KR20090006223A - 랜덤 폴리옥사디아졸 공중합체의 2단계 제조방법 및 이로부터 생성된 물품 - Google Patents
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Abstract
발연 황산, 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산의 혼합물의 반응에 의한 랜덤 폴리옥사디아졸 공중합체의 제조 방법에서, 한 단계를 초과하는 단계로 발연 황산을 첨가하는 것을 특징으로 한다.
랜덤 폴리옥사디아졸 공중합체, 테레프탈산, 히드라진 술페이트, 이소프탈산, 발연 황산
Description
본 발명은 폴리옥사디아졸 공중합체의 제조방법 및 이로부터 생성된 물품에 관한 것이다.
문헌 [Imai, Journal of Applied Polymer Science, Vol. 14, pp 225-239 (1970)]에는 퓸(fuming) 황산, 테레프탈산, 이소프탈산, 및 히드라진 술페이트를 사용한 랜덤 코폴리옥사디아졸의 제조가 개시되어 있다.
독일 특허 제DE 36 20 022 A1호에는 히드라진 관능기의 함량이 적은 연한 색 또는 무색인 폴리페닐렌-1,3,4-옥사디아졸 중합체의 제조가 개시되어 있다.
독일 특허 제DD 296 277A5호에는 황산 중에서 및 축합제 중에서 카르복실산과 히드라진 또는 히드라진염, 카르복실산과 카르복실산 히드라지드, 디아실 히드라지드, 디카르복실산, 및/또는 카르복실산 유도체와 히드라진 및/또는 히드라진염의 반응에 의한 1,3,4-옥사디아졸의 제조가 개시되어 있다.
폴리옥사디아졸 공중합체의 대안적인 제조 방법 및 이로부터 생성된 물품이 필요하다.
<발명의 개요>
본 발명은 2단계 이상의 개별 단계로 발연 황산(oleum)이 첨가되는 발연 황산, 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산의 혼합물의 반응에 의한, 랜덤 코폴리옥사디아졸 중합체의 제조 방법에 관한 것이다.
제1 반응 단계에서, 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산과 함께 존재하는 발연 황산의 양은 최종 랜덤 폴리옥사디아졸 공중합체를 형성하기에 불충분하다. 단지 다음 단계에서 발연 황산의 최종 양이 첨가되어 반응 절차를 완결시킨다.
다단계의 발연 황산 첨가로 형성된 랜덤 폴리옥사디아졸 공중합체는 바람직하게는 높은 중합체 농도에서 낮은 용액 점도, 예컨대 최종 물품으로의 안정한 압출을 제공하는 점도 범위를 갖는다. 점도 범위의 예는 8 내지 15 중량%의 공중합체 농도에서 750 내지 2000 poise이다. 생성된 공중합체는 방사 용액 중의 보다 높은 고상물의 농도로 인해서 방사 특성이 개선되었을 것이라고 생각된다
처음 제1 단계에서, 폴리옥사디아졸 공중합체의 형성에서 나머지 성분인 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산을 기준으로 계산하였을 경우, 불충분한 양의 발연 황산, 즉 삼산화황 (SO3)이 반응 혼합물 중에 존재한다. 발연 황산으로부터의 삼산화황 (SO3)의 양은 히드라진의 몰수를 기준으로 3 몰 당량 이하의 양으로 제1 반응 단계에 존재한다. 일반적으로, 삼산화황 (SO3)의 양은 히드라진의 몰수를 기준으로 2 몰 당량 내지 3 몰 당량 범위의 양으로 존재한다. 비교하면, 반응을 완결시키기 위한 삼산화황의 양은 일반적으로 히드라진의 몰을 기준으로 5 내지 6 몰 당량 범위이다.
나머지 성분인 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산이 혼합되어 반응 용액을 형성하는 온도는 다양할 수 있으며, 이것이 최종 공중합체의 랜덤화도를 결정할 것이다.
전형적으로는, 히드라진으로 표현된 히드라진 술페이트는 테레프탈산 및 이소프탈산의 총 몰수에 대해 95 내지 100 몰%의 양으로 존재한다. 환경적인 이유로, 히드라진의 반응성 및 환경적인 독성으로 인해서 과량의 히드라진은 바람직하지 않다. 다른 과학자들은 높은 고유 점도를 성취하기 위해서 과량의 히드라진을 사용하였다 (예를 들어, 문헌 [Acta Polymer, 43, 343-347 (1992) figure 1] 참조).
전형적으로는, 테레프탈산 및 이소프탈산의 양은 이들 두 산의 총 몰수를 기준으로 각각 65 내지 90 몰% 및 35 내지 10 몰%의 양으로 존재한다.
히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산의 3 성분을 전형적으로는 고상물 형태로 배합하고, 삼산화황 (SO3) 3 몰 당량 (히드라진의 몰 기준) 이하의 양의 발연 황산의 제1 첨가 전에, 철저히 혼합한다.
모든 시약이 용해될 때까지 발연 황산의 온도를 제어하는 것이 바람직하다. 온도는 바람직하게는 50℃ 이하, 보다 바람직하게는 35℃ 이하로 유지되어야 한다. 첨가 및 용해의 예는 약 25℃에서 약 10 내지 20분 동안이다. 이 온도를 유지함으로써, 개선된 특성을 유발하는 보다 랜덤한 분포의 반복 단위가 최종 중합체 내에서 성취된다고 생각된다. 보다 랜덤한 분포는 승온에서 시약을 첨가하는 것과 비교된다. 테레프탈산 및 이소프탈산의 상대적인 용해 속도의 차이가 이소프탈산이 신속하게 용해되게 하여, 테레프탈산이 용해되어 유의한 양으로 반응에 참여되기 전에 디아민과 반응하게 한다. 이러한 승온 첨가의 결과 랜덤 공중합체보다는 블록 고중합체가 형성된다.
4 성분들의 용해에 이어서, 용액을 전형적으로는 100℃ 내지 150℃ 범위로 가열한다. 바람직하게는, 용액을 110 내지 130℃ 범위로 가열한다. 통상적으로는 용액의 점도가 일정해 때까지 용액을 교반한다. 전형적으로는, 점도 최대값은 약 30 내지 75분 동안 가열한 후 성취된다. 이 용액에 히드라진의 몰수를 기준으로 약 2 당량의 SO3를 함유하는 추가의 발연 황산을 첨가한다. 반응을 완결시키기 위해서는 3 당량의 SO3가 필요하다. 전형적으로는, 반응 위의 SO3 증기상 평형으로 인해서 약 5 당량이 사용된다. 전형적으로는, 용액을 교반하고, 제2 점도 평탄점에 도달할 때까지 100 내지 150℃ 범위, 바람직하게는 110 내지 140℃ 범위로 가열한다. 전형적으로는, 제2 점도 최대값은 약 80분 내지 150분 동안 가열한 후 성취된다. 이어서, 용액을 실온으로 냉각하고, 예를 들어 과량의 물을 첨가하여 중합체를 침전시킨다. 공중합체를 수집하고, 건조한다.
상기 방법이 2 단계로 기재되었지만, 하나 이상의 추가 단계를 사용하는 것은 본 발명의 범위 내임을 이해할 것이다. 예시적으로는 제2 단계에서 공중합체 형성을 완결시키기 위해서 단일 단계의 발연 황산 첨가보다는, 몇 단계의 발연 황산 첨가를 사용하여 공중합체 형성을 완결시킬 수 있다.
본 발명을 추가로 설명하기 위해서, 하기 실시예가 제공된다. 달리 지시되지 않는 한, 모든 백분율은 중량 기준이다. 실시예에서, 고유 점도는 25℃에서 진한 황산 100 ml 중의 중합체 0.5 g의 용액에 대해서 측정된 중합체의 질량 농도에 대한 상대 점도의 자연 로그값의 비로 표현된다. 상대 점도는 용매의 점도에 대한 용액 중 중합체의 점도의 비이며, 일정한 온도에서 용액의 흐름 시간을 용매의 흐름 시간으로 나눈 값으로 표현된다.
30분 동안 혼합기에서 22.578 g (히드라진 0.1735 몰)의 고상 히드라진 술페이트, 23.004 g (0.1385 몰)의 고상 테레프탈산 및 5.894 g (0.0355 몰)의 고상 이소프탈산을 함께 혼합 및 블렌드하여 폴리옥사디아졸 공중합체를 제조하였다. 블렌드된 고상물의 혼합물에 30% 발연 황산 115 g (SO3 0.431 몰)의 제1 첨가물을 25℃에서 첨가하였다.
혼합물을 25℃에서 15분 동안 기계적으로 교반하여 고상물을 용해시켜 용액을 형성하였다. 이어서, 혼합기에서 일정한 토크(torque) (일정한 점도)가 관찰될 때 (60분)까지 기계적으로 교반하면서 용액을 120℃로 가열하였다.
이 용액에 30% 발연 황산 93 g (SO3 0.35 몰)의 제2 첨가물을 130℃에서 첨 가하였다. 용액의 점도가 평탄점에 도달할 때까지 온도를 2시간 동안 130℃에서 유지하였다. 이어서, 용액을 실온으로 냉각하였다.
냉각된 용액에서 소량의 샘플을 제거하고, 0℃에서 물에 첨가하여 중합체를 침전시켰다. pH가 중성이 될 때까지 중합체를 물로 세척하였다. 중합체를 진공 하에서 건조하였고, 고유 점도가 3.05인 것으로 측정되었다.
Claims (9)
- (a) 발연 황산(oleum), 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산을 배합하고, 여기서 발연 황산으로부터의 삼산화황은 히드라진의 몰수를 기준으로 3 몰 당량 이하의 양으로 존재하는 단계, 및(b) 발연 황산을 추가로 첨가하는 단계를 포함하며,하나 초과의 단계로 발연 황산을 첨가하는 것을 특징으로 하는, 발연 황산, 히드라진 술페이트, 테레프탈산 및 이소프탈산을 함유하는 혼합물로부터 랜덤 코폴리옥사디아졸을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 단계 (a)에서 발연 황산으로부터의 삼산화황의 양이 히드라진의 몰수를 기준으로 3 몰 당량 이하인 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 양이 2 내지 3 몰 당량 범위인 방법.
- 제1항에 있어서, 삼산화황의 총량이 히드라진의 몰을 기준으로 5 내지 6 몰 당량 범위인 방법.
- 제1항에 있어서, 히드라진으로 표현된 히드라진 술페이트가 테레프탈산 및 이소프탈산의 총 몰수에 대해 95 내지 100 몰%의 양으로 존재하는 것인 방법.
- 제1항에 있어서, 테레프탈산 및 이소프탈산이 각각 65 내지 90 몰% 및 35 내지 10 몰%의 양으로 존재하는 것인 방법.
- 제1항에 있어서, 용해 동안 발연 황산 온도가 50℃ 이하인 방법.
- 제7항에 있어서, 용해 이후에 용액 온도가 100 내지 150℃ 범위인 방법.
- 제1항에 있어서, 발연 황산이 2 단계를 초과하는 단계로 첨가되는 것인 방법.
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