JP2004150660A - Pdp用連続焼成炉 - Google Patents
Pdp用連続焼成炉 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004150660A JP2004150660A JP2002314334A JP2002314334A JP2004150660A JP 2004150660 A JP2004150660 A JP 2004150660A JP 2002314334 A JP2002314334 A JP 2002314334A JP 2002314334 A JP2002314334 A JP 2002314334A JP 2004150660 A JP2004150660 A JP 2004150660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- glass substrate
- unit
- zone
- buffer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【解決手段】上段が焼成ゾーン4、下段が搬出ゾーン6で構成され、焼成済みのガラス基板2を昇降部5を介して下段へ搬送する2段構造の焼成炉本体9と、焼成炉本体9上段の焼成ゾーン4にガラス基板2を搬入し焼成済みガラス基板2を下段の搬出ゾーン6から取り出す炉前搬送装置1とを有するPDP用連続焼成炉において、搬出ゾーン6はタクト送り部7と複数のバッファー部8(1)〜8(5)からなる搬送ユニットで構成され、各搬送ユニットはそれぞれ独立に搬送動作が可能な駆動モータ12及び搬出ローラ11を備えている。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)の製造工程において、ペースト等が塗布されたPDP用ガラス基板を焼成炉内に搬入し、連続的に搬送しながら焼成処理を行なう焼成炉に関するもので、特に、ガラス基板搬出側に設けた搬送ユニットに複数のバッファー部を装備したバッファー機能付のPDP用連続焼成炉に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のPDP用連続焼成炉は、図2の構成図に示すように、ペースト等が塗布されたPDP用のガラス基板2を焼成処理する焼成炉本体9aと、焼成炉本体9aの一端側に設けられガラス基板2の搬入及び搬出を行なう炉前搬送装置1とから構成されている。
【0003】
焼成炉本体9aは上段と下段の2段構造を有し、上段はガラス基板2の焼成ゾーン4であり、下段は焼成済みのガラス基板2の搬出ゾーン6である。上段には搬送ローラ10が設けられ、下段には搬出ローラ11が設けられ、さらに、焼成炉本体9aの上段終点側には、ガラス基板2を載せた炉内専用プレート3を上段から下段へ移動させるための昇降部5が設けられている。そして、炉前搬送装置1から焼成炉本体9aに搬入されたガラス基板2は、焼成後に炉前搬送装置1に戻るようになっている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
また、炉前搬送装置1の構成は、ガラス基板2を炉内専用プレート3に載せて焼成炉本体9aに搬入する際に、移載ハンド(図示せず)を用いて炉内専用プレート3上にガラス基板2を載置する手段と、ガラス基板2を載置した炉内専用プレート3を搬入口まで上昇させる手段と、焼成後に焼成炉本体9aから搬出されて元の位置に戻った炉内専用プレート3上のガラス基板2を移載ハンド(図示せず)により取り出す手段とから構成されている。
【0005】
このように構成された従来のPDP用連続焼成炉を用いてガラス基板の焼成を行なう方法について、同じく図2を用いて説明する。まず、炉前搬送装置1にセットされた炉内専用プレート3上に移載ハンドによりガラス基板2を載置する。次いで、ガラス基板2を載せたまま炉内専用プレート3は上昇し、焼成炉本体9aの上段に搬入される。搬入されたガラス基板2は炉内専用プレート3に載せられたまま搬送ローラ10の回転により焼成ゾーン4に搬送され、連続送り又はタクト送りで焼成処理が行なわれる。
【0006】
次いで、焼成処理の終了したガラス基板2は炉内専用プレート3ごと昇降部5において降下され、下段の搬出ゾーン6に移送される。搬出ゾーン6では搬出ローラ11により連続送り又はタクト送りにより搬送され、1枚ずつ搬入側の炉前搬送装置1に戻り、移載ハンドにより次工程へ移載される。
【0007】
【特許文献1】
特開2001−316186号公報([0003]、図15)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来のPDP用連続焼成炉においては、ガラス基板が焼成ゾーンを搬送されている間に加熱によってガラス基板に熱歪が発生し、そのため、ガラス基板は焼成炉本体に搬入される前にあらかじめ炉内専用プレート上の正しい位置に位置合わせされて載置されているにもかかわらず、焼成処理の間に炉内専用プレート上で位置ズレが発生したり、また、ガラス基板が割れたりする問題が発生していた。
【0009】
そして、位置ズレや割れが発生した状態のガラス基板を載せたまま、炉内専用プレートは焼成炉本体から搬出されて炉前搬送装置に戻ってしまうため、次に移載ハンドでガラス基板をチャックする際に、位置ズレがあると移載ハンドと衝突して破損したり、破損しないまでもチャッキングミスによるトラブルが発生したりする原因となっている。また、ガラス割れがあると、割れたガラス基板が炉内専用プレート上に残されたまま、次の新たなガラス基板が移載されることになり、品質的なトラブル発生の原因となっている。
【0010】
このようなトラブルが炉前搬送装置で発生した場合には、トラブル復旧処置や緊急取り出し処置を行なわなければならないため炉前搬送装置の機能が一時的にストップし、焼成炉からのガラス基板搬出ができなくなる。一方、焼成炉本体内では、焼成ゾーン及び搬出ゾーンともに連続送り又はタクト送りによってガラス基板の搬送が続けられているため、搬出ゾーン出口を先頭にガラス基板の炉詰りが発生する。その影響で、焼成ゾーンにおいてもガラス基板が長時間停滞することになり、長時間加熱によるガラス基板変形や焼成不良と言った製品不良が大量に発生していた。
【0011】
本発明は、これらの問題点を解決するためになされたもので、搬出ゾーン出口付近にトラブルが発生し焼成炉からガラス基板が搬出できなくなった場合でも、炉詰りが発生するまでの時間を稼ぐことによってトラブル復旧時間を確保し、長時間加熱による製品不良の発生を防止することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上段が焼成ゾーン、下段が搬出ゾーンで構成され、焼成済みのガラス基板を昇降部を介して下段へ搬送する2段構造の焼成炉本体と、焼成炉本体上段の焼成ゾーンにガラス基板を搬入し焼成済みガラス基板を下段の搬出ゾーンから取り出す炉前搬送装置とを有するPDP用連続焼成炉において、前記搬出ゾーンは複数の搬送ユニットで構成され、各搬送ユニットはそれぞれ独立に搬送動作が可能な駆動系を備えている。
【0013】
また、前記搬送ユニットは、焼成済みのガラス基板を複数枚ストックさせるタクト送り部と、タクト送り部に連続して設けられタクト送り部から1枚ずつガラス基板を送り込む複数のバッファー部とから構成されている。また、前記搬送ユニットにおいて、焼成済みのガラス基板がタクト送り部に供給されるごとに、タクト送り部にストックされているガラス基板の先頭の1枚を順次バッファー部に送り込むようになっている。また、前記搬送ユニットに設けられた駆動系は、それぞれガラス基板を搬送する搬送ローラと、搬送ローラの動作を制御する駆動モータとから構成されている。
【0014】
また、本発明において、前記タクト送り部からバッファー部に送り込まれたガラス基板は、通常時には各バッファー部を速やかに連続通過して炉前搬送装置に搬出され、バッファー部には停滞しないようになっている。一方、前記炉前搬送装置にトラブルが発生しガラス基板の搬出が不可能になった異常時には、ガラス基板が炉詰りを起こすまでの間にガラス基板をバッファー部に一時的に停滞させ、異常復旧処理の時間を確保するようになっている。このような異常時には、焼成済みのガラス基板がタクト送り部に供給されるごとにストックされている先頭の1枚を順次バッファー部に送り込み、送り込まれたガラス基板は次のガラス基板がタクト送り部に供給されるまでバッファー部で一旦停止され、供給インデックスごとにこの動作を繰り返して順次バッファー部へガラス基板を搬送するようにしている。この異常復旧処理に要する時間は、(バッファー部数×供給インデックス)である。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の一実施の形態について、図面を参照して説明する。図1は本発明のPDP用連続焼成炉の概略構成図である。図1に示すように、本発明は、焼成炉本体9の上段が焼成ゾーン4で構成され、下段が搬出ゾーン6で構成された2段連続焼成炉であって、ガラス基板2を焼成ゾーン4の入口に搬入するとともに焼成済みのガラス基板2を搬出ゾーン6の出口から受け取るための炉前搬送装置1を有しており、この炉前搬送装置1にトラブルが発生して搬出ゾーン6の出口以降のガラス基板2の搬送が不可能となった場合、搬出ゾーン6にガラス基板2の炉詰りが発生するのを防止するためになされたもので、その防止手段として、搬出ゾーン6に複数の独立した駆動系を有する搬送ユニット部(タクト送り部7と複数のバッファー部8で構成される)を装備し、ガラス基板2の搬送タイミングや搬送速度を調節することによって、停滞による炉詰りを防止するようにしたことを特徴としている。
【0016】
このような特徴を有する本発明のPDP用連続焼成炉の構成について、さらに図1を用いて詳細に説明する。本発明の連続焼成炉は、ペースト等が塗布されたPDP用のガラス基板2を焼成処理する焼成炉本体9と、焼成炉本体9の一端側に設けられガラス基板2の搬入及び搬出を行なう炉前搬送装置1とから構成されている。
【0017】
焼成炉本体9は上段と下段の2段構造を有し、上段はガラス基板2の焼成ゾーン4であり、下段は焼成済みのガラス基板2の搬出ゾーン6である。上段には搬送ローラ10が設けられ、焼成炉本体9の一端側の搬入口からのガラス基板2を連続送り又はタクト送りによって焼成処理しながら他端側に向けて搬送する。焼成炉本体9の他端側には、ガラス基板2を載せた炉内専用プレート3を上段から下段へ移動させるための昇降部5が設けられている。
【0018】
一方、下段側に設けられた搬出ゾーン6は連続搬送構造ではなく、それぞれ独立した駆動系を有する複数の搬送ユニット部からなる搬送機構を装備している。この搬送ユニット部は、一例として図1に示すように、1個所のタクト送り部7と5個所のバッファー部8(1)、8(2)、8(3)、8(4)、8(5)とから構成され、タクト送り部7及びバッファー部8(1)〜8(5)にはそれぞれ駆動モータ12、搬出ローラ11が装備されている。そして、昇降部5によって上段から下段に降下した炉内専用プレート3及びガラス基板2は、まずタクト送り部7に搬送されてここで一旦ストックされ、続いてバッファー部8(5)〜8(1)の順に1枚ずつ搬送され、搬出口に向かうようになっている。各搬送ユニット部では、駆動モータを制御することによってタクト時間や搬送タイミングの調節が可能である。
【0019】
このように構成された焼成炉によって、炉前搬送装置から焼成炉本体に搬入されたガラス基板は、焼成後に炉前搬送装置に戻るようになっている。この炉前搬送装置1の構成は、ガラス基板2を炉内専用プレート3に載せて焼成炉本体9に搬入する際に、移載ハンド(図示せず)を用いて炉内専用プレート3上にガラス基板2を載置する手段と、ガラス基板2を載置した炉内専用プレート3を上昇させる手段と、焼成後に焼成炉本体9から搬出されて元の位置に戻った炉内専用プレート3上のガラス基板2を移載ハンド(図示せず)により取り出す手段とから構成されている。
【0020】
次に、本発明のPDP用連続焼成炉の動作について、同じく図1を参照して説明する。まず、炉前搬送装置1にトラブルが無く正常に動作している場合には、上記してきたように、ガラス基板2の載置された炉内専用プレート3(以下、単に炉内専用プレートと言う場合は、ガラス基板が載置されているものとする)は、炉前搬送装置1から供給され、焼成ゾーン4から昇降部5を介して搬出ゾーン6のタクト送り部7に搬送される。タクト送り部7では、複数(図1では4枚)の炉内専用プレート3を順次ストックし、昇降部5から次(5枚目)の炉内専用プレート3が搬送されて来た時点で、先頭の1枚をバッファー部8(5)へ搬送する。こうして炉内専用プレート3が送られてくる毎に、先頭の1枚はさらにバッファー部8(4)〜8(1)と順次搬送され、速やかに炉前搬送装置1へ搬出される。
【0021】
バッファー部8(5)〜8(1)はそれぞれ独立した搬送ユニットとなっているため、連続送りも可能である。1枚目が炉前搬送装置1に搬出されると、続いてタクト送り部7にストックされている2枚目の炉内専用プレート3が、1枚目と同様にバッファー部8(5)に搬送される。このように、1枚目が炉前搬送装置1に搬出されるのを待って2枚目が送り出されるので、通常はバッファー部8(5)〜8(1)に炉内専用プレート3が停滞することはない。なお、通常の状態では、タクト送り部7に炉内専用プレート3をストックさせずにそのままバッファー部に搬送しても何ら差し支えない。
【0022】
しかし、炉前搬送装置1にトラブルが発生し、搬出ゾーン6から炉内専用プレート3の搬出ができなくなると、図1に示すように、1枚目の炉内専用プレート3がバッファー部8(1)でストップした状態となる。このように、バッファー領域に炉内専用プレート3が残っていると、2枚目の炉内専用プレート3はタクト送り部7から送り出されずにストップしているため、1枚目と2枚目の炉内専用プレート間にはバッファー部8(2)から8(5)までの4枚分のスペース領域が確保された状態となる。
【0023】
一方、炉前搬送装置1で搬出がストップしている間にも、焼成ゾーン4では通常の状態でガラス基板2の焼成が継続しているため、焼成の終了したガラス基板2は炉内専用プレート3とともに昇降部5を経てタクト送り部7へストックされて行く。タクト送り部7では、所定枚数(図1では4枚)の炉内専用プレート3がストックされるまで搬出はストップされている。そして、タクト送り部7に5枚目の炉内専用プレート3が搬送されてきた時点で入れ替わって先頭の1枚をバッファー部8(5)に搬送する。このように、昇降部5から炉内専用プレート3が搬送されて来る毎に、タクト送り部7から順に炉内専用プレート3がバッファー部に送り込まれて行く。
【0024】
この動作は、複数のバッファー部が炉内専用プレートで埋まるまで継続され、その間、焼成ゾーンの搬送には何ら影響を与えない。このように、炉前搬送装置のトラブルにより、焼成炉から炉内専用プレートを搬出できなくなっても、炉詰りが発生する以前にタクト送り部で一旦ストックさせ、ストックさせたものを一定のインデックスで1枚ずつバッファー部に供給し、バッファー部において一時的に炉内専用プレートを停滞させるようにしたため、(バッファー数×供給インデックス)分の時間を確保することができる。例えば、図1のようにバッファー数を5個所、供給インデックスを5分とすれば、炉詰りが発生するまでに25分間の時間を稼ぐことができ、この間に、トラブル復旧処置又は緊急取り出し処置が行なえるため、炉詰りによる大量の不良発生を回避することができる。
【0025】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明のバッファー機能付PDP用連続焼成炉によれば、搬出ゾーンに複数個所のバッファー部を設けたことによって、炉前搬送装置のトラブル発生により炉内専用プレートを焼成炉から搬出できなくなっても、炉詰りとなるまでにバッファー部に一時的に炉内専用プレートを停滞させることができるので、(バッファー数×供給インデックス)分の時間を確保することができ、この間に、トラブル復旧処置又は緊急取り出し処置が行なえるため、炉詰りによる大量の不良発生を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す焼成炉の構成図である。
【図2】従来の焼成炉の構成図である。
【符号の説明】
1 炉前搬送装置
2 ガラス基板
3 炉内専用プレート
4 焼成ゾーン
5 昇降部
6 搬出ゾーン
7 タクト送り部
8、8(1)〜8(5) バッファー部
9、9a 焼成炉本体
10 搬送ローラ
11 搬出ローラ
12 駆動モータ
Claims (8)
- 上段が焼成ゾーン、下段が搬出ゾーンで構成され、焼成済みのガラス基板を昇降部を介して下段へ搬送する2段構造の焼成炉本体と、焼成炉本体上段の焼成ゾーンにガラス基板を搬入し焼成済みガラス基板を下段の搬出ゾーンから取り出す炉前搬送装置とを有するPDP用連続焼成炉において、前記搬出ゾーンは複数の搬送ユニットで構成され、各搬送ユニットはそれぞれ独立に搬送動作が可能な駆動系を備えたことを特徴とするPDP用連続焼成炉。
- 前記搬送ユニットは、焼成済みのガラス基板を複数枚ストックさせるタクト送り部と、タクト送り部に連続して設けられタクト送り部から1枚ずつガラス基板を送り込む複数のバッファー部とから構成されていることを特徴とする請求項1記載のPDP用連続焼成炉。
- 前記搬送ユニットにおいて、焼成済みのガラス基板がタクト送り部に供給されるごとに、タクト送り部にストックされているガラス基板の先頭の1枚を順次バッファー部に送り込むことを特徴とする請求項1記載のPDP用連続焼成炉。
- 前記搬送ユニットに設けられた駆動系は、それぞれガラス基板を搬送する搬送ローラと、搬送ローラの動作を制御する駆動モータとから構成されていることを特徴とする請求項1記載のPDP用連続焼成炉。
- 前記タクト送り部からバッファー部に送り込まれたガラス基板は、通常時には各バッファー部を速やかに連続通過して炉前搬送装置に搬出され、バッファー部には停滞しないことを特徴とする請求項2記載のPDP用連続焼成炉。
- 前記炉前搬送装置にトラブルが発生しガラス基板の搬出が不可能となった異常時には、ガラス基板が炉詰りを起こすまでの間にガラス基板をバッファー部に一時的に停滞させ、異常復旧処理の時間を確保することを特徴とするPDP用連続焼成炉。
- 前記炉前搬送装置にトラブルが発生しガラス基板の搬出が不可能となった異常時には、焼成済みのガラス基板がタクト送り部に供給されるごとにストックされている先頭の1枚を順次バッファー部に送り込み、送り込まれたガラス基板は次のガラス基板がタクト送り部に供給されるまでバッファー部で一旦停止され、供給インデックスごとにこの動作を繰り返して順次バッファー部へガラス基板を搬送することを特徴とする請求項6記載のPDP用連続焼成炉。
- 前記復旧処理の時間は、(バッファー部数×供給インデックス)であることを特徴とする請求項6または7記載のPDP用連続焼成炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002314334A JP2004150660A (ja) | 2002-10-29 | 2002-10-29 | Pdp用連続焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002314334A JP2004150660A (ja) | 2002-10-29 | 2002-10-29 | Pdp用連続焼成炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004150660A true JP2004150660A (ja) | 2004-05-27 |
Family
ID=32458671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002314334A Pending JP2004150660A (ja) | 2002-10-29 | 2002-10-29 | Pdp用連続焼成炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004150660A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123838A2 (en) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Fujifilm Corporation | Heating apparatus and heating method |
US20120225204A1 (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-06 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and Process for Atomic Layer Deposition |
CN104880062A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-09-02 | 绥阳县华夏陶瓷有限责任公司 | 设有升降装置的双层辊道窑 |
CN104960903A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-10-07 | 绥阳县华夏陶瓷有限责任公司 | 双层辊道窑升降装置 |
CN105346972A (zh) * | 2015-12-15 | 2016-02-24 | 乌毡帽酒业有限公司 | 一种跨轨道米饭输送结构 |
-
2002
- 2002-10-29 JP JP2002314334A patent/JP2004150660A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006123838A2 (en) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Fujifilm Corporation | Heating apparatus and heating method |
WO2006123838A3 (en) * | 2005-05-20 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | Heating apparatus and heating method |
KR100884916B1 (ko) | 2005-05-20 | 2009-02-20 | 후지필름 가부시키가이샤 | 가열 장치 및 가열 방법 |
US20120225204A1 (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-06 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and Process for Atomic Layer Deposition |
CN104880062A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-09-02 | 绥阳县华夏陶瓷有限责任公司 | 设有升降装置的双层辊道窑 |
CN104960903A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-10-07 | 绥阳县华夏陶瓷有限责任公司 | 双层辊道窑升降装置 |
CN105346972A (zh) * | 2015-12-15 | 2016-02-24 | 乌毡帽酒业有限公司 | 一种跨轨道米饭输送结构 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8448834B2 (en) | Board printing system | |
JP2006346743A (ja) | 加熱装置及び加熱方法 | |
WO2019021465A1 (ja) | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム | |
JP2004150660A (ja) | Pdp用連続焼成炉 | |
JP2009021487A (ja) | 真空処理装置および真空処理方法 | |
JP4322086B2 (ja) | 基板処理装置およびその方法 | |
JP2006054284A (ja) | 真空処理装置 | |
JPH0689934A (ja) | 半導体製造装置に於ける基板搬送方法 | |
JP2004304003A (ja) | 処理システム | |
JP4172553B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JPH07106215A (ja) | 半導体製造装置における障害処理方法 | |
JP4298202B2 (ja) | 電子部品実装装置および電子部品実装方法 | |
TWI471966B (zh) | 基板處理系統及基板處理方法 | |
JPS6324632A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP6175184B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2005026554A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP2005022844A (ja) | 基板搬送装置 | |
JP2002043793A (ja) | プリント基板搬送方法及び装置 | |
JP2003148869A (ja) | 焼成装置 | |
JP4942359B2 (ja) | ワーク加工装置 | |
JP4605948B2 (ja) | 反り測定装置及びそれを用いた焼成装置 | |
US6998578B2 (en) | Baking system for plasma display panel and layout method for said system | |
JP2004349438A (ja) | 処理装置 | |
KR100730735B1 (ko) | 기판 처리장치 및 그 처리방법 | |
JP2005032770A (ja) | 基板処理装置およびその方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040902 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20040902 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050428 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20050328 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 |
|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050908 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20080305 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080311 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080701 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |