함의 생성을 억제하고, 반도체 디바이스의 제조 등에서의 수율을 향상시킬 수 있는 합성 석영 유리 기판용 연마제 및 합성 석영 유리 기판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들이 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 콜로이달 실리카 등의 콜로이드 용액과 콜라겐 유래의 물질을 포함하는 연마제가, 상기 과제의 해결에 유용하다는 것을 발견하여, 본 발명에 이른 것이다.
즉, 본 발명은 이하의 합성 석영 유리 기판용 연마제 및 합성 석영 유리 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
청구항 1:
콜라겐 유래의 물질 및 콜로이드 용액을 포함하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 2:
제1항에 있어서, 상기 콜라겐 유래의 물질이 구조 중에 글리신 및 히드록시프롤린을 갖는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 3:
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 콜라겐 유래의 물질이 젤라틴 또는 콜라겐 펩티드인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 4:
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 콜로이드 용액이 콜로이달 실리카 분산액이고, 콜로이달 실리카의 농도가 20 내지 50 질량％인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 5:
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 카르복실산 또는 그의 염을 포함하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 6:
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, pH 8 내지 11인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 7:
제6항에 있어서, 알칼리 금속 수산화물, 알칼리토류 금속 수산화물, 염기성 염류, 아민류, 암모니아로부터 선택되는 적어도 1종의 물질에 의해 pH를 조정한 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
청구항 8:
조(粗)연마 및 최종 연마를 거쳐 합성 석영 유리 기판을 제조하는 공정에 있어서, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 연마제를 최종 연마 공정에서 사용하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판의 제조 방법.
청구항 9:
제8항에 있어서, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 연마제를 콜라겐의 변성 온도보다도 낮은 온도로 조정한 것을 최종 연마 공정에 공급하고, 상기 공정에서의 연마 열에 의해 콜라겐의 변성 온도보다도 높은 온도에서 연마하도록 한 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판의 제조 방법.
본 발명에 따르면, 포토마스크, 나노임프린트, 자기 디스크 등에 중요한 광리소그래피법에 사용되는 합성 석영 유리 기판 등의 합성 석영 유리의 제조에 있어서, 기판 표면의 고감도 결함 검사 장치에서 검출되는 결함의 생성이 억제되어, 제조의 수율 향상 뿐만 아니라, 반도체 공업의 추가적인 고정밀화로 이어진다.
본 발명의 합성 석영 유리 기판용 연마제는, 콜라겐 유래의 물질 및 콜로이드 용액을 포함하는 것이다.
본 발명자들은 결함 생성 기구에 관해서, 이하와 같은 가설을 세운 뒤에 연구를 진행시켰다.
즉, 연마제 중에 포함되어 있는 연마 지립이, 연마 중에 지립 표면간에 축합하거나, 피연마물인 유리의 표면으로부터 제거된 유리분과 지립간에 축합을 일으켜 대입자화한다. 이 축합한 입자가, 연마 작용에 의해 유리 표면 상에 축합 부착되거나, 표면 상에 흠집을 생성한다고 생각하여, 이와 같은 이물화한 입자와 피연마물인 유리와의 접촉을 완화시키는 것이 중요하다는 인식을 가졌다.
상술한 일본 특허 공개 제2004-98278호 공보에 기재되어 있는 바와 같은, 중성 영역의 고순도 콜로이달 실리카를 이용하여 연마하는 방법은, 콜로이달 실리카의 안정 영역의 pH 10 정도로 존재하고 있는 알칼리성 콜로이달 실리카에 비하여, 입자 표면의 제타 전위가 낮기 때문에, 입자간의 정전 반발력이 작고, 화학 반응적인 입자의 유리 표면에 대한 부착은 억제할 수 있을지도 모른다. 그러나, 연마 입자끼리 연마의 기계 작용으로 축합되고, 곧 겔화, 증점하는 것이 확인되어, 실제 연마에서는 사용할 수 없다. 또한, 입자끼리 축합함으로써 대입자화한 것이 연마제 중 이물질이 되어, 결함 생성의 기인이 되는 것도 생각된다. 연마 압력을 억제하여 최대한 불안정도를 억제하였다고 해도, 연마 정반에 의한 작업으로, 입자 분포가 높은 쪽에 시프트하여 기판 표면 상의 흠집의 원인이 된다.
따라서, 본 발명자들은 연마제 중에 콜라겐 유래의 물질을 첨가함으로써, 알칼리성 조건하에서 안정적인 것은 많지만, 축합하여 대입자화하여 이물화하고 있는 것을, 콜라겐 유래의 물질이 형성하는 고분자 졸겔 네트워크로 포착함으로써 기판에 대한 접촉을 완화시키는 것을 생각하였다. 이에 따라, 피연마 유리 표면 상에 콜로이달 실리카가 축합 부착되거나, 대입자화하여 이물화하고 있는 콜로이달 입자가 충돌하여 흠집을 발생시키는 것을 저지할 수 있는 것을 발견한 것이다.
본 발명의 콜라겐 유래의 물질로는, 예를 들면 콜라겐, 젤라틴, 콜라겐 펩티드를 들 수 있다. 이들 물질은 [Gly-Xaa-Yaa]n(Xaa, Yaa는 아미노산, n은 중합도를 나타냄)의 시퀀스로 표시되는 트리펩티드를 단량체에 중합하여 중합체를 형성하고 있다.
콜라겐 유래의 물질인 중량 평균 분자량으로는, 중량 평균 분자량 1,000 내지 1,000만, 특히 1,000 내지 100만이 바람직하다. 분자량이 너무 크면, 분자 사이에서 반데르발스력이 견고해져 증점하고, 또한 고화하여 연마제로는 바람직하지 않은 경우가 있다. 분자량이 너무 작으면, 분자 사이에서의 네트워크가 약하여 히드로겔을 형성하기 어렵고, 만일 네트워크를 형성하여도 네트워크가 약하기 때문에, 대입자화한 콜로이달 실리카 등의 이물질과 피연마물의 유리 기판이 접촉하는 것을 충분히 억제할 수 없고, 그 결과 흠집을 발생시키는 경우가 있다.
또한, 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 이용한 폴리스티렌 환산에 의한 측정값이다.
본 발명에서는, 콜라겐 유래의 물질을 이용하여, 분자간에서의 네트워크를 이용하여 히드로겔을 형성 구축시켜, 상기 이물질과 피연마물인 유리와의 접촉을 완화시킨다. 이 때, 콜라겐 유래의 물질인 [Gly-Xaa-Yaa]n에 포함되는 아미노산 중, Gly는 글리신인데, Xaa 및 Yaa 중 적어도 하나가 히드록시프롤린이면, 분자 내에서 삼중 나선 구조를 형성하기 쉬워지기 때문에, 겔상과 용액 상태의 상태 변화를 일으키기 쉬워지기 때문에 바람직하다. 히드록시프롤린이 Yaa의 위치에 있으면, 삼중 나선 구조가 안정화되기 쉽고, 온도를 제어함으로써 삼중 나선의 형성과 붕괴, 즉 용액화와 겔화를 제어하기 쉽기 때문에 더욱 바람직하다.
예를 들면, 젤라틴이나 콜라겐 펩티드는 변성 온도가 15 내지 20 ℃ 정도이고, 연마제를 냉매로 식힌 상태에서 용액 상태를 만들어, 연마 중에 발생하는 연마 열에 의해서 상승하는 연마기의 정반 온도에 의해서 히드로겔을 형성시킨다. 따라서, 연마제의 온도를 제어함으로써, 히드로겔 형성의 사정도 제어할 수 있고, 연마제 중 콜로이드의 조성, 농도에 따라 최적의 연마 조건을 제공하는 연마제의 온도 제어로 행할 수 있다.
콜라겐 유래의 물질에 네트워크를 형성시켜, 연마제 중 이물질과 피연마물의 유리가 접촉하는 것을 방지하는 것은 중요하지만, 연마제 중 물 분자를 포획하여 기판 표면의 보습성이 상승하면, 연마 종료 후에 기판을 세정할 때, 연마 지립의 콜로이달 입자를 제거하기 쉬워지는 이점이 있기 때문에 더욱 바람직하다. 예를 들면, 보습성이 있는 물질로는 콜라겐 펩티드를 들 수 있다.
콜라겐 유래인 물질의 농도는, 콜로이드 용액의 고형분, 특히 콜로이달 실리카의 질량에 대하여 0.001 내지 5 질량％, 특히 0.01 내지 3 질량％가 바람직하다. 농도가 너무 낮으면 흠집을 억제하는 데에 충분한 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 너무 높으면 콜라겐 유래의 물질의 점도 높이에 의해, 연마제의 연마기에 대한 안정 공급이 곤란해지는 경우가 있다.
본 발명의 콜로이드 용액은 입경이 작은 콜로이드 입자가 주성분이고, 일차 입경이 5 내지 500 nm인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 200 nm, 특히 바람직하게는 20 내지 150 nm이다. 입경이 너무 작으면, 연마제로는 미소한 것을 연마하기에는 좋은 반면, 콜로이드 입자가 기판에 부착되기 쉽기 때문에 연마 후에 행하는 기판의 세정성을 악화시키는 경우가 있다. 또한, 반대로 콜로이드 입자의 입경이 너무 크면, 연마한 기판의 표면 조도가 악화되고, 최종 정밀 연마용 연마제로는 사용하기 어려운 경우가 자주 보인다. 또한, 이 입경은 동적 광산란(DLS)에 의해 측정할 수 있다.
콜로이드 분산액 중의 콜로이드의 농도는 20 내지 50 질량％의 범위인 것이 바람직하고, 특히 40 내지 50 질량％가 바람직하다. 콜로이드의 농도가 20 질량％보다도 낮은 경우에는, 연마제 중에서의 연마 지립으로서의 콜로이드 입자의 절대량이 부족한 경향이 되기 때문에, 연마천과 기판이 직접 접촉하게 되어, 유리 표면에 연마천 유래의 미소 흠집을 발생시키기 쉬운 경우가 있다. 반대로, 콜로이드의 농도가 50 질량％보다도 높은 경우에는, 액 중의 콜로이드 입자가 너무 많기 때문에 콜로이드 입자끼리 응집 등이 발생하기 쉬워지고, 연마제가 불안정화하여 기판에 흠집이 발생하는 경우가 있다. 또한, 농도가 너무 높기 때문에 증점하게 되어, 연마 불능이 되는 경우도 있다.
또한, 입경 분포는 단분산 내지 다분산인 것, 또는 복수의 입경 피크를 갖는 것을 들 수 있다. 콜로이드 입자의 종류로는 콜로이달 실리카, 콜로이달 세리아, 콜로이달 지르코니아 등을 들 수 있지만, 합성 석영 유리와 동일한 성분을 갖는 콜로이달 실리카가 바람직하다.
콜로이달 실리카는 다양한 제조 방법으로 제조되며, 예를 들면 물 유리로부터의 조립, 알콕시실란 등의 유기 실리케이트 화합물 등을 가수분해하는 방법이 있다. 분산매의 pH는, 콜로이달 실리카의 보존 안정성의 측면에서 통상 알칼리성인 경우가 많지만, 중성이나 산성측의 pH로 해두는 것도 가능하다. 콜로이달 실리카의 등전점도 고려하면, 분산매의 pH는, pH 3 내지 5 또는 pH 8 내지 11의 범위가 바람직하고, pH 9 내지 10.5의 범위이면 더욱 바람직하다. pH가 중성 부근에서는 콜로이달 실리카 입자의 대전이 약하여 연마제가 불안정화하기 쉽고, 강알칼리이면 연마한 합성 석영 유리에 면 조도가 발생하는 경우가 있다.
콜로이달 실리카는, 통상은 물에 분산하여 사용되지만, 유기 용매, 예를 들면 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 아세톤이나 메틸에틸케톤 등의 케톤류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 화합물 등에 분산한 것일 수도 있다. 또한, 상기 유기 물질의 혼합 용매여도 관계없다. 또한, 상기 유기 용매 또는 그의 혼합 용매 중, 수용성인 것은 물과 임의의 비율로 혼합할 수도 있다.
또한, 콜로이달 실리카의 분산액으로는 시판품을 사용할 수 있고, 예를 들면 (주)후지미 인코포레이티드 제조 콤폴(COMPOL)-50, 콤폴-80, 콤폴-120, 콤폴-EXIII, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 ST-XL, ST-YL, ST-ZL, 듀폰(Dupont) 제조 사이톤(SYTON), 후소가가꾸 고교(주) 제조 GP 시리즈 등을 사용할 수 있다.
이상의 연마 슬러리를 이용하여 합성 석영 유리 기판을 연마할 때에, 연마제 중에 콜라겐 유래의 물질을 첨가함으로써, 고감도 결함 검사 장치에서 검출되는 결함 수를 억제하는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명의 연마제에는, pH 조정제 등의 그 밖의 첨가물을 가할 수도 있다. 특히, 미소 결함을 억제하기 위해서는 연마제의 pH 조정이 중요하며, pH를 8 내지 11, 특히 9 내지 10.5의 범위로 조정하기 위해서 pH 조정제를 첨가하는 것이 바람직하다.
pH 조정제로는 알칼리 금속 수산화물, 알칼리토류 금속 수산화물, 염기성 염류, 아민류, 암모니아를 사용할 수 있다. 예로는, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 붕산나트륨, 트리에틸아민, 트리에탄올아민, 디에탄올아민, 에틸렌디아민 등을 들 수 있다. 예시한 첨가물은 단독으로 이용하여도, 복수로 사용하여도 관계없다. 그 중에서도, 콜라겐 펩티드 중 아민을 안정화하는 트리에틸아민이나 알루미늄 이온 등의 금속 불순물을 킬레이트 착체화하여 제거할 수 있는 디에탄올아민, 트리에탄올아민이 바람직하다.
pH 조정제는, 연마제의 pH가 8 내지 11의 범위가 되도록 첨가하는 것이 바람직하다. 연마 중 연마제가 상기 pH의 범위에서 벗어나지 않는 것이 중요하기 때문에, pH 조정제는 마지막에 가하는 것이 바람직하다. 연마 중에 연마제의 pH가 변동하는 것이면, 적절하게 pH 조정제를 첨가함으로써 상기 pH의 범위가 되도록 조정할 수도 있다. 수산화나트륨 등, 강염기로 해리상수가 큰 것은, 상기 pH 범위에서는 소량의 첨가량의 차이어도 pH가 크게 변화하기 때문에, 조정하는 것이 곤란하다. 이 관점에서 보면, pH 조정제로는 중간 정도의 염기인, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리에틸아민 등 아민류가 바람직하다. pH가 중성 부근이면, 콜로이달 실리카가 불안정화하기 쉬워, 연속적인 연마에 문제점이 발생한다. pH가 너무 높으면 연마한 합성 석영 유리에 면 조도가 발생하는 경우가 있다.
pH 조정제 이외의 첨가물로는, 카르복실산 또는 그의 염류를 사용할 수도 있다. 구체적으로는, 쇄상 구조의 카르복실산이나 방향족 카르복실산을 사용할 수 있다. 예를 들면, 말론산, 숙신산, 말레산, 푸마르산, 타르타르산, 말산, 아디프산, 시트르산, 벤조산, 메틸벤조산, t-부틸벤조산, 살리실산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 페닐아세트산과 이들의 염류를 들 수 있다. 예시한 첨가물은 단독으로 이용할 수도 있고, 복수로 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 분자는 수용액 중에서 부피가 크기 때문에, 콜로이드 입자가 상호 작용할 때의 외부 인자에 의한 입체 장해가 되고, 그 결과 콜로이드 입자의 축합 등을 억제하고, 연마제를 안정화시키는 효과가 있다. 그의 배합량은 5 내지 20 질량％로 하는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 대상인 합성 석영 유리 기판은, 반도체 관련 전자 재료로 사용할 수 있고, 특히 포토마스크용, 나노임프린트용, 자기 디바이스용으로서 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명의 유리 기판은, 유리를 조연마하는 공정, 최종 마무리 연마를 하는 공정을 거쳐 제조된다.
조연마는 석영 유리 잉곳을 성형, 어닐링, 슬라이스 가공, 모따기, 랩핑, 기판 표면을 경면화하기 위한 연마 공정을 거침으로써 실시된다.
그리고, 최종적인 합성 석영 유리 기판의 표면 품질을 결정하는 정밀 연마 공정에서, 본 발명의 합성 석영 유리 기판용 연마제를 이용하여 연마를 실시한다.
이 때, 연마제는 적절한 냉매에 의해서 콜라겐의 변성 온도보다도 낮은 온도로 조정되어 있고, 연마 열에 의해서 합성 석영 유리 연마시에는 변성 온도보다도 높은 온도에서 연마함으로써 연마 중에 히드로겔 형성이 발생하도록 한다. 연마 종료된 연마제는, 회수하여 다시 식힘으로써 재이용한다. 이 때 겔의 붕괴가 발생하여 연마제의 유동성이 양호해지고, 펌프 등 이용하여 연마제를 연마기에 막힘없이 공급할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 연마제를 이용한 연마 방법으로는, 회분식의 양면 연마가 일반적이지만. 한쪽면 연마, 매엽식 연마 및 그의 조합으로 실시되는 것일 수도 있다.
[실시예]
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명이 하기의 실시예로 제한되는 것은 아니다.
〔실시예 1〕
슬라이스된 합성 석영 유리 기판 원료(6 인치)를 랩핑, 조연마를 행한 후, 최종 마무리 연마에 투입하였다. 연질의 스웨이드제 연마천을 이용하고, 연마제로서 SiO2의 농도가 40 질량％인 콜로이달 실리카 수분산액((주)후지미 인코포레이티드 제조, 일차 입경 77.3 nm)에 콜라겐 펩티드(와코 준야꾸 고교(주) 제조, 평균 분자량 2,000)를 1.0 질량％ 가하고, 추가로 디에탄올아민과 트리에틸아민을 첨가함으로써 pH 10.2로 조정한 연마제를 이용하였다. 또한, 첨가한 콜라겐 펩티드는, 연마기에 공급되기 전의 탱크 내의 온도 10 ℃에서는, 삼중 나선 구조를 형성하고 있으며, 연마기의 정반 온도로부터 측정되는 연마 중 온도 25 ℃에서는, 삼중 나선 구조가 붕괴되어 있는 것이 원평향 2색성(CD) 스펙트럼으로부터 확인되었다. 연마압은 100 gf/㎠이고, 연마 가공량은 조연마 공정에서 발생한 흠집을 제거하는 데에 충분한 양(2 ㎛ 이상)을 연마하였다. 연마 종료 후, 세정? 건조한 후 레이저 공초점 광학계 고감도 결함 검사 장치(레이저 테크(주) 제조)를 이용하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 1.3개가 되었다.
〔비교예 1〕
실시예 1에서, 최종 연마에 사용하는 연마제에 콜라겐 펩티드를 첨가하지 않고 연마하는 것 이외에, 모두 실시예 1과 동일한 조건으로 행하였다. 그 결과, 동일하게 하여 레이저 공초점 광학계 고감도 결함 검사 장치를 이용하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 57개가 되었다.
〔실시예 2〕
실시예 1의 콜라겐 펩티드를 연어 유래의 젤라틴(이하라 스이산(주) 제조, 평균 분자량 300,000) 1.0 질량％로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 1.8개가 되었다.
〔실시예 3〕
실시예 1의 콜라겐 펩티드를 연어 유래의 젤라틴(이하라 스이산(주) 제조, 평균 분자량 300,000) 0.8 질량％와 벤조산나트륨 0.2 질량％로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 2.5개가 되었다.
〔실시예 4〕
슬라이스된 합성 석영 유리 기판 원료(6 인치)를 랩핑, 조연마를 행한 후, 최종 마무리 연마에 투입하였다. 연질의 스웨이드제 연마천을 이용하고, 연마제로서 SiO2의 농도가 40 질량％인 콜로이달 실리카 수분산액(후소가가꾸 고교(주) 제조, 일차 입경 105 nm)에 콜라겐 펩티드를 0.5 질량％ 가하고, 추가로 디에탄올아민을 첨가함으로써 pH 9.7로 조정한 연마제를 이용하였다. 연마압은 100 gf/㎠이고, 연마 가공량은 조연마 공정에서 발생한 흠집을 제거하는 데에 충분한 양(2 ㎛ 이상)을 연마하였다. 실시예 1과 동일하게 하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 2.8개가 되었다.
〔실시예 5〕
실시예 4의 콜라겐 펩티드 대신에 실시예 2의 연어 유래의 젤라틴 0.1 질량％와 디에탄올아민을 첨가하여 pH 10.2로 한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 결함 검사를 실시한 바, 50 nm급 이상의 결함은 평균 2.1개가 되었다.

Claims (9)

  1. 콜라겐 유래의 물질 및 콜로이드 용액을 포함하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  2. 제1항에 있어서, 상기 콜라겐 유래의 물질이 구조 중에 글리신 및 히드록시프롤린을 갖는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 콜라겐 유래의 물질이 젤라틴 또는 콜라겐 펩티드인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 콜로이드 용액이 콜로이달 실리카 분산액이고, 콜로이달 실리카의 농도가 20 내지 50 질량％인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 카르복실산 또는 그의 염을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, pH 8 내지 11인 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  7. 제6항에 있어서, 알칼리 금속 수산화물, 알칼리토류 금속 수산화물, 염기성 염류, 아민류, 암모니아로부터 선택되는 적어도 1종의 물질에 의해 pH를 조정한 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판용 연마제.
  8. 조(粗)연마 및 최종 연마를 거쳐 합성 석영 유리 기판을 제조하는 공정에 있어서, 제1항 또는 제2항에 기재된 연마제를 최종 연마 공정에서 사용하는 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 연마제를 콜라겐의 변성 온도보다도 낮은 온도로 조정한 것을 최종 연마 공정에 공급하고, 상기 공정에서의 연마 열에 의해 콜라겐의 변성 온도보다도 높은 온도에서 연마하도록 한 것을 특징으로 하는 합성 석영 유리 기판의 제조 방법.
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