KR20110105327A - 기판 세정 처리 장치 - Google Patents

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KR20110105327A
KR20110105327A KR1020100110982A KR20100110982A KR20110105327A KR 20110105327 A KR20110105327 A KR 20110105327A KR 1020100110982 A KR1020100110982 A KR 1020100110982A KR 20100110982 A KR20100110982 A KR 20100110982A KR 20110105327 A KR20110105327 A KR 20110105327A
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다쿠토 가와카미
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

약액 처리 후의 기판을 수세 처리하는 경우에, 순수의 사용량을 절감함과 함께 배액양을 줄일 수 있으며, 또 처리 시간을 단축하고, 또한 장치 전체의 공간 절약화와 제조 코스트의 저감화를 달성할 수 있는 기판 세정 처리 장치를 제공한다.
약액 처리 후의 기판 W에 대해 수세 처리를 행하는 수세 처리실(10)이, 기판 반송 방향에 있어서 치환 수세 영역(201), 수세 영역(202) 및 직수세 영역(23)으로 이 순서대로 획정되고, 치환 수세 영역(201) 내에, 입구 노즐(16)과, 고압 노즐(18)과, 강제 배출 노즐(100)과, 에어 노즐(22)이 각각 설치된다. 치환 수세 영역(201) 내로 기판 W가 반입되기 전에 입구 노즐(16), 고압 노즐(18) 및 강제 배출 노즐(100)로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 치환 수세 영역(201) 내로부터 기판 W가 반출된 후에 입구 노즐(16), 고압 노즐(18) 및 강제 배출 노즐(100)로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 제어한다.

Description

기판 세정 처리 장치{SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}
이 발명은, 액정표시장치(LCD)용, 플라즈마 디스플레이(PDP)용, 유기 발광 다이오드(OLED)용, 전계 방출 디스플레이(FED)용, 진공 형광 디스플레이(VFD), 태양 전지 패널용 등의 유리 기판, 자기/광디스크용의 유리/세라믹 기판, 반도체 웨이퍼, 전자 디바이스 기판 등의 각종의 기판에 대해, 레지스트 박리 처리, 에칭 처리 등의 약액 처리를 행한 후에 세정 처리를 행하는 기판 세정 처리 장치에 관한 것이다.
예를 들면 LCD, PDP 등의 디바이스의 제조 프로세스에 있어서, 기판의 주면으로 각종 약액을 공급하여 레지스트 박리 처리, 에칭 처리 등의 약액 처리를 행한 후에, 기판을 수세 처리하는 경우, 우선, 치환 수세실(순환수 수세 처리부)에서 약액 처리 직후의 기판의 주면으로 세정수를 공급하여 기판 상의 약액을 세정수로 치환하고, 이어서, 직(直)수세실(신수(新水) 수세 처리부)에서 기판의 주면으로 순수를 공급하여 기판을 수세하고, 그 후에 기판을 건조 처리하도록 하고 있다. 이 때, 직수세실에서의 기판의 세정에는 순수(신수)를 사용하고, 치환 수세실에서의 기판의 세정에는, 직수세실에서 사용된 물을 순환수 탱크에 회수하고 그것을 세정수(순환수)로서 사용함으로써, 순수의 사용량을 절감하고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조.).
또, 약액 처리 후의 기판을 수세 처리하는 수세 처리부를 치환 수세실(제1 수세부)과 제2 수세실(제2 수세부)과 직수세실(제3 수세부)로 구성하고, 우선, 치환 수세실에 있어서, 제2 수세실에서 사용된 물을 제1 순환수 탱크에 회수하고 그것을 세정수로서 사용하여, 약액 처리 직후의 기판의 주면으로 세정수를 공급하여 기판 상의 약액을 세정수로 치환한 후, 제2 수세실에 있어서, 직수세실에서 사용된 물을 제2 순환수 탱크에 회수하고 그것을 세정수로서 사용하여, 주면 상의 약액이 세정수로 치환된 기판을 수세 처리하고, 마지막으로, 직수세실에 있어서 기판의 주면으로 순수를 공급하여 기판을 마무리 수세한다는 장치도 사용되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 2 참조.).
도 11에, 종래의 기판 세정 처리 장치(300)의 개략 구성의 일예를 나타낸다. 도 11은, 기판 세정 처리 장치(300)를 모식적으로 나타낸 것이다.
이 기판 세정 처리 장치(300)는, 약액 처리부(1)(일부 만을 도시)의 후단측에 순서대로 연속 설치된 치환 수세부(제1 수세부)(5)와 제2 수세부(3)와 직수세부(4)(일부 만을 도시)로 구성되어 있다. 직수세부(4)의 후단측에는, 건조 처리부(도시하지 않음)가 설치되어 있다.
치환 수세부(5)는, 약액 처리부(1)의 약액 처리실(38)에 인접하여 설치되어 기판 반입구(42) 및 기판 반출구(44)를 가지는 치환 수세실(제1 수세실)(40), 이 치환 수세실(40) 내로 반입되어 온 약액 처리 후의 기판 W를, 수평면에 대해 기판 반송 방향과 직교하는 방향으로 경사시킨 자세로 지지하여 치환 수세실(40) 내에 서 수평 방향으로 왕복 이동시키는 복수의 반송 롤러(도시하지 않음), 치환 수세실(40) 내의 기판 반입구(42) 부근에 설치되어, 치환 수세실(40) 내로 반입되어 온 기판 W의 상면으로 세정수를 기판 W의 폭방향 전체에 걸쳐 커튼 형상으로 토출하는 입구 슬릿 노즐(46), 및, 치환 수세실(40) 내에서 수평 방향으로 왕복 이동하는 기판 W의 상·하 양면으로 각각 세정수를 토출하는 상부 스프레이 노즐(48) 및 하부 스프레이 노즐(50) 등을 구비하고 있다. 상부 스프레이 노즐(48) 및 하부 스프레이 노즐(50)은, 기판 반송 방향을 따라 또한 서로 평행하게 각각 복수개 설치되고, 각 스프레이 노즐(48, 50)에는, 기판 반송 방향으로 복수개의 토출구가 일렬로 설치되어 있다. 치환 수세실(40)의 저부에는, 치환 수세실(40) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하기 위한 배액로(52)가 설치되어 있다.
제2 수세부(3)는, 치환 수세실(40)에 인접하여 설치되어 기판 반입구(56) 및 기판 반출구(58)를 가지는 제2 수세실(54), 치환 수세실(40)로부터 제2 수세실(54) 내로 반입되어 온 기판 W를, 수평면에 대해 기판 반송 방향과 직교하는 방향으로 경사시킨 자세로 지지하여 제2 수세실(54) 내를 수평 방향으로 반송하는 복수의 반송 롤러(도시하지 않음), 및, 제2 수세실(54) 내를 수평 방향으로 반송되는 기판 W의 상·하 양면으로 각각 세정수를 토출하는 상부 스프레이 노즐(60) 및 하부 스프레이 노즐(62) 등을 구비하고 있다. 상부 스프레이 노즐(60) 및 하부 스프레이 노즐(62)은, 기판 반송 방향을 따라 또한 서로 평행하게 각각 복수개 설치되고, 각 스프레이 노즐(60, 62)에는, 기판 반송 방향으로 복수개의 토출구가 일렬로 설치되어 있다. 제2 수세실(54)의 저부에는, 제2 수세실(54) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하기 위한 순환 배수로(64)가 설치되어 있으며, 순환 배수로(64)는, 순환수 탱크(66)에 연통 접속되어 있다. 또, 순환수 탱크(66)에는, 순수(신수)의 공급원에 유로 접속된 순수 공급로(68)가 연통 접속되어 있으며, 또한, 직수세부(4)의 직수세실(70)의 저부에 설치된 세정수 공급로(72)가 연통 접속되어 있다. 순환수 탱크(66)의 저부에는, 송액(送液) 펌프(74)가 개재 설치되고 치환 수세실(40) 내의 입구 슬릿 노즐(46) 및 상부 스프레이 노즐(48) 및 하부 스프레이 노즐(50)에 각각 유로 접속된 세정수 공급로(76), 및, 송액 펌프(78)가 개재 설치되며 제2 수세실(54) 내의 상부 스프레이 노즐(60) 및 하부 스프레이 노즐(62)에 각각 유로 접속된 세정수 공급로(80)가 각각 연통 접속되어 있다. 또한, 제2 수세실(54)의 저부에는 배수로(82)가 설치되어 있으며, 배수로(82)에는, 기판 W의 세정에 사용되어 기판 W 상으로부터 제2 수세실(54) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하고, 제2 수세실(54) 내에 기판 W가 반입되어 있지 않은 상태에서 기판 W의 세정에 사용되지 않고 그대로 제2 수세실(54) 내저부에 흘러 내린 세정수를 순환수 탱크(66)로 되돌리도록, 택일적으로 유로를 전환하는 삼방 전환 밸브(84)가 끼워져 있다.
직수세부(4)의 구성은, 일부 밖에 도시하고 않지만, 제2 수세부(3)와 동일하다. 단, 직수세실(70) 내의 상부 스프레이 노즐(86) 및 하부 스프레이 노즐(88)에는, 순수(신수)가 공급되고, 사용이 끝난 순수는 순환되어 사용되지 않는다. 그리고, 직수세부(4)에서 사용된 세정수는, 세정수 공급로(72)를 통과하여 순환수 탱크(66)로 송액되도록 되어 있다.
일본국 공개특허 평11－162918호 공보(제4－6페이지, 도 1) 일본국 공개특허 평10－284379호 공보(제3－4페이지, 도 1)
상기한 종래의 기판 세정 처리 장치(300)에서는, 약액 처리실(38) 내에서 약액 처리된 직후의 기판 W를 치환 수세실(40) 내에서 수평 방향으로 왕복 이동시키면서, 상부 스프레이 노즐(48) 및 하부 스프레이 노즐(50)로부터 기판 W의 상·하 양면으로 세정수를 끊임 없이 토출함으로써, 기판 W 상의 약액을 세정수로 치환하도록 하고 있다. 이 때문에, 치환 수세실(40)에서 세정수를 대량으로 필요로 하고, 따라서 수세 처리에서 사용되는 순수의 양, 제2 수세부(3)의 순환수 탱크(66)로 공급되는 순수 및 직수세부(4)의 상부 스프레이 노즐(86) 및 하부 스프레이 노즐(88)로 공급되는 순수의 양도 많아진다. 또, 치환 수세실(40)에서 사용된 세정수는, 그 모두가 폐기되므로, 치환 수세실(40)에서 세정수가 대량으로 사용되는 결과, 배액 처리량도 많아진다. 또한, 치환 수세실(40)에서는 기판 W를 수평 방향으로 왕복 이동시키면서 수세 처리가 행해지기 때문에, 처리 시간이 길어진다. 또, 치환 수세실(40)의, 기판 W의 반송 방향에서의 치수는, 기판 W의 기판 반송 방향에서의 치수보다 길게 되어 있기 때문에, 치환 수세실(40)에 의해 점유되는 풋프린트가 커진다. 이에 더하여, 기판의 수세 처리를 완료하기 위해서, 각각 개별·별체의 치환 수세실(제1 수세실)(40), 제2 수세실(54) 및 직수세실(70) 도합 3실이 필요해지고 있으므로, 이들 3실분에 의해 점유되는 풋프린트가 커짐과 함께, 3실분의 제조 코스트가 발생한다는 문제점이 있다.
이 발명은, 이상과 같은 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 약액 처리 후의 기판을 수세 처리하는 경우에서, 순수의 사용량을 절감함과 함께 배액량을 줄일 수 있고, 또 처리 시간을 단축하며, 또한 장치 전체의 공간 절약화와 제조 코스트의 저감화를 달성할 수 있는 기판 세정 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
청구항 1에 관련된 발명은, 기판 반송 방향에서 치환 수세 영역, 수세 영역 및 직수세 영역으로 이 순서대로 획정되어, 약액 처리 후의 기판에 대해 수세 처리를 행하는 수세 처리실과, 상기 치환 수세 영역 내에 설치되어 기판을 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 기판 반송 수단과, 상기 기판 반송 수단에 의해 반송되는 기판의 주면으로 세정수를 공급하는 세정수 공급 수단을 구비한 기판 세정 처리 장치로서, 상기 세정수 공급 수단은, 상기 치환 수세 영역 내의 입구 부근에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판의 주면으로 세정수를 기판의 폭방향 전체에 걸쳐 토출하는 입구 노즐과, 상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판 상의 약액과 세정액의 혼합액이 기판 반송 방향에 있어서의 전방측으로 유동하는 것을 막아 기판 상의 약액이 세정수로 급속히 치환되도록 기판의 주면으로 세정수를 고압으로 토출하는 고압 노즐과, 상기 치환 수세 영역 내에 있어서 상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측이며 또한 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 설치되어, 고압의 세정수를 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출함으로써 기판 상에 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름을 형성하고, 당해 액흐름에 의해 기판 상에 잔류하는 약액과 세정수의 혼합액을 기판 상으로부터 강제적으로 배출하는 고압 배출 노즐과, 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로 세정액을 송액하는 송액 수단과, 상기 치환 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 상기 치환 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 상기 송액 수단을 제어하는 제어 수단을 구비하여 구성되고, 상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판에 약액과 세정액의 혼합액이 부착되어 치환 수세 영역 밖으로 반출되는 것을 저지하도록 기판의 주면으로 기체를 직하 방향 내지 기판 반송 방향에 대해 비스듬한 역방향으로 분출하는 기체 노즐과, 상기 치환 수세 영역 내저부에 흘러 내린 세정수를 배출하는 배수 수단을 더 구비한 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 처리 장치에 있어서, 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐, 상기 고압 배출 노즐 및 상기 기체 노즐이, 기판 반송 방향에서 이 순서대로 설치되는 것을 특징으로 한다.
청구항 3에 관련된 발명은, 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 입구 노즐이, 길이 방향을 따른 슬릿 형상 토출구를 가지고, 그 슬릿 형상 토출구로부터 기판의 주면으로 세정수를, 직하 방향에 대해 기판 반송 방향에서의 전방측으로 경사진 방향으로 커튼 형상으로 토출하는 슬릿 노즐인 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 고압 노즐이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 서로 근접하여 나란히 설치된 복수의 토출구를 가지고, 각 토출구로부터 각각 선상(扇狀)으로 세정수를 고압으로 토출하는 직렬 고밀도 선형(扇形) 스프레이 노즐인 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 고압 노즐이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 서로 근접하여 나란히 설치된 복수의 토출구를 가지고, 각 토출구로부터 각각 기체의 압력으로 세정수를 미스트화하여 토출하는 2유체 스프레이 노즐인 것을 특징으로 한다.
청구항 6에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 고압 노즐에, 그 토출구로부터 토출되는 세정수의 미스트가 비산되는 것을 방지하기 위한 후드가 부설된 것을 특징으로 한다.
청구항 7에 관련된 발명은, 청구항 6에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 후드를 통하여 세정수의 미스트를 흡인하여 배출하는 미스트 흡인 장치가 병설된 것을 특징으로 한다.
청구항 8에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 기판 반송 방향에 대해 직교하는 방향으로 상기 고압 배출 노즐로부터 소정의 간격을 두고 적어도 또 다른 하나의 고압 배출 노즐이 연속 설치되는 것을 특징으로 한다.
청구항 9에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 수세 영역 내에 기판을 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 기판 반송 수단이 설치되고, 또한 상기 수세 영역 내에 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 제1 고압 배출 노즐이 설치됨과 함께, 당해 제1 고압 배출 노즐로부터 기판 반송 방향에 있어서 소정의 간격을 두고, 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 적어도 또 다른 하나의 제2 고압 배출 노즐이 설치되고, 당해 제1 및 제2 고압 배출 노즐로부터 고압의 세정수를 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출함으로써 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름을 기판 상에 형성하고, 당해 액흐름에 의해 기판 상의 잔류액을 강제적으로 배출하는 것을 특징으로 한다.
청구항 10에 관련된 발명은, 청구항 9에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 수세 영역 내에, 기판 반송 방향에 있어서 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐의 사이에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 고압 노즐이 설치되고, 당해 고압 노즐로부터 기판의 주면으로 세정수를 고압으로 토출함으로써, 기판 상의 잔류액이 기판 반송 방향에 있어서의 전방측으로 유동하는 것을 막아 기판 상의 잔류액이 세정수로 급속히 치환되고, 상기 고압 노즐로부터 기판 반송 방향에 있어서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 기체 노즐이 설치되고, 당해 기체 노즐로부터 기판의 주면으로 기체를 직하 방향 내지 기판 반송 방향에 대해 비스듬한 역방향으로 분출함으로써, 기판 상의 부착액이 상기 수세 영역 밖으로 반출되는 것을 저지하는 것을 특징으로 한다.
청구항 11에 관련된 발명은, 청구항 10에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 송액 수단은, 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 상기 고압 노즐로 세정액을 송액하고, 상기 제어 수단은, 상기 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 상기 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 상기 송액 수단을 제어하는 것을 특징으로 한다.
청구항 12에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 수세 영역 및 상기 직수세 영역에 있어서 사용되고 회수된 세정수의 일부가, 상기 치환 수세 영역 내에 설치된 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로 공급되는 것을 특징으로 한다.
청구항 13에 관련된 발명은, 청구항 12에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 송액 수단은, 제1 및 제2 저류부에 획정되는 순환수 탱크를 구비하고, 당해 제1 저류부로 상기 수세 영역에 의해 획정되는 상기 수세 처리실로부터의 사용이 끝난 세정수가 회수되고, 당해 제2 저류부로 상기 직수세 영역에 의해 획정되는 상기 수세 처리실로부터의 사용이 끝난 세정수가 회수되는 것을 특징으로 한다.
청구항 14에 관련된 발명은, 청구항 1에 기재된 기판 세정 처리 장치에 있어서, 상기 수세 처리실 내에 있어서 기판 반송 방향과 교차하는 방향으로 연장되는 제1 및 제2 칸막이 부재가 설치되고, 당해 제1 칸막이 부재에 의해 상기 치환 수세 영역과 상기 수세 영역이 획정되고, 상기 제2 칸막이 부재에 의해 상기 수세 영역과 상기 직수세 영역이 획정되는 것을 특징으로 한다.
청구항 1 및 청구항 2에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에 있어서는, 수세 처리실 내에 획정된 치환 수세 영역 내로 반입되어 온 약액 처리 후의 기판에 대해, 입구 부근에 설치된 입구 노즐로부터 기판의 폭방향 전체에 걸쳐 세정수가 토출됨으로써, 기판 상의 약액이 세정수로 희석되고 씻어 내어진다. 입구 노즐의 설치 위치를 통과한 후에 기판 상에 잔류한 약액과 세정수의 혼합액은, 입구 노즐보다도 기판 반송 방향 전방측에 설치된 고압 노즐로부터 기판의 주면으로 고압으로 토출되는 세정수에 의해 전방으로의 유동이 막아진다. 이와 같이 전방으로의 희석 약액의 유동이 막아진 상태로 기판이 전방으로 이동하므로, 고압 노즐의 설치 위치를 기판이 통과하는 동안에, 기판 상의 약액이 세정수로 급속히 치환된다.
또, 입구 노즐보다 전방측이며 또한 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 설치되는 고압 배출 노즐에 의해, 고압의 세정수가 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출됨으로써 기판 상에 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 형성되고, 이 액흐름에 의해 기판 상에 잔류하는 약액과 세정수의 혼합액이 기판 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께, 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다. 이에 더하여, 입구 노즐보다도 기판 반송 방향 전방측에 설치된 기체 노즐로부터 기판의 주면으로 분출되는 기체의 압력에 의해 기판 상의 약액과 세정수의 혼합액이 전방으로 유동하는 것이 막아진다. 이들 입구 노즐, 고압 노즐, 고압 배출 노즐 및 기체 노즐의 작용에 의해, 기판에 약액이 부착되어 치환 수세 영역 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지된다.
이들 일련의 수세 처리는, 치환 수세 영역 내로 기판이 반입되고 치환 수세 영역을 일방향으로 연속해서 반송되어 치환 수세 영역 내로부터 반출될 때까지의 짧은 시간 내에 행해진다. 또, 고압 노즐로부터 기판의 주면으로 고압으로 토출되는 세정수에 의해 기판 상의 약액이 세정수로 급속으로 치환되므로, 비교적 소량의 세정수의 사용에 의해 효율적으로 수세 처리가 행해진다. 그리고, 수세실 내저부에 흘러 내린 세정수는, 배수 수단에 의해 배출되게 되지만, 제어 수단에 의해 송액 수단이 제어됨으로써, 치환 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 입구 노즐, 고압 노즐 및 고압 배출 노즐로부터의 세정수의 토출이 개시되고, 치환 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 입구 노즐, 고압 노즐 및 고압 배출 노즐로부터의 세정수의 토출이 정지되므로, 세정수의 토출량 및 배액량이 억제된다.
따라서, 청구항 1에 관련된 발명의 기판 처리 장치를 사용하면, 약액 처리 후의 기판을 수세 처리할 때의 순수의 사용량을 큰폭으로 절감함과 함께, 배액량을 줄일 수 있고, 또, 수세 처리 시간을 큰폭으로 단축할 수 있다.
또, 치환 수세 영역, 수세 영역 및 직수세 영역으로 획정된 단체의 수세 처리실에 의해 약액 처리 후의 기판의 수세 처리가 완료되므로, 종래와 같이, 개별·별체의 치환 수세실, 수세실 및 직수세실 도합 3실분의 크기의 풋프린트를 필요로 하지 않아 장치 전체의 공간 절약화를 도모할 수 있으며, 또한 3실분의 전체 제조 코스트와 비교해서 제조 코스트의 저감화를 달성할 수 있다.
청구항 3에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 수세 처리실 내로 반입되어 온 약액 처리후의 기판에 대해, 슬릿 노즐의 슬릿 형상 토출구로부터 기판의 폭방향 전체에 걸쳐 커튼 형상으로 세정수를 토출함으로써, 기판 상의 약액을 세정수로 효율적으로 희석하여 씻어 낼 수 있다.
청구항 4에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐의 복수의 토출구로부터 기판의 주면으로 세정수를 고압으로 토출함으로써, 기판 상에 잔류한 약액과 세정수의 혼합액이 전방으로 유동하는 것을 확실히 막을 수 있다.
청구항 5에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 2유체 스프레이 노즐의 복수의 토출구로부터 에어 등의 기체의 압력으로 세정수를 미스트화하여 기체와 함께 기판의 주면으로 토출함으로써, 기판 상에 잔류한 약액과 세정수의 혼합액이 전방으로 유동하는 것을 확실히 막을 수 있다.
청구항 6에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 고압 노즐의 토출구로부터 세정수가 고압으로 토출됨으로써 세정수의 미스트를 발생시키지만, 후드에 의해 그 미스트의 비산을 방지할 수 있다.
청구항 7에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 미스트 흡인 장치에 의해 세정수의 미스트를 흡인하여 배출함으로써, 약액을 포함한 세정수의 미스트가 기판에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.
청구항 8에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 설치되는 고압 배출 노즐에 더하여, 기판 반송 방향에 대해 직교하는 방향으로 이 고압 배출 노즐로부터 소정의 간격을 두고 적어도 또 다른 하나의 고압 배출 노즐이 연속 설치되므로, 대사이즈의 기판이어도, 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름을 확실히 형성하고, 이 액흐름에 의해 기판 상에 잔류하는 약액과 세정수의 혼합액을 기판 상으로부터 강제적으로 배출할 수 있다.
청구항 9에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 제1 및 제2 고압 배출 노즐로부터, 치환 수세 처리를 끝내고 수세 영역 내로 반입되어 온 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 고압의 세정수가 토출됨으로써, 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 기판 상에 형성되고, 이 액흐름에 의해 기판 상의 잔류액이 강제적으로 배출되어 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다.
청구항 10에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 제1 고압 배출 노즐로부터, 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출되는 세정수에 의해, 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 형성되고, 이 액흐름에 의해, 치환 수세 처리를 거친 기판 상의 잔류액이 기판 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다. 제1 고압 배출 노즐의 설치 위치를 기판 W가 통과하면, 이어서, 고압 노즐로부터 고압의 세정수가 기판의 상면을 향하여 토출되고, 이 고압 노즐로부터 토출되는 세정수로 형성되는 물의 벽에 의해, 제1 고압 배출 노즐의 설치 위치를 통과한 후에 기판 상에 여전히 잔류하는 액이 전방으로 유동하는 것이 막아진다. 이와 같이 잔류액의 전방으로의 유동이 막아진 상태로 기판이 전방으로 이동하므로, 고압 노즐의 설치 위치를 기판이 통과하는 동안에, 기판 W 상의 잔류액이 세정수로 급속히 치환된다. 이어서, 기판이 고압 노즐의 설치 위치를 통과한 후에, 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에 설치된 제2 고압 배출 노즐의 토출구로부터, 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출되는 세정수에 의해, 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 형성되고, 이 액흐름에 의해, 잔류액이 기판 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다.
그리고, 수세 영역 내로부터 기판이 반출되기 전에, 기체 노즐로부터 기판의 주면을 향하여 기체가 분출되고, 이 분출되는 기체의 압력에 의해, 기판 상의 부착액이 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 막아져, 기판 상의 부착액이 수세 영역 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지된다.
청구항 11에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 제어 수단에 의해, 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 송액 수단이 제어되고, 수세 영역 내에 기판이 반입되어 있지 않을 때에는 세정수의 토출이 정지되므로, 세정수의 사용량을 보다 줄일 수 있다.
청구항 12 및 청구항 13에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 순수의 이용 효율을 높일 수 있다.
청구항 14에 관련된 발명의 기판 세정 처리 장치에서는, 제1 및 제2 칸막이 부재의 기판 반송 방향에서의 설치 위치를 적절히 선택함으로써, 수세 처리실 내의 기판 반송 방향에 있어서의 치환 수세 영역, 수세 영역 및 직수세 영역의 길이 치수를 각각 간이하게 설정할 수 있음과 함께, 순환수 탱크의 제1 및 제2 저류부로의 수세 영역 및 직수세 영역으로부터의 사용이 끝난 세정수의 회수량 및 농도를 원하는 값으로 설정할 수 있다.
도 1은 이 발명의 실시 형태의 일예를 나타내고, 기판 세정 처리 장치를 모식적으로 나타낸 개략 구성도이다.
도 2는 고압 노즐의 일예를 나타낸 도이며, 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐을 기판 반송 방향에서의 전방측으로부터 본 모식적 정면도이다.
도 3은 고압 노즐의 일예를 나타낸 도이며, 2유체 스프레이 노즐을 기판 반송 방향에서의 전방측으로부터 본 모식적 정면도이다.
도 4는 강제 배출 노즐의 모식적 상면도다.
도 5는 강제 배출 노즐의 모식적 사시도이다.
도 6은 기판의 폭방향으로 복수개 연속 설치되는 강제 배출 노즐을 나타낸 모식적 상면도다.
도 7은 치환 수세 영역에 있어서의 처리의 모습을 나타낸 모식적 측면도이다.
도 8은 치환 수세 영역에 있어서의 처리의 모습을 나타낸 모식적 측면도이다.
도 9는 치환 수세 영역에 있어서의 처리의 모습을 나타낸 모식적 측면도이다.
도 10은 치환 수세 영역에 있어서의 처리의 모습을 나타낸 모식적 측면도이다.
도 11은 종래의 기판 세정 처리 장치의 구성예를 모식적으로 나타낸 개략 구성도이다.
이하, 이 발명의 실시 형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.
도 1은, 이 발명의 실시 형태의 일예를 나타내고, 기판 세정 처리 장치(200)를 모식적으로 나타낸 것이다. 또한, 도 11에 있어서 나타낸 구성 요소 및 부재와 동일 또는 대응하는 구성 요소 및 부재에 대해서는, 도 1에 있어서도 동일한 부호를 사용한다.
이 기판 세정 처리 장치(200)는, 약액 처리부(1)(일부 만을 도시)의 후단측에 배치된 수세 처리실(10), 순환수 탱크(116) 등으로 구성되고, 수세 처리실(10)의 후단측에는, 건조 처리부(도시하지 않음)가 설치되어 있다.
수세 처리실(10)은, 기판 반송 방향에 있어서, 치환 수세 영역(201)과 수세 영역(202)과 직수세 영역(203)으로 이 순서대로 획정된다.
치환 수세 영역(201)과 수세 영역(202)의 경계부 및 수세 영역(202)과 직수세 영역(203)의 경계부에는 각각, 수세 처리실(10)의 저부의 폭방향(기판 반송 방향과 교차하는 방향) 전체 폭에 걸쳐 또한 기판 반송로와 간섭하지 않는 높이를 가지는 칸막이판 118 및 120이 연장되어 설치되어 있다.
치환 수세 영역(201)에는, 수세 처리실(10)의 약액 처리부(1)의 약액 처리실(38)측에 설치된 기판 반입구(12)를 통과하여 수세 처리실(10)의 치환 수세 영역(201) 내로 반입되어 온 약액 처리 후의 기판 W를, 수평면에 대해 기판 반송 방향과 직교하는 방향으로 경사시킨 자세로(기판 W의 앞측이 낮아지도록) 지지하여 치환 수세 영역(201) 내에서 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 복수의 반송 롤러(도시하지 않음)와, 치환 수세 영역(201) 내를 수평 방향으로 반송되는 기판 W의 하면으로 세정수를 토출하기 위해서 기판 반송로의 아래쪽에 설치된 하부 스프레이 노즐(20)이 설치되고, 또한, 수세 처리실(10)의 치환 수세 영역(201) 내의 기판 반입구(12) 부근에 입구 노즐(16)이 설치되고, 이 입구 노즐(16)보다도 기판 반송 방향 전방측에 고압 노즐(18)이 설치되고, 이 고압 노즐(18)보다도 기판 반송 방향 전방측에 강제 배출 노즐(100)이 설치되어 있다. 또한, 강제 배출 노즐(100)보다도 기판 반송 방향 전방측이며 또한 칸막이판(118)보다도 기판 반송 방향 후방측에 기판 반송로를 사이에 두고 상하 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)이 설치되어 있다.
기판 W는, 치환 수세 영역(201) 내에 있어서 왕복 이동하거나 일시 정지하는 일 없이, 반송 롤러에 의해 예를 들면 9m/min~20m/min의 고속으로 반송된다. 또, 기판 W는, 기판 반송 방향에 있어서 예를 들면 1장분 정도의 간격을 두고 차례차례 치환 수세 영역(201) 내로 반입되어 온다. 치환 수세 영역(201)에 의해 획정되는 수세 처리실(10)의 저부에는, 치환 수세 영역(201) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하기 위한 배액로(24)가 설치되어 있다. 치환 수세 영역(201)에서 사용된 후의 세정수는, 그 모두가 배액로(24)를 통과하여 배출된다. 또, 치환 수세 영역(201)에 의해 획정되는 수세 처리실(10)의 천정부에는, 치환 수세 영역(201) 내로부터 세정수의 미스트를 포함하는 공기를 배출하기 위한 배기관(90)이 설치되어 있다.
입구 노즐(16)은, 그 길이 방향을 따른 슬릿 형상 토출구를 가지는 슬릿 노즐로 구성되어 있다. 이 입구 노즐(16)은, 기판 W의 상면과 평행하게 또한 기판 반송 방향과 직교하도록 배치되고, 연직 방향으로부터 비스듬한 전방으로 경사지도록 설치되어 있다. 그리고, 입구 노즐(16)의 슬릿 형상 토출구로부터는, 치환 수세 영역(201) 내로 반입되어 온 기판 W의 상면으로 기판 W의 폭방향 전체에 걸쳐 세정수가 커튼 형상으로, 또한, 그 직하 방향에 대해 기판 반송 방향에서의 전방측으로 경사진 방향으로 토출된다. 또한, 슬릿 노즐 대신에, 다수의 미소 토출구가 길이 방향을 따라 일렬로 설치된 노즐을 이용하고, 그 노즐의 다수의 미소 토출구로부터 기판 W의 폭방향 전체에 걸쳐 세정수가 토출되도록 해도 된다.
고압 노즐(18)로서는, 예를 들면 도 2에 기판 반송 방향에서의 전방측으로부터 본 모식적 정면도를 나타내는 바와 같이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 배치되는 스프레이 파이프(92a)에, 그 길이 방향을 따라 일렬로 서로 근접하여 복수의 노즐부(94a)가 설치되고, 그 각 노즐부(94a)의 토출구로부터 각각 선상으로 세정수를 고압으로 토출하는 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐(18a)이 이용된다. 이 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐(18a)의 스프레이 파이프(92a)에는, 후술하는 바와 같이, 순환수 탱크(116)에 연통 접속되고 송액 펌프(32)가 개재 설치된 세정수 공급로(30)가 연통 접속된다. 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐(18a)은, 예를 들면, 그 노즐부(94a)의 토출구로부터 기판 W의 상면까지의 거리가 10mm~300mm가 되는 높이 위치에 설치되고, 복수의 노즐부(94a)는, 예를 들면 20mm~200mm의 피치로 설치된다. 이러한 고압 노즐(18)은, 기판 W의 상면과 평행하게, 또한, 기판 반송 방향에 대해 직교하도록, 혹은, 기판 반송 방향과 직교하는 방향에 대해 비스듬한 방향으로 배치(입구 노즐(16)에 대해 앞측이 열리는 방향으로 기울어져 배치)된다. 이 고압 노즐(18)의 토출구로부터는, 반송되는 기판 W의 상면으로 고압, 예를 들면, 0.3MPa의 압력의 세정수가 기판 W의 폭방향 전체에 걸쳐 토출된다.
또한, 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐(18a) 대신에, 동등한 작용을 이루는 고압 노즐을 이용하도록 해도 된다. 예를 들면, 도 3에 기판 반송 방향에서의 전방측으로부터 본 모식적 정면도를 나타내는 바와 같이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 배치되는 2유체 스프레이 헤더관(92b)에, 그 길이 방향을 따라 일렬로 서로 근접하여 복수의 2유체 노즐부(94b)가 형성되고, 그 각 2유체 노즐부(94b)의 토출구로부터 각각 에어 등의 기체의 압력으로 세정수를 미스트화하여 토출하는 2유체 스프레이 노즐(18b)을 이용할 수 있다. 이 2유체 스프레이 노즐(18b)의 2유체 스프레이 헤더관(92b)에는, 세정수 공급로(30)가 연통 접속됨과 함께, 예를 들면 에어 공급원에 유로 접속된 에어 공급로(96)가 연통 접속된다. 2유체 스프레이 노즐(18b)은, 예를 들면, 그 2유체 노즐부(94b)의 토출구로부터 기판 W의 상면까지의 거리가 10mm~100mm가 되는 높이 위치에 설치되고, 복수의 2유체 노즐부(94b)는, 예를 들면 20mm~100mm의 피치로 설치된다.
또, 고압 노즐(18)에, 그 토출구로부터 토출되는 세정수의 미스트가 비산되는 것을 방지하기 위한 후드(26)를 부설하도록 해도 된다. 또한, 후드(26)에 배기관(28)을 연통 접속하고, 그 배기관(28) 및 후드(26)를 통하여 세정수의 미스트를 진공 흡인하여 배출하는 미스트 흡인 장치를 병설하도록 해도 된다.
강제 배출 노즐(100)로서는, 예를 들면 도 4 및 도 5에 모식적 상면도 및 사시도를 나타내는 바와 같이, 반송되는 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판으로부터 근접한 거리 H, 예를 들면 10mm~50mm의 거리 H만큼 이간하여 설치되고, 그 토출구가 기판 반송 방향의 직각 방향에 대해 예각, 예를 들면 0~60°, 바람직하게는 45°의 각도를 이루도록 설정된다. 그리고, 이 강제 배출 노즐(100)로부터 고압, 예를 들면 0.1~0.5MPa, 바람직하게는 0.3MPa의 압력의 세정수가 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향하여 토출된다.
또한, 기판 W의 사이즈가 대형인 경우에는, 이 강제 배출 노즐(100)을, 반송되는 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에 1개만 설치하는 구성 대신에, 도 6에 모식적 상면도를 나타낸 바와 같이, 기판 반송 방향에 대해 직교하는 방향(기판 W의 폭방향)으로 복수개(도 6에 나타낸 예에서는 3개), 소정의 간격을 두고 연속 설치해도 된다.
하부 스프레이 노즐(20)은, 기판 반송 방향을 따라 또한 서로 평행하게 각각 복수개 설치되고, 하부 스프레이 노즐(20)에는, 기판 반송 방향으로 복수개의 토출구가 일렬로 설치되어 있다. 이 하부 스프레이 노즐(20)로부터는, 반송되는 기판 W의 하면으로 세정수가 토출되고, 기판 W의 하면측이 수세된다.
순환수 탱크(116)의 저부에는 그 폭방향(도 1의 종이면에 관해서 직각 방향) 전체 폭에 걸쳐 소정의 높이를 가지는 칸막이판(122)이 연장되어 설치되고, 이 칸막이판(122)에 의해 순환수 탱크(116) 내가 저류부 116a와 저류부 116b의 2개의 저류부로 획정된다.
수세 영역(202)에 의해 획정되는 수세 처리실(10)의 저부에는, 수세 영역(202) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하기 위한 순환 배수로(64)가 설치되어 있으며, 순환 배수로(64)는, 순환수 탱크(116)의 저류부(116a)에 연통 접속되어 있다. 또, 순환수 탱크(116)의 저류부(116a)에는, 순수(신수)의 공급원에 유로 접속된 순수 공급로(68)가 연통 접속되어 있다.
하부 스프레이 노즐(20) 및 입구 노즐(16), 고압 노즐(18) 및 강제 배출 노즐(100)에는, 순환수 탱크(116)의 저류부(116a)에 연통 접속된 세정수 공급로(30)가 각각 유로 접속되고, 세정수 공급로(30)에 송액 펌프(32)가 개재 설치되어 있다. 그리고, 순환수 탱크(116)의 저류부(116a) 내로부터 세정수 공급로(30)를 통과하여 입구 노즐(16), 고압 노즐(18), 강제 배출 노즐(100) 및 하부 스프레이 노즐(20)로 각각 세정수가 공급되도록 유로 구성되어 있다.
약액 처리실(38) 내의 입구 부근에는 도시하지 않은 기판 위치 센서가 설치되고, 이 기판 위치 센서에 의해 기판 W의 전단 위치가 검지되어, 검지 신호가 제어 회로(108)로 출력된다. 제어 회로(108)는, 검지 신호를 수신한 시점에서 일정 시간 경과 후(기판 W의 전단이 약액 처리실(38)의 출구를 통과하기 전)에, 송액 펌프(32)를 구동하여 각 노즐(16, 18, 100, 20)로 세정수의 토출이 개시되도록 프로그램 제어되어 있다.
또, 강제 배출 노즐(100)보다도 기판 반송 방향 전방측이며 또한 에어 노즐(20)보다도 기판 반송 방향 후방측에, 기판 W의 후단 위치를 검지하는 기판 위치 센서(104)가 설치되어 있다. 기판 위치 센서(104)로부터 출력되는 검지 신호는 제어 회로(108)에 입력되고, 그 검지 신호에 기초하여 제어 회로(108)로부터 송액 펌프(32)에 제어 신호가 출력되어, 각 노즐(16, 18, 100, 20)로 세정수의 토출이 정지된다. 즉, 제어 회로(108)에 의해, 치환 수세 영역(201) 내에 기판 W가 반입되어 있지 않을 때에는 입구 노즐(16), 고압 노즐(18), 강제 배출 노즐(100) 및 하부 스프레이 노즐(20)로부터 세정수가 토출되지 않고, 치환 수세 영역(201) 내로 기판 W가 반입되어 오기 직전에 각 노즐(16, 18, 100, 20)로부터의 세정수의 토출이 개시되고, 그 후, 치환 수세 영역(201) 내로부터 기판 W가 반출될 때까지 동안에, 각 노즐(16, 18, 100, 20)로부터 계속해서 세정수가 토출되고, 치환 수세 영역(201) 내로부터 기판 W가 반출된 후에 각 노즐(16, 18, 100, 20)로부터의 세정수의 토출이 정지되도록, 송액 펌프(32)의 송액 동작이 제어된다.
상하 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)은, 경사 자세의 기판 W의 상·하면과 각각 평행하게, 또한, 기판 반송 방향과 직교하는 방향에 대해 앞측이 열리도록 기울어져 배치된다. 이 에어 노즐(22)에는, 에어 공급원에 유로 접속된 에어 공급관(34)이 연통 접속되어 있으며, 에어 노즐(22)로부터 기판 W의 상·하 양면으로 에어(카운터 에어)가 기판 반송 방향에 대해 비스듬한 역방향 내지 직하 방향으로 분출된다. 또한, 에어 대신에 다른 기체, 예를 들면 질소 가스 등을 기판 W의 각 면으로 분출하도록 해도 된다.
상기한 구성을 구비한 치환 수세 영역(201)에 있어서는, 약액 처리실(38)에서 약액 처리된 직후의 기판 W가 수세 처리실(10)의 치환 수세 영역(201) 내로 반입되어 오면, 최초로, 입구 노즐(16)의 슬릿 형상 토출구로부터 기판 W의 상면으로 그 폭방향 전체에 걸쳐 커튼 형상으로 세정수가 토출된다. 도 7에 모식적 측면도를 나타내는 바와 같이, 이 입구 노즐(16)로부터 커튼 형상으로 토출되는 세정수 A에 의해 기판 W 상의 약액이 희석되고, 기판 W 상으로부터 약액 B의 일부가 씻어 내어진다. 이어서, 고압 노즐(18)의 토출구로부터 고압의 세정수가 기판 W의 상면을 향하여 토출된다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 이 고압 노즐(18)로부터 토출되는 세정수 A로 형성되는 물의 벽에 의해, 입구 노즐(16)의 설치 위치를 통과한 후에 기판 W 상에 잔류한 약액과 세정수의 혼합액 C가 전방으로 유동하는 것이 막아진다. 이와 같이 약액과 세정수의 혼합액 C의 전방으로의 유동이 막아진 상태로 기판 W가 전방으로 이동하므로, 고압 노즐(18)의 설치 위치를 기판 W가 통과하는 동안에, 기판 W 상의 약액이 세정수로 급속히 치환되게 된다. 또, 이 동안에, 기판 W의 하면에 대해 하부 스프레이 노즐(20)의 토출구로부터 연속해서 세정수가 토출되어 기판 W의 하면이 수세된다.
도 8에 모식적 측면도, 도 9에 모식적 상면도를 나타내는 바와 같이, 고압 노즐(18)의 설치 위치를 통과한 후의 기판 W 상에는, 혼합액 C로부터 누출된 혼합액 E(세정수 A로 형성되는 물의 벽으로 막아지지 않아, 약액 성분이 약간 혼입된 액)이 잔류하고 있다. 여기서, 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에 설치된 강제 배출 노즐(100)의 토출구로부터, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출되는 세정수 A(도 9 중 도시한 가는 화살표로 나타낸다)에 의해, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름(도 9 중 도시한 굵은 화살표로 나타낸다)이 형성된다. 이 액흐름에 의해, 혼합액 E가 기판 W 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다.
그리고, 치환 수세 영역(201) 내로부터 기판 W가 반출되기 전에, 상·하 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)로부터 기판 W의 상하 양면을 향하여 각각 에어가 분무된다. 도 10에 모식적 측면도를 나타내는 바와 같이, 이 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)로부터 기판 W의 상하 양면으로 분출되는 에어 D의 압력에 의해, 기판 W의 상·하면에 부착된 액 F가 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 막아져, 기판 W에 약액이 부착되어 치환 수세 영역(201) 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지된다.
이상의 일련의 치환 수세 처리는, 기판 W가 치환 수세 영역(201) 내로 반입되고 치환 수세 영역(201) 내를 일방향으로 연속 반송되어 치환 수세 영역(201) 내로부터 반출될 때까지의 짧은 시간, 예를 들면 15초~20초간 행해진다. 또, 고압 노즐(18)로부터 기판 W의 상면으로 고압으로 토출되는 세정수에 의해 기판 W 상의 약액이 세정수로 급속히 치환되므로, 비교적 소량의 세정수의 사용에 의해 효율적으로 수세 처리가 행해진다. 또, 강제 배출 노즐(100)로부터 토출되는 세정수에 의해 형성되는 액흐름에 의해, 기판 W 상의 혼합액 E가 기판 W 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지되므로, 치환 수세 영역(201) 밖으로의 약액의 반출량이 저감된다. 또한, 치환 수세 영역(201) 내에 기판 W가 반입되어 있지 않을 때에는 세정수의 토출을 정지시킴으로써, 세정수의 사용량을 보다 줄일 수 있다. 그리고, 약액이 기판 W 상에 잔류하여 치환 수세 영역(201) 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지되므로, 후술하는 수세 영역(202) 내에서 기판 W의 수세에 사용된 후의 세정수의 오염이 저감된다. 이 결과, 수세 영역(202)에서 사용된 세정수의 순환 사용율이 높아지고, 나아가서는 이것이 순수 사용량의 또 다른 절감으로 이어지게 된다.
또한, 기판 반송 방향에 관해서, 고압 노즐(18), 강제 배출 노즐(100), 에어 노즐(22)을 이 순서대로 고정하여 설치하지 않고, 이들 노즐의 기판 반송 방향에서의 설치 순서를 서로 바꾸어도 된다.
수세 영역(202)에는, 치환 수세 영역(201)으로부터 수세 영역(202) 내로 반입되어 온 치환 수세 처리 후의 기판 W를, 수평면에 대해 기판 반송 방향과 직교하는 방향으로 경사시킨 자세로(기판 W의 앞측이 낮아지도록) 지지하여 수세 영역(202) 내에 있어서 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 복수의 반송 롤러(도시하지 않음)와, 수세 영역(202) 내를 수평 방향으로 반송되는 기판 W의 하면으로 세정수를 토출하기 위해서 기판 반송로의 아래쪽에 설치된 하부 스프레이 노즐(62)이 설치되며, 또한, 칸막이판(118)측보다도 기판 반송 방향 전방측의 수세 처리실(10)의 수세 영역(202) 내에 첫번째의 강제 배출 노즐(100)이 설치되고, 이 강제 배출 노즐(100)보다도 기판 반송 방향 전방측에 고압 노즐(18)이 설치되며, 이 고압 노즐(18)보다도 기판 반송 방향 전방측에 두번째의 강제 배출 노즐(100)이 설치되어 있다. 또, 두번째 강제 배출 노즐(100)보다도 기판 반송 방향 전방측이며 또한 칸막이판(120)보다도 기판 반송 방향 후방측에 기판 반송로를 사이에 두고, 상하 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)이 설치되고, 이 에어 노즐(22, 22)에는, 에어 공급원에 유로 접속된 에어 공급관(36)이 연통 접속되어 있다.
2개의 강제 배출 노즐(100, 100)은, 치환 수세 영역(201)과 마찬가지로, 반송되는 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판으로부터 근접한 거리 H, 예를 들면 10mm~50mm의 거리 H만큼 이간하여 설치되고, 그 토출구가 기판 반송 방향의 직각 방향에 대해 예각, 예를 들면 0~60°, 바람직하게는 45°의 각도를 이루도록 설정된다. 그리고, 이 강제 배출 노즐(100)로부터 고압, 예를 들면 0.1~0.5MPa, 바람직하게는 0.3MPa의 압력의 세정수가 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출된다.
이 수세 영역(202) 내에 설치되는 고압 노즐(18), 에어 노즐(22, 22)의 각 구성은, 치환 수세 영역(201) 내에 설치되는 고압 노즐(18), 에어 노즐(22, 22)의 각 구성과 동일하며, 또 하부 스프레이 노즐(62)의 구성도 치환 수세 영역(201) 내에 설치된 하부 스프레이 노즐(20)의 구성과 동일하다. 또한, 경우에 따라 에어 노즐(22)을 상하 한 쌍 설치하는 대신에, 하부 노즐(22)을 생략하고 상부 노즐(22)만이어도 된다.
기판 W는, 수세 영역(202) 내에 있어서 왕복 이동하거나 일시 정지하는 일 없이, 반송 롤러에 의해 예를 들면 9m/min~20m/min의 고속으로 반송된다. 또, 기판 W는, 기판 반송 방향에 있어서 예를 들면 1장분 정도의 간격을 두고 차례차례 수세 영역(202) 내로 반입되어 온다.
하부 스프레이 노즐(62) 및 강제 배출 노즐(100, 100) 및 고압 노즐(18)에는, 순환수 탱크(116)의 저류부(116b)에 연통 접속된 세정수 공급로(80)가 각각 유로 접속되고, 세정수 공급로(80)에 송액 펌프(78)가 개재 설치되어 있다. 그리고, 순환수 탱크(116)의 저류부(116b) 내로부터 세정수 공급로(80)를 통과하여 고압 노즐(18), 강제 배출 노즐(100, 100) 및 하부 스프레이 노즐(62)로 각각 세정수가 공급되도록 유로 구성되어 있다.
또, 직수세 영역(203)에 의해 획정되는 수세 처리실(10)의 저부에는, 직수세 영역(203) 내저부에 흘러 내린 사용이 끝난 세정수를 배출하기 위한 세정수 공급로(72)가 설치되어 있으며, 이 세정수 공급로(72)는, 순환수 탱크(116)의 저류부(116b)에 연통 접속되고, 저류부(116b)에는, 순수(신수)의 공급원에 유로 접속된 순수 공급로(69)가 연통 접속되어 있다. 저류부 116b 내에 저류된 세정수는, 그 액면이 상승하여 칸막이판(122)의 꼭대기부(122a)로부터 넘침으로써 저류부 116a 내로 공급되어, 치환 수세 영역(201) 내의 치환 수세 처리에 사용될 수 있게 되어 있다. 이 칸막이판(122)의 높이 치수 및/또는 순환수 탱크(116)의 길이 방향에서의 칸막이판(122)의 배치 위치를 변경함으로써, 저류부 116b 내로부터 저류부 116a 내로 넘치는 세정액의 양, 나아가서는 저류부 116a 내에 저류되는 세정액의 농도를 변경할 수 있다.
약액 처리실(38) 내의 입구 부근에 설치된 도시하지 않은 기판 위치 센서에 의해 기판 W의 전단 위치가 검지되고, 검지 신호가 제어 회로(108)로 출력된다. 제어 회로(108)는, 검지 신호를 수신한 시점으로부터 일정 시간 경과 후(기판 W의 전단이 수세 영역(202) 내의 2개의 강제 배출 노즐(100) 중 기판 반송 방향 후방측의 노즐(100)의 설치 위치에 도달하기 전)에, 송액 펌프(78)를 구동하여 각 노즐(18, 100, 100, 62)로 세정수의 토출이 개시되도록 프로그램 제어되어 있다.
또, 수세 영역(202) 내의 2개의 강제 배출 노즐(100) 중 기판 반송 방향 전방측의 노즐(100)보다도 기판 반송 방향 전방측이며 또한 에어 노즐(22)보다도 기판 반송 방향 후방측에, 기판 W의 후단 위치를 검지하는 기판 위치 센서(106)가 설치되어 있다. 기판 위치 센서(106)로부터 출력되는 검지 신호는 제어 회로(108)에 입력되고, 그 검지 신호에 기초하여 제어 회로(108)로부터 송액 펌프(78)에 제어 신호가 출력되어, 각 노즐(18, 100, 100, 62)로 세정수의 토출이 정지된다. 즉, 제어 회로(108)에 의해, 수세 영역(202) 내에 기판 W가 반입되어 있지 않을 때에는 고압 노즐(18), 강제 배출 노즐(100, 100) 및 하부 스프레이 노즐(62)로부터 세정수가 토출되지 않고, 수세 영역(202) 내로 기판 W이 반입되어 오기 직전에 각 노즐(18, 100, 100, 62)로부터의 세정수의 토출이 개시되고, 그 후, 수세 영역(202) 내로부터 기판 W가 반출될 때까지의 동안에, 각 노즐(18, 100, 100, 62)로부터 계속해서 세정수가 토출되고, 수세 영역(202) 내로부터 기판 W가 반출된 후에 각 노즐(18, 100, 100, 62)로부터의 세정수의 토출이 정지되도록, 송액 펌프(78)의 송액 동작이 제어된다.
상기한 구성을 구비한 수세 영역(202)에 있어서는, 치환 수세 영역(201)에서 치환 수세 처리된 직후의 기판 W가 수세 처리실(10)의 수세 영역(202) 내로 반입되어 오면, 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에 설치된 첫번째의(기판 반송 방향 후방측의) 강제 배출 노즐(100)의 토출구로부터, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출되는 세정수에 의해, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 형성된다. 이 액흐름에 의해, 치환 수세 영역(201)에 있어서 치환 수세 처리를 거친 기판 W 상의 잔류액이 기판 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다.
첫번째의 강제 배출 노즐(100)의 설치 위치를 기판 W가 통과하면, 이어서, 고압 노즐(18)의 토출구로부터 고압의 세정수가 기판 W의 상면을 향하여 토출된다. 이 고압 노즐(18)로부터 토출되는 세정수로 형성되는 물의 벽에 의해, 첫번째의 강제 배출 노즐(100)의 설치 위치를 통과한 후에 기판 W 상에 여전히 잔류하는 액이 전방으로 유동하는 것이 막아진다. 이와 같이 잔류액의 전방으로의 유동이 막아진 상태로 기판 W가 전방으로 이동하므로, 고압 노즐(18)의 설치 위치를 기판 W가 통과하는 동안에, 기판 W 상의 잔류액이 세정수로 급속히 치환되게 된다. 또, 이 동안에, 기판 W의 하면에 대해 하부 스프레이 노즐(62)의 토출구로부터 연속해서 세정수가 토출되어, 기판 W의 하면이 수세된다.
이어서, 기판 W가 고압 노즐(18)의 설치 위치를 통과한 후에, 기판 W의 일방측 끝가장자리 부근에 설치된 두번째의(기판 반송 방향 전방측의) 강제 배출 노즐(100)의 토출구로부터, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출되는 세정수에 의해, 기판 W의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름이 형성된다. 이 액흐름에 의해, 잔류액이 기판 W 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지된다.
그리고, 수세 영역(202) 내로부터 기판 W가 반출되기 전에, 상·하 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)로부터 기판 W의 상하 양면을 향하여 각각 에어가 뿜어진다. 이 한 쌍의 에어 노즐(22, 22)로부터 기판 W의 상하 양면으로 분출되는 에어 D의 압력에 의해, 기판 W의 상·하면에 부착된 액이 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 막아져, 기판 W에 약액이 부착되어 수세 영역(202) 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지된다.
이상의 일련의 수세 처리는, 기판 W가 수세 영역(202) 내로 반입되고 수세 영역(202) 내를 일방향으로 연속 반송되어 수세 영역(202) 내로부터 반출될 때까지의 짧은 시간, 예를 들면 15~30초간 행해진다. 또, 고압 노즐(18)로부터 기판 W의 상면으로 고압으로 토출되는 세정수에 의해 기판 W 상의 잔류액이 세정수로 급속히 치환되므로, 비교적 소량의 세정수의 사용에 의해 효율적으로 수세 처리가 행해진다. 또, 강제 배출 노즐(100)로부터 토출되는 세정수에 의해 형성되는 액흐름에 의해, 기판 W 상의 잔류액이 기판 W 상으로부터 강제적으로 배출됨과 함께 기판 반송 방향 전방으로 유동하는 것이 효과적으로 저지되므로, 수세 영역(202) 밖으로의 잔류액의 반출량이 저감된다. 또한, 수세 영역(202) 내에 기판 W가 반입되어 있지 않을 때에는 세정수의 토출을 정지시킴으로써, 세정수의 사용량을 보다 줄일 수 있다. 그리고, 기판 W 상의 잔류액이 수세 영역(202) 밖으로 반출되는 것이 효과적으로 저지되므로, 후술하는 직수세 영역(203) 내에서 기판 W의 직수세에 사용된 후의 세정수의 오염이 저감된다. 이 결과, 직수세 영역(203)에서 사용된 세정수의 순환 사용율이 높아지고, 나아가서는 이것이 순수 사용량의 또 다른 절감으로 연결되게 된다.
또한, 기판 반송 방향에 있어서, 고압 노즐(18)을 사이에 두고 2개의 강제 배출 노즐(100)을 설치하는 대신에, 고압 노즐(18)을 설치하는 일 없이 기판 반송 방향으로 3개 이상의 강제 배출 노즐(100)을 소정 간격을 두고 연접시켜도 된다.
직수세 영역(203) 내에는, 수세 영역(202)로부터 직수세 영역(203) 내로 반입되어 온 수세 처리 후의 기판 W를, 수평면에 대해 기판 반송 방향과 직교하는 방향으로 경사시킨 자세로(기판 W의 앞측이 낮아지도록) 지지하여 직수세 영역(203) 내에 있어서 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 복수의 반송 롤러(도시하지 않음)와, 직수세 영역(203) 내를 수평 방향으로 반송되는 기판 W의 상·하 양면으로 각각 세정수를 토출하는 상부 스프레이 노즐(86) 및 하부 스프레이 노즐(88)을 구비하고 있다. 상부 스프레이 노즐(86) 및 하부 스프레이 노즐(88)은, 기판 반송 방향을 따라 또한 서로 평행하게 각각 복수개 설치되고, 각 스프레이 노즐(86, 88)에는, 기판 반송 방향으로 복수개의 토출구가 일렬로 설치되어 있다. 상부 스프레이 노즐(86) 및 하부 스프레이 노즐(88)에는, 순수(신수)의 공급원에 유로 접속된 순수 공급로(89)가 연통 접속되어 있으며, 이 직수세 영역(203)에서의 수세 처리에서는, 사용이 끝난 순수를 순환시킨 세정수를 사용하고 있지 않다.
기판 W는, 직수세 영역(203) 내에 있어서 왕복 이동하거나 일시 정지하는 일 없이, 반송 롤러에 의해 예를 들면 9m/min~20m/min의 고속으로 반송된다. 또, 기판 W는, 기판 반송 방향에 있어서 예를 들면 1장분 정도의 간격을 두고 차례차례 직수세 영역(203) 내로 반입되어 온다.
직수세 영역(203) 내에서 직수세 처리를 끝낸 기판 W는, 반송 롤러에 의해 직수세 영역(203)의 기판 반출구를 통과하여 직수세 영역(203)의 후단측에 설치된 건조 처리부(도시하지 않음)에 반송되어 건조 처리된다.
상기한 구성을 구비한 기판 세정 처리 장치에 있어서는, 칸막이판(118 및 120)에 의해 치환 수세 영역(201), 수세 영역(202) 및 직수세 영역(203)으로 획정된 단체의 수세 처리실(10)에 의해 약액 처리 후의 기판의 수세 처리가 완료되므로, 종래와 같이, 개별·별체의 치환 수세실, 수세실 및 직수세실 도합 3실분의 크기의 풋프린트를 필요로 하지 않아 장치 전체의 공간 절약화를 도모할 수 있으며, 또한 3실분의 전체 제조 코스트와 비교해서 제조 코스트의 저감화를 달성할 수 있다.
또한, 칸막이판(118 및 120)의 수세 처리실(10) 내의 기판 반송 방향에서의 설치 위치를 적절히 선택함으로써, 수세 처리실(10) 내의 기판 반송 방향에서의 치환 수세 영역(201), 수세 영역(202) 및 직수세 영역(203)의 길이 치수를 각각 원하는 치수로 간이하게 설정할 수 있음과 함께, 순환수 탱크(116)의 저류부(116a 및 116b)로의 수세 영역(202) 및 직수세 영역(203)으로부터의 사용이 끝난 세정수의 회수량 및 농도를 원하는 값으로 설정할 수 있다.
또, 상기한 실시 형태에서는, 기판 W를 경사 자세로 지지하여 치환 수세 영역(201), 수세 영역(202), 직수세 영역(203)의 각 영역 내를 수평 방향으로 반송하도록 하고 있지만, 기판을 수평 자세로 지지하여 반송하도록 해도 된다.
또한, 이 발명은, 레지스트 박리 처리나 에칭 처리 외, 각종의 약액 처리를 행한 후의 기판의 수세 처리에 널리 적용할 수 있는 것이다.
1: 약액 처리부 3: 제2 수세부
4: 직수세부 5: 치환 수세부(제1 수세부)
10: 수세 처리실 12: 기판 반입구
16: 입구 노즐 18: 고압 노즐
18a: 직렬 고밀도 선형 스프레이 노즐 18b: 2유체 스프레이 노즐
20, 62: 하부 스프레이 노즐 22: 에어 노즐
24: 배액로 26: 후드
28: 배기관 30, 72, 80: 세정수 공급로
32, 78: 송액 펌프 34, 36: 에어 공급관
38: 약액 처리실 54: 제2 수세실
60, 62, 86, 88: 스프레이 노즐 64: 순환 배수로
68, 69: 순수 공급로 70: 직수세실
90: 배기관 92a: 스프레이 파이프
92b: 2유체 스프레이 헤더관 94a: 노즐부
94b: 2유체 노즐부 96: 에어 공급로
100: 강제 배출 노즐 104, 106: 기판 위치 센서
108: 제어 회로 116: 순환수 탱크
118, 120, 122: 칸막이판 200, 300: 기판 세정 처리 장치
201: 치환 수세 영역 202: 수세 영역
203: 직수세 영역 W: 기판

Claims (14)

  1. 기판 반송 방향에 있어서 치환 수세 영역, 수세 영역 및 직(直)수세 영역으로 이 순서대로 획정되어, 약액 처리 후의 기판에 대해 수세 처리를 행하는 수세 처리실과,
    상기 치환 수세 영역 내에 설치되어 기판을 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 기판 반송 수단과,
    상기 기판 반송 수단에 의해 반송되는 기판의 주면으로 세정수를 공급하는 세정수 공급 수단을 구비한 기판 세정 처리 장치로서,
    상기 세정수 공급 수단은,
    상기 치환 수세 영역 내의 입구 부근에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판의 주면으로 세정수를 기판의 폭방향 전체에 걸쳐 토출하는 입구 노즐과,
    상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판 상의 약액과 세정액의 혼합액이 기판 반송 방향에서의 전방측으로 유동하는 것을 막아 기판 상의 약액이 세정수로 급속히 치환되도록 기판의 주면으로 세정수를 고압으로 토출하는 고압 노즐과,
    상기 치환 수세 영역 내에 있어서 상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측이며 또한 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 설치되고, 고압의 세정수를 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출함으로써 기판 상에 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름을 형성하고, 당해 액흐름에 의해 기판 상에 잔류하는 약액과 세정수의 혼합액을 기판 상으로부터 강제적으로 배출하는 고압 배출 노즐과,
    상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로 세정액을 송액(送液)하는 송액 수단과,
    상기 치환 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 상기 치환 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 상기 송액 수단을 제어하는 제어 수단을 구비하여 구성되고,
    상기 입구 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 설치되어, 기판에 약액과 세정액의 혼합액이 부착되어 치환 수세 영역 밖으로 반출되는 것을 저지하도록 기판의 주면으로 기체를 직하 방향 내지 기판 반송 방향에 대해 비스듬한 역방향으로 분출하는 기체 노즐과,
    상기 치환 수세 영역의 내저부에 흘러 내린 세정수를 배출하는 배수 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐, 상기 고압 배출 노즐 및 상기 기체 노즐이, 기판 반송 방향에서 이 순서대로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 입구 노즐이, 길이 방향을 따른 슬릿 형상 토출구를 가지고, 이 슬릿 형상 토출구로부터 기판의 주면으로 세정수를, 직하 방향에 대해 기판 반송 방향에서의 전방측으로 경사진 방향으로 커튼 형상으로 토출하는 슬릿 노즐인 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 고압 노즐이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 서로 근접하여 나란히 설치된 복수의 토출구를 가지고, 각 토출구로부터 각각 선상(扇狀)으로 세정수를 고압으로 토출하는 직렬 고밀도 선형(扇形) 스프레이 노즐인 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 고압 노즐이, 기판 반송 방향에 대해 교차하는 방향으로 서로 근접하여 나란히 설치된 복수의 토출구를 가지고, 각 토출구로부터 각각 기체의 압력으로 세정수를 미스트화하여 토출하는 2유체 스프레이 노즐인 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 고압 노즐에, 그 토출구로부터 토출되는 세정수의 미스트가 비산되는 것을 방지하기 위한 후드가 부설된 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 후드를 통하여 세정수의 미스트를 흡인하여 배출하는 미스트 흡인 장치가 병설된 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    기판 반송 방향에 대해 직교하는 방향으로 상기 고압 배출 노즐로부터 소정의 간격을 두고 적어도 또 다른 하나의 고압 배출 노즐이 연속 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 수세 영역 내에 기판을 일방향으로 연속해서 수평 방향으로 반송하는 기판 반송 수단이 설치되고, 또한 상기 수세 영역 내에 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 제1 고압 배출 노즐이 설치됨과 함께, 당해 제1 고압 배출 노즐로부터 기판 반송 방향에 있어서 소정의 간격을 두고, 반송되는 기판의 일방측 끝가장자리 부근에서 기판에 근접하여 적어도 또 다른 하나의 제2 고압 배출 노즐이 설치되고, 당해 제1 및 제2 고압 배출 노즐로부터 고압의 세정수를 기판의 타방측 끝가장자리 방향 내지 기판 반송 방향 후방을 향해 토출함으로써 기판의 타방측 끝가장자리 방향으로 유동하는 액흐름을 기판 상에 형성하고, 당해 액흐름에 의해 기판 상의 잔류액을 강제적으로 배출하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 수세 영역 내에, 기판 반송 방향에 있어서 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐의 사이에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 고압 노즐이 설치되고, 당해 고압 노즐로부터 기판의 주면으로 세정수를 고압으로 토출함으로써, 기판 상의 잔류액이 기판 반송 방향에 있어서의 전방측으로 유동하는 것을 막아 기판 상의 잔류액이 세정수로 급속히 치환되고,
    상기 고압 노즐로부터 기판 반송 방향에서의 전방측에, 기판 반송 방향에 대해 교차하도록 기체 노즐이 설치되어, 당해 기체 노즐로부터 기판의 주면으로 기체를 직하 방향 내지 기판 반송 방향에 대해 비스듬한 역방향으로 분출함으로써, 기판 상의 부착액이 상기 수세 영역 밖으로 반출되는 것을 저지하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 송액 수단은, 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐과 상기 고압 노즐로 세정액을 송액하고,
    상기 제어 수단은, 상기 수세 영역 내로 기판이 반입되기 전에 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 개시하고, 상기 수세 영역 내로부터 기판이 반출된 후에 상기 제1 및 제2 고압 배출 노즐 및 상기 고압 노즐로부터의 세정수의 토출을 정지하도록 상기 송액 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 수세 영역 및 상기 직수세 영역에 있어서 사용되고 회수된 세정수의 일부가, 상기 치환 수세 영역 내에 설치된 상기 입구 노즐, 상기 고압 노즐 및 상기 고압 배출 노즐로 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 송액 수단은, 제1 및 제2 저류부에 획정되는 순환수 탱크를 구비하고,
    당해 제1 저류부로 상기 수세 영역에 의해 획정되는 상기 수세 처리실로부터의 사용이 끝난 세정수가 회수되고, 당해 제2 저류부로 상기 직수세 영역에 의해 획정되는 상기 수세 처리실로부터의 사용이 끝난 세정수가 회수되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
  14. 청구항 1에 있어서,
    상기 수세 처리실 내에 있어서 기판 반송 방향과 교차하는 방향으로 연장되는 제1 및 제2 칸막이 부재가 설치되어, 당해 제1 칸막이 부재에 의해 상기 치환 수세 영역과 상기 수세 영역이 획정되고, 상기 제2 칸막이 부재에 의해 상기 수세 영역과 상기 직수세 영역이 획정되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 처리 장치.
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