KR20080024440A - 열처리 장치 - Google Patents

열처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20080024440A
KR20080024440A KR1020070086579A KR20070086579A KR20080024440A KR 20080024440 A KR20080024440 A KR 20080024440A KR 1020070086579 A KR1020070086579 A KR 1020070086579A KR 20070086579 A KR20070086579 A KR 20070086579A KR 20080024440 A KR20080024440 A KR 20080024440A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heat treatment
heat
ventilation
air
workpiece
Prior art date
Application number
KR1020070086579A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101380481B1 (ko
Inventor
유키오 나가노
Original Assignee
에스펙 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스펙 가부시키가이샤 filed Critical 에스펙 가부시키가이샤
Publication of KR20080024440A publication Critical patent/KR20080024440A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101380481B1 publication Critical patent/KR101380481B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00Arrangements of controlling devices
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/04Circulating atmospheres by mechanical means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)

Abstract

열처리 장치는 열처리부 내에 피처리물이 수용된 상태에서 상기 열처리부 내의 공기를 순환시키면서 가열함으로써 상기 피처리물을 열처리하는 열처리 수단과, 외기를 가열하여 상기 열처리부 내로 들여보내고 상기 열처리부 내의 공기를 배기함으로써 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단과, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때보다 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 구비하고 있다. 이 열처리 장치는 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
열처리 장치, 소비 전력, 피처리물, 순환, 외기, 배기, 환기

Description

열처리 장치{Heat treatment apparatus}
본 발명은 피처리물을 열처리하는 열처리 장치에 관한 것이다.
종래 열처리 장치로는 피처리물이 수용된 열처리부 내에서 공기를 순환시킴으로써 상기 피처리물을 가열하고, 해당 피처리물을 열처리하는 것이 알려져 있다.
이러한 열처리 장치는, 예컨대 FPD(평판 디스플레이)의 제조 공정에 있어서 포토레지스트(photoresist)나 유기물 박막의 프리베이크(prebake) 공정, 포스트베이크(postbake) 공정에 사용될 수 있다. 이들 공정에서는 유리 기판 등으로 이루어지는 피처리물이 열처리될 때 포토레지스트 등에 포함되는 휘발성 성분이 기화되어 다량의 승화물이 발생하고, 이 승화물이 재결정화되어 열처리 장치 주변으로 비산하거나 주변에 부착되거나 하는 등의 문제가 있었다.
이 문제의 대책으로서, 예컨대 일본 특허 공개 평 10-141868호 공보에는, 외기를 도입하여 히터로 가열한 후에 상기 열처리부 내로 들여보내고 상기 열처리부 내의 공기를 배기함으로써 상기 열처리부 내를 환기하는 것이 기재되어 있다. 이와 같이 환기함으로써 승화물의 재결정화 및 주변에의 부착을 억제할 수 있다.
그러나, 상기와 같이 환기하려면 도입한 외기를 가열하는 데 매우 많은 전력 을 필요로 하여 열처리 장치 전체의 소비 전력이 커진다.
본 발명의 목적은 전술한 문제를 해결한 열처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있는 열처리 장치를 제공하는 것이다.
구체적으로, 본 발명은, 열처리부 내에 피처리물이 수용된 상태에서 상기 열처리부 내의 공기를 순환시키면서 가열함으로써 상기 피처리물을 열처리하는 열처리 수단과, 외기를 가열하여 상기 열처리부 내로 들여보내고 상기 열처리부 내의 공기를 배기함으로써 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때보다 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은, 피처리물의 수용이 가능한 열처리부와, 상기 열처리부 내의 온도가 상기 피처리물의 열처리가 가능한 온도가 되도록 공기를 가열하는 가열 수단과, 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서, 상기 피처리물의 열처리시 이외의 때에는 열처리시보다 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은, 피처리물의 수용이 가능한 열처리부와, 상기 열처리부 내의 온도가 상기 피처리물의 열처리가 가능한 온도가 되도록 공기를 가열하는 가열 수 단과, 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서, 상기 피처리물의 열처리 종료 후에 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
상기한 바와 같은 본 발명의 열처리장치는 환기량 조정 수단에 의해 비열처리 시의 환기량을 억제할 수 있도록 되어 있으므로, 비열처리 시에 가열 수단이 외기를 가열하는 데 필요한 전력이 적어져 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있는 효과를 제공한다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 대하여 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 열처리 장치(1A)의 개략 구성도이다. 이 열처리 장치(1A)는 FPD의 제조 공정에 사용되는 것으로서, 클린룸 내에 설치되는 소위 클린 오븐이라 불리는 것이다.
상기 열처리 장치(1A)는 단열벽으로 공간이 둘러싸인 구성의 단열실(20)을 갖는 장치 본체(2)를 구비하고 있다. 단열실(20)의 내부는 격벽(24)에 의해 좌우로 칸막이되어 있다. 그리고, 격벽(24)보다 좌측 부분은 열처리부(21)로 되어 있고, 격벽(24)보다 우측 부분은 공조부(23)로 되어 있다. 격벽(24)에는 개구가 형성되며, 이 개구 내에 필터(31)가 배열 설치되어 있다. 이 개구를 통하여 통풍이 가능하게 되어 있다. 또한 도시는 생략하였으나, 장치 본체(2)에는 열처리부(21)의 내 부와 공조부(23)의 내부를 연통시키는 연통로가 설치되어 있다.
상기 열처리부(21)의 내부에는 복수 개의 피처리물(이하, 단순히 작업편이라고 함)(W)을 상하로 나란한 상태에서 지지 가능한 작업편 지지부(22)가 설치되어 있다. 그리고, 작업편(W)은 이 작업편 지지부(22)에 지지된 상태에서 열처리부(21) 내에 수용된다. 작업편(W)은 예컨대 유리 기판 등이다.
상기 공조부(23)에는 히터(32) 및 송풍기(33)가 설치되어 있다. 가열 수단인 히터(32)는 통전에 의한 발열(줄 열)에 의해 공조부(23) 내의 공기를 가열한다. 송풍기(33)는 공조부(23) 내의 공기를 필터(31)를 통하여 열처리부(21) 내로 들여보낸다. 그리고, 송풍기(33)에 의해 열처리부(21) 내로 공기가 들여보내지면, 열처리부(21) 내의 공기는 도시 생략한 연통로를 통하여 공조부(23) 내로 복귀된다. 공조부(23) 내로 복귀된 공기는 다시 히터(32)에 의해 가열된다. 이와 같이 열처리부(21) 내의 공기는 공조부(23)와의 사이에서 순환하면서 가열되도록 되어 있으며, 이에 따라 열처리부(21) 내에 수용된 작업편(W)이 열처리된다. 즉, 히터(32) 및 송풍기(33)는 열처리부(21) 내의 공기를 순환시키면서 가열함으로써 작업편(W)을 열처리하는 열처리 수단(3)을 구성한다. 그리고, 히터(32)는 열처리부(21)와 공조부(23) 사이를 순환하는 공기를 작업편(W)의 열처리가 가능한 온도로 가열할 수 있도록 되어 있다.
또한, 히터(32)는 작업편(W)을 열처리할 때에만 작동하는 것이 아니라, 비열처리 시에도 작동하고 있다. 즉, 작업편(W)이 열처리부(21) 내에 수용되어 있지 않을 때에도 히터(32)를 작동시켜 둠으로써 열처리부(21) 내의 온도가 소정의 온도로 유지되도록 되어 있다.
상기 공조부(23)에는 흡기 덕트(41)가 접속되고, 상기 열처리부(21)에는 배기 덕트(42)가 접속되어 있다. 배기 덕트(42)의 도중에는 팬(블로어라고도 함)(43)이 설치되어 있다. 그리고, 팬(43)이 작동하면, 열처리부(21) 내의 공기가 배기 덕트(42)를 통하여 배기되고, 그에 따라 외기가 흡기 덕트(41)로부터 흡입되어 공조부(23) 내로 들여보내진다. 공조부(23) 내로 들여보내진 외기는 히터(32)에 의해 가열된 후에 필터(31)를 통하여 열처리부(21) 내로 들여보내진다. 이와 같이 하여 열처리부(21) 내가 환기된다. 즉, 흡기 덕트(41), 배기 덕트(42), 팬(43) 및 히터(32)는 외기를 가열하여 열처리부(21) 내로 들여보내고 열처리부(21) 내의 공기를 배기함으로써 열처리부(21) 내를 환기하는 환기 수단(4)을 구성한다. 그리고, 히터(32)는 이 환기 수단(4)과 전술한 열처리 수단(3)에 공통적으로 사용되도록 되어 있다. 또한, 환기 수단은 흡기 덕트(41), 배기 덕트(42) 및 팬(43)으로 구성하고, 히터(32)는 열처리 수단(3)의 한 요소로만 사용되도록 할 수도 있다.
상기 흡기 덕트(41)는 외기를 도입하는 하나의 도입 덕트(41c)와, 이 도입 덕트(41c)에서 분기되는 2개의 유입 덕트(41a, 41b)를 갖는다. 외기는 2개의 유입 덕트(41a, 41b)를 통하여 공조부(23) 내로 유입된다. 또한, 도입 덕트(41c)가 설치되지 않아, 유입 덕트(41a, 41b)가 직접 외기를 도입하도록 되어 있을 수도 있다.
상기 유입 덕트(41a, 41b) 중 어느 하나(도 1에서는 하측)의 유입 덕트(41a)에는 풍량 조정용 수동 댐퍼(44A)가 설치되어 있고, 나머지 하나(도 1에서는 상측)의 유입 덕트(41b)에는 풍량 조정용 자동 댐퍼(51A)가 설치되어 있다.
상기 배기 덕트(42)는 열처리부(21) 내의 공기를 유출시키는 2개의 유출 덕트(42a, 42b)와, 이들 유출 덕트(42a, 42b)를 흐르는 공기를 모아 외부로 도출하는 하나의 도출 덕트(42c)를 가지고 있다. 그리고, 도출 덕트(42c)의 도중에 상기 팬(43)이 설치되어 있다.
상기 유출 덕트(42a, 42b) 중 어느 하나(도 1에서는 우측)의 유출 덕트(42a)에는 풍량 조정용 수동 댐퍼(44B)가 설치되어 있고, 나머지 하나(도 1에서는 좌측)의 유출 덕트(42b)에는 풍량 조정용 자동 댐퍼(51B)가 설치되어 있다.
상기 유입 덕트(41b)에 설치된 자동 댐퍼(51A) 및 상기 유출 덕트(42b)에 설치된 자동 댐퍼(51B)는, 도 2에 도시한 바와 같은 환기량 조정 수단(5A)을 구성하는 것이다. 이 환기량 조정 수단(5A)은 자동 댐퍼(51A, 51B) 이외에, 자동 댐퍼(51A, 51B)의 열림도를 조정하기 위한 댐퍼 제어부(52)를 가지고 있다.
상기 댐퍼 제어부(52)는 상기 열처리 수단(3)이 작업편(W)을 열처리하지 않을 때에는 열처리 수단(3)이 작업편(W)을 열처리할 때보다 환기 수단(4)이 환기하는 환기량을 저감시키도록 자동 댐퍼(51A, 51B)의 구동을 제어한다. 이하, 도 3에 도시한 타이밍 차트를 참조하여 댐퍼 제어부(52)가 행하는 제어를 구체적으로 설명한다.
먼저, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되지 않았을 때에는, 댐퍼 제어부(52)는 유입 덕트(41b) 및 유출 덕트(42b)를 폐쇄하는 방향으로 자동 댐퍼(51A, 51B)를 구동하여 자동 댐퍼(51A, 51B)를 모두 닫힘 상태로 한다. 이 때의 환기량은 열처리부(21) 내의 정압을 일정하게 유지하는 정도이면 되며, 수동 댐퍼(44A, 44B) 의 열림도는 그러한 환기량을 확보할 수 있을 정도로 설정된다. 또한, 이 때의 자동 댐퍼(51A, 51B)는 모두 닫힘 상태일 필요는 없다. 즉, 수동 댐퍼(44A, 44B)와의 관계에 따라서는 유입 덕트(41b) 또는 유출 덕트(42b)를 약간 개방하는 상태일 수도 있다.
열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되었을 때에는, 댐퍼 제어부(52)는 유입 덕트(41b) 및 유출 덕트(42b)를 개방하는 방향으로 자동 댐퍼(51A, 51B)를 구동한다. 이 때, 열처리부(21) 내의 공기의 온도가 흐트러지는 것을 방지하기 위하여, 댐퍼 제어부(52)는 소정 시간(예컨대 10분간) 동안 서서히 자동 댐퍼(51A, 51B)를 모두 열림 상태로 한다. 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되면, 열처리 수단(3)에 의한 작업편(W)의 열처리가 시작된다. 열처리에 수반하여 작업편(W)으로부터 휘발 성분의 증발이 시작되는데, 열처리 시작 직후에는 그 발생량이 적으므로 이와 같이 하여도 문제는 없다.
여기서, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되었을 때란, 열처리 장치 내에 설치된 작업편(W)의 유무를 검지하는 예컨대 광전 센서(도시 생략) 등의 작업편 검지 수단이 작업편(W)을 검지하였을 때이다. 또한, 열처리 장치(1A)가 FPD의 제조 공정에 인라인으로 조립되어 들어가는 경우에는, 도면 밖의 상류 장치 등으로부터 작업편 반입의 신호를 받도록 할 수도 있다. 또한 이러한 경우에는, 도 3 중에 화살표 a로 도시한 바와 같이, 상류 장치 등으로부터 작업편이 반입되는 일정 시간 전에 신호를 받도록 하여, 도 3 중에 2점 쇄선으로 도시한 바와 같이 작업편(W)이 실제로 반입되는 시점보다 먼저 자동 댐퍼(51A, 51B)의 구동을 시작하도록 할 수도 있다.
그리고, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되고나서 소정 시간 경과 후 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출될 때까지의 동안에는, 댐퍼 제어부(52)는 소정의 환기량이 확보되도록 자동 댐퍼(51A, 51B)를 모두 열림 상태로 유지한다.
열처리 수단(3)에 의한 작업편(W)의 열처리가 종료하여 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출되면, 댐퍼 제어부(52)는 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 완전히 반출되고나서 일정 시간 경과한 후, 바꾸어 말하면 상기 작업편 검지 수단이 작업편 없음을 검지하였을 때부터 일정 시간 경과 후에 유입 덕트(41b) 및 유출 덕트(42b)를 폐쇄하는 방향으로 자동 댐퍼(51A, 51B)를 구동하고, 자동 댐퍼(51A, 51B)를 모두 닫힘 상태로 한다. 이 때, 열처리부(21) 내의 공기의 온도가 흐트러지는 것을 방지하거나 열처리부(21) 내에 잔류하는 휘발 성분을 포함한 공기를 배출하거나 하기 위하여, 댐퍼 제어부(52)는 소정 시간(예컨대 10분간) 동안 자동 댐퍼(51A, 51B)를 모두 열림 상태로 한다. 즉, 작업편(W)의 열처리 시 이외의 때의 환기량은 작업편(W)의 열처리 시의 환기량보다 적게 되어 있다. 또한, 휘발 성분의 발생량에 따라서는 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출되는 것과 동시에 자동 댐퍼(51A, 51B)의 구동을 시작하도록 할 수도 있다.
이와 같이 제1 실시 형태의 열처리 장치(1A)에서는 환기량 조정 수단(5A)에 의해 비열처리 시의 환기량을 억제할 수 있도록 되어 있으므로, 비열처리 시에 히터(32)가 외기를 가열하는 데 필요한 전력이 적어져, 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
또한, 제1 실시 형태에서는 유입 덕트(41a, 41b) 및 유출 덕트(42a, 42b)를 각각 2개 설치한 형태를 도시하였으나, 자동 댐퍼(51A, 51B)로서 슬릿 있는 댐퍼를 채용하면, 어느 하나의 유입 덕트(41a) 및 어느 하나의 유출 덕트(42a) 및 수동 댐퍼(44A, 44B)를 생략하는 것도 가능하다.
다음, 도 4 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 열처리 장치(1B)를 설명한다. 또한, 제1 실시 형태와 동일 구성 부분에는 동일 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.
제2 실시 형태에 따른 열처리 장치(1B)에서는 흡기 덕트(41) 및 배기 덕트(42)가 각각 하나의 덕트로 구성되고, 이들 흡기 덕트(41) 및 배기 덕트(42)에 수동 댐퍼(44A, 44B)가 설치되어 있다.
열처리 장치(1B)는 열처리 수단(3)이 작업편(W)을 열처리하지 않을 때에는 열처리 수단(3)이 작업편(W)을 열처리할 때보다 환기 수단(4)에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단(5B)을 구비하고 있다. 이 환기량 조정 수단(5B)은 팬(43)의 회전수를 제어하는 팬 제어부(53)를 가지고 있다.
상기 팬 제어부(53)는, 도 6에 도시한 바와 같이, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되지 않았을 때에는 팬(43)의 회전수를 작게 유지하고, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되었을 때 소정 시간(예컨대 10분간) 동안 팬(43)의 회전수를 점점 크게 한다.
또한 제1 실시 형태와 마찬가지로, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되었을 때란, 열처리 장치 내에 설치된 작업편(W)의 유무를 검지하는 예컨대 광전 센 서(도시 생략) 등이 작업편(W)을 검지하였을 때이다. 또한 열처리 장치(1B)가 FPD의 제조 공정에 인라인으로 조립되어 들어가는 경우에는, 상류 장치 등으로부터 작업편 반입의 신호를 받도록 할 수도 있고, 상류 장치 등으로부터 작업편이 반입되는 일정 시간 전에 신호를 받도록 하여, 작업편(W)이 실제로 반입되기 전부터 팬(43)의 회전수를 크게 하도록 할 수도 있다.
그리고, 열처리부(21)에 작업편(W)이 반입되면 열처리 수단(3)에 의한 작업편(W)의 열처리가 시작되는데, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되고나서 소정 시간 경과 후 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출될 때까지의 동안에는 팬 제어부(53)는 소정의 환기량이 확보되도록 팬(43)의 회전수를 유지한다.
열처리 수단(3)에 의한 작업편(W)의 열처리가 종료하고, 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출되면, 팬 제어부(53)는 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출되고나서 일정 시간 경과한 후에, 소정 시간(예컨대 10분간) 동안 팬(43)의 회전수를 점점 작게 한다. 또한 제1 실시 형태와 마찬가지로, 작업편(W)이 열처리부(21)로부터 반출되는 것과 동시에 팬(43)의 회전수를 작게 하도록 할 수도 있다.
이와 같이 하여도 제1 실시 형태와 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 팬 제어부(53)는 도 7에 도시한 바와 같이, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되지 않았을 때에는 팬(43)을 정지해 두고, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입되기 전에 팬(43)을 저회전수로 회전시킬 수도 있다. 또는, 도 7 중에 2점 쇄선으로 도시한 바와 같이, 열처리부(21) 내에 작업편(W)이 반입될 때까지 팬(43)을 정지해 두고, 작업편(W)이 반입되면 팬(43)을 구동하도록 할 수도 있다.
다음, 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 열처리 장치에 대하여 설명한다. 이 열처리 장치는, 도시는 생략하였으나, 제1 실시 형태의 열처리 장치(1A)의 환기량 조정 수단(5A)에 제2 실시 형태의 팬 제어부(53)를 추가한 것이다. 즉, 환기량 조정 수단(5A)은 댐퍼 제어부(52)와 팬 제어부(53)를 포함하고 있다.
이러한 열처리 장치라면, 도 8에 도시한 바와 같이, 자동 댐퍼(51A, 51B)와 팬(43)을 독립적으로, 또는 관련시켜 제어하는 것도 가능하다. 예컨대 팬(43)의 구동과 자동 댐퍼(51A, 51B)의 개방을 동시에 하거나 시간적으로 엇갈리게 하여 양자를 구동하도록 할 수도 있다.
또한, 제1 내지 제3 실시 형태에 있어서는 환기 수단의 흡기 덕트(41)의 도중에 히터를 별도로 설치하여, 흡기 덕트(41)를 열처리부(21)에 직접 접속할 수도 있다.
여기서, 본 실시 형태의 개요에 대하여 설명한다.
(1)본 실시 형태에서는 환기량 조정 수단에 의해 비열처리 시의 환기량을 억제할 수 있도록 되어 있으므로, 비열처리 시에 환기 수단이 외기를 가열하는 데 필요한 전력이 적어져 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
(2)본 실시 형태에서는 상기 환기 수단은 외기를 흡입하는 흡기 덕트와, 상기 열처리부 내의 공기를 배기하는 배기 덕트를 가지며, 상기 환기량 조정 수단은 상기 흡기 덕트와 배기 덕트의 각각에 설치되는 풍량 조정용 자동 댐퍼와, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때에는 상기 흡기 덕트 및 배기 덕트를 개방하는 방향으로 상기 자동 댐퍼를 구동하고, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 흡기 덕트 및 배기 덕트를 폐쇄하는 방향으로 상기 자동 댐퍼를 구동하는 제어를 행하는 댐퍼 제어부를 갖는다.
(3)본 실시 형태에서는 상기 환기 수단은 상기 열처리부 내의 공기를 배기하는 배기 덕트와, 상기 배기 덕트의 도중에 설치되는 팬을 가지며, 상기 환기량 조정 수단은 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때에는 상기 팬의 회전수를 크게 하고, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 팬의 회전수를 작게 하는 제어를 행하는 팬 제어부를 갖는다.
(4)본 실시 형태에서는 상기 열처리부와 칸막이된 공조부를 구비하고, 상기 열처리 수단은 상기 열처리부 내의 공기를 상기 공조부와의 사이에서 순환시키면서 가열한다.
(5)본 실시 형태에서는 환기량 조정 수단에 의해 비열처리 시의 환기량을 억제할 수 있도록 되어 있으므로, 비열처리 시에 가열 수단이 외기를 가열하는 데 필요한 전력이 적어져 열처리 장치 전체의 소비 전력을 저감시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 열처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 제1 실시 형태의 환기량 조정 수단의 블럭도이다.
도 3은 제1 실시 형태에 따른 열처리 장치의 타이밍 차트이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 열처리 장치의 개략 구성도이다.
도 5는 제2 실시 형태의 환기량 조정 수단의 블럭도이다.
도 6은 제2 실시 형태에 따른 열처리 장치의 타이밍 차트이다.
도 7은 변형예의 타이밍 차트이다.
도 8은 제3 실시 형태에 따른 열처리 장치의 타이밍 차트이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 간략한 설명*
2: 본체
20: 단열실 21: 열처리부
22: 작업편 지지부 23: 공조부
24: 격벽
3: 열처리 수단
31: 필터 32: 히터
33: 송풍기
4: 환기수단
41: 흡기 덕트 42: 배기 덕트
43: 팬

Claims (6)

  1. 열처리부 내에 피처리물이 수용된 상태에서 상기 열처리부 내의 공기를 순환시키면서 가열함으로써 상기 피처리물을 열처리하는 열처리 수단과, 외기를 가열하여 상기 열처리부 내로 들여보내고 상기 열처리부 내의 공기를 배기함으로써 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서,
    상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때보다 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 환기 수단은 외기를 흡입하는 흡기 덕트와, 상기 열처리부 내의 공기를 배기하는 배기 덕트를 가지며,
    상기 환기량 조정 수단은,
    상기 흡기 덕트와 상기 배기 덕트의 각각에 설치되는 풍량 조정용 자동 댐퍼와,
    상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때에는 상기 흡기 덕트 및 상기 배기 덕트를 개방하는 방향으로 상기 자동 댐퍼를 구동하고, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 흡기 덕트 및 상기 배기 덕트를 폐쇄하는 방향으로 상기 자동 댐퍼를 구동하는 제어를 행하는 댐퍼 제어부를 갖는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 환기 수단은 상기 열처리부 내의 공기를 배기하는 배기 덕트와, 상기 배기 덕트의 도중에 설치되는 팬을 가지며,
    상기 환기량 조정 수단은, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리할 때에는 상기 팬의 회전수를 크게 하고, 상기 열처리 수단이 피처리물을 열처리하지 않을 때에는 상기 팬의 회전수를 작게 하는 제어를 행하는 팬 제어부를 갖는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열처리부와 칸막이된 공조부를 구비하며,
    상기 열처리 수단은 상기 열처리부 내의 공기를 상기 공조부와의 사이에서 순환시키면서 가열하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  5. 피처리물의 수용이 가능한 열처리부와, 상기 열처리부 내의 온도가 상기 피처리물의 열처리가 가능한 온도가 되도록 공기를 가열하는 가열 수단과, 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서,
    상기 피처리물의 열처리시 이외의 때에는 열처리시보다 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
  6. 피처리물의 수용이 가능한 열처리부와, 상기 열처리부 내의 온도가 상기 피처리물의 열처리가 가능한 온도가 되도록 공기를 가열하는 가열 수단과, 상기 열처리부 내를 환기하는 환기 수단을 구비한 열처리 장치에 있어서,
    상기 피처리물의 열처리 종료 후에 상기 환기 수단에 의한 환기량을 저감시키는 환기량 조정 수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
KR1020070086579A 2006-09-13 2007-08-28 열처리 장치 KR101380481B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006247621A JP4273145B2 (ja) 2006-09-13 2006-09-13 熱処理装置
JPJP-P-2006-00247621 2006-09-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080024440A true KR20080024440A (ko) 2008-03-18
KR101380481B1 KR101380481B1 (ko) 2014-04-01

Family

ID=39291752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070086579A KR101380481B1 (ko) 2006-09-13 2007-08-28 열처리 장치

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4273145B2 (ko)
KR (1) KR101380481B1 (ko)
CN (1) CN101173840B (ko)
TW (1) TW200815723A (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101104201B1 (ko) * 2010-07-13 2012-01-10 (주)에스엠텍 기판 열처리 장치
KR101406508B1 (ko) * 2013-03-07 2014-06-11 김한곤 박판유리 강화열처리장치
KR101406576B1 (ko) * 2013-03-07 2014-06-11 김한곤 공기 교반 및 배기수단이 구비된 서냉로를 갖는 박판유리 강화열처리장치
KR101467082B1 (ko) * 2013-03-07 2014-12-01 김한곤 공기 교반 및 배기수단이 구비된 예열로를 갖는 박판유리 강화열처리장치

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4727712B2 (ja) * 2008-12-04 2011-07-20 エスペック株式会社 通気装置
JP4896952B2 (ja) * 2008-12-04 2012-03-14 エスペック株式会社 熱処理装置
JP5503376B2 (ja) * 2010-03-31 2014-05-28 光洋サーモシステム株式会社 熱処理装置
JP6177616B2 (ja) * 2013-08-01 2017-08-09 光洋サーモシステム株式会社 熱処理装置
JP5767354B2 (ja) * 2014-03-14 2015-08-19 光洋サーモシステム株式会社 熱処理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2201398Y (zh) * 1993-12-08 1995-06-21 地方国营梨树县白云灰厂 石灰窑二次通风装置
GB2300906B (en) * 1995-05-18 1998-11-04 Stein Atkinson Strody Ltd Oven for glass article
JP3739233B2 (ja) 1999-06-28 2006-01-25 光洋サーモシステム株式会社 排気型バッチ式オーブン
JP3403181B2 (ja) * 2001-03-30 2003-05-06 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置及び熱処理方法
US6830449B1 (en) * 2004-02-02 2004-12-14 Sis Microelectronics Corporation Injector robot for replacing a gas injector in a furnace
JP2006017357A (ja) * 2004-06-30 2006-01-19 Espec Corp 熱処理装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101104201B1 (ko) * 2010-07-13 2012-01-10 (주)에스엠텍 기판 열처리 장치
KR101406508B1 (ko) * 2013-03-07 2014-06-11 김한곤 박판유리 강화열처리장치
KR101406576B1 (ko) * 2013-03-07 2014-06-11 김한곤 공기 교반 및 배기수단이 구비된 서냉로를 갖는 박판유리 강화열처리장치
KR101467082B1 (ko) * 2013-03-07 2014-12-01 김한곤 공기 교반 및 배기수단이 구비된 예열로를 갖는 박판유리 강화열처리장치

Also Published As

Publication number Publication date
TW200815723A (en) 2008-04-01
JP2008070017A (ja) 2008-03-27
JP4273145B2 (ja) 2009-06-03
CN101173840B (zh) 2012-06-27
TWI354762B (ko) 2011-12-21
KR101380481B1 (ko) 2014-04-01
CN101173840A (zh) 2008-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101380481B1 (ko) 열처리 장치
JP2010266085A (ja) コンピューターサーバールーム用温度管理システム及びそれを用いたコンピューターサーバールームの温度管理方法
JP2014043988A (ja) 食品乾燥庫
JP2007333559A (ja) 冷熱衝撃試験装置
JP2953373B2 (ja) 空気調和装置および空気調和装置の滅菌方法
US20040035569A1 (en) Device and method for feeding treating air
TWI404902B (zh) Heat treatment device
JP3402713B2 (ja) 熱処理装置
JP2005164113A (ja) 換気装置
JP4981543B2 (ja) 熱処理装置
JPH09133378A (ja) 空調機
JP2002299262A (ja) ロードロック室及びその排気方法
JP2603640Y2 (ja) 送風機軸貫通孔を吸気孔とする環境試験装置
JP4071155B2 (ja) ホルムアルデヒド等の有害化学物質除去設備
JP2006234345A (ja) 換気装置および空気調和機
JP3173696B2 (ja) 乾燥炉
JP2003262469A (ja) ガラス基板用熱処理装置
KR20160036467A (ko) 환기겸용 욕실 천장형 전기온풍기
JP2511205Y2 (ja) バ―ンイン処理装置
JP2020015953A (ja) 連続式雰囲気熱処理炉
JP7375720B2 (ja) 浴室乾燥機
JP2003021337A (ja) 調理器
JP3088490B2 (ja) 温湿度試験器
JP3129993B2 (ja) 他室暖房機能付き浴室暖房装置
JP2023163419A (ja) 浴室装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170220

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190227

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200227

Year of fee payment: 7