KR20110025771A - 비대칭성 아진 화합물 및 그의 제조 방법 - Google Patents
비대칭성 아진 화합물 및 그의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110025771A KR20110025771A KR1020107029368A KR20107029368A KR20110025771A KR 20110025771 A KR20110025771 A KR 20110025771A KR 1020107029368 A KR1020107029368 A KR 1020107029368A KR 20107029368 A KR20107029368 A KR 20107029368A KR 20110025771 A KR20110025771 A KR 20110025771A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- formula
- compound
- group
- alkyl group
- hydrogen atom
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/72—Hydrazones
- C07C251/88—Hydrazones having also the other nitrogen atom doubly-bound to a carbon atom, e.g. azines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C249/00—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C249/16—Preparation of compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton of hydrazones
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
신규의 비대칭성 아진 화합물 (I), 및 알데히드 화합물 (III) 과 히드라진을 2:1 내지 1:2 의 몰비 (알데히드 화합물 (III):히드라진) 로 알코올 용매 중에 반응시킴으로써 히드라존 화합물 (IV) 를 포함하는 반응액을 수득한 후, 알데히드 화합물 (V) 를 2:1 내지 1:2 의 몰비 (알데히드 화합물 (V):히드라존 화합물 (IV)) 로 반응을 위해 이러한 방식으로 수득한 반응액에 첨가하는 것을 특징으로 하는 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법을 개시하고 있다. 본 방법으로 각 분자 중에 히드록실기 또는 카르복실기 등의 극성기를 갖는 비대칭성 아진 화합물을 상업적으로 유리하게 제조할 수 있다. 신규의 비대칭성 아진 화합물을 하기 제조 방법으로 수득할 수 있다.
[식 중, R1 및 R2 는 각각 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고; X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, -C(=O)-OR3 등을 나타내고; R3 은 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 등을 나타냄]
[식 중, R1 및 R2 는 각각 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고; X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, -C(=O)-OR3 등을 나타내고; R3 은 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 등을 나타냄]
Description
본 발명은 액정 화합물을 위한 중간체 등으로서 유용한 비대칭성 아진 화합물 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
하기식 (A) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물은 액정성 화합물로 공지되어 왔다.
[화학식 1]
[식 중, Ra 는 알킬기를 나타내고, Rb 는 알킬기, 시아노기, 불소 원자, 트리플루오로메톡시기 등을 나타냄]
상기 비대칭성 아진 화합물은 넓은 온도 범위에 걸쳐 액정 상을 나타내는 액정 물질이고, 비교적 화학적으로 안정하고, 예컨대 저렴하게 제조될 수 있다.
상기 비대칭성 아진 화합물은 예컨대 (i) 제 1 알데히드 화합물을 히드라진과 반응시켜 히드라존을 제조하고, 수득한 히드라존을 제 2 알데히드 화합물과 반응시키거나 (특허 문헌 1), 또는 (ii) 하기식 (B) 로 나타낸 알데히드를 알코올 용매 중에서 과잉의 히드라진과 반응시켜 하기식 (C) 로 나타낸 히드라존 화합물을 포함하는 반응액을 수득하고,
[화학식 2]
[식 중, Ra 는 상기 정의된 바와 동일함]
[화학식 3]
[식 중, Ra 는 상기 정의된 바와 동일함]
식 (C) 로 나타낸 히드라존 화합물을 상기 반응액으로부터 단리하고, 히드라존 화합물을 하기식 (D) 로 나타낸 알데히드와 반응시켜 식 (A) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물을 수득함으로써 제조할 수 있다.
[화학식 4]
[식 중, Rb 는 상기 정의된 바와 동일함]
그러나, 분자 중의 극성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 를 포함하는 비대칭성 아진 화합물을 제조할 경우, 히드라존 화합물 (중간체) 은 높은 수용성을 갖기 때문에 히드라존 화합물을 반응계로부터 단리하는 것이 곤란할 수 있다. 이는 특허 문헌 1 또는 2 에 개시되어 있는 방법을 직접 적용하는 것을 곤란하게 한다.
특허 문헌 2 는 특허 문헌 1 에 개시되어 있는 방법을 사용할 경우 발생할 수 있는 문제에 대해 언급하고 있다. 구체적으로는, 특허 문헌 2 는 표적 생성물이 특허 문헌 1 에 개시되어 있는 방법을 사용할 경우 불균화 반응으로 인해 고수율로 수득될 수 없음을 기재하고 있다.
불균화 반응이 산에 의해 촉진됨은 공지되어 있다. 구체적으로는, 극성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 가 분자 중에 존재할 경우 불균화 반응은 더 용이하게 진행된다. 따라서, 분자 중에 극성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 를 포함하는 비대칭성 아진 화합물을 고수율로 제조하는 것은 곤란하다.
이러한 문제는 극성기가 적절한 보호기에 의해 보호되는 알데히드 화합물을 이용함으로써 해결될 수 있다. 상기 경우에 있어, 반응 선택성이 개선될 수 있다. 그러나, 상기 방법은 저렴한 보호기를 이용하기 때문에 제조 비용의 관점에서 공업적으로 유리하지 않다.
관련 기술 문헌
특허 문헌
특허 문헌 1: JP-A-54-87688
특허 문헌 2: JP-A-10-59919
본 발명은 상기 상황을 감안하여 이루어졌다. 본 발명의 목적은 분자 중에 극성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 를 포함하는 비대칭성 아진 화합물을 공업적으로 유리하게 제조하는 방법 및 이러한 방법으로 수득한 신규의 비대칭성 아진 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명의 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해 예의 연구를 수행하였다. 놀랍게도, 본 발명자들은 알코올 용매 중에서 4-위치에서의 산성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 를 갖는 벤즈알데히드와 히드라진을 1:1 의 몰비로 반응시켜 히드라존 화합물을 침전시켜 히드라존 화합물을 포함하는 반응액을 수득하고, 히드라존 화합물을 반응액으로부터 단리하지 않고 4-히드록시벤즈알데히드를 반응액에 첨가하여 상기 화합물을 반응시킴으로써, 표적 비대칭성 아진 화합물이 고수율로 높은 선택성으로 제조될 수 있음을 밝혀냈다. 본 발명자들은 또한 반응 진행과 함께 표적 비대칭성 아진 화합물이 반응계로부터 우선적으로 침전됨으로, 간단한 여과에 의해 매우 순수한 비대칭성 아진 화합물을 단리할 수 있음을 밝혀냈다. 이러한 발견에 의해 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 제 1 양태는 하기 비대칭성 아진 화합물을 제공한다 ((1) 내지 (3) 참조).
(1) 하기 일반식 (I) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물,
[화학식 5]
[식 중, R1 및 R2 는 각각 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고, X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며, 단 하기식 (IX) 로 나타낸 기는 하기식 (X) 으로 나타낸 기와 동일하지 않음]
[화학식 6]
[식 중, R1 및 X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
[화학식 7]
[식 중, R2 및 X5 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일함]
(2) 하기 일반식 (II) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물,
[화학식 8]
[식 중, X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며, 단 하기식 (IX) 로 나타낸 기는 하기식 (X) 으로 나타낸 기와 동일하지 않음]
[화학식 9]
[식 중, X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
[화학식 10]
[식 중, X5 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일함]
(3) 하기 일반식 (II) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물,
[화학식 11]
[식 중, X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, OR3, -O-C(=O)-R3 또는 -C(=O)-OR3 을 나타내고, R3 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기를 나타내며, 단 하기식 (IX) 로 나타낸 기는 하기식 (X) 으로 나타낸 기와 동일하지 않음]
[화학식 12]
[식 중, X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
[화학식 13]
[식 중, X5 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일함]
본 발명의 제 2 의 양태는 하기 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법을 제공한다 ((4) 내지 (6) 참조).
(4) 알코올 용매 중에서 하기 일반식 (III) 으로 나타낸 화합물과 히드라진을 2:1 내지 1:2 의 몰비로 반응시켜 하기 일반식 (IV) 로 나타낸 화합물을 포함하는 반응액을 수득하고,
[화학식 14]
[식 중, R1 은 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고, X1 내지 X4 는 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타냄]
[화학식 15]
[식 중, R1 및 X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 같음]
하기 일반식 (V) 로 나타낸 화합물과 일반식 (IV) 로 나타낸 화합물의 몰비가 2:1 내지 1:2 가 되도록 일반식 (V) 로 나타낸 화합물을 수득한 반응액에 첨가함으로써 일반식 (IV) 로 나타낸 화합물과 일반식 (V) 로 나타낸 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 (1) 에 따른 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법,
[화학식 16]
[식 중, R2 는 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고, X1 내지 X4 는 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며, 단 일반식 (III) 으로 나타낸 화합물은 일반식 (V) 로 나타낸 화합물과 동일하지 않음].
(5) 알코올 용매 중에서 하기 일반식 (VI) 으로 나타낸 화합물과 히드라진을 2:1 내지 1:2 의 몰비로 반응시켜 하기 일반식 (VII) 로 나타낸 히드라존 화합물을 포함하는 반응액을 수득하고,
[화학식 17]
[식 중, X1 내지 X4 는 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타냄]
[화학식 18]
[식 중, X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
하기 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물과 일반식 (VII) 로 나타낸 화합물의 몰비가 2:1 내지 1:2 가 되도록 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물을 수득한 반응액에 첨가함으로써 일반식 (VII) 로 나타낸 화합물과 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물을 반응시키는 것을 포함하는, 상기 (2) 에 따른 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법,
[화학식 19]
[식 중, X5 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타내며, 단 일반식 (VI) 으로 나타낸 화합물은 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물과 동일하지 않음].
(6) (4) 또는 (5) 에 있어서, 알코올이 탄소수 1 내지 10 의 알코올인 방법.
따라서, 본 발명은 분자 중에 극성기 (예컨대 히드록실기 또는 카르복실기) 를 포함하는 신규의 비대칭성 아진 화합물을 공업적으로 유리하게 제조하는 방법 및 이러한 방법으로 제조된 신규의 비대칭성 아진 화합물을 제공한다.
본 발명은 하기 상세하게 기재되어 있다.
1) 비대칭성 아진 화합물
본 발명의 제 1 양태는 일반식 (I) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물을 제공한다.
일반식 (I) 의 R1 및 R2 는 각각 히드록실기 또는 카르복실기를 나타내고, 바람직하게는 히드록실기를 나타낸다.
X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타낸다.
X1 내지 X8 로 나타낸 할로겐 원자의 예로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 포함한다.
X1 내지 X8 로 나타낸 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기의 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 포함한다.
X1 내지 X8 로 나타낸 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기를 위한 치환기의 예로는 할로겐 원자, 예컨대 불소 원자 및 염소 원자; 알콕시기, 예컨대 메톡시기 및 에톡시기; 치환 또는 미치환 페닐기, 예컨대 페닐기 및 4-메틸페닐기 등을 포함한다.
R3 내지 R5 는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기를 나타낸다.
상기 나타낸 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 및 R3 내지 R5 로 나타낸 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기를 위한 치환기의 예로는, 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 및 X1 내지 X8 로 나타낸 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기와 관련하여 상기 언급된 치환기를 포함한다.
R3, R4 및/또는 R5 로 나타낸 알킬기는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있다 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외).
R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기, 예컨대 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸 또는 n-헥실기를 나타낸다.
식 (IX) 로 나타낸 기가 식 (I) 에서의 식 (X) 으로 나타낸 기와 동일하지 않음에 유의하도록 한다.
일반식 (I) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물은 일반식 (II) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물인 것이 바람직하다.
일반식 (II) 의 X1 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일하다. X1 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 비치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3 또는 -C(=O)-OR3 을 나타내는 것이 바람직하다. R3 은 상기 정의된 바와 동일하다.
본 발명에 있어서, 일반식 (I) 로 나타낸 바람직한 비대칭성 아진 화합물의 구체예로는 하기 화합물을 포함한다.
[화학식 20]
[화학식 21]
2) 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법
본 발명의 제 2 의 양태는 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법으로서, 알코올 용매 중에서 일반식 (III) 으로 나타낸 화합물 (이하 "알데히드 화합물 (III)" 으로 지칭할 수 있음) 과 히드라진을 2:1 내지 1:2 의 몰비로 반응시켜 일반식 (IV) 로 나타낸 히드라존 화합물 (이하 "히드라존 화합물 (IV)" 로 지칭할 수 있음) 을 포함하는 반응액을 수득하고, 알데히드 화합물 (V) 와 히드라존 화합물 (IV) 의 몰비가 2:1 내지 1:2 가 되도록 일반식 (V) 로 나타낸 알데히드 화합물 (이하 "알데히드 화합물 (V)" 로 지칭할 수 있음) 을 수득한 반응액에 첨가함으로써 히드라존 화합물 (IV) 와 알데히드 화합물 (V) 를 반응시키는 것을 포함하는 방법을 제공한다.
본 발명의 하나의 구현예에 따른 방법은 하기 반응으로 도식적으로 나타낸다.
[화학식 22]
[식 중, R1, R2 및 X1 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일함]
알데히드 화합물 (III) 은 알데히드 화합물 (V) 와 동일하지 않다.
상기 반응식에서 보여지는 바와 같이, 본 발명의 하나의 구현예에 따른 방법은 알코올 용매 중에서 알데히드 화합물 (III) 과 히드라진을 2:1 내지 1:2 (바람직하게는 1.5:1 내지 1:1.5, 특히 바람직하게는 약 1:1) 의 몰비로 반응시켜 상응하는 히드라존 화합물 (IV) 를 침전시켜 히드라존 화합물 (IV) 를 포함하는 반응액을 수득하고 (제 1 단계), 히드라존 화합물 (IV) 를 반응액으로부터 단리하지 않고 알데히드 화합물 (V) 와 히드라존 화합물 (IV) 의 몰비가 2:1 내지 1:2 (바람직하게는 1.5:1 내지 1:1.5, 특히 바람직하게는 약 1:1) 가 되도록 알데히드 화합물 (V) 를 반응액에 첨가함으로써 히드라존 화합물 (IV) 와 알데히드 화합물 (V) 를 반응시킴으로써 (제 2 단계) 표적 비대칭성 아진 화합물 (I) 을 고수율로 높은 선택성으로 제조하는 것을 포함한다.
상기 방법에 의하면, 표적 비대칭성 아진 화합물 (I) 을 고수율로 높은 반응 선택성으로 제조할 수 있다. 제 2 단계로 수득한 반응액은 표적 비대칭성 아진 화합물 (I), 2 분자의 알데히드 화합물 (III) 과 히드라진과의 반응으로 생성된 아진 화합물 (XI), 및 2 분자의 알데히드 화합물 (V) 와 히드라진 화합물 (IV) 의 불균화 반응으로 생성된 히드라진과의 반응으로 생성된 아진 화합물 (XII) 를 포함한다. 그러나, 표적 비대칭성 화합물 (I) 은 하기 기재되는 바와 같이 반응계로부터 우선적으로 침전되기 때문에 간단한 여과에 의해 매우 순수한 비대칭성 아진 화합물 (I) 을 단리할 수 있다. 이는 탁월한 작업성을 확보해 준다.
히드라진 1 수화물은 통상적으로 본 발명의 히드라진으로 사용된다. 시판되는 히드라진을 직접 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용된 알코올은 특별히 제한되지 않는다. 표적 생성물을 고수율로 더 높은 선택성으로 수득한다는 관점에서 탄소수 1 내지 10 의 알코올을 사용하는 것이 바람직하다.
탄소수 1 내지 10 의 알코올의 예로는 메탄올, 에탄올, n-프로필 알코올, 이소프로필 알코올, n-부틸 알코올, 이소부틸 알코올, sec-부틸 알코올, tert-부틸 알코올, n-펜틸 알코올, 아밀 알코올 등을 포함한다.
알데히드 화합물의 유형, 알코올의 유형, 반응 스케일 등을 고려하여 알코올을 적정량으로 사용할 수 있다. 알코올은 통상적으로 히드라진 (히드라진 1 수화물) 의 g 당 1 내지 100 g 의 양으로 사용된다.
히드라진, 알데히드 화합물 및 히드라존 화합물의 용해성을 고려하여 물을 알코올과 함께 사용할 수 있다. 트리에틸아민 등의 아민 화합물을 알코올에 첨가하여 반응 수율을 개선시킬 수 있다.
침전된 히드라존 화합물 (IV) 를 용해하는 용매 (예컨대 테트라히드로푸란) 를 제 2 단계에서 사용할 수 있다.
본 발명에서는 공지된 알데히드 화합물을 사용할 수 있고, 공지된 방법으로 제조할 수도 있다. 시판되는 알데히드 화합물을 직접 또는 정제 후에 사용할 수 있다.
2 종의 알데히드 화합물을 임의의 순서로 본 발명에 사용할 수 있다. 고수율로 높은 선택성으로 표적 비대칭성 아진 화합물 (I) 을 저렴하게 제조할 수 있다는 점에서, 히드라진과의 반응성이 비교적 낮은 알데히드 화합물을 히드라진과 반응시키는 것이 바람직하다.
제 1 단계 및 제 2 단계에서 사용된 반응 온도는 0 ℃ 내지 용매의 비등점, 바람직하게는 10 내지 60 ℃ 범위이다. 반응 시간은 반응 스케일에 따라 결정되지만, 통상적으로 1 분 내지 수 시간이다.
반응의 완료 후, 표적 생성물을 합성 유기 화학에서 통상 사용되는 분리/여과 수단으로 단리할 수 있다.
본 발명에 따르면, 반응의 진행과 함께 표적 비대칭성 아진 화합물 (I) 이 반응계로부터 침전됨으로, 간단한 여과에 의해 매우 순수한 비대칭성 아진 화합물 (I) 을 단리할 수 있다.
표적 생성물의 구조는 NMR 스펙트럼 분석, IR 스펙트럼 분석, 질량 스펙트럼 분석, 가스 크로마토그래피, 액체 크로마토그래피 등에 의해 확인될 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 추가로 실시예와 비교예에 의해 상세히 설명한다. 본 발명은 하기 실시예로 제한되지 않는다.
(실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 4)
1-(3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤질리덴)-2-(4-히드록시벤질리덴)히드라진의 합성
[화학식 23]
상기 반응은 하기와 같이 수행되었다.
0.5 g (10 mmol) 의 히드라진 1 수화물을 20 g 의 표 1 에 나타낸 용매 중에 용해시키고, 상기 용액을 지정된 온도 α 로 가열하였다. 1.8 g (10 mmol) 의 3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤즈알데히드 (VI-1) 을 첨가한 후, 그 혼합물을 α 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 1.22 g (10 mmol) 의 4-히드록시벤즈알데히드 (VIII-1) 을 첨가한 후, 그 혼합물을 α 온도에서 2 시간 동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 20 ℃ 로 냉각함으로써 충분히 결정을 침전시켰다. 이어서, 그 침전물을 여거하여 밝은 황색 고체를 수득하였다. 밝은 황색 고체의 조성을 고성능 액체 크로마토그래피로 분석하였다.
표 1 은 용매의 유형, 반응 시간, 침전물의 수율 (즉 화합물 (I-1), (XI-1) 및 (XII-1) 의 혼합물) 및 고성능 액체 크로마토그래피에 의한 침전물의 분석 결과 (즉, 침전물에 포함된 화합물 (I-1), (XI-1) 및 (XII-1) 의 몰비) 를 나타낸다.
고성능 액체 크로마토그래피 조건
하기 고성능 액체 크로마토그래피 조건을 사용하였다.
장치: Agilent 사에 의해 제조된 1100 시리즈
용리액: 아세토니트릴:THF:물 (완충액: KH2PO4 20 mM)=65:15:20 (부피비)
컬럼: Agilent 사에 의해 제조된 ZORBAX Eclipse XDB-C18 (직경: 4.6 mm, 길이: 250 mm)
온도: 40 ℃
유속: 1 ml/분
파장: 254 nm
표 1 에 나타낸 기호는 하기를 지시한다.
I-PrOH: 이소프로필 알코올
MeOH: 메탄올
DMF: N,N-디메틸포름아미드
THF: 테트라히드로푸란
표 1 에 나타낸 바와 같이, 알코올을 반응 용매로 사용할 경우에는 반응 용매로서 DMF (아미드 용매) (비교예 1 및 2), THF (에테르 용매) (비교예 3) 또는 아세토니트릴 (CH3CN) (비교예 4) 을 사용한 경우와 비교해 보았을 때 표적 1-(3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤질리덴)-2-(4-히드록시벤질리덴)히드라진 (비대칭성 아진 화합물) 을 고수율로 높은 반응 선택성으로 수득하였다.
(비교예 5)
1-(3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤질리덴)-2-(4-히드록시벤질리덴)히드라진의 합성
3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤즈알데히드 및 4-히드록시벤즈알데히드를 사용하는 특허 문헌 2 의 실시예 1 에 따라 1-(3-메톡시카르보닐-4-히드록시벤질리덴)-2-(4-히드록시벤질리덴)히드라진을 합성하였다. 그러나, 디클로로메탄으로 생성물을 추출할 수 없었다. 따라서, 표적 생성물 (비대칭성 아진 화합물) 을 수득하지 못했다.
본 발명에 따른 비대칭성 아진 화합물은 높은 광학 이방성 (Δn) 을 갖는 액정 화합물의 중간체로서 유용하다. 특히, 본 발명에 따른 비대칭성 아진 화합물은 PCT/JP2008/57896 (WO2008/133290) 에 개시되어 있는 신규의 중합체성 액정 화합물의 중간체로서 유용하다.
Claims (6)
- 하기 일반식 (II) 로 나타낸 비대칭성 아진 화합물의 제조 방법으로서, 상기 방법이 알코올 용매 중에서 하기 일반식 (VI) 으로 나타낸 화합물과 히드라진을 2:1 내지 1:2 의 몰비로 반응시켜 하기 일반식 (VII) 로 나타낸 히드라존 화합물을 포함하는 반응액을 수득하고,
[화학식 1]
[식 중, X1 내지 X4 는 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 각각 수소 원자 또는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-O-, -NR6-C(=O)-, -C(=O)-NR6-, -NR6- 또는 -C(=O)- 를 통해 결합될 수 있는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기 (알킬기가 2 개 이상의 인접한 -O- 또는 -S- 를 통해 결합되는 경우는 제외) 를 나타내고, R6 은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기를 나타냄]
[화학식 2]
[식 중, X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
하기 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물과 일반식 (VII) 로 나타낸 화합물의 몰비가 2:1 내지 1:2 가 되도록 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물을 수득한 반응액에 첨가함으로써 일반식 (VII) 로 나타낸 화합물과 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물을 반응시키는 것을 포함하는 제조 방법.
[화학식 3]
[식 중, X5 내지 X8 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기, 시아노기, 니트로기, -OR3, -O-C(=O)-R3, -C(=O)-OR3, -O-C(=O)-OR3, -NR4-C(=O)-R3, -C(=O)-N(R4)(R5) 또는 -O-C(=O)-N(R4)(R5) 를 나타내고, R3, R4 및 R5 는 상기 정의된 바와 동일하며, 단 일반식 (VI) 으로 나타낸 화합물은 일반식 (VIII) 로 나타낸 화합물과 동일하지 않음]
[화학식 4]
[식 중, X1 내지 X8 은 상기 정의된 바와 동일하며, 단 하기식 (IX) 로 나타낸 기는 하기식 (X) 으로 나타낸 기와 동일하지 않음]
[화학식 5]
[식 중, X1 내지 X4 는 상기 정의된 바와 동일함]
[화학식 6]
[식 중, X5 내지 X8 는 상기 정의된 바와 동일함] - 제 1 항에 있어서, X1 이 -C(=O)-OR3 을 나타내고, R3 이 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10 의 치환 또는 미치환 알킬기를 나타내고, X2 내지 X8 이 수소 원자를 나타내는 방법.
- 제 1 항에 있어서, X1 이 -C(=O)-OCH3 을 나타내고, X2 내지 X8 이 수소 원자를 나타내는 방법.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 알코올이 탄소수 1 내지 10 의 알코올인 방법.
- 제 5 항에 있어서, X1 이 -C(=O)-OCH3 을 나타내는 비대칭성 아진 화합물.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2008-170743 | 2008-06-30 | ||
JP2008170743 | 2008-06-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110025771A true KR20110025771A (ko) | 2011-03-11 |
Family
ID=41465827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107029368A KR20110025771A (ko) | 2008-06-30 | 2009-06-17 | 비대칭성 아진 화합물 및 그의 제조 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8871977B2 (ko) |
EP (1) | EP2305638B1 (ko) |
JP (1) | JP5541158B2 (ko) |
KR (1) | KR20110025771A (ko) |
CN (1) | CN102076656B (ko) |
TW (1) | TWI444360B (ko) |
WO (1) | WO2010001726A1 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102993045B (zh) * | 2012-12-02 | 2015-04-15 | 桂林理工大学 | 3,5-二溴水杨醛缩水合肼双希夫碱的原位合成方法 |
CN103086919A (zh) * | 2013-01-24 | 2013-05-08 | 桂林理工大学 | 4-(二乙氨基)-水杨醛缩水合肼双希夫碱的原位合成方法 |
CN103254098A (zh) * | 2013-05-31 | 2013-08-21 | 桂林理工大学 | 3,5-二氯水杨醛缩水合肼双希夫碱的原位合成方法 |
CN103254097A (zh) * | 2013-06-11 | 2013-08-21 | 桂林理工大学 | 乙氧基水杨醛缩水合肼双希夫碱的原位合成方法 |
CN105061252B (zh) * | 2015-07-21 | 2017-05-31 | 安徽理工大学 | 一种制备1,2‑双(1‑芳烷基亚甲基)肼化合物的方法 |
CN106496067B (zh) * | 2015-09-07 | 2018-08-07 | 香港科技大学深圳研究院 | 基于间位链接的联肼基吖嗪结构化合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2829492A (en) * | 1955-02-28 | 1958-04-08 | Reaction Motors Inc | Temperature compensated regulator for fluid supply lines |
US3829492A (en) | 1972-02-04 | 1974-08-13 | Rohm & Haas | Fungicidal salicylaldehyde hydrazones and azines |
US4169975A (en) * | 1977-07-08 | 1979-10-02 | Merrill Block | Two-phase transformer and welding circuit therefor |
CA1110352A (en) | 1977-12-19 | 1981-10-06 | Stanley Laskos, Jr. | Azine liquid crystal compounds for use in light- control devices |
US4196975A (en) | 1977-12-19 | 1980-04-08 | General Electric Company | Azine liquid crystal compounds for use in light-control devices |
US4265784A (en) * | 1979-04-03 | 1981-05-05 | General Electric Company | Azine liquid crystal compounds for use in light-control devices |
US4385067A (en) * | 1981-04-03 | 1983-05-24 | Gaf Corporation | Fungicidal nitrilomethylidyne phenyl-acrylates and method of use |
US5939460A (en) * | 1996-07-08 | 1999-08-17 | Idun Pharmaceuticals, Inc. | Method of inhibiting NADPH oxidase |
JP3851992B2 (ja) | 1996-08-22 | 2006-11-29 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 非対称アジン類の製造方法 |
DE69708231T2 (de) * | 1996-08-22 | 2002-07-11 | Dainippon Ink & Chemicals | Azin-Derivat, Verfahren zu seiner Herstellung, diese enthaltende nematische flüssigkristalline Zusammensetzung und diese enthaltende flüssigkristalline Anzeigevorrichtung |
JP4411989B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2010-02-10 | Dic株式会社 | 化合物、該化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子 |
JP2008057896A (ja) | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Nidec Sankyo Corp | 製氷装置の製造方法、および製氷装置 |
WO2008133290A1 (ja) | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Zeon Corporation | 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体 |
TWI439537B (zh) | 2007-09-28 | 2014-06-01 | Zeon Corp | Liquid crystal compositions and their use |
-
2009
- 2009-06-17 KR KR1020107029368A patent/KR20110025771A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-06-17 EP EP09773304.2A patent/EP2305638B1/en active Active
- 2009-06-17 US US12/997,966 patent/US8871977B2/en active Active
- 2009-06-17 WO PCT/JP2009/061014 patent/WO2010001726A1/ja active Application Filing
- 2009-06-17 CN CN200980125204.5A patent/CN102076656B/zh active Active
- 2009-06-17 JP JP2010518983A patent/JP5541158B2/ja active Active
- 2009-06-22 TW TW98120789A patent/TWI444360B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102076656A (zh) | 2011-05-25 |
TWI444360B (zh) | 2014-07-11 |
JPWO2010001726A1 (ja) | 2011-12-15 |
JP5541158B2 (ja) | 2014-07-09 |
US20110144379A1 (en) | 2011-06-16 |
EP2305638A4 (en) | 2012-12-26 |
EP2305638B1 (en) | 2014-11-12 |
US8871977B2 (en) | 2014-10-28 |
CN102076656B (zh) | 2015-02-04 |
TW201016647A (en) | 2010-05-01 |
WO2010001726A1 (ja) | 2010-01-07 |
EP2305638A1 (en) | 2011-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20110025771A (ko) | 비대칭성 아진 화합물 및 그의 제조 방법 | |
CN113105357B (zh) | 一种新型对芳基偶氮苯酚衍生物的合成方法及其应用 | |
JP4405549B2 (ja) | セミカルバゾンの製造方法 | |
KR20130090360A (ko) | 물 또는 다양한 산을 첨가제로 이용한 새로운 마이클-첨가 반응을 통하여 화합물을 제조하는 방법 | |
JP6211711B2 (ja) | アゾ色素組成物及びその製造方法 | |
CN110240572B (zh) | 一种反式-1,1-环丙烷二羧酸酯的合成方法 | |
JP5556078B2 (ja) | キラル化合物の製造方法および製造中間体 | |
JP5297226B2 (ja) | 非対称アジン化合物の製造方法 | |
KR20190042025A (ko) | 티오글리콜우릴류 및 그 제조방법 | |
JP2010037212A (ja) | 非対称アジン化合物の製造方法 | |
JP5158926B2 (ja) | 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法 | |
JP5279449B2 (ja) | 5−{4−[2−(5−エチル−2−ピリジル)エトキシ]ベンジル}−2,4−チアゾリジンジオン塩酸塩の製造方法 | |
JP2011051968A (ja) | ビスオキサゾリニルアルカン化合物の精製方法 | |
EP1408025B1 (en) | 3,3-dialkoxy-2-hydroxyiminopropionitriles, process for preparation thereof and process of preparing 5-amino -4-nitrosopyrazoles or salts thereof by the use of the same | |
JP5854213B2 (ja) | 光学活性アミン化合物の製造方法 | |
JP4126944B2 (ja) | 5−アミノ−4−ニトロソピラゾール化合物の製法 | |
JP4356917B2 (ja) | ビスアミノメチル−1,4−ジチアン類の製造方法及びその中間体 | |
CN116143713A (zh) | 1,4-二氮杂环庚烷系列衍生物及其制备方法 | |
CN115232047A (zh) | 一种3-苯硒基-1-丙酮类衍生物的制备方法 | |
JP4013772B2 (ja) | 2−ヒドロキシイミノ−3−オキソプロピオニトリル及びその製法 | |
CN103298779B (zh) | 合成阿戈美拉汀的方法 | |
JP4968602B2 (ja) | ベンズアミド誘導体の製造方法 | |
JP2003300963A (ja) | 5−アミノ−4−ニトロソピラゾール誘導体の製造法 | |
JPH08208549A (ja) | 新規包接化合物及びその製造方法 | |
JP2004161727A (ja) | トリアジン誘導体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20130426 Effective date: 20140523 |