KR20080002983A - 가열 장치 및 가열 방법 - Google Patents

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마사유키 나카기리
료이치 스기하라
노부야스 아키요시
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

가열 장치(45)는 유리 기판(24)이 공급 기구(74)에 의해 공급되는 공급 방향을 따라 배열되는 제 1 ~ 제 5 가열로(82~90)를 갖는다. 제 1 가열로는 워크피스(24)를 처리하는데 필요한 목표 온도 이상으로 유리 기판(24)을 가열하는 제 1 히터(98a)를 갖는다. 제 2 가열로(84)는 목표 온도 이하의 온로로 유리 기판(24)을 가열하는 히터(98b)를 갖는다. 제 2 가열로(84)는 제 1 가열로(82)보다 더 작은 열량을 발생시킨다. 상기 제 2 가열로, 또는 상기 제 2 가열로의 하류의 가열로 중 하나는 제 1 가열로에서 워크피스의 상기 과열을 피하는 버퍼 시스템을 포함할 수 있다.
가열 장치, 가열 방법, 가열로, 열원

Description

가열 장치 및 가열 방법{HEATING APPARATUS AND HEATING METHOD}
본 발명은 처리될 워크피스를 공급하는 공급 기구를 가지는 가열 장치, 및 그러한 장치에 의해 행해지는 가열 방법에 관한 것이다.
예를 들면, 액정 패널용 기판, 프린트 배선 보드용 기판 및 PDP 패널용 기판은 감광 재료(감광성 수지)층을 가지는 감광성 시트(감광성 웹)를 포함하고, 기판 표면에 붙여진 감광성 적층체로 구성된다. 감광성 시트는 가요성 플라스틱 지지물 상에 순차적으로 배치된 감광 재료층 및 보호 필름으로 구성된다.
감광성 적층체를 제조하기 위해서 유리 기판, 수지 기판 등의 기판(처리될 워크피스)은 일반적으로 소정의 온도로 예열된다. 보호 필름이 부분적 또는 전체적으로박리된 감광성 웹과 예열된 기판은 한쌍의 라미네이팅 롤러 사이에 그립되고 가열되어 기판에 반대하여 감광 재료가 열압착된다. 그 다음에, 사용성 플라스틱 지지물은 기판에서 박리됨으로써 감광성 적층체는 제조된다.
기판을 소정의 온도로 가열하기 위해서, 예를 들면, 일본 특허 공개 5-208261호 공보에 개시되어 있는 연속 가열 장치가 사용될 수 있다. 개시된 연속 가열 장치에서, 참조 도면의 도 19에 나타낸 바와 같이, 순환 메쉬 벨트(2) 상에 배치되고, 화살표(X)가 나타내는 방향으로 연속 공급된다. 연속 가열 장치는 기판(1) 이 공급되는 방향을 따라 순차적으로 배치되는 예열 영역(3), 리플로우 영역(4) 및 냉각 영역(5)을 가진다.
예열 영역(3)은 기판(1)의 상하에 위치된 예열 평면 히터(3a,3b,3c)의 세트를 갖고, 화살표(X)가 나타내는 방향을 따라 순차적으로 배치된다. 리플로우 영역(4)은 열차폐판(6a,6b,6c)에 의해 각각 형성되는 한쌍의 챔버(7)를 갖고, 한쌍의 플로우 히터(8)가 챔버(7)에서 각각 배치된다.
땜납에 의해 프린트 회로 보드 상에 설치된 소자를 갖는 기판(1)은 리플로우 영역(4)에서 주어진 온도가 땜납의 융점보다 높도록, 예를 들면, 땜납이 180℃의 융점을 가지면 210℃까지 15~30초 동안 가열된다. 예열 영역(3)에서 기판(1)은 140℃~160℃의 범위의 온도로 예열된다.
상기 종래 가열 장치에 따르면, 기판(1)이 예열 영역(3)의 상기 예열 온도이상으로 가열되는 것을 방지할 필요가 있다. 평면히터(3a,3b,3c)의 각각은 가열된 기판(1)의 수렴 온도가 초과 온도, 예를 들면, 220℃에 도달하지 않도록 비교적 저온으로 그 온도를 설정하기 위해 제어된다.
그러나, 기판(1)은 약 20℃의 상온으로부터 140℃~160℃의 범위의 예열 온도까지 가열되므로 기판(1)은 상당히 긴 시간 동안 가열된다. 기판(1)이 짧은 택트 타임(tact time)으로 공급되면 예열 영역(3)은 공급 방향으로 상당히 연장되고 사이즈가 더 큰 가열 장치가 되는 경향이 있다.
본 발명의 주요 목적은 워크피스를 소정의 온도까지 신속하고 확실하게 가열할 수 있고 사이즈가 비교적 컴팩트한 가열 장치, 및 그러한 가열 장치에 의해 행해지는 가열 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 의한 워크피스를 가열하는 장치는 공급 방향으로 워크피스를 공급하는 공급 기구를 가진다. 가열 장치는 공급방향을 따라 배치되는 적어도 제 1 및 제 2 가열로를 가진다. 제 1 가열로는 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 상류에 배치되고, 워크피스를 처리하는데 필요한 목표 온도 이상으로 워크피스를 가열하는 제 1 열원을 가진다. 제 1 가열로보다 작은 열량을 발생시킬 수 있는 제 2 가열로는 공급 방향에 대하여 제 1 가열로의 하류에 배치되고, 목표 온도 이하의 온도로 워크피스를 가열하는 제 2 열원을 가진다.
제 2 가열로, 또는 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 하류에 배치되는 제 3 가열로를 포함하는 가열로 중 하나는 공급 기구로부터 워크피스를 퇴피시키는 퇴피 기구를 가질 수 있다. 퇴피 기구는 공급 방향과 직교하는 방향에 대해 수직 또는 수평으로 이송되는 워크피스를 수용하는 버퍼를 포함할 수 있다.
상기 장치는 공급 방향에 대하여 제 1 가열로의 하류에 배치되어 워크피스가 제 1 가열로로 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때에만 워크피스 또는 하류 워크피스를 유지하여 대기시키는 버퍼를 더 포함할 수 있다. 공급 기구는 워크피스를 연속 또는 간헐적으로 공급할 수 있다.
제 2 가열로, 또는 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 하류에 배치되는 제 3 가열로를 포함하는 가열로 중 하나는 공급 방향과 교차하는 폭방향으로 워크피스를 위치시키고, 공급 방향을 따라 소정의 위치에서 워크피스를 정지시키는 위치 결정 기구를 가질 수 있다.
본 발명에 따르면, 공급 방향에 대하여 상류 지역에 배치되고, 워크피스를 처리하는데 필요한 목표 온도 이상으로 워크피스를 가열할 수 있는 제 1 가열로를 통하여 목표 온도 이하로 워크피스를 가열하는 공정, 및 공급 방향에 대하여 하류 지역에 배치되고, 제 1 가열로보다 작은 열량을 발생시킬 수 있는 제 2 가열로에 의해 목표 온도 이하로 워크피스를 가열하는 공정을 포함하고 공급로를 따라 워크피스를 간헐 또는 연속적으로 공급하면서 워크피스를 가열하는 방법도 제공된다.
공급로로부터 워크피스를 퇴피시키는 버퍼는 제 2 공급로, 또는 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 하류에 배치되는 제 3 가열로를 포함하는 복수의 가열로 중 하나에서 배치될 수 있다. 상기 방법은 워크피스가 제 1 가열로로 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때 워크피스 또는 다른 워크피스를 공급로로부터 버퍼로 이송하는 공정, 및 워크피스를 제 1 가열로로부터 배출시키는 공정을 더 포함할 수 있다.
버퍼는 공급로와 교차하여 배치될 수 있다. 상기 방법은 워크피스가 제 1 가열로로 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때 이전에 투입된 제 1 워크피스를 버퍼로 이송하는 공정, 그 후 순차 투입된 제 2 워크피스를 제 1 워크피스와 병렬로 배치하는 공정, 제 1 워크피스를 공급로로 리턴하는 공정, 제 2 워크피스를 공급로로부터 분리하는 공정, 그 다음에 제 1 워크피스를 공급로를 따라 공급하는 공정, 그 후 제 2 워크피스를 공급로로 리턴하는 공정, 및 제 1 워크피스에 연이어서 공급로를 따라 제 2 워크피스를 공급하는 공정을 더 포함할 수 있다.
버퍼는 공급로를 따라 배열되는 제 1 및 제 2 버퍼를 포함할 수 있다. 상기 방법은 워크피스가 제 1 가열로로 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때 이전에 투입된 제 1 워크피스를 공급로로부터 버퍼로 이송하는 공정, 그 후 순차 투입된 제 2 워크피스를 제 1 버퍼를 통과해서 제 2 버퍼로 이송하는 공정, 제 1 워크피스를 제 1 버퍼로부터 공급로로 리턴하는 공정, 제 1 워크피스를 공급로를 따라 하류로 공급하는 공정, 그 다음에 제 2 워크피스를 제 2 버퍼로부터 공급로로 리턴하는 공정, 및 제 1 워크피스에 연이어서 공급로를 따라 제 2 워크피스를 공급하는 공정을 더 포함할 수 있다.
버퍼는 공급 방향에 대하여 제 1 가열로의 하류에 배치될 수 있고, 상기 방법은 워크피스가 제 1 가열로로 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때에만 워크피스 또는 하류 워크피스를 유지시켜 버퍼에서 대기시키는 공정을 더 포함할 수 있다.
상기 방법은 제 2 가열로, 또는 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 하류에 배치되는 제 3 가열로를 포함하는 복수의 가열로 중 하나에서 공급 방향과 교차하는 폭방향으로 워크피스를 위치 결정하는 공정, 및 워크피스를 공급 방향을 따라 소정의 위치에 정지시킨 후 워크피스가 소정의 위치에서 정지되었는지의 여부를 검출하는 공정을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 공급 방향에 대하여 제 2 가열로의 상류에 배치되는 제 1 가열로는 제 2 가열로보다 큰 열량을 발생시키고, 목표 온도에 근접하게 워크피스를 신속히 가열한다. 그러므로, 워크피스는 단시간 내에 가열될 수 있고 가열로의 전체 길이는 짧아지고 가열로의 사이즈가 작아진다.
제 1 가열로보다 작은 열량을 발생시키는 제 2 가열로는 제 1 가열로의 하류에 배치된다. 그러므로, 제 1 가열로에 의해 목표 온도에 근접하게 신속히 가열되는 워크피스는 제 2 가열로에 의해 목표 온도로 정확하게 가열될 수 있다.
그러므로, 워크피스가 제 2 가열로에 체류할 때에도 그것은 목표 온도 이상으로 가열되지 않는다. 장치의 트러블 또는 유지로 인해 장치 내의 워크피스의 공급이 정지되면 단지 워크피스를 제 1 가열로로부터 제 2 가열로 이송함으로써 워크피스가 목표 온도 이상으로 가열되는 것을 확실히 방지할 수 있다.
워크피스가 체류 상태에서 벗어난 후에 목표 온도로 유지되는 워크피스가 공급될 수 있다. 따라서, 장치는 효과적으로 작동하고 과도하게 가열될지도 모르는 워크피스를 냉각시키기 위한 냉각 장치는 요구되지 않는다. 과도하게 가열될지도 모르는 워크피스는 장치의 출력을 취할 필요가 없고 새로운 워크피스가 장치로 제공될 필요가 없다. 게다가, 상기 장치는 과도하게 가열된 워크피스으로 인한 작동 손실 또는 워크피스 손실을 면한다.
본 발명의 상기 및 다른 목적, 특징, 이점은 본 발명의 실시형태가 예증적인 예의 방식으로 나타내어지는 동반 도면과 함께 취해질 때 아래의 설명으로부터 더 명백해 질 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 가열 장치를 통합한 제조 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 제조 장치에 사용되는 연장 감광성 웹의 확대 단편 단면도이다.
도 3은 접착 라벨이 접착된 연장 감광성 웹의 확대 단편 평면도이다.
도 4는 가열 장치의 개략 구성 설명도이다.
도 5는 가열 장치의 퇴피 기구의 확대 설명도이다.
도 6은 퇴피 기구의 사시도이다.
도 7은 가열 장치의 위치 결정 기구의 투시도이다.
도 8은 가열 장치의 정지 기구의 평면도이다.
도 9는 제 1 실시형태에 의한 가열 장치 및 종래 가열 장치의 온도 상승 패턴을 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제 2 실시형태에 의한 가열 장치의 개략 구성 설명도이다.
도 11은 본 발명의 제 3 실시형태에 의한 가열 장치의 평면도이다.
도 12는 도 11에 나타낸 가열 장치의 사시도이다.
도 13은 본 발명의 제 4 실시형태에 의한 가열 장치의 개략 구성 설명도이다.
도 14는 도 13에 나타낸 가열 장치의 가열로 설정 온도와 유리 기판의 온도가 상승하는 방식의 설명도이다.
도 15는 유리 기판을 제 1 버퍼로 퇴피하기 위해 가열 장치가 작동하는 방식을 나타내는 개략 설명도이다.
도 16은 유리 기판이 체류 상태로부터 벗어난 후의 가열 장치가 동작하는 방식을 나타내는 개략 설명도이다.
도 17은 다음의 유리 기판을 제 2 버퍼로 퇴피하기 위해 가열 장치가 작하는 방식을 나타내는 개략 설명도이다.
도 18은 본 발명의 제 5 실시형태에 의한 가열 장치의 개략 구성 설명도이다.
도 19는 종래의 연속 가열 장치의 개략 구성도이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 가열 장치를 통합한 감광성 적층체를 위한 제조 장치(20)를 개략적으로 나타낸다. 제조 장치(20)는 액정 패널, 또는 유기 EL 패널로 사용하기 위한 컬러 필터를 제작하는 공정에서 연장 감광성 웹(22)의 감광성 수지층(28)(후술됨)을 유리 기판(24)에 열전달하기 위해 작동한다.
도 2는 제조 장치(20)에 사용되는 감광성 웹(22)을 단면도로 나타낸다. 감광성 웹(22)은 가요성 베이스 필름(지지층)(26), 가요성 베이스 필름(26) 상에 배치된 감광성 수지층(감광 재료층)(28), 및 감광성 수지층(28) 상에 배치된 보호 필름(30)의 적층된 조립으로 구성된다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 제조 장치(20)는 권회된 감광성 웹(22)의 형태로 감광성 웹 롤(22a)를 수용하고, 감광성 웹 롤(22a)로부터 감광성 웹(22)을 송출하는 송출 기구(32), 송출된 감광성 웹(22)의 보호 필름(30)에서 가로로 절단가능한 부분적인 절단 영역(34)을 형성하는 가공 기구(36), 및 비접착부(33a)를 각각 갖는 접착 라벨(38)(도 3 참조)을 보호 필름(30)에 접착시키는 라벨 접착 기구(40)를 가진다.
라벨 접착 기구(40)의 하류에는 감광성 웹(22)의 공급 모드를 택트 공급 모드, 예를 들면 간헐 공급 모드로부터 연속 공급 모드로 변경하는 리저버(reservoir) 기구(42), 감광성 웹(22)으로부터 보호 필름(30)의 특정 길이를 박리시키는 박리 기구(44), 유리 기판(24)을 소정의 온도로 가열하고 접착 위치로 가열된 유리(24)를 공급하는 제 1 실시형태에 의한 가열 장치(45), 및 보호 필름(30)을 박리시킴으로써 노출된 감광성 수지층(28)을 유리 기판(24)에 접착하는 접착 기구(46)가 배치된다. 유리 기판(24)과 접착 기구(46)에 의해 그 위에 접착된 감광성 웹(22)으로 구성된 워크피스는 이하 "기판(24a)"이라고 한다.
감광성 웹(22)의 경계에 위치하는 부분적인 절단 영역(34)을 직접 검출하는 검출 기구(47)는 접착 기구(46)에서 접착 위치의 상류 및 근방에 배치된다. 2개의 유리 기판(24) 사이의 감광성 웹(22)을 절단하는 기판간 웹 절단 기구(48)는 접착 기구(46)의 하류에 배치된다. 제조 장치(20)가 그 작동을 시작하고 끝낼 때 작동되는 웹 절단 기구(48a)는 기판간 웹 절단 기구(48)의 상류에 배치된다.
본래 사용되는 감광성 웹(22)의 후단과 새롭게 사용되는 감광성 웹(22)의 선단을 접합시키는 접합 베이스(49)는 웹 송출 기구(32)의 하류 및 근방에 배치된다. 접합 베이스(49)는 감광성 웹 롤(22a)의 감음 불규칙에 의한 감광성 웹(22)의 가로 이동을 제어하기 위해 필름 단부 위치 검출기(51)에 의해 하류에 따라온다.
가공 기구(36)는 웹 송출 기구(32)에 권회된 감광성 웹 롤(22a)의 직경을 산 출하는 한쌍의 롤러(50)의 하류에 배치된다. 가공 기구(36)는 감광성 웹(22)과 교차하여 가로로 주행하여 감광성 웹(22)의 부분적인 절단 영역(34)으로부터 소정의 위치에 형성되는 단일 원형 블레이드(52)를 포함한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 부분적인 절단 영역(34)은 적어도 보호 필름(30)에서 교차하여 형성될 필요가 있다. 실제적으로, 원형 블레이드(52)는 보호 필름(30)을 확실히 절단하기 위해서 감광성 수지층(28) 및 베이스 필름(26)까지 절단되도록 설계된다. 원형 블레이드(52)는 부분적인 절단 영역(24)을 형성하기 위해 회전되는 것보다 고정되고 감광성 웹(22)과 교차하여 가로로 이동되거나, 또는 감광성 웹(22) 상에 슬라이딩되는 것없이 회전되고 감광성 웹(22)을 교차하여 가로로 이동할 수 있다. 부분적인 절단 영역(34)은 레이저 빔 또는 초음파 에너지를 사용하는 절단 공정, 또는 나이프 블레이드, 프레싱 블레이드(톰슨 블레이드) 등을 사용하는 절단 공정에 의해 형성될 수 있다.
부분적인 절단 영역(34)은 2개의 인접한 유리 기판(24) 사이의 공간 간격을 설정하기 위해 사용되었다. 예를 들면, 그러한 부분적인 절단 영역(34)은 유리 기판(24)의 각 가장자리로부터 안쪽으로 10㎜ 간격을 두는 위치에서 감광성 필름(30)에 형성된다. 감광성 수지층(28)이 후술될 접착 기구(46)에서 유리 기판(24)에 프레임으로써 적용될 때 부분적인 절단 영역(34) 사이에 삽입되고 유리 기판(24) 사이에 노출되는 감광성 필름(30)의 부분은 마스크로서 기능한다.
라벨 접착 기구(40)는 유리 기판(24) 사이에 보호 필름(30)의 잔존 부분(30b)을 남기기 위해서 전방의 박리 부분(30aa)과 후방의 박리 부분(30ab)을 연 결하는 접착 라벨(38)을 공급한다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 처음에 박리된 전방의 박리 부분(30aa)과 다음에 박리된 후방의 박리 부분(30ab)은 잔존 부분(30b)의 각 측면에 위치된다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 접착 라벨(38)은 직사각형의 띠형이고, 보호 필름(30)과 동일한 수지 재료로 이루어진다. 접착 라벨(38)의 각각은 점착제가 없이 중앙으로 위치된 비접착(또는 약간 접착)부(38a), 및 비접착부(38a)의 길이방향으로 대향하는 단부, 즉 접착 라벨(38)의 길이 방향으로 대향하는 단부에 각각 배치되고 전방의 박리 부분(30aa)과 후방의 박리 부분(30ab)에 각각 접착되는 제 1 접착부(38b) 및 제 2 접착부(38c)를 가진다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 라벨 접착 기구(40)는 최대 5개의 접착 라벨(38)을 소정의 간격으로 접합한 흡착 패드(54a~54e)를 가진다. 아래로부터 감광성 웹(22)을 유지하는 수직으로 이동가능한 지지 베이스(56)는 접착 라벨(38)이 흡착 패드(54a~54e)에 의해 감광성 웹(22)에 접합된 위치에 배치된다.
리저버 기구(42)는 감광성 웹(22)을 리저버 기구(42)의 상류로 공급시키는 택트 공급 모드와 감광성 웹(22)을 리버저 기구(42)의 하류로 공급시키는 연속 공급 모드 사이의 속도 차이를 흡수하기 위해 사용한다. 리버저 기구(42)는 감광성 웹(22)이 텐션 변동을 겪는 것을 방지하기 위해서 2개의 스윙가능한 롤러(60)로 구성되는 댄서(61)도 가진다. 댄서(61)는 리저브될 감광성 웹(22)의 길이에 의거하여 1개 또는 3개 이상의 롤러(60)를 가질 수 있다.
리저버 기구(42)의 하류에 배치되는 박리 기구(44)는 순차 라미네이트될 때 감광성 웹(22)의 텐션을 안정화시키기 위해 공급된 감광성 웹(22)이 종속되는 텐션의 변동을 저감하는 석션 드럼(62)을 가진다. 박리 기구(44)는 석션 드럼(62)에 근접하여 배치되는 박리 롤러(63)도 가진다. 예각의 박리 각도에서 감광성 웹(22)으로부터 박리되는 보호 필름(30)은 잔존 부분(30b)을 제외하고 보호 필름 테이크업(takeup)부(64)에 의해 권회된다.
감광성 웹(22)에 텐션을 부여하는 텐션 제어 기구(66)는 박리 기구(44)의 하류에 배치된다. 텐션 제어 기구(66)는 텐션 댄서(70)가 구름 접촉으로 유지되는 감광성 웹(22)의 텐션을 조정하기 위해 텐션 댄서(70)를 각도 변환하게하는 실린더(68)을 가진다. 텐션 제어 기구(66)는 필요할 때에만 사용될 수 있고 불필요하게 될 수 있다.
검출 기구(47)는 부분적인 절단 영역(34)의 쐐기형 홈, 보호 필름(30)의 다른 두께에 의한 단차, 또는 그 조합으로 인한 변화를 직접 검출하는 레이저 센서, 포토 센서 등의 광전 센서(72)를 가진다. 광전 센서(72)로부터 검출된 신호는 보호 필름(30)에서의 경계 위치를 나타내는 경계 위치 신호로서 사용된다. 광전 센서(72)는 백업 롤러(73)에 직면하여 배치된다. 대안으로서, 광전 센서(72)에 대신하여 비접촉 변위계나 CCD 카메라 등의 화상 검사 수단 등이 사용될 수 있다.
검출 기구(47)에 의해 검출되는 부분적인 절단 영역(34)의 위치 데이터는 실시간으로 통계 처리되고 그래픽 데이터로 변환될 수 있다. 검출 기구(47)에 의해 검출되는 위치 데이터가 과도한 변동이나 치우침을 나타내면 제조 장치(20)는 경보를 발생할 수 있다.
제조 장치(20)는 경계 위치 신호를 생성하는 다른 시스템을 사용할 수 있다. 그러한 다른 시스템에 따르면 부분적인 절단 영역(34)은 직접 검출되지 않지만, 마크는 감광성 웹(22)에 접합된다. 예를 들면, 구멍 또는 오목부는 가공 기구(36)의 근방에서 부분적인 절단 영역(34)에 가까이 형성될 수 있고, 또는 감광성 웹(22)은 레이저 빔 또는 아쿠아젯(aqua jet)에 의해 슬릿될 수 있거나 잉크젯 또는 프린터에 의해 마크될 수 있다. 감광성 웹(22) 상의 마크가 검출되고, 검출된 신호는 경계 위치 신호로서 사용된다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 가열 장치(45)는 워크피스으로서 유리 기판(24)을 화살표(C)가 나타내는 방향으로 공급하는 공급 기구(74)를 갖는다. 공급 기구(74)는 화살표(C)가 나타내는 방향으로 배열되는 복수의 디스크형 수지 공급 롤러(76)를 가진다. 가열 장치(45)는 화살표(C)가 나타내는 방향에서 공급 기구(74)의 상류에 배치되는 유리 기판(24)을 수용하는 리시버(78)도 갖는다. 리시버(78)는 수용된 유리 기판(24)을 선회시키는 턴테이블(80)을 갖는다.
가열 장치는 적어도 제 1 및 제 2 가열로, 또는 제 1 실시형태에서는 제 1 ~ 제 5 가열로(82,84,86,88,90)를 더 포함한다. 제 1 가열로(82)는 고온로로서 사용된다, 2 가열로(84)는 온도상승로로서 사용한다. 제 3 가열로(86)는 온도상승로 및 퇴피 기구(92)로서 사용된다. 4 가열로(88)는 단열로 및 위치 결정 기구(94)로서 사용된다. 제 5 가열로(90)는 단열로 및 정지 기구(96)로서 사용된다.
구체적으로, 제 1 가열로(82)는 제 1 히터(제 1 열원)(98a)를 갖는다. 제 1 가열로(82)에서 제 1 히터(98a)는 유리 기판(24)을 라미네이션을 위해 요구되는 110℃이상, 예를 들면 120℃의 온도로 가열한다. 제 1 히터(98a)의 히터 온도는, 예를 들면, 200℃ 이상으로 설정된다.
제 1 가열로(82)보다도 작은 열량을 발생시키는 제 2 ~ 제 5 가열로(84~90)는 각각의 제 2 ~ 제 5 히터(제 2 열원)(98b~98e)를 갖는다. 제 2 ~ 제 5 히터(98b~98e)의 히터 온도는 유리 기판(24)이 제 2 ~ 제 5 가열로(84~90)에서 소정의 시간 이상동안 체류할 때도 유리 기판(24)이 기판 상한 온도, 예를 들면, 130℃ 이상으로 가열되지 않도록 약 130℃로 설정된다.
각 유리 기판(24)의 표면은 실란 커플링제 등의 표면 밀착 개량제로 도포된다. 그러므로, 기판 상한 온도는 표면 밀착 개량제의 품질이 저하되지 않는 온도, 예를 들면, 130℃로 설정되는 것이 바람직하다.
제 3 가열로(86)는 공급 기구(74)의 아래에 위치된 보조 히터(100)를 갖는다. 보조 히터(100)는 약 115℃로 설정된 히터 온도를 갖는다. 열차폐판(102a,102b)이 제 1 가열로(82)와 제 2 가열로(84) 사이에 배치되어 제 1 가열로(82)의 고온이 제 2 가열로(84)에 악영향을 주는 것을 방지한다. 열차폐판(102a,102b)의 각각은 예를 들면, 스테인레스 스틸의 고정된 판을 포함한다. 그러나, 열차폐판(102a,102b)의 각각은 세라믹 등의 단열판을 포함할 수 있고, 또는 개폐가능한 셔터 구조, 에어 커튼 등으로 대체될 수 있다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 퇴피 기구(92)는 모터(106)에 결합된 구동력 전달 디바이스(107)에 의해 수직 이동가능한 공급 나사(108)와 맞물리는 수직 이동가능한 지지 테이블(104)을 갖는다. 복수의 수직 지주(110)는 지지 테이블(104) 상에 소정의 간격으로 고정 설치된다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 공급 방향과 직교하는 화살표(D)가 나타내는 방향에서 소정의 간격을 두는 복수의 베어링 핀(112)이 지주(110)의 상면에 배치된다. 베어링 핀(112)은, 예를 들면, 그 위에 유리 기판(24)을 지지하는 원형 선단을 가지는 수지로 이루어진다.
퇴피 기구(92)는 공급 기구(74)에 의해 화살표(C)가 나타내는 방향으로 공급되는 유리 기판(24)을 지지하고, 유리 기판(24)을 수직으로 위를 향하여 이송하는 버퍼(114)를 갖는다(도 4 및 5 참조).
도 7에 나타낸 바와 같이, 위치 결정 기구(94)는 도시되지 않은 액츄에이터에 의해 수직 이동가능한 리프팅 베이스(116)를 갖는다. 위치 결정 기구(94)는 리프팅 베이스(116) 상에 배치되고 화살표(D)가 나타내는 방향에서 유리 기판(24)와 교차하여 가로로 연장되는 복수의 지주(115)도 갖는다. 공급 롤러(76)의 축과 직교하여 축이 연장되는 복수의 슬라이드 롤러(118)는 지주(115)의 각각에 설치된다.
모터(120)에 의해 화살표(D)가 나타내는 방향으로 이동가능한 가동판(121)은 화살표(D)가 나타내는 방향에서 리프팅 베이스(116)의 단부에 설치된다. 한쌍의 기준 폭 제한 롤러(122)는 유리 기판(24)이 공급되는 화살표(C)가 나타내는 방향으로 그 대향하는 단부에서 가동판(121) 상에 회전가능하게 설치된다.
각 기준 폭 제한 롤러(122)에 따라 정렬되는 한 쌍의 폭 제한 롤러(124)는 화살표(D)가 나타내는 방향으로 리프팅 베이스(116)의 대향하는 부분에 회전가능하게 설치된다. 폭 제한 롤러(124)는 각 실린더(126)에 의해 화살표(D)가 나타내는 방향으로 이동가능하다. 한쌍의 폭 제한 롤러(124)보다는 단일 폭 제한 롤러(124) 가 유리 기판(24)의 중앙부에서 그것이 공급되는 방향으로 배치될 수 있다. 단일 폭 제한 롤러(124)는 유리 기판(24)의 형상이 변형되어도 기준 폭 제한 롤러(122)에 대하여 유리 기판(24)을 정확하게 위치 결정할 수 있다. 단일 폭 제한 롤러(124)를 대신하여 실린더와 스프링의 조합, 또는 하나의 스프링은 기준 폭 제한 롤러(122)에 대하여 유리 기판(24)을 프레스하는데 사용될 수 있다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 정지 기구(96)는 유리 기판(24)의 후단부가 그곳을 교차하여 이동할 때를 검출하는 감속 센서(130a)와 유리 기판(24)의 선단부가 규정된 라미네이팅 위치에 위치할 때 유리 기판(24)의 후단을 검출하는 정지 센서(130b)를 가진다.
정지 기구(96)는 제 5 가열로(90)에서 유리 기판(24)이 주어진 자세로 위치 결정되고 정지되는지의 여부를 검출하는 내열성 리니어 센서(132a,132b,134a,134b)도 갖는다. 내열성 리니어 센서(132a,132b)는 유리 기판(24)의 가로로 대향하는 단부의 위치를 검출하고, 검출된 위치가 소정의 범위내에 부합하는지의 여부를 판정한다. 내열성 리니어 센서(134a,134b)는 유리 기판(24)의 정지 위치를 검출하고, 검출된 위치가 소정의 범위내에 부합하는지의 여부를 판정한다.
내열성 리니어 센서(132a,132b,134a,134b)는 도시되지 않은 유리 기판(24)의 각 측면에 하나 배치된 광 투과 요소 및 광 검출 요소를 포함하고, 유리 기판(24)에 의해 차단된 광의 양에 비례하여 위치 검출 아날로그 신호를 출력한다. 그러나, 각 내열성 리니어 센서(132a,132b,134a,134b)는 화상 처리 공정을 통하여 위치를 검출하는 센서가 될 수 있다.
가열 장치(45)는 항상 유리 기판(24)의 온도를 감시한다. 가열 장치(45)가 이상한 온도를 검출하는 경우에 가열 장치(45)는 공급 롤러(76)의 정지시키거나 경보를 발생시키고 이상한 유리 기판(24)을 배출하는데 사용될 수 있고, 품질 제어 또는 생산 관리에도 사용될 수 있는 고장 정보를 전송한다.
공급 기구(74)는 유리 기판(24)이 화살표(C)가 나타내는 방향으로 공급되면서 상승되는 도시되지 않은 에어 리프팅 플레이트를 가질 수 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 복수의 유리 기판(24)이 저장되는 기판 저장 프레임(136)이 가열 장치(45)의 상류에 배치된다. 기판 저장 프레임(136)은 투입 슬롯 및 방출 슬롯을 제외한 각각의 3개의 측면에 배치되는 먼지 제거 팬 유닛(또는 덕트 유닛)(137)을 갖는다. 팬 유닛(137)은 기판 저장 프레임(136)으로 전기적 중화 클린 에어를 배출한다. 기판 저장 프레임(136)에 저장된 유리 기판(24)은 로보트(138)의 핸드(138a) 상의 흡착 패드(139)에 의해 하나씩 흡착되어 기판 저장 프레임(136)으로부터 꺼내어 리시버(78)로 삽입된다.
접착 기구(46)는 소정의 온도로 가열된 한쌍의 수직으로 이격된 라미네이팅 고무 롤러(140a,140b)를 갖는다. 백업 롤러(142a,142b)는 각각의 라미네이팅 고무 롤러(140a,140b)와 롤링 접촉으로 유지된다. 백업 롤러(142b)는 롤러 클램프부(144)에 의해 라미네이팅 고무 롤러(140b)에 대하여 프레스된다.
접촉 방지 롤러(146)는 감광성 웹(22)이 고무 롤러(140a)와 접촉하는 것을 방지하기 위해 고무 롤러(140a)에 가까이 이동가능하게 배치된다. 감광성 웹(22)을 소정의 온도로 예열하는 예열부(147)는 접착 기구(46)의 상류 및 근방에 배치된다. 예열부(147)는 적외선 바 히터 등의 가열 수단을 포함한다.
필름 공급 롤러(148a)와 기판 공급 롤러(148b)는 접착 기구(46)와 기판간 웹 절단 기구(48) 사이에 배치된다. 냉각 기구(150)는 기판간 웹 절단 기구(48)의 하류에 배치되고, 베이스 박리 기구(152)는 냉각 기구(150)의 하류에 배치된다. 냉각 기구(150)는 기판간 웹 절단 기구(48)에 의해 기판(24a)과 다음의 기판(24a) 사이에 감광성 웹(22)이 절단된 후 기판(24a)에 냉기를 공급한다. 구체적으로, 냉각 기구(150)는 1.0~2.0m/min 범위의 속도에서 10℃의 온도를 갖는 냉기를 공급한다. 그러나, 냉각 기구(150)는 불필요하게 될 수 있고, 기판(24a)은 감광성 적층체 저장 프레임(166)으로 냉각될 수 있다.
냉각 기구(150)의 하류에 배치되는 베이스 박리 기구(152)는 기판(24a)의 하면에 흡착하는 복수의 흡착 패드(154)를 갖는다. 흡착 패드(154)에 의한 흡착 하에 기판(24a)이 흡착되면서 베이스 필름(26) 및 잔존 부분(30b)은 로보트 핸드(156)로 기판으로부터 박리된다. 기판(24a)의 라미네이트된 지역의 4개의 측면에 전기적 중화 에어를 배출하는 전기적 중화 에어 블로워(도시되지 않음)는 흡착 패드(154)의 상류, 하류 및 양측에 배치된다. 먼지 제거를 위해 기판(24a)을 지지하는 테이블이 수직으로, 경사지어, 또는 뒤집어 정위되면서 베이스 필름(26) 및 잔존 부분(30b)은 박리될 수 있다.
베이스 박리 기구(152)는 복수의 감광성 적층체(160)가 저장되는 감광성 적층체 저장 프레임(166)에 의해 하류에 따라온다. 베이스 박리 기구(152)에 의해 기판(24a)으로부터 베이스 필름(26) 및 잔존 부분(30b)이 박리될 때 생긴 감광성 적 층체(160)는 로보트(162)의 핸드(162a) 상의 흡착 패드(164)에 의해 흡착되고, 베이스 박리 기구(152)로부터 꺼내어 감광성 적층체 저장 프레임(166)으로 위치된다.
감광성 적층체 저장 프레임(166)은 투입 슬롯 및 방출 슬롯을 제외한 각각의 3개의 측면에 배치된 먼지 제거 팬 유닛(또는 덕트 유닛)(137)을 갖는다. 팬 유닛(137)은 감광성 적층체 저장 프레임(166)으로 전기적 중화 클린 에어를 배출한다.
제조 장치(20)에서 웹 송출 기구(32), 가공 기구(36), 라벨 접착 기구(40), 리저버 기구(42), 박리 기구(44), 텐션 제어 기구(66) 및 검출 기구(47)는 접착 기구(46)의 위에 배치된다. 반대로, 웹 송출 기구(32), 가공 기구(36), 라벨 접착 기구(40), 리저버 기구(42), 박리 기구(44), 텐션 제어 기구(66) 및 검출 기구(47)는 접착 기구(46)의 아래에 배치되어 감광성 수지층(28)을 유리 기판(24)의 하면에 접할 수 있다. 대안으로, 제조 장치(20)의 구성요소는 전체로서 직선 패턴으로 배열될 수 있다.
제조 장치(20)는 라미네이션 공정 컨트롤러(170)에 의해 그 전체로 제어된다. 제조 장치(20)는 제조 장치(20)의 다른 기능 구성요소를 제어하기 위해 라미네이션 컨트롤러(172), 기판 가열 컨트롤러(174) 및 베이스 박리 컨트롤러(176) 등도 갖는다. 그러한 컨트롤러는 공정내 네트워크에 의해 서로 연결되고 있다.
라미네이션 공정 컨트롤러(170)는 공장의 네트워크에 연결되고, 공장 CPU(도시되지 않음)로부터의 지시 정보(조건 설정 및 생산 정보)에 의거하여 생산 관리 및 기구 가동 관리 등의 생산을 위한 정보 처리를 행한다.
라미네이션 컨트롤러(172)는 제조 장치(20)의 기능 구성 요소를 제어하는 공정 마스터로서 사용된다. 라미네이션 컨트롤러(172)는 검출 기구(47)에 의해 검출된 감광성 웹(22)의 부분적인 절단 영역(34)의 위치 정보에 의거하여 예를 들면, 가열 장치(45)를 제어하는 제어 기구로서 작동한다.
베이스 박리 컨트롤러(176)는 접착 기구(46)로부터 공급되는 기판(24a)으로부터 베이스 필름(26)을 박리하고, 하류 공정에 감광성 적층체(160)를 방출하기 위해 베이스 박리 기구(152)를 제어한다. 베이스 박리 컨트롤러(176)는 기판(24a) 및 감광성 적층체(160)에 대한 정보도 다룬다.
제조 장치(20)의 설치 공간은 분할벽(280)에 의해 제 1 클린 룸(132a)과 제 2 클린 룸(132b)으로 분리된다. 제 1 클린 룸(132a)은 웹 송출 기구(32)로부터 텐션 제어 기구(66)까지의 범위의 각종 구성요소를 수납한다. 제 2 클린 룸(132b)은 검출 기구(47)에 이어 검출 기구(47) 및 다른 구성요소를 수납한다. 제 1 클린 룸(132a)과 제 2 클린 룸(132b)은 관통 영역(184)에 의해 서로 연통된다.
본 발명에 의한 가열 방법을 수행하는 제조 장치(20)의 동작이 이하 설명될 것이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 가공 기구(36)에서 원형 블레이드(52)는 감광성 웹(22)을 교차하여 가로로 이동하여 보호 필름(30), 감광성 수지층(28) 및 베이스 필름(26)까지 절단함으로써 부분적인 절단 영역(34)을 형성한다(도 2 참조). 그 다음에, 감광성 웹(22)은 보호 필름(30)의 잔존 부분(30b)의 치수에 대응되는 거리만큼 화살표(A)가 나타내는 방향으로 공급되고(도 1 참조) 정지되어 그 결과 원형 블 레이드(52)에 의해 다른 부분적인 절단 영역(34)이 형성된다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 전방의 박리 부분(30aa)과 후방의 박리 부분(30ab)은 그 사이에 삽입된 잔존 부분(30b)과 감광성 웹(22)에 제공된다.
그 다음에, 감광성 웹(22)은 라벨 접착 기구(40)로 공급되어 보호 필름(30)의 접착 지역을 지지 베이스(56) 상에 위치시킨다. 라벨 접착 기구(40)에서 소정의 수의 접착 라벨(38)은 흡착 패드(54b~54e)에 의한 흡착 및 유지하에 흡착되고, 그 잔존 부분(30b)과 교차하여 보호 필름(30)의 전방의 박리 부분(30aa)과 후방의 박리 부분(30ab)에 확실하게 접착된다(도 3 참조).
예를 들면, 5개의 접착 라벨(38)이 접착된 감광성 웹(22)은 리저버 기구(42)에 의해 공급된 감광성 웹(22)이 종속되는 텐션의 변동을 막고, 그 다음에 박리 기구(44)로 연속 공급된다. 박리 기구(44)에서 감광성 웹(22)의 베이스 필름(26)은 석션 드럼(62)에 흡착되고 보호 필름(30)은 잔존 부분(30b)을 남겨서 감광성 웹(22)으로부터 박리된다. 보호 필름(30)은 박리 롤러(63)에 의해 예각의 박리각도로 박리되고 보호 필름 테이크업부(64)에 의해 권회된다. 보호 필름(30)이 박리된 영역에 전기적 중화 에어를 가하는 것이 바람직하다.
이때, 감광성 웹(22)이 석션 드럼(62)에 의해 견고하게 유지되는 한 감광성 웹(22)으로부터 보호 필름(30)이 박리될 때 생긴 충격은 석션 드럼(62)의 하류의 감광성 웹(22)에 전달되지 않는다. 따라서, 그러한 충격은 접착 기구(46)에 전달되지 않으므로 유리 기판(24)의 라미네이트 부분은 줄무늬형 결함이 있는 영역이 발생되는 것으로부터 효과적으로 방지된다.
보호 필름(30)이 박리 기구(44)에 의해 잔존 부분(30b)을 남겨서 베이스 필름(26)로부터 박리된 후 감광성 웹(22)은 텐션 제어 기구(66)에 의해 텐션이 조정되고, 그 다음에 감광성 웹(22)의 부분적인 절단 영역(34)은 검출 기구(47)의 광전 센서(72)에 의해 검출된다.
부분적인 절단 영역(34)의 검출된 정보에 의거하여 필름 공급 롤러(148a)는 회전되어 소정의 길이의 감광성 웹(22)을 접착 기구(46)에 공급한다. 이때, 접촉 방지 롤러(146)는 감광성 웹(22)의 위에 대기하고, 고무 롤러(140b)는 감광성 웹(22)의 아래에 배치된다.
가열 장치(45)에서 제 1 ~ 제 5 가열로(82~90)의 가열 온도는 접착 기구(46)의 라미네이션 온도에 의거한 값으로 설정된다. 예를 들면, 라미네이션 온도가 110℃이면 제 2 ~ 제 5 가열로(84,86,88,90)의 가열 온도는 약 120℃로 설정되고, 제 1 가열로(82)의 가열 온도는 200℃ 이상으로 설정된다. 유리 기판(24)의 표면에 도포된 표면 밀착 개량제의 품질을 유지하기 위해 유리 기판(24)에 대한 상한 온도는 130℃로 설정된다.
그러므로, 실질적으로 제 1 히터(98a)는 약 250℃의 히터 온도로 설정되고, 제 2, 제 4 및 제 5 히터(98b,98d,98e)는 약 130℃의 히터 온도로 설정된다. 제 3 가열로(86)에서 제 3 히터(98c)는 125℃~130℃ 범위의 히터 온도로 설정되고, 보조 히터(100)는 약 115℃의 히터 온도로 설정된다.
로보트(138)는 기판 저장 프레임(136)에 저장된 유리 기판(24)을 그립하고, 그립된 유리 기판(24)을 리시버(78)로 도입시킨다. 리시버(78)에서 유리 기판(24) 은 턴테이블(30)에 의해 소망 각도의 위치로 회전한다. 그 다음에, 유리 기판은 공급 기구(74)의 공급 롤러(76)에 의해 리시버(78)로부터 제 1 가열로(82)에 택트 모드로 공급된다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 제 1 가열로(82)에서 유리 기판(24)은 제 1 히터(98a)에 의해 신속히 가열된다. 그 다음에, 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 제 1 가열로(82)로부터 제 2 가열로(84)로 이송된다. 리시버(78)로 다음에 도입되는 새로운 유리 기판(24)은 제 1 가열로(82)로 이송된다.
제 2 가열로(84)에서 유리 기판(24)은 제 1 히터(98a)보다 작은 값으로 히터 온도가 설정되는 제 2 히터(98b)에 의해 점차적으로 가열된다. 유리 기판(24)이 소정의 시간동안 제 2 히터(98b)에 의해 가열된 후에 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 제 3 가열로(86)로 도입된다. 제 3 가열로(86)에서 유리 기판(24)은 주어진 시간동안 가열된다. 그 후에, 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 유리 기판(24)이 가열되고 위치 결정되는 제 4 가열로(88)로 도입된다.
제 4 가열로(88)는 위치 결정 기구(94)를 수납한다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 리프팅 베이스(116)는 도시되지 않은 액츄에이터에 의해 상승되고, 리프팅 베이스(116) 상에 지지되는 슬라이드 롤러(113)는 유리 기판(24)을 공급 롤러(76)와 이간하여 상승시킨다.
그 다음에, 모터(120)는 기준 폭 제한 롤러(122)를 유리 기판(24)의 한 측면을 향하여 이동시키기 위해 전압을 가하고, 기준 폭 제한 롤러(122)는 유리 기판(24)을 소정의 기준 위치로 가져가 유리 기판(24)의 측면을 지지한다. 실린 더(126)는 폭 제한 롤러(124)를 기준 폭 제한 롤러(122)를 향하여 이동시키도록 동작된다. 폭 제한 롤러(124)는 유리 기판(24)의 대향하는 측면과 접촉하도록 하고 기준 폭 제한 롤러(122)에 대하여 유리 기판(24)을 프레스함으로써 유리 기판(24)을 가로로 위치 결정한다.
그 다음에, 유리 기판(24)이 공급 롤러(76) 상에 위치되기 위해 리프팅 베이스(116)는 하강된 후 폭 제한 롤러(124)는 유리 기판(24)의 측면으로부터 이간되고 기준 폭 제한 롤러(122)는 유리 기판(24)의 다른 측면으로부터 이간된다. 제 4 가열로(88)에서 처리된 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 유리 기판(24)이 방출되기 전에 단열되고 정지되는 제 5 가열로(90)로 이송된다.
제 5 가열로(90)는 정지 기구(96)를 수납한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 유리 기판(24)의 후단부가 감속 센서(130a)를 교차하여 이동될 때 공급 기구(74)에 의해 유리 기판(24)이 공급되는 속도는 감속된다. 유리 기판(24)의 후단부가 정지 센서(130b)에 의해 검출될 때 유리 기판(24)의 공급은 정지된다.
유리 기판(24)의 가로의 가장자리[화살표(D)가 나타내는 방향]의 위치는 유리 기판(24)의 가로의 가장자리의 위치가 소정의 범위내에 부합하는지의 여부를 판정하는 내열성 리니어 센서(132a,132b)에 의해 검출된다. 유리 기판(24)의 후단부에 배치되는 내열성 리니어 센서(134a,134b)는 유리 기판(24)이 진행하는 방향에서 유리 기판(24)의 후단부 위치가 소정의 범위내에 부합하는지의 여부를 판정한다.
유리 기판(24)이 소정의 정지 위치에서 제 5 가열로(90) 내에 정지되었다고 판정되면 유리 기판(24)은 감광성 웹(22)의 감광성 수지층(23)의 접착 부분와 일직 선이 되어 고무 롤러(140a,140b) 사이에 일시적으로 배치된다.
그 다음에, 롤러 클램프부(144)는 백업 롤러(142b) 및 고무 롤러(140b)를 상승시키도록 동작되어 고무 롤러(140a,140b) 사이에 유리 기판(24)이 소정의 압력 하에 클램프된다. 고무 롤러(140a)는 회전되어 유리 기판(24)으로 가열 용융되는 감광성 수지층(23)을 전사, 즉 라미네이트한다.
감광성 수지층(28)은 1.0m/mim~10.0m/min의 범위 내의 속도로 공급되고, 고무 롤러(140a,140b)는 100℃~140℃ 내의 온도, 및 40~90 내의 고무 경도를 가지며, 50N/cm~400N/cm 내의 압력(선형 압력)이 가해지는 조건 하에 감광성 수지층(28)은 유리 기판(24) 상에 라미네이트된다.
감광성 웹(22)가 선두의 유리 기판(24) 상에 라미네이트되면 제 5 가열로(90)의 다음의 유리 기판(24)은 고무 롤러(140a,140b) 사이에 위치되고 특정 시간동안 정지된다. 라미네이트된 감광성 웹(22)을 가지는 선두의 유리 기판(24)이 화살표(C)가 나타내는 방향으로 공급되는 것과 동시에 감광성 웹(22)은 다음의 유리 기판(24) 상에 라미네이트된다.
제 4 가열로(88)에서 상술된 바와 같이 다른 유리 기판(24)이 위치 결정된 후 다른 유리 기판(24)은 제 4 가열로(88)로부터 제 5 가열로(90)로 공급된다. 이전의 유리 기판(24) 상의 감광성 웹(22)의 라미네이션이 종료되면 다른 유리 기판(24)은 고무 롤러(140a,140b) 사이에 그립되고 일시적으로 정지된 후 감광성 웹(22)은 다른 유리 기판(24) 상에 라미네이트된다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 접착된 유리 기판(24) 및 감광성 웹(22)을 포함하 는 기판(24a)은 화살표(C)가 나타내는 방향으로 특정 거리 공급되고 냉각 기구(150)에 의해 냉각된 다음에 베이스 박리 기구(152)로 이송된다. 베이스 박리 기구(152)에서 유리 기판(24)이 흡착 패드(154)에 의해 흡착되면서 로보트 핸드(156)에 의해 베이스 필름(26) 및 잔존 부분(30b)이 박리됨으로써 감광성 적층체(160)를 생산한다.
이때, 전기적 중화 에어는 흡착 패드(154)의 상류, 하류 및 양측에 배치된 에어 블로워로부터 기판(24a)의 라미네이트된 지역의 4개의 측면으로 배출된다. 감광성 적층체(160)는 로보트(162)의 핸드(162a)에 의해 유지되고 감광성 적층체 저장 프레임(166)으로 위치된다. 상기 동작은 소정 수의 감광성 적층체(160)가 감광성 적층체 저장 프레임(166)에 저장될 때까지 반복된다.
제 1 실시형태에 따르면, 도 4에 나타낸 바와 같이, 공급 방향의 상류에 배치되는 제 1 가열로(82)는 제 2 가열로(84)보다 큰 열량을 발생한다. 유리 기판(24)은 제 1 가열로(82)에 의해 약 120℃의 목표 온도에 가까이 신속하게 가열된다.
실험은 고온로로서 제 1 가열로(82)가 결여되고 모든 히터 온도가 약 130℃로 설정된 종래의 가열 장치, 및 가열 장치(45)의 각각의 온도 상승 패턴을 검출하기 위해 실행된다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 종래 가열 장치에 따르면, 유리 기판(24)은 점차적으로 가열되고 유리 기판(24)이 약 120℃의 소망의 목표 온도에 도달될 때까지 상당한 시간이 걸린다.
고온로로서 제 1 가열로(82)을 사용하는 제 1 실시형태에 따르면, 유리 기 판(24)은 제 1 가열로(82)에 의해 목표 온도로 신속하게 가열되고 유리 기판(24)을 목표 온도까지 가열하기 위해 요구되는 시간은 매우 짧아진다. 그러므로, 제 1 실시형태에 따르면, 제 1 ~ 제 5 가열로(82~90)의 전체 길이는 화살표(C)가 나타내는 방향으로 크게 감소되고 가열 장치(45)의 전체 크기가 감소될 수 있다.
제 1 가열로(82)보다 작은 열량을 발생시키는 제 2 가열로(84)는, 및 제 3 ~ 제 5 가열로(86~90)는 제 1 가열로(82)의 하류에 배치된다. 그러므로, 제 1 가열로(82)에 의해 목표 온도에 가까이 신속하게 가열된 기판(24)은 제 2 ~ 제 5 가열로(84~90)에 의해 목표 온도까지 정확하게 가열될 수 있다.
유리 기판(24)이 제 2 ~ 제 5 가열로(84~90)에 체류될 때에도 그것은 130℃ 이상의 과도한 고온까지 과도하게 가열되지 않는다. 그러므로, 가열 장치(45)는 유리 기판(24)을 냉각하는 냉각 장치가 필요하지 않고 유리 기판(24)에 적용된 표면밀착 개량제의 품질의 저하가 방지된다.
게다가, 제 1 실시형태에 따르면, 제 3 가열로(86)는 퇴피 기구(92)를 수납한다. 제조 장치(20)가 감광성 웹 롤(22a)을 대체하기 위한 메인티넌스(maintenance)를 위해, 또는 고장으로 인한 제조 장치(20)의 정지 때문에 사용이 필요할 때, 유리 기판(24)이 제 1 ~ 제 5 가열로(82~90)에 각각 위치될 때에도 제 1 가열로(82)의 유리 기판(24)은 그로부터 용이하게 이동될 수 있다.
구체적으로, 유리 기판(24)이 제 1 ~ 제 5 가열로(82~90)에서 각각 존재하면, 도 5에 나타낸 바와 같이, 퇴피 기구(92)의 모터(106)는 공급 나사(103)를 회전하여 지지 테이블(104)을 상승시키기 위해 전압이 가해진다. 지지 테이블(104) 상의 지주(110) 상의 베어링 핀(112)은 유리 기판(24)의 하면에 대하여 인접되게하고 유리 기판(24)을 버퍼(114)로 상승시킨다.
그 다음에, 도 4에 나타낸 바와 같이, 제 2 가열로(84)에 배치된 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 유리 기판(24)이 공급 롤러(76) 상에 위치되는 제 3 가열로(86)로 공급된다. 그러므로, 제 3 가열로(86)에서 유리 기판(24)은 상하 위치로 배치된다. 1 가열로(82)에 배치된 유리 기판(24)은 공급 기구(74)에 의해 제 2 가열로(84)로 공급된다.
그러므로, 5개의 유리 기판(24)은 제 2 ~ 제 5 가열로(84~90)에 배치된다. 유리 기판(24)이 가열 장치(45)에서 체류될 때에도 140℃ 이상의 과도한 고온으로 가열되는 것을 확실하게 방지된다. 따라서, 가열 장치(45)는 과도하게 가열될지 모르는 유리 기판(24)을 냉각시키는 냉각 장치가 필요하지 않고 유리 기판(24)의 표면에 적용된 표면 밀착 개량제의 품질의 저하는 방지된다. 게다가, 유리 기판(24)이 체류 상태로부터 벗어난 후 목표 온도 가까이로 유지되는 유리 기판(24)은 접착 기구(46)에 신속하게 공급될 수 있다. 그러므로, 제조 장치(20)의 작동은 고효율로 행해진다.
제 1 실시형태에서 유리 기판(24)은 택트 공급 모드, 즉 배치(batch) 공급 모드로 공급된다. 그러나, 유리 기판(24)은 가열 장치(45)에서 연속적으로 공급될 수 있다.
도 10은 본 발명의 제 2 실시형태에 의한 가열 장치(190)를 구성 설명도로 개략 나타낸다. 제 1 실시형태에 의한 가열 장치(45)와 동일한 가열 장치(190)의 부분은 동일한 참조 부호에 의해 지시되고 이하 상세하게 설명되지 않을 것이다. 유사하게, 제 1 실시형태에 의한 가열 장치(45)와 동일한 후술되는 제 3 ~ 제 5 실시형태에 의한 가열 장치의 부분은 동일한 참조 부호에 의해 지시되고 이하 상세하게 설명되지 않을 것이다.
도 10에 나타낸 바와 같이, 가열 장치(190)는 제 3 가열로(86)에 수납된 퇴피 기구(192)를 갖는다. 퇴피 기구(192)는 2세트의 공급 롤러(196a,196b)를 가지는 리프팅 베이스(194)를 갖는다. 2세트의 공급 롤러(196a,196b)는 각각 상하 공급 콘베이어를 제공한다. 퇴피 기구(192)는 공급 기구(74)의 공급로의 위쪽(또는 아래쪽)으로 유리 기판(24)을 이송하는 버퍼(198)를 갖는다.
제 2 실시형태에 따르면, 리프팅 베이스(194)는 하강 위치(또는 상승 위치)에 일반적으로 배치되어 공급 롤러(196a)[또는 공급 롤러(196b)]로 제 2 가열로(84)로부터 공급되는 유리 기판(24)을 제 3 가열로(86)로, 그 다음에 제 4 가열로(88)로 공급한다.
유리 기판(24)이 가열 장치(190)에서 체류될 때 제 3 가열로(86)에 배치된 기판(24)은 퇴피 기구(192)의 리프팅 베이스(194)에 의해 상승 또는 하강하는 바와 같이 버퍼(198)로 퇴피된다. 제 2 가열로(84)에 배치된 유리 기판(24)은 공급 롤러(196b)[또는 공급 롤러(196a)]에 의해 제 3 가열로(86)로 공급되고, 제 2 가열로(84)에 배치된 유리 기판(24)은 제 2 가열로(84)로 공급된다. 그러므로, 제 3 가열로(86)에서 2개의 유리 기판(24)은 상하 위치에서 배치된다.
가열 장치(190)로부터 접착 위치로 유리 기판(24)을 이송하기 위해서 리프팅 베이스(194)는 하강(또는 상승)되고, 공급 롤러(196a)[또는 공급 롤러(196b)] 상의 유리 기판(24)은 제 4 가열로(88)로 공급된다. 그 다음에, 리프팅 베이스(194)는 상승(또는 하강)되고, 공급 롤러(196b)[또는 공급 롤러(196a)] 상의 유리 기판(24)은 제 4 가열로(88)로 공급된다.
그러므로, 제 2 실시형태에 따르면, 가열 장치(190)으로 미리 제공된 유리 기판(24)은 제 3 가열로(86)의 버퍼(198)에 일시적으로 배치된 후 다음의 유리 기판(24) 이전에 제 4 가열로(88)로 공급된다. 그러므로, 유리 기판(24)은 유리 기판(24)의 쉽고 확실한 관리를 위해 선입, 선출 기반으로 제 3 가열로(86)에 공급할 수 있다.
도 11 및 12는 본 발명의 제 3 실시형태에 의한 가열 장치(200)를 나타낸다.
도 11에 나타낸 바와 같이, 가열 장치(200)는 제 3 가열로(86)로부터 화살표(E)가 나타내는 방향에서 측면으로 돌출되는 버퍼(202)를 가진다. 도 11 및 12에 나타낸 바와 같이, 제 3 가열로(86)는 도시되지 않은 액츄에이터에 의해 수직으로 이동가능한 지지 베이스(206)을 가지는 퇴피 기구(204)를 갖는다. 공급 롤러(76)의 축과 직교하여 축 연장되는 복수의 회전가능한 롤러(208)는 가이드판(207)에 의해 지지 베이스(206)에 설치된다.
버퍼(202)는 롤러(208)로부터 유리 기판(24)을 수용하고 유리 기판(24)을 롤러(208)로 전사하는 복수의 지지 롤러(210)를 갖는다.
제 3 실시형태에 따르면, 유리 기판(24)이 가열 장치(200)에서 체류될 때 제 3 가열로(86)에 배치된 유리 기판(24)은 퇴피 기구(204)의 지지 베이스(206)에 의 해 상승되는 바와 같이 롤러(208)에 의해 지지된다. 유리 기판(24)은 롤러(208)에 의해 회전되는 바와 같이 버퍼(202)로 퇴피된다. 제 2 가열로(84)의 유리 기판(24)은 제 3 가열로(86)로 공급되고, 제 1 가열로(82)의 유리 기판(24)은 제 2 가열로(84)로 공급된다.
그러므로, 제 3 실시형태에 따르면, 유리 기판(24)은 고온로로서 제 1 가열로(82)에 특정 시간 이상동안 연속적으로 배치되는 것이 방지되고, 제 1 실시형태와 같이, 고도하게 가열되는 것이 방지된다.
도 13~17은 본 발명의 제 4 실시형태에 의한 가여 장치(220)을 개략적으로 나타낸다.
도 13에 나타낸 바와 같이, 가열 장치(220)는 제 2 가열로(84)에 수납된 제 1 퇴피 기구(92a), 및 제 3 가열로(86)에 수납된 제 2 퇴피 기구(92b)를 갖는다. 제 1 및 제 2 퇴피 기구(92a,92b)는 제 1 및 제 2 버퍼(114a,114b)를 각각 갖는다. 제 2 및 제 3 가열로(84,86)는 공급 기구(74)의 아래에 위치된 보조 히터(100a,100b)를 갖는다.
제 4 가열로(88)는 위치 결정 기구로서 겸할 수 있고 제 5 가열로서 겸하도록 정지 기구를 가질 수도 있다. 제 1 ~ 제 4 가열로(82~88)에서 설정된 온도와 유리 기판(24)의 온도가 증가되는 방식은 도 14에 나타내어진다.
제 4 실시형태에 따르면, 5개의 유리 기판(24P1~24P5)은 가열 장치(220)로 제공되는 순서로 가열 장치(220)에서 일반적으로 배치된다. 고온로로서 제 1 가열로(82)에서 유리 기판(24P4)이 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때, 도 15에 나타낸 바와 같이, 제 1 퇴피 기구(92a)는 상승하여 유리 기판(24P3)을 제 1 버퍼(114a)로 퇴피시키고 유리 기판(24P4)은 제 1 가열로(82)로부터 제 2 가열로(84)로 공급된다. 그러므로, 유리 기판(24P4)은 특정 시간 이상 제 1 가열로(82)에서 체류되는 것이 방지된다.
가열 장치(220)로부터 접착 위치로 유리 기판(24P1) 등을 연속적으로 이송하기 위해서, 도 16에 나타낸 바와 같이, 공급 기구(74)는 구동되어 유리 기판(24P1)은 제 4 가열로(88)로부터 방출되고, 유리 기판(24P2)은 제 3 가열로(86)로부터 제 4 가열로(88)로 공급되고, 유리 기판(24P4)은 제 2 가열로(84)로부터 제 3 가열로(86)로 공급되며 유리 기판(24P5)은 제 1 가열로(82)로 공급된다.
그 다음에, 도 17에 나타낸 바와 같이, 제 2 가열로(84)의 버퍼(114a)에 배치된 유리 기판(24P3)은 하강되어 공급 기구(74) 상에 돌아간다. 제 3 가열로(86)로 공급된 유리 기판(24P41)은 제 2 퇴피 기구(92b)에 의해 제 2 버퍼(114b)로 퇴피된다.
제 2 가열로(84)의 유리 기판(24P3)은 공급 기구(74)에 의해 제 3 가열로(86)로 공급되고, 그 다음에 유리 기판(24P1) 및 유리 기판(24P2)이 이송된 후에 제 4 가열로(88)로부터 접착 위치로 이송된다. 그 후에 제 3 가열로(86)의 제 2 버퍼(114b)에 퇴피된 유리 기판(24P4)은 공급 기구(74)로 리턴되고, 그 다음에 유리 기판(24P3)이 이송된 후에 제 4 가열로(88)로부터 접착 위치로 이송된다.
그러므로, 제 4 실시형태에 따르면, 가열 장치(220)로 제공된 유리 기판(24P1) ~ 감광성 웹은 가열 장치(220)로 제공된 순서로 접착 위치에 이송되고, 제 2 실시형태와 같이 선입, 선출 기반으로 가열 장치(220)에 공급될 수 있다.
도 18은 본 발명의 제 5 실시형태에 의한 가열 장치(230)를 구성 설명도로 개략적으로 나타낸다.
도 18에 나타낸 바와 같이, 가열 장치(230)는 제 1 가열로(82)와 제 2 가열로(84) 사이에 배치된 버퍼 가열로(버퍼)(232)를 갖는다. 버퍼 가열로(232)는 히터(98f)를 갖는다.
제 5 실시형태에 따르면, 가열 장치(230)가 보통 동작할 때 제 1 가열로(82)로에서 주어진 시간동안 가열된 유리 기판(24)은 제 1 및 제 2 가열로(82,84) 사이의 버퍼 가열로(232)를 통하여 이동하고, 유리 기판(24)이 소정의 시강동안 가열되는 제 2 가열로(84)로 공급된다. 유리 기판(24)이 주어진 시간 이상 제 1 가열로(82)로 가열된다고 판단될 때에만 유리 기판(24)은 제 1 가열로(82)로부터 버퍼 가열로(232)로 이송되고 가열 장치(230)의 보통 가열 동작이 재개될 때까지 버퍼 가열로(232)에서 대기된다.
제 5 실시형태에 따르면, 제 1 ~ 제 3 실시형태와 같이, 간단하고 컴팩트한 구성의 가열 장치(230)는 제 1 가열로(82)에서 유리 기판(24)이 주어진 시간 이상동안 유지되는 것을 방지하고 유리 기판(24)이 과도하게 가열되는 것을 방지한다.
본 발명의 특정 발탁된 실시형태가 상세하게 나타내어지고 설명되었지만, 각종 변경 및 수정은 첨부되는 청구항의 범위로부터 벗어남 없이 이루어질 수 있다는 것을 이해해야 한다.

Claims (13)

  1. 워크피스(24)를 가열하는 장치(45)로서:
    공급 방향으로 상기 워크피스(24)를 공급하는 공급 기구(74), 및
    상기 공급 방향을 따라 배치되는 적어도 제 1 및 제 2 가열로(82,84)를 포함하고;
    상기 제 1 가열로(82)는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 2 가열로(84)의 상류에 배치되고, 상기 워크피스(24)를 처리하는데 필요한 목표 온도 이상으로 상기 워크피스(24)를 가열하는 제 1 열원(98a)을 가지며;
    상기 제 1 가열로보다 작은 열량을 발생시킬 수 있는 상기 제 2 가열로(84)는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 1 가열로(82)의 하류에 배치되고, 목표 온도 이하의 온도로 상기 워크피스(24)를 가열하는 제 2 열원(98b)을 갖는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 가열로(84), 또는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 2 가열로(84)의 하류에 배치되는 제 3 가열로(86)를 포함하는 가열로 중 하나는 상기 공급 기구(74)로부터 상기 워크피스(24)를 퇴피시키는 퇴피 기구(92)를 갖는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 퇴피 기구(92)는 상기 공급 방향과 직교하는 방향에 대해 수직 또는 수평으로 이송되는 상기 워크피스(24)를 수용하는 버퍼(114)를 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 공급 방향에 대하여 상기 제 1 가열로(82)의 하류에 배치되어 상기 워크피스(24)가 상기 제 1 가열로(82)에서 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때에만 상기 워크피스(24) 또는 하류 워크피스(24)를 유지하여 대기시키는 버퍼(232)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 공급 기구(74)는 상기 워크피스(24)를 연속 또는 간헐적으로 공급하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 가열로(84), 또는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 2 가열로(84)의 하류에 배치되는 제 3 가열로(86)를 포함하는 가열로 중 하나는 상기 공급 방향과 교차하는 폭방향으로 상기 워크피스(24)를 위치 결정하는 위치 결정 기구(94)를 갖는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 공급 방향에 대하여 상기 위치 결정 기구(94)의 하류에 배치되어 상기 공급 방향을 따라 소정의 위치에서 상기 워크피스(24)를 정지시키는 정지 기구(96)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 장치.
  8. 공급로를 따라 워크피스(24)를 간헐 또는 연속적으로 공급하면서 워크피스(24)를 가열하는 방법으로서:
    상기 공급 방향에 대하여 상류 지역에 배치되고, 상기 워크피스(24)를 처리하는데 필요한 목표 온도 이상으로 상기 워크피스(24)를 가열할 수 있는 제 1 가열로(82)를 통하여 목표 온도 이하로 상기 워크피스(24)를 가열하는 공정; 및
    상기 공급 방향에 대하여 하류 지역에 배치되고, 상기 제 1 가열로보다 작은 열량을 발생시킬 수 있는 제 2 가열로(84)에 의해 상기 목표 온도 이하로 상기 워크피스(24)를 가열하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 공급로로부터 상기 워크피스(24)를 퇴피시키는 버퍼(114)는 상기 제 2 가열로(84), 또는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 2 가열로(84)의 하류에 배치되는 제 3 가열로(86)를 포함하는 복수의 가열로 중 하나에 배치되고,
    상기 워크피스(24)가 상기 제 1 가열로(82)에서 소정의 시간 이상 가열된다 고 판단될 때 상기 워크피스(24) 또는 다른 워크피스(24)를 상기 공급로로부터 상기 버퍼(114)로 이송하는 공정, 및 상기 워크피스(24)를 상기 제 1 가열로(82)로부터 배출시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 버퍼(198)는 상기 공급로와 교차하여 배치되고,
    상기 워크피스(24)가 상기 제 1 가열로(82)에서 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때 이전에 투입된 제 1 워크피스(24)를 버퍼(198)로 이송하는 공정, 그 후 순차 투입된 제 2 워크피스(24)를 상기 제 1 워크피스(24)와 병렬로 배치하는 공정, 상기 제 1 워크피스(24)를 상기 공급로로 리턴하는 공정, 상기 제 2 워크피스(24)를 상기 공급로로부터 분리하는 공정, 그 다음에 상기 제 1 워크피스(24)를 상기 공급로를 따라 공급하는 공정, 그 후 상기 제 2 워크피스(24)를 상기 공급로로 리턴하는 공정, 및 상기 제 1 워크피스(24)에 연이어서 상기 공급로를 따라 상기 제 2 워크피스(24)를 공급하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 버퍼는 상기 공급로를 따라 배열되는 제 1 및 제 2 버퍼(114a,114b)를 포함하고,
    상기 워크피스(24)가 상기 제 1 가열로(82)에서 소정의 시간 이상 가열된다 고 판단될 때 이전에 투입된 제 1 워크피스(24)를 상기 공급로로부터 상기 버퍼(114a)로 이송하는 공정, 그 후 순차 투입된 제 2 워크피스(24)를 제 1 버퍼(114a)를 통과해서 제 2 버퍼(114b)로 이송하는 공정, 상기 제 1 워크피스(24)를 상기 제 1 버퍼(114a)로부터 상기 공급로로 리턴하는 공정, 상기 제 1 워크피스(24)를 상기 공급로를 따라 하류로 공급하는 공정, 그 다음에 상기 제 2 워크피스(24)를 상기 제 2 버퍼(114b)로부터 상기 공급로로 리턴하는 공정, 및 상기 제 1 워크피스(24)에 연이어서 상기 공급로를 따라 상기 제 2 워크피스(24)를 공급하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
  12. 제 8 항에 있어서,
    버퍼(232)는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 1 가열로(82)의 하류에 배치되고, 상기 워크피스(24)가 상기 제 1 가열로(82)에서 소정의 시간 이상 가열된다고 판단될 때에만 상기 워크피스(24) 또는 하류 워크피스(24)를 유지시켜 상기 버퍼(232)에서 대기시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
  13. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 가열로(84), 또는 상기 공급 방향에 대하여 상기 제 2 가열로(84)의 하류에 배치되는 제 3 가열로(86)를 포함하는 복수의 가열로 중 하나에서 상기 공급 방향과 교차하는 폭방향으로 상기 워크피스(24)를 위치 결정하는 공정, 및
    상기 워크피스(24)를 상기 공급 방향을 따라 소정의 위치에 정지시킨 후 상기 워크피스(24)가 소정의 위치에서 정지되었는지의 여부를 검출하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 워크피스 가열 방법.
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