KR20080082620A - 투명하거나 반투명한 유리 세라믹 플레이트 및 이들을제조하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 적어도 하나의 가열 요소, 특히 조리 플레이트의 제조에 사용되고, 사용된 가열 요소 및 가능하면 디스플레이를 확인할 수 있게 해주는 방식으로, 코팅, 특히 사용되지 않는 하부 요소를 적어도 부분적으로 가리기 위한 코팅을 포함하는 가열 요소를 덮거나 수용하기 위한 투명하거나 반투명한 유리 세라믹 플레이트에 관한 것이다. 본 발명의 유리 세라믹 플레이트는 코팅의 주요 부분, 바람직하게는 코팅의 전체가 상기 유리 세라믹 플레이트 또는 가열 요소가 사용되는 위치에서, 이들을 향해 배향될 수 있는 플레이트 표면 위에 배열된다.

Description

투명하거나 반투명한 유리 세라믹 플레이트 및 이들을 제조하는 방법{TRANSPARENT OR TRANSLUCENT GLASS CERAMIC PLATE AND A METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF}
본 발명은 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트(이 용어는 예를 들어 벌크 착색된 반투명한 플레이트로 알려진 플레이트를 포함함)에 관한 것으로, 상기 플레이트는 특히 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도되고, 특히 호브(hob) 역할을 하도록 의도되는데, 이러한 호브와 관련된 가열 요소로는, 예를 들어, 유도 가열을 위한 열 소스, 복사열 소스, 할로겐 열 소스 등이 있다.
유리-세라믹 호브의 판매는 최근 몇 년에 걸쳐서 계속해서 증가해왔다. 이러한 성공은 특히 그러한 호브의 매력적인 외관, 및 세척의 용이함에 의해 설명된다.
유리-세라믹은 원래 유리이며, 전구체 유리(precursor glass)로 불리며, 이들의 화학 조성은 제어된 결정화가 적당한 열처리에 의해 유도되도록 해주는데, 이를 세라믹화(ceramification)라고 한다. 이렇게 부분적으로 결정화된 특정 구조는 유리-세라믹에 독특한 특성을 제공한다.
현재, 유리-세라믹 플레이트의 여러 가지 유형이 있는데, 이러한 플레이트를 변형시키는 것 및/또는 원하는 특성에 대한 바람직하지 않은 효과를 희생하지 않고 서 플레이트를 얻는 공정이 매우 어려운 것을 감안할 때, 각각의 변형은 광범위한 연구 및 많은 테스트의 결과이다. 호브로서 사용될 수 있도록, 유리-세라믹 플레이트는 특히, 사용 중이 아닐 때 밑에 있는 가열 요소의 적어도 일부를 가리기에 충분히 낮고, 안전을 위해, 눈부심 없이 작동 중인 가열 요소, 및 열 소스의 전력을 제공하는 작동 표시 또는 디스플레이를 시각적으로 발견할 수 있도록 충분히 높은 가시선 범위의 파장을 투과해야 한다. 일반적으로, 또한 유리-세라믹 플레이트는, 특히 방사선 또는 할로겐 열 소스와 함께 사용하는 동안, 적외선 범위의 파장에서 높은 투과를 갖는다.
개발된 첫 번째 플레이트는 따라서 어두운 색상의 플레이트였다. 보다 최근에는, 좀 더 밝은 색상(특히 백색)의 다른 플레이트가 개발되어 왔으며, 상기 플레이트는 예를 들어 적어도 50%의 헤이즈(haze)(특허 FR 2 766 816에 개시됨)를 갖고, 전술한 조건(예를 들어 눈부심 또는 가열 요소의 매력 없는 외관 없이, 작동시 가열 요소의 검출)을 고려하면 때때로 다른 양상(예를 들어 플레이트 밑에 배치된 선택적인 디스플레이의 선명한 보기)에 손해를 주면서 수행된다.
본 발명은, 종래의 제품의 범위가 확장되도록 허용된 새로운 유형의 유리-세라믹 플레이트, 특히 사용자에게 있어서, 매력적이지 못한 지문이 나타나지 않으면서 매력적인 외관을 가질 수 있도록 관리하기 더 쉬운 표면을, 그리고 제조업자에게 있어서는, 통상적으로 추구되는 특성에 대해 손상을 입히면서 수행되는 변형 없이, 조리 기구의 플레이트를 운송하고 조립하는 것에 대해 보다 쉬운 제조 및 핸들링을 갖는, 개선된 유리-세라믹 플레이트를 추구해왔다.
본 발명에 따른 새로운 플레이트는, 적어도 하나의 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도되고, 특히 호브{또는 쿡-탑(cook-top)}의 역할을 하도록 의도되는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트(또는 패널)로서, 상기 플레이트는 특히 사용하지 않을 때는 밑에 있는 요소를 적어도 부분적으로 가리도록 의도되는 반면에, 사용되어 질 때는 가열 요소 및 선택적인 디스플레이가 발견되도록 해주는 코팅을 구비한 플레이트인데, 대부분(적어도 50%, 바람직하게는 적어도 75% 및 특히 바람직하게는 적어도 90%)의, 및 바람직하게는 모든 코팅이 (오로지) 사용 위치에서 가열 요소(들)를 향하도록 의도되는 플레이트의 면(일반적으로 하부 또는 내부 면으로 불리는 면)상에 있는 것을 특징으로 한다.
"유리-세라믹 플레이트"라는 용어는 본 명세서에서 실제 유리-세라믹으로 만들어진 플레이트뿐만 아니라 고온 저항성이 있고 0 또는 거의 0에 가까운 팽창 계수(20 ×10-7K-1 미만)를 갖는 임의의 다른 유사한 물질로 만들어진 플레이트를 의미하는 것으로 이해된다. 그러나 상기 플레이트는 바람직하게는 실제 유리-세라믹 플레이트이다.
상기 플레이트의 제조는, 이들의 코팅이 단지 한 면(사용될 때 플레이트를 통해 볼 수 있음)에 증착되고, 이로부터 이러한 증착 및 후속적인 플레이트의 처리가 양면에 코팅을 갖는 경우보다 더 적은 주의를 필요로 한다는 점으로 인해 간단해진다. 더군다나, 상부 표면상의 코팅은 이러한 표면의 보수 관리를 복잡하게 하고, 이는 연마, 자국을 초래하는 오염, 및 부서짐을 겪게 된다.
본 발명에 따른 코팅은, 바람직하게, 상기 플레이트의 전술한 면의 전체에 걸쳐 도포된다.
특히 바람직한 방식으로, 상기 코팅은, 상기 코팅의 표면의 대부분을 차지하고(일반적으로 50 내지 99%) 바람직하게는 플레이트가 덮여야만 하는 가열 구조의 주요 부분을 가리도록 의도되는, 배경으로 알려진 영역 또는 영역들의 그룹, 및 배경에 관하여, 패턴 및/또는 기호(상표, 로고, 심벌 등) 및/또는 기능성 요소(예를 들어 가열 요소, 조절 유닛, 디스플레이 등)의 위치를 표시해주는 반면에 또한 이러한 요소들이 작동 중인지 아닌지를 알 수 있게 해주는, 표시 영역(일반적으로 코팅의 표면의 1 내지 50%를 나타냄)으로 지칭되는 영역 또는 영역들의 그룹을 가지며, 배경 영역(들) 및 표시 영역(들)은 이들의 색상 또는 이들의 색상의 음영 및/또는 이들의 패턴에 의해 구별되고, 여러 영역 사이의 분리는 선명한(clear) 선에 따라 또는 색상 또는 패턴 등급을 가진 영역을 따라 수행된다.
이어서, "영역"이라는 용어는 (플레이트 상에 존재하는 각각의 카테고리의 영역의 수에 따라) 잘-한정된(well-defined) 단일 영역(이 영역은 카테고리가 하나임), 또는 동일한 카테고리의 여러 개의 한정된 영역이 있는 경우, 동일하게 코팅되거나 동일한 효과(영역들 또는 영역들의 그룹 사이의 바람직한 콘트라스트에 관하여)를 가진 영역의 그룹 또는 세트를 모두 의미하는 것으로 이해될 것이다.
플레이트(코팅의 추가 전)를 형성하는 유리-세라믹 베이스, 또는 베어(bare) 기판은 앞서 나타낸 바와 같이 주로 투명하거나 반투명하고, 일반적으로 50%보다 큰, 특히 50 내지 90%의 광 투과도(TL){광원(D65)에 따라 0.38㎛과 0.78㎛ 사이에 통합된 가시광선 파장의 범위}를 갖는다. 코팅( 및 후속적으로 설명될, 코팅을 형성하는 층)은 주로, 본 발명에 따른 코팅이 장착된 플레이트가 코팅의 배경 영역에 관하여 매우 낮은 광 투과도(특히 5 또는 10% 미만, 또는 거의 0 또는 0)를 갖도록 선택되며, 그 자체가 가능하게는 표시 영역으로 알려진 영역은 예를 들어 20% 미만(특히 0.2 내지 20%), 특히 10% 미만(특히 0.5 내지 10%)의 광 투과도를 갖는다.
배경 영역(들) 및 표시 영역(들)은 특히 각각 적어도 하나의 페인트 층, 또는 적어도 하나의 얇은 층, 또는 효과 안료를 포함하는 층, 또는 에나멜 층 등에 의해 형성되고, 일반적으로 그리고 유리하게는 영역에 따라 불투명하거나 반사적이다( 및/또는 선택적으로 반투명하거나 반반사적임). 코팅의 여러 개의 영역은 모두, 바람직하게는, 페인트 층 및 얇은 층, 또는 그 밖에 단지 페인트 층으로 형성된다. 여러 개의 코팅 영역은 그런 다음 다른 페인트, 및/또는 주성분은 동일하지만 다른 안료 또는 안료의 혼합물 및/또는 다른 안료 농도를 가진 페인트, 및/또는 그 밖에 다른 두께로 도포되고/도포되거나 다른 개수의 층으로 도포된 페인트가 사용된다는 점에서 구별될 수 있다.
코팅은 망 형태(mesh)이거나 작은 반점이 찍히거나(speckled) 점이 찍힌(spotted) 스크린 또는 패턴을 갖는 영역을 포함할 수 있다. 따라서 플레이트를 사용하는 동안 미적인 광 분포 및 산란 효과를 생성할 수 있다.
사용 가능한 페인트의 층(들)은 유리하게는, 고온 저항성이 있고 시간이 지남에 따라 상기 층의 색상 및 플레이트와의 점착력에 관해서 안정성을 갖도록, 그리고 플레이트의 기계적 특성에 영향을 주지 않도록 선택된다.
사용된 페인트(들)의 분해 온도는 350℃ 이상, 특히 350℃ 내지 700℃인 것이 유리하다. 이들은 통상적으로 수지(들), 적절하게는 충전된 수지{예를 들어 안료(들) 또는 염료(들)로 충전됨}를 주성분으로 하고, 선택적으로 유리-세라믹에 대한 페인트(들)의 도포에 관하여 이들의 점도를 조절하기 위해 희석될 수 있는데, 희석액 또는 용매(예를 들어 백유, 톨루엔, 방향족 탄화수소-유형의 용매, 예를 들어 Exxon사의 상표 SOLVESSO 100®으로 판매되는 용매)는, 필요한 경우, 페인트(들)의 후속적인 경화 동안 제거된다.
예를 들어, 페인트는 적어도 하나의 실리콘 수지, 특히 알킬 또는 페닐 또는 메틸 라디칼 등과 같은 적어도 하나의 라디칼의 결합에 의해 변형된 실리콘 수지를 주성분으로 하는 페인트일 수 있다. 또한 에나멜용 안료(예를 들어 크롬 산화물, 구리 산화물, 철 산화물, 코발트 산화물, 니텔 산화물과 같은 금속 산화물을 포함하는 성분, 또는 구리 크롬산염, 코발트 크롬산염 등으로부터 선택된), TiO2 등과 같은 안료를 염료로서 첨가할 수 있다. 또한 안료료서, 알루미늄, 구리, 철 등과 같은 하나 이상의 금속의 입자, 또는 이러한 금속 중 적어도 하나를 주성분으로 하는 합금을 사용할 수 있다.
특히 바람직한 방식에 있어서, 사용된 페인트는 적어도(또는 주성분으로 하는) 내열성 (공)중합체(특히, 분해 온도가 400℃가 넘는 (공)중합체}를 포함하고, 이러한 페인트는 이들의 부착력 또는 이들의 기계적 강화 및/또는 이들의 착색을 보증하기 위해, 적어도 하나의 광물 충전재와 결합할 수 있거나 결합할 수 없다. 이러한 (공)중합체 또는 수지는 특히 다음의 수지 중 하나 이상일 수 있다: 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리플루오르화 수지 및/또는 폴리실록산 수지.
폴리실록산 수지가 특히 바람직하다 : 이들은 무색이고, 따라서 착색될 수 있다(예를 들어 충전재 또는 원하는 색상을 제공하는 안료로); 이들은 가교결합 가능한 상태로 사용될 수 있고(일반적으로 이들 식에 존재하는 SiOH 및/또는 SiOMe기를 통해, 이러한 기의 대부분은 흔히 폴리실록산 수지의 총 중량 중 최대 1 내지 6중량% 존재함), 또는 전환될 수 있다(가교결합 또는 열분해). 폴리실록산 수지는 유리하게는 이들의 식에 페닐, 에틸, 프로필 및/또는 비닐 유닛, 매우 유리하게는 페닐 및/또는 메틸 유닛을 갖는다. 폴리실록산 수지는 바람직하게는 폴리디메틸실록산, 폴리디페닐실록산, 페닐메틸실록산 중합체 및 디메틸실록산/디페닐실록산 공중합체로부터 선택된다.
통상적으로 바람직하게 사용되는 가교 결합 가능한 폴리실록산 수지의 중량-평균 분자량(MW)은 2000 내지 300000달톤이다.
비제한적인 예에서, 단독으로 또는 혼합물로 사용되는 다음의 수지가 매우 적합한 것으로 언급될 수 있다 : Dow Corning® 804, 805, 806, 808, 840, 249, 409 HS 및 418 HS, 로디아사의 RHODORSIL® 6405 및 6406, 제너럴 일렉트로닉 실리콘사의 TRIPLUS®, 바커 슈미 게엠베하사의 SILRES® 604.
이와 같이 선택된 수지는 특히 유도 가열을 견딜 수 있고, 또한 다른 유형의 가열(가스 버너, 또는 심지어 방사 또는 할로겐 가열)에도 적합할 수 있다(특히 전술한 폴리실록산 수지).
페인트는, 특히 이들의 두께가 작은 경우, 광물 충진재가 존재하지 않을 수 있다. 그러나 그러한 광물 충진재는 통상적으로 예를 들어 증착된 페인트 층을 기계적으로 강화시키기 위해, 상기 층의 부착력 및 이들의 플레이트에 대한 접착력을 제공하기 위해, 외관 및 상기 층 내의 균열의 전파에 대응하기 위해서 등등에 사용된다. 이러한 목적을 위해, 상기 광물 충진재의 적어도 하나의 부분은 바람직하게 얇은 플레이트 구조를 갖는다. 상기 충진재는 또한 착색에서 수반될 수 있다. 적합하게는, 여러 가지 유형의 추가 충진재가 수반될 수 있다(예를 들어 기계적 강화용 착색되지 않은 충진재 및 착색용 안료와 같은 다른 충진재). 광물 충진재의 유효량은 통상적으로 10 내지 60%, 보다 특히 15 내지 30%의 부피 함량(충전재와 페인트의 총 부피를 기준으로 한 부피 함량)에 해당한다.
각각의 증착된 페인트 층의 두께는 1 내지 100 미크론, 특히 5 내지 50 미크론일 수 있다. 페인트 또는 수지의 도포는 브러쉬(brush), 블레이드(blade)를 사용하는 증착, 분무 정전기 증착, 딥핑, 커튼 코팅, 스크린 인쇄에 의한 증착 등과 같은 임의의 적합한 기술에 의해 수행될 수 있고, 바람직하게는 스크린 인쇄(또는 선택적으로 블레이드를 사용하는 증착)에 의해 수행된다.
증착 이후에 각각의 특수한 경우에 따라, 증착된 층(들)의 건조, 가교 결합, 열분해 등을 보장하도록 의도된 열처리될 수 있다.
바람직하게는, 적어도 하나의 페인트 층이 선택되고, 여기서 적어도 부분적으로 수지는 부분적으로 또는 완전히 가교 결합 및/또는 열분해되고, 및/또는 열-처리되지 않고(수지는 선택적으로 이들이 열-처리되지 않은 위치로부터 제거되도록 의도될 수 있음), 상기 페인트 층은, 부분적으로 또는 완전히, a) 광물 충전재 및 b) 탄소-주성분으로 하는 물질(들) 전구 물질(들)이 (거의) 없는 적어도 하나의 가교 결합 가능한 폴리실록산 수지 및/또는 탄소-주성분으로 하는 물질(들) 및 탄소-주성분으로 하는 전구 물질(들)이 (거의) 없는 적어도 하나의 가교 결합 가능한 폴리실록산 수지 및/또는 탄소-주성분으로 하는 물질(들)이 (거의) 없는 다공성의 규소-주성분으로 하는 광물 매트릭스(수지는 예를 들어 열분해 되어서 광물화됨)의 혼합물로 이루어지고, 상기 광물 충진재는 수지 또는 매트릭스에 분산된다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 얇은 층(들)에 관하여, 이들은 단일층 또는 다층 형태로 존재할 수 있다. 이들은 바람직하게는 거울 또는 반짝이는 효과를 지닌 하나 이상의 (반)반사 층을 형성하고, (반)반사 층은 가능하게는 또한 이후 설명되는 바와 같이 효과 안료를 포함하는 층을 통해 얻어진다.
제 1 특히 유리한 실시예에 따르면, 예를 들어 금속 유형의 적어도 하나의 (하부)층 및/또는 유전 물질을 주성분으로 하는 적어도 하나의 (하부)층으로 형성된 적어도 하나의{(반)반사} 층을 사용할 수 있고, 이러한 층은 통상적으로 그리고 유리하게는 거울 효과를 갖는다.
따라서 이러한 층은 예를 들어, 적어도 하나의 단일 금속 또는 주로 금속인 층(예를 들어 Ag, W, Ta, Mo, Ti, Al, Cr, Ni, Zn, Fe 또는 이러한 금속 중 몇 개를 주성분으로 하는 합금의 얇은 층, 또는 스테인리스 강을 주성분으로 하는 얇은 층 등)일 수 있거나, 유전체 물질(예를 들어, 적어도 하나의 Si3N4 보호층 - 특히 Si3N4/금속/Si3N4 다층 - 또는 SiO2 보호층으로 코팅된 은 또는 알루미늄으로 제조된 적어도 하나의 층)을 주성분으로 하는 적어도 하나의 층에 의해 유리하게 보호되는(적어도 하나의 면 상에 그리고 바람직하게는 층의 두 개의 마주보는 면 상에 코팅됨) 하나 이상의 금속층{예를 들어 금속성(또는 주로 금속성인)층}을 포함하는 (하부)층의 스택(또는 다층)일 수 있다.
대안적으로 1.8보다 큰, 바람직하게는 1.95보다 큰, 특히 바람직하게는 2보다 큰 높은 굴절률(n)을 가진 유전 물질을 주성분으로 하는 단일층 코팅, 예를 들어 TiO2, 또는 Si3N4, 또는 SnO2 등의 단일층일 수 있다.
또 다른 유리한 실시예에서, 상기 층은, 대안적으로 높이(앞서 설명된 바와 같이, 바람직하게는 1.8 초과, 또는 심지어 1.95 초과, 또는 심지어 2 초과) 및 낮은(바람직하게는 1.65 미만) 굴절률을 갖는 유전체 물질(들), 특히 다음 유형의 물질(들): TiO2, SiO2 또는 혼합된 산화물(주석-아연, 아연-티탄, 규소-티탄 등)과 같은 금속 산화물(또는 금속 질화물 또는 옥시질화물) 또는 합금 등을 주성분으로 하는 얇은 (하부)층의 스택(또는 다층)으로 형성될 수 있고, 상기 (하부)층은, 적절하게는 우선 증착되고, 따라서 상기 플레이트의 내부 면에 대응하고, 유리하게는 높은 굴절률의 층이다.
높은 굴절률을 갖는 (하부)층의 물질로서, 예를 들어 TiO2 또는 선택적으로 SnO2, Si3N4, SnxZnyOz, TizNOx, 또는 SixTiyOz, ZnO, ZrO2, Nb2O5 등이 언급될 수 있다. 낮은 굴절률을 가진 (하부)층의 물질로서, 예를 들어 SiO2, 또는 선택적으로 실리콘 옥시질화물 및/또는 옥시탄화물, 또는 실리콘 및 알루미늄의 혼합 산화물, 또는 예를 들어 MgF2 또는 AlF3 유형의 플루오로 화합물 등이 언급될 수 있다.
다층은 예를 들어 적어도 3개의 (하부)층을 포함할 수 있으며, 기판에 가장 가까운 층은 고-굴절률 층이고, 중간층은 저-굴절률 층이고, 외부층은 고-굴절률 층이다(예를 들어, 다층은 다음의 산화물 층을 교대로 포함한다 : (기판) - TiO2/SiO2/TiO2).
얇은 층(들)을 주성분으로 하는 증착된 각각의 층의 (기하학) 두께는 통상적으로 15 내지 1000㎚, 특히 20 내지 1000㎚(기판의 두께는 일반적으로 수 밀리미터, 흔히 약 4㎜)이고, (하부)층 각각의 두께는(다층의 경우) 5 내지 160㎚, 통상적으로 20 내지 150㎚에서 변할 수 있다(예를 들어 TiO2/SiO2/TiO2 다층인 경우, 보다 은빛 또는 보다 금빛과 같이, 얻어지길 원하는 외관에 따라, 약 수십 나노미터, 예를 들어 TiO2층에 대하여 약 60-80㎚, 및 SiO2층에 대하여 약 60-80 또는 130-150㎚일 수 있음).
하나 이상의 얇은 막을 주원료로 하는 층은, 일반적으로 세라믹화 이후에 한번에 또는 연속적인 단계로(예를 들어 상기 플레이트의 절단 및/또는 성형 이후에) 플레이트에 도포될 수 있다. 특히 (분말, 액체 또는 기체) 열분해에 의해, 증발에 의해 또는 스퍼터링에 의해 도포될 수 있다. 바람직하게는 스퍼터링 및/또는 진공 증착 및/또는 플라즈마-향상 방법에 의해 증착된다; 특히 음극 스퍼터링(예를 들어 마그네트론 스퍼터링), 특히 자기장( 및 DC 또는 AC - 계속적 또는 택일적 - 모드)에 의해 향상된 음극 스퍼터링에 의해 층(들)을 증착하는 방법이 사용되는데, 필요하다면 산화 또는 질화 조건(적절하게는, 아르곤/산소 또는 아르곤/질소 혼합물) 하에, 산화물 또는 질화물이 적합한 금속 또는 합금 또는 실리콘 또는 세라믹 등의 타깃(들)으로 증착된다. 또한 예를 들어 산소의 존재 하에 해당 금속의 반응성 스퍼터링에 의한 산화물 층, 및 질소의 존재 하에 질화물 층을 증착할 수 있다. SiO2 또는 Si3N4를 생성하기 위해, 알루미늄과 같은 금속으로 약하게 도핑된 실리콘 타깃으로부터 시작하여 충분히 전도성 있게 하는 것이 가능하다. 본 발명에 따라 선택된 (하부)층(들)은 분리 또는 층간분리가 생기지 않으면서, 특히 균질한 방식으로 기판상에 응축된다.
본 발명의 또 다른 실시예에서, 층(특히 반-반사 층)으로서, 적당하게는 적합한 매질에 용해된 효과 안료(금속성 효과를 지닌 안료, 간섭 안료, 진주광택의 안료 등)를 포함하는 층을 사용할 수 있으며, 이 층은 통상적으로 반짝이는 효과를 갖는다. 이러한 층은 바람직하게는 용융 규산염, 유리 프릿(frit) 또는 유리 플럭스(flux)를 주원료로 하고(통상적으로 특히 에나멜용 프릿에 사용되는 산화물, 예를 들어 규소, 아연, 나트륨, 붕소, 리튬, 칼륨, 칼슘, 알루미늄, 마그네슘, 바륨, 스트론튬, 안티몬, 티타늄, 지르코늄 산화물 등으로부터 선택된 산화물을 포함하는 유리화 가능한 혼합물), 사용된 효과 안료는 유리하게는 금속 산화물로 코팅된 알루미늄 산화물(Al2O3) 플레이크로 형성되며; 안료의 예로는 TiO2/Al2O3 안료 또는 간섭성 안료(XIRALLIC® T-50-10SW Crystal Silver 또는 XIRALLIC®T-60-23SW Galaxy Blue 또는 XIRALLIC® T-60-24SW Stellar Green) 또는 Fe2O3/Al2O3 안료(XIRALLIC® T-60-50SW Fireside Copper 또는 XIRALLIC® F-60-51 Radiant Red)와 같은, Merck사에 의해 상품명 "XIRALLIC®으로 판매되는 안료를 언급할 수 있다.
사용 가능한 또 다른 효과 안료는 예를 들어, Merck사에 의해 상표명 IRIODIN®으로 판매되는, 산화물(예를 들어 TiO2, Fe2O3, Cr2O3 등으로부터 선택) 또는 산화물 조합으로 코팅된 운모(mica) 입자를 주원료로 하거나, Merck사에 의해 상표명 COLORSTREAM®으로 판매되는 산화물 또는 산화물(위의 산화물) 조합으로 코팅된 실리카 작은판(platelet)을 주성분으로 하는 진주광택의 안료이다. 충전재 또는 종래의 다른 착색 안료는 또한 전술한 효과 안료에 병합될 수 있다. 효과 안료의 함량은 예를 들어, 이들이 병합된 베이스(용융 규산염, 유리 프릿 또는 플럭스)에 대해 약 1 내지 30중량%일 수 있다. 특히 층은 스크린-인쇄에 의해 증착될 수 있으며(적합하게는 베이스 및 안료는 일반적으로 적절한 경우 후속 경화 단계에서 소비되도록 의도되는 적절한 매질에 부유될 수 있으며, 특히 이러한 매질은 용매, 희석제, 오일, 수지 등을 포함할 수 있음), 층의 두께는 예를 들어 약 1 내지 6 ㎛이다.
에나멜 층의 경우, 다른 안료(반드시 효과 안료일 필요는 없음)가 보다 통상적으로 사용될 수 있는데, 상기 에나멜은 유리 프릿 및 안료(이러한 안료는 또한 프릿의 부분일 수 있음)를 포함하는 분말, 및 기판 상의 도포용 매질로 형성된다(에나멜용 프릿을 형성하는 산화물, 및 두 개의 전술한 단락에서 이미 주어진 매질의 예). 안료는 크롬, 구리, 철, 코발트 및 니켈 산화물 등과 같은 금속 산화물을 포함하는 화합물로부터 선택될 수 있거나, 구리 또는 코발트 크롬산염 등으로부터 선택될 수 있고, 전체 프릿(들)/안료(들) 어셈블리에서의 안료(들)의 함량은 예를 들어 10 내지 50중량%이다. 코팅을 형성하기 위해 사용된 각각의 에나멜 층은 바람직하게 임의의 다른 선택적인 에나멜 층(들)과 분리되고, 두께가 일반적으로 6㎛ 이하, 바람직하게는 3㎛ 이하인 단일층이다. 에나멜 층은 일반적으로 스크린 인쇄에 의해 증착된다.
본 발명에 따른 플레이트는 사용하기에 실용적이고 세척을 용이하게 한다. 하부 면 상의 코팅 전체의 위치 지정은, 필요한 경우 이중 상과 같은 매력적이지 못한 광학적 효과를 피할 수 있게 해주고, 동시에 사용 위치에서 플레이트의 노출된 면(사용자를 향하는 외부 또는 상부 표면)의 세척 동안 상기 코팅의 마모 문제를 예방해줄 수 있다.
본 발명에 따른 플레이트는 일반적으로, 하부 면 상에 스터드(stud)가 없는 두 개의 매끄러운 면을 갖는 플레이트이다.
코팅은 통상적으로 플레이트 위에서 식별될 수 있는 각 영역에서는 연속적이지만, 특정 장소(예를 들어 반점이 찍힌 부분 또는 그물 모양 또는 얼룩 등을 갖는 유형)에서 덜 커버된 증착물을 갖는 것이 배제되지 않고, 이러한 장소에서 커버 정도는 바람직한만큼 크게 남아있다(거의 100%).
본 발명에 따른 플레이트는 적합하게는 추가 기능성 또는 장식 요소(들){프레임, 커넥터(들), 케이블(들), 제어 요소(들), 디스플레이(들), 예를 들어 "7-세그먼트" 발광 다이오드로 알려진 발광 다이오드, 접촉-유도성 제어를 지닌 전자 제어 판넬 및 디지털 디스플레이 등}를 구비할 수 있다(또는 결합될 수 있다).
바람직하게는, 본 발명에 따른 플레이트가 하부에 있는 유도-가열 요소와 결합되도록 의도된다. 유도 가열에 의한 조리용 가열 소스는 알려져 있으며, 통상적으로 전도성 와이어의 코일에 의해 형성된 유도 코일{또는 인덕터(inductor)}에 연결된 컨버터(또는 발전기)로 이루어진다. 컨버터에 의해 생성된 고-주파수 전류의 흐름에 의해 생성된 전자기 계는 플레이트 위에 배치된 조리 용기의 금속 베이스에 푸코(Foucault) 전류를 생성시키고, 이러한 조리 용기가 빠르게 가열되도록 해준다. 플레이트가 받는 온도 변화 및 최대 온도는 다른 가열 요소, 예를 들어 할로겐 또는 방사 요소에서 관측된 것보다 더 작고, 결과적으로 본 발명에 따른 플레이트가 이러한 가열 방법에 특히 적합하고, 코팅이 받는 열 쇼크는 더 작고 오랜 기간 동안 코팅을 덜 손상시킨다.
본 발명에 따른 플레이트는 유리하게는, 기구의 내부를 사용자의 시야로부터 가리기 위한 중간 복합체 없이, 내부에 가열 요소(들)가 위치된 절연 지지대 상에 장착될 수 있다.
또한 본 발명은 조리용 및/또는 고온 유지용 기구(또는 디바이스)에 관한 것으로, 이는 본 발명에 따른 적어도 하나의 플레이트를 포함한다(예를 들어 조리기 및 내장 호브). 또한 본 발명은 단일 플레이트를 포함하는 조리 기구 및 여러 개의 플레이트를 포함하는 기구 모두를 포함하고, 이러한 플레이트의 각각은 단일 버너 또는 다층 버너를 갖는다. "버너"라는 용어는 조리(가열) 장소를 의미하는 것으로 주지된다. 또한 본 발명은 호브(들)가 몇 가지 유형의 버너를 포함하는 혼합 조리 기구에 관한 것이다.
더군다나, 본 발명은 조리기 또는 호브용 조리 플레이트의 제조에 제한되지 않으며, 가능하면 본 발명에 따라 제조된 플레이트가 또한 온도 변화에 크게 영향을 받지 않는 다른 플레이트이다.
본 발명의 또 다른 주제는 본 발명에 따른 플레이트를 제조하는 방법이다.
유리-세라믹 플레이트의 제조는 통상적으로 다음과 같이 발생한다 : 유리-세라믹을 형성하기 위해 선택된 조성물을 갖는 유리가 용융 노(furnace)에서 용융되고, 그런 다음 용융된 유리가 롤링 롤 사이를 통과하도록 함으로써 용융된 유리가 표준 리본 또는 시트로 롤링되고, 유리 리본은 원하는 크기로 절단된다. 이와 같이 절단된 플레이트은 그런 다음 그 자체로 공지된 방법으로 세라믹화되고, 상기 세라믹화는 유리를 "유리-세라믹"으로 불리는 다결정질 물질로 전환시키기 위해 선택된 열 프로파일(profile)을 구비한 플레이트를 소성시키는 단계를 포함하고, 상기 "유리-세라믹"은 팽창 계수가 0 또는 거의 0이고 가능하면 최대 550℃ 및 바람직하게는 최대 700℃의 범위에서 열 충격에 대한 내성을 갖는다. 통상적으로 세라믹화는 일반적으로 유리 전환 범위의 근처에 위치한 핵생성 범위까지 온도를 점진적으로 올리는 단계, 수 분에 걸친 핵생성 범위를 통과하고, 추가로 세라믹화 유지 온도까지 온도를 점차 올리고, 세라믹화 유지 온도를 수 분간 유지시키고, 후속적으로 실온으로 급격하게 냉각시키는 단계를 포함한다.
통상적으로 상기 방법은 절단 작업, 예를 들어 스코어링 휠(scoring wheel), 워터 제트 또는 레이저를 사용하는 기계적 스코어링에 의한 절단 작업을 포함하고, 통상적으로 성형 작업{분쇄(grinding), 선택적으로 베블링(beveling) 등}이 후속된다.
본 발명에 따른 플레이트를 제조하는 방법은 대부분의, 바람직하게는 모든 코팅이 사용 장소에서 가열 요소(들)를 향하도록 의도된 베어(bare) 유리-세라믹 플레이트의 면 위에 도포되는 것을 특징으로 한다. 바람직하게는 적어도 하나의 제 1 영역을 형성하도록 의도되는 적어도 하나의 제 1 층{또는 (하부)층의 세트}이 도포되고, 여기서 하나 이상의 레지스트(또는 방염제)가 제공되거나 제조되고, 상기 레지스트는 제 1 영역(들)에 대해 대조를 이루는 적어도 하나의 제 2 영역을 형성하도록 의도되는 적어도 하나의 제 2 층({또는 (하부)층의 세트}로 덮여진다(만일 하나 이상의 영역이 계획된다면 작업을 반복함).
층은 특히 형성될 층의 조성물에 따라, 당업자에게 공지된 임의의 방법에 의해 도포된다. 여러 가지 가능한 도포 방법의 예가 이전에 제공되어 왔다. 층의 유형에 따라, 증착은 세라믹화 이전에(이 경우, 예를 들어 세라믹화 동안 경화될 수 있는 에나멜 층을 위한 것임), 또는 세라믹화 이후에(페인트, 및 금속-유형의 층 또는 앞서 기술된 유전 물질을 주성분으로 하는 층들의 경우 바람직함), 동시에 또는 연속적인 단계(예를 들어, 상기 플레이트의 절단 및/또는 성형 이후에)로 수행될 수 있다.
레지스트를 형성하기 위해서, (증착된 층의 유형 및 증착 수단의 정밀도에 따라) 여러 가지 수단을 사용할 수 있다. 방염제는 증착 기술(스크린 인쇄)에 의해, 또는 예를 들어 시트 금속 등으로 만들어진 적합한 마스크를 제공함으로서 남겨질 수 있다. 또한 레지스트의 영역에서 세척, 박리, 광내기 등에 의해 제거될 수 있는 층을 증착하는 것이 고려될 수 있는데, 예를 들어 페인트 증착으로서, 단지 원하는 부분에서 경화되거나 가교 결합될 수 있고, 잔여물은 세척에 의해 제거되는 페인트 증착, 또는 그 밖에 레지스트가 레이저 박리 또는 광내기와 같은 수단에 의해 제거되는 금속 유형의 층(들) 또는 유전 물질을 주성분으로 하는 층(들)의 증착이 있다.
제 2 층(또는 다른 선택적인 층)의 증착에 관하여, 단지 방염제 또는 레지스트로(예를 들어 적합한 증착 수단 또는 마스크로), 또는 플레이트의 더 큰 부분, 특히 전체 플레이트에 걸쳐서 수행될 수 있다.
예를 들어, 제 1 페인트 층, 예를 들어 매트 페인트 층은 스크린 인쇄에 의해(한 번, 또는 심지어 여러 번, 패스 또는 하부층, 및 제공된 레지스트로) 도포된 다음, 페인트의 열처리 또는 경화, 및 플레이트의 선택적인 세척 이후에, 제 2 층{또는 (하부)층의 세트}은 이미 덮여진 영역 및 거울 효과를 가진 적어도 하나의 (반)반사 층을 가진 레지스트 전부를 덮음으로서, 음극 스퍼터링(마그네트론 스퍼터링인 경우, 전체 플레이트에 걸쳐 증착을 수행하는 것이 좀 더 용이함)에 의해 도포된다.
또 다른 실시예에서, 증착 순서는 반대일 수 있는데, 예를 들어 선택된 레지스트의 위치에 마스크가 구비된 플레이트의 하부 면상에, 예를 들어 적어도 하나의 연속적인 (반)반사 층을 증착하고, 마스크를 제거하고, 필요한 경우 다른 마스크로 이미 덮여진 부분을 다시 덮은 다음, 페인트를 도포하는데, 페인트는 유리하게는 단지 얻어진 최종 플레이트 위에, 반사 층으로 덮여지지 않은 영역을 다시 덮는다.
다음의 예는 본 발명의 범위를 제한하지 않으면서, 첨부된 도 1 내지 3(사진으로부터 유도됨)과 함께 본 발명을 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 플레이트의 정면도.
도 2 및 도 3은 패턴이 그물 모양 또는 반점이 찍힌 모양인 배경 영역을 도시하는 본 발명에 따른 두 개의 플레이트의 부분 정면도.
예에서, 예를 들어 출원 EP 0 437 228에 기술된 조성물을 갖는 유리로 투명한 유리-세라믹 플레이트가 제조되었으며, 상기 플레이트의 두 개의 면은 매끄러웠다.
이러한 유리는, 유리 리본이 롤링될 수 있는 양으로, 약 1600℃에서 용융되었고, 리본으로부터 최종 치수가 56.5㎝ ×56.5㎝ ×0.4㎝인 유리 플레이트로 절단되었다.
이러한 유리 플레이트는 다음의 단계를 포함하는 세라믹화 사이클을 사용하여 세라믹 격자에서 세라믹화 되었다:
a) 온도는 핵생성 범위(통상적으로 유리 전환 범위 부근에 위치)까지 30 - 80℃/min으로 상승했고;
b) 온도가 몇 분에 걸쳐 온도를 유지하면서, 약 20분에 걸쳐서 핵생성 범위(670 - 800℃)를 통과하고;
c) 온도는 약 930℃의 세라믹화 유지 온도(T)까지 15 내지 30분에 걸쳐서 상승했고,
d) 세라믹화 유지 온도(T)는 약 20분의 시간(t) 동안 유지되었고,
e) 플레이트는 실온까지 빠르게 냉각되었다.
예 1(도 1)에서, 플레이트(1)는 이들의 하부 면 상에, 예를 들어 세 개의 연속적인 스크린-인쇄 패스에 의해, 코팅을 구비했는데, 상기 코팅은, 위에서 볼 경우(코팅을 지지하는 유리-세라믹의 투명성을 통해), 작동 중인 요소를 표시하거나 보여주도록 의도된 영역{본 명세서에서 검정색 부분(2) 또는 어두운 회색 부분(3)으로 도시됨}, 및 배경 영역{본 명세서에서 가장 밝은 부분(4), 또한 적당하게는 그레이 톤으로 도시됨}을 포함한다.
코팅은 동일한 베이스 페인트로부터 얻어졌으며, 이들의 안료는, 원하는 톤 또는 효과(예를 들어, 사용중이지 않을 때 가열 요소를 가리고 작동중일 때 신호를 볼 수 있게 해줌)를 얻기위해 각각의 패스에서 변경되었다. 페인트는 적당한 매질에 희석된 이후 도포될 수 있고, 적어도 하나의 폴리실록산 수지(예를 들어, 실리 콘 중합체 및 실리콘 용액을 혼합하여 얻어짐)를 주성분으로 하는 페인트, 및 충전재(예를 들어, 원하는 음영을 제공하기 위한 안료 또는 안료들의 혼합물)일 수 있다.
페인트의 각각의 도포 이후(예를 들어 각각의 패스 상의 하나 이상의 층에서), 소성 또는 경화가 오븐 또는 터널에서 수행되었다. 얻어진 페인트 층의 두께는 예를 들어 15 내지 100미크론이었다.
각각의 패스 사이에서, 스크린-인쇄 마스크는 형성될 코팅 부분에 따라 변경되었다.
(검정색) 부분(2)은 본 명세서에서 : 가열하는 4개의 가열 소스 위에 배치될 위치를 한정하는 곡선, 및 가열하는 가장 큰 가열 소스를 한정하는 곡선 내부의 공간에 배치된 원; 심벌(+, -)(기호) 및 작동 심벌을 형성하는 작은 원 및 또한 플레이트 상에서 해당 가열 소스의 위치를 나타내기 위한 4개의 작은 사각형; 및 상표명 또는 명칭 또는 로고와 같은 주로 장식적인 기호(전술한 기호 바로 위에 배치된 중앙 장식 벽판(cartouche)에 의해 나타냄) 및 가열 소스를 한정하는 각각의 곡선과 관련된 단어 METAL의 글자에 의해 형성된다.
(어두운 회색) 부분(3)은: 기호(+,-)가 두드러지도록 만드는 직사각형 및 가열 소스의 위치를 제공하는 전술한 작은 정사각형을 포함하는, 디스플레이 또는 기호(시간, 힘 등의) 위에 배치될 영역을 한정하는 정사각형 또는 직사각형으로 형성되고, 및 또한 검정색 원의 내부는 작동 심벌을 형성한다.
유리-세라믹 플레이트는 따라서 만족스럽고 본래의 미적 외관을 갖도록 얻어 지고, 이러한 플레이트는, 조리 디바이스의 밑에 있는 구조 요소들을 가리는 불투명하고 매트한 배경 영역을 갖고, 또한 밑에 있는 요소들이 작동 중인 경우 보이도록 한 반면에, 사용하지 않을 때는 밑에 있는 요소들을 가리는 (어두운 회색) 영역(3)을 포함한다. 게다가 변형예는 약간 불투명한 안료의 선택 또는 농도와 특히 관련되고, 영역의 두께는 다양했다(예를 들어, 두께는 영역에 따라 10, 15 또는 30미크론이었다).
코팅이 전체적으로 하부 면상에 있기 때문에, 이중 상을 갖는 문제가 없으며, 또는 패턴의 박리(예를 들어 스튜냄비를 문질러서) 및 패턴의 취성에 관한 분제도 없다. 가능하게는 남겨진 지문을 볼 수 없거나, 거의 볼 수 없다. 플레이트는 조리 기구 등에 조립된 프레임에 장착될 수 있다.
도 2에서, 그물 모양 또는 반점이 찍힌(speckled) 유형(5)의 배경 패턴 및 이들의 결합 영역(6)을 도시하는, 본 발명에 따른 또 다른 유리-세라믹 플레이트(1')의 부분은, 표시 영역의 부분이 되도록 의도된 더 어두운 색상의 영역(7)과 함께, 점의 교대의 등급별 명암에 의해 도시되었다.
도 2의 코팅은 예를 들어 두 개의 패스, 즉 제 1 스크린-인쇄 패스로서, 예를 들어 15 내지 100미크론의 두께로 예 1에서 사용된 유형의 페인트를 사용하여 어두운 색상 영역을 형성하기 위한 제 1 스크린-인쇄 패스, 그런 다음 미리 페인트로 코팅된 플레이트의 하부 면의 전체 표면에 걸쳐서, 약 20나노미터의 두께의 얇은 반-반사 층의 제 2 마그네트론 스퍼터링 패스에서 얻어졌다. 얇은 반-반사 층의 예는 Ni-Cr-Fe를 주성분으로 하는 층이다.
두 개의 패스 사이에서, 페인트는 예 1에 나타낸 바와 같이 오븐 또는 터널에서 소성되거나 경화되고, 적절하게는, 스퍼터링 이전에 세척된다.
도 3에서, 스크린-인쇄 프레임을 변경함으로써 예 2의 변형예에 따라 생성된 또 다른 유리-세라믹 플레이트(1″)의 배경 코팅의 일부가 도시되고, 이러한 배경은 그물 모양 또는 반점이 찍힌 유형(8)이 된다.
따라서 매우 다양한 스크린 패턴, 특히 광-산란 효과를 가진 패턴(그물 모양, 반점, 얼룩 등)을 가진 플레이트를 얻을 수 있는 것으로 볼 수 있다. 플레이트의 밑면에 의해 생성되는 광의 분산 및 산란은 가장 매력적인 효과{광정(light wells)}일 수 있고, 모든 유형의 가열 및 밑에 있는 조명 요소에 가장 적합하게 하기 위해, 장식업자 및 디자이너에 의해 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 플레이트는 특히 조리기구 또는 호브용 조리 플레이트의 새로운 범위를 형성하기 위해 유리하게 사용될 수 있다.
상세히 설명한 바와 같이, 본 발명은, 특히 가열 요소, 특히 호브(hob) 역할을 하도록 의도되는 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도되는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트(이 용어는 예를 들어 벌크 착색된 반투명한 플레이트으로 알려진 플레이트를 포함함)에 관한 것으로, 이러한 호브와 관련된 가열 요소는 예를 들어 유도 난반용 열 소스, 방사 열 소스, 할로겐 열 소스 등에 사용된다.

Claims (10)

  1. 예를 들어 적어도 하나의 가열 요소를 덮거나 수용하도록 의도된, 특히 호브(hob) 또는 쿡-탑(cook-top)의 역할을 하도록 의도되는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트로서,
    상기 플레이트는 코팅, 특히 사용하지 않을 경우 밑에 있는 요소를 적어도 부분적으로 가리도록 의도되는 반면에, 가열 요소 및 선택적인 디스플레이가 사용중인 경우 이들이 보이도록 허용하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트에 있어서,
    대부분의, 바람직하게는 모든 코팅이, 사용 위치에 있는 가열 요소(들) 및 선택적인 디스플레이를 향하도록 의도되는 플레이트의 면상에 있는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 코팅은 플레이트의 상기 면의 전체에 걸쳐서 도포되는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 코팅은, 코팅의 대부분의 표면을 차지하고 바람직하게는 플레이트가 덮어야만 하는 가열 구조의 주요 부분을 가리도록 의도되는, 배경(background)으로 알려진 영역 또는 영역들의 그룹, 및 패턴 및/또는 기호 및/또는 기능성 요소의 위치를 배경에 관해 표시 할 수 있게 해주는 반면에 또한 이러한 요소들이 작동 상태에 있는지의 여부를 볼 수 있게 해주는 표시 영역(indicating regions)이라 불리는 영역 또는 영역들의 그룹을 가지며, 배경 영역(들) 및 표시 영역(들)은 이들의 색상 또는 이들의 색상의 명암 및/또는 이들의 패턴에 의해 구별되고, 여러 개의 영역 사이의 분리는 선명한 선을 따라, 또는 색상 또는 패턴 등급(graduation)이 있는 영역을 따라 수행되는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  4. 제 3항에 있어서, 배경 영역(들) 및 표시 영역(들)은 각각 적어도 하나의 페인트(paint) 층 또는 적어도 하나의 얇은 층 또는 효과 안료(effect pigment)를 구비한 층 또는 에나멜 층에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  5. 제 3항 또는 제 4항에 있어서, 코팅의 여러 개의 영역 전부는 페인트 층 및 얇은 층, 유리하게는 페인트 층으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  6. 제 3항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 여러 개의 코팅 영역은, 상이한 페인트 및/또는 동일한 베이스를 갖지만 상이한 안료 또는 안료의 혼합물을 갖고/갖거나 상이한 안료 농도를 갖는 페인트, 및/또는 상이한 두께로 도포되고/도포되거나 다른 갯수의 층으로 도포된 그 밖의 페인트가 사용된다는 사실에 의해 구별 되는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  7. 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅은 그물 모양(mesh), 또는 작은 반점 또는 반점이 찍힌(speckled or spotted) 스크린 또는 패턴을 갖는 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 대부분의, 바람직하게는 모든 코팅이, 사용 위치에 있는 가열 요소(들)를 향하도록 의도된 베어(bare) 유리-세라믹 플레이트의 면 위에 도포되는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  9. 제 8항에 있어서, 적어도 하나의 제 1 영역을 형성하도록 의도되는 적어도 하나의 제 1 층이 도포되고, 하나 이상의 레지스트가 제공되거나 제조되고, 상기 레지스트는 제 1 영역(들)에 대해 대조되는 적어도 하나의 제 2 영역을 형성하도록 의도된 적어도 하나의 제 2 층으로 덮여지는 것을 특징으로 하는, 투명하거나 반투명한 유리-세라믹 플레이트.
  10. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 유리-세라믹 플레이트, 및 하나 이상의 가열 요소, 특히 유도(induction) 가열 요소를 포함하는 고온-유지 및/또는 조리 디바이스.
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