JP2003148869A - 焼成装置 - Google Patents
焼成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 セッターへの基板移載システムが故障した場
合等に対処できる焼成装置を提供すること。 【解決手段】 耐熱性のセッターＳにガラス基板を載せ
た状態で搬送しながらガラス基板の焼成を行う焼成炉本
体１０と、焼成炉本体１０の入口と出口を接続するよう
に配設されたセッター搬送コンベア２０と、焼成前のガ
ラス基板をセッター上に載置する基板供給手段３０及び
焼成後のガラス基板をセッター上から移載する基板受取
手段４０とを備え、セッター搬送コンベア２０が少なく
とも焼成炉本体１０の加熱部手前からセッターＳを停止
させる機構を有し、かつ停止させられるセッターＳの枚
数が焼成炉本体１０の加熱部内に入り得るセッターの枚
数以上であるとともに、セッター搬送コンベア２０の少
なくとも一部の速度設定が可変である構成とする。
合等に対処できる焼成装置を提供すること。 【解決手段】 耐熱性のセッターＳにガラス基板を載せ
た状態で搬送しながらガラス基板の焼成を行う焼成炉本
体１０と、焼成炉本体１０の入口と出口を接続するよう
に配設されたセッター搬送コンベア２０と、焼成前のガ
ラス基板をセッター上に載置する基板供給手段３０及び
焼成後のガラス基板をセッター上から移載する基板受取
手段４０とを備え、セッター搬送コンベア２０が少なく
とも焼成炉本体１０の加熱部手前からセッターＳを停止
させる機構を有し、かつ停止させられるセッターＳの枚
数が焼成炉本体１０の加熱部内に入り得るセッターの枚
数以上であるとともに、セッター搬送コンベア２０の少
なくとも一部の速度設定が可変である構成とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板に形成
した構成要素を焼き固めるのに使用する焼成装置の技術
分野に属し、特にプラズマディスプレイ用基板などの電
子部品としてのガラス基板の焼成工程において好適に使
用される焼成装置に関するものである。
した構成要素を焼き固めるのに使用する焼成装置の技術
分野に属し、特にプラズマディスプレイ用基板などの電
子部品としてのガラス基板の焼成工程において好適に使
用される焼成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種のガラス基板上に形成された構成
要素を焼き固める焼成装置としては、例えば図１に示す
タイプのものが一般的に使用されている。通常プラズマ
ディスプレイ用基板として使用している高歪点ガラスの
歪点は５７０℃であるのに対し、電極、誘電体、リブの
焼成温度は５００〜６００℃程度であるため、焼成時に
はより耐熱性の高いセッターＳの上にガラス基板Ｇを載
せた状態で焼成を行っている。プラズマディスプレイ基
板の焼成には、このセッターとして結晶化ガラス板（例
えば、日本電気硝子製「ネオセラムＮ−Ｏ」）が用いら
れている。
要素を焼き固める焼成装置としては、例えば図１に示す
タイプのものが一般的に使用されている。通常プラズマ
ディスプレイ用基板として使用している高歪点ガラスの
歪点は５７０℃であるのに対し、電極、誘電体、リブの
焼成温度は５００〜６００℃程度であるため、焼成時に
はより耐熱性の高いセッターＳの上にガラス基板Ｇを載
せた状態で焼成を行っている。プラズマディスプレイ基
板の焼成には、このセッターとして結晶化ガラス板（例
えば、日本電気硝子製「ネオセラムＮ−Ｏ」）が用いら
れている。
【０００３】図１に示す焼成装置では、まず焼成炉本体
１の外部においてリフターコンベア２の上段位置にある
セッターＳの上にガラス基板Ｇが載せられる。そして、
ガラス基板ＧはセッターＳと共に入口コンベア３により
焼成炉本体１における上段通路の中に導入され、そのま
まセッターＳと共にローラコンベアで搬送されながら加
熱部にて常温から５００〜６００℃程度のピーク温度ま
で加熱された後、徐冷部にて４００℃程度にまで冷却さ
れる。次いで、上段通路の端まで搬送されたところでガ
ラス基板ＧはセッターＳと共にリフターコンベア４によ
り下段通路に降下され、下段通路内をローラコンベアで
逆方向に搬送されながら冷却部にて常温まで戻される。
ガラス基板Ｇを載せたセッターＳが出口まで到達する
と、出口コンベア５によりリフターコンベア２に移し替
えられ、そこで焼成を終えたガラス基板Ｇが除去され
る。そして、空になったセッターＳはリフターコンベア
２で上段位置に移動し、ここで次のガラス基板Ｇが載置
されて焼成工程が繰り返される。このタイプの焼成装置
では、上段通路の天井および床にヒーターが連続的に設
置されており、これらのヒーターにより上記の如く焼成
温度を管理するようになっている。
１の外部においてリフターコンベア２の上段位置にある
セッターＳの上にガラス基板Ｇが載せられる。そして、
ガラス基板ＧはセッターＳと共に入口コンベア３により
焼成炉本体１における上段通路の中に導入され、そのま
まセッターＳと共にローラコンベアで搬送されながら加
熱部にて常温から５００〜６００℃程度のピーク温度ま
で加熱された後、徐冷部にて４００℃程度にまで冷却さ
れる。次いで、上段通路の端まで搬送されたところでガ
ラス基板ＧはセッターＳと共にリフターコンベア４によ
り下段通路に降下され、下段通路内をローラコンベアで
逆方向に搬送されながら冷却部にて常温まで戻される。
ガラス基板Ｇを載せたセッターＳが出口まで到達する
と、出口コンベア５によりリフターコンベア２に移し替
えられ、そこで焼成を終えたガラス基板Ｇが除去され
る。そして、空になったセッターＳはリフターコンベア
２で上段位置に移動し、ここで次のガラス基板Ｇが載置
されて焼成工程が繰り返される。このタイプの焼成装置
では、上段通路の天井および床にヒーターが連続的に設
置されており、これらのヒーターにより上記の如く焼成
温度を管理するようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のＰＤＰ用基板の
焼成装置としては、図１に示した装置のように、上段を
加熱部とし下段を冷却部及びリターン部とした２階建て
構造のものが多く使用されている。この方式は、焼成炉
本体の下部をリターン部とすることで、スペースの効率
が高いという利点がある。ところがこの方式の焼成装置
は、上下段ともほぼフルにセッターが滞留することにな
るため、セッターへの基板移載システムが故障した場合
などに、セッターの循環を停止しなければならず、焼成
炉本体の加熱部で停止したセッター上の基板は不良品と
なってしまう。この場合、加熱部内で停止するのを防止
するためには、作業員が循環経路から基板ごとセッター
を抜き取れば対処が可能であるが、作業負荷が大きく、
特に処理タクトの大きい装置では困難な作業になる。ま
た、焼成炉本体の加熱部でセッターを長時間停止させて
しまった場合、セッターの反りや搬送ローラーにも影響
が出るため、製品の投入がない時間帯でもセッターの循
環を停止できず、消費電力の面で問題となっていた。
焼成装置としては、図１に示した装置のように、上段を
加熱部とし下段を冷却部及びリターン部とした２階建て
構造のものが多く使用されている。この方式は、焼成炉
本体の下部をリターン部とすることで、スペースの効率
が高いという利点がある。ところがこの方式の焼成装置
は、上下段ともほぼフルにセッターが滞留することにな
るため、セッターへの基板移載システムが故障した場合
などに、セッターの循環を停止しなければならず、焼成
炉本体の加熱部で停止したセッター上の基板は不良品と
なってしまう。この場合、加熱部内で停止するのを防止
するためには、作業員が循環経路から基板ごとセッター
を抜き取れば対処が可能であるが、作業負荷が大きく、
特に処理タクトの大きい装置では困難な作業になる。ま
た、焼成炉本体の加熱部でセッターを長時間停止させて
しまった場合、セッターの反りや搬送ローラーにも影響
が出るため、製品の投入がない時間帯でもセッターの循
環を停止できず、消費電力の面で問題となっていた。
【０００５】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、セッター
への基板移載システムが故障した場合等に対処できる焼
成装置を提供することにある。
されたものであり、その目的とするところは、セッター
への基板移載システムが故障した場合等に対処できる焼
成装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の焼成装置は、耐熱性のセッターにガラス基
板を載せた状態で搬送しながらガラス基板の焼成を行う
焼成炉本体と、焼成炉本体の入口と出口を接続するよう
に配設されたセッター搬送コンベアと、セッター搬送コ
ンベアの途中で焼成前のガラス基板をセッター上に載置
する基板供給手段及び焼成後のガラス基板をセッター上
から移載する基板受取手段とを備え、セッター搬送コン
ベアが少なくとも焼成炉本体の加熱部手前からセッター
を停止させる機構を有し、かつ停止させられるセッター
の枚数が焼成炉本体の加熱部内に入り得るセッターの枚
数以上であるとともに、セッター搬送コンベアの少なく
とも一部の速度設定が可変であることを特徴とする。
め、本発明の焼成装置は、耐熱性のセッターにガラス基
板を載せた状態で搬送しながらガラス基板の焼成を行う
焼成炉本体と、焼成炉本体の入口と出口を接続するよう
に配設されたセッター搬送コンベアと、セッター搬送コ
ンベアの途中で焼成前のガラス基板をセッター上に載置
する基板供給手段及び焼成後のガラス基板をセッター上
から移載する基板受取手段とを備え、セッター搬送コン
ベアが少なくとも焼成炉本体の加熱部手前からセッター
を停止させる機構を有し、かつ停止させられるセッター
の枚数が焼成炉本体の加熱部内に入り得るセッターの枚
数以上であるとともに、セッター搬送コンベアの少なく
とも一部の速度設定が可変であることを特徴とする。
【０００７】そして、上記構成の焼成装置において、セ
ッターを停止させる機構は、焼成炉本体の加熱部手前の
位置からガラス基板をセッターから移載する位置までの
間のいずれかの位置でセッターを停止させる構成とする
ことが好ましい。
ッターを停止させる機構は、焼成炉本体の加熱部手前の
位置からガラス基板をセッターから移載する位置までの
間のいずれかの位置でセッターを停止させる構成とする
ことが好ましい。
【０００８】また、上記構成の焼成装置において、焼成
炉本体の出口から入口までの搬送所要時間を焼成時間よ
りも短くできるように構成してもよい。
炉本体の出口から入口までの搬送所要時間を焼成時間よ
りも短くできるように構成してもよい。
【０００９】さらに、上記構成の焼成装置において、基
板供給手段と基板受取手段の間にセッタークリーナーを
設けるようにしてもよい。
板供給手段と基板受取手段の間にセッタークリーナーを
設けるようにしてもよい。
【００１０】また、上記構成の焼成装置は、焼成炉本体
及びセッター搬送コンベアの一部が２階建て構造になっ
ている構成にすることもできる。
及びセッター搬送コンベアの一部が２階建て構造になっ
ている構成にすることもできる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
【００１２】図２は本発明に係る焼成装置の一例を平面
的に示す概略構成図である。同図において１０は耐熱性
のセッターＳにガラス基板を載せた状態で搬送しながら
ガラス基板の焼成を行う焼成炉本体であり、セッターＳ
と共にガラス基板を常温からピーク温度まで加熱する加
熱部１０ａと、その後に常温まで戻すための冷却部１０
ｂが設けられている。そして、焼成炉本体１０の入口１
１と出口１２を接続するようにセッター搬送コンベア２
０が配設されており、そのセッター搬送コンベア２０
は、焼成炉本体１０の入口に近いところに、焼成前のガ
ラス基板をセッター上に載置する基板供給手段３０及び
焼成後のガラス基板をセッター上から移載する基板受取
手段４０とを備えている。
的に示す概略構成図である。同図において１０は耐熱性
のセッターＳにガラス基板を載せた状態で搬送しながら
ガラス基板の焼成を行う焼成炉本体であり、セッターＳ
と共にガラス基板を常温からピーク温度まで加熱する加
熱部１０ａと、その後に常温まで戻すための冷却部１０
ｂが設けられている。そして、焼成炉本体１０の入口１
１と出口１２を接続するようにセッター搬送コンベア２
０が配設されており、そのセッター搬送コンベア２０
は、焼成炉本体１０の入口に近いところに、焼成前のガ
ラス基板をセッター上に載置する基板供給手段３０及び
焼成後のガラス基板をセッター上から移載する基板受取
手段４０とを備えている。
【００１３】セッター搬送コンベア２０は、セッターＳ
を循環使用するために、焼成炉本体１０の出口１２から
入口１１まで６本のコンベアＣ1 〜Ｃ6 を連結して構成
されている。また、基板供給手段３０と基板受取手段４
０はコンベアＣ5 に隣接して配置されており、基板の移
載のために、セッターＳはコンベアＣ5 におけるこの２
箇所のポジションで所定時間停止する。
を循環使用するために、焼成炉本体１０の出口１２から
入口１１まで６本のコンベアＣ1 〜Ｃ6 を連結して構成
されている。また、基板供給手段３０と基板受取手段４
０はコンベアＣ5 に隣接して配置されており、基板の移
載のために、セッターＳはコンベアＣ5 におけるこの２
箇所のポジションで所定時間停止する。
【００１４】そして、セッター搬送コンベア２０は、セ
ッターＳへの基板移載システムが故障した場合などに、
少なくとも焼成炉本体１０の加熱部１０ａ手前からセッ
ターＳを停止させる機構を有している。例えば図３は、
焼成炉本体１０の加熱部１１ａ手前の位置でセッターＳ
を止め、その後に続くセッターＳを詰めて停止させる場
合を示しており、また図４は、ガラス基板Ｇをセッター
Ｓ上から移載する位置でセッターＳを止め、その後に続
くセッターＳを詰めて停止させる場合を示しているが、
これら図３と図４に示した位置の間、すなわち、加熱部
手前の位置からガラス基板をセッターから移載する位置
までの間のいずれかの位置でセッターを停止させるよう
になっていればよい。そして、最初に停止させられたセ
ッターＳを含めてその後に詰めて停止させられるセッタ
ーＳの枚数は、焼成炉本体１０の加熱部１０ａ内に入り
得るセッター枚数以上であるように設定されている。さ
らに、セッター搬送コンベア２０の少なくとも一部（図
示の例ではコンベアＣ2 ）の速度設定が可変であり、焼
成炉本体１０の出口１２から入口１１までの搬送所要時
間を焼成時間よりも短くできるようになっている。
ッターＳへの基板移載システムが故障した場合などに、
少なくとも焼成炉本体１０の加熱部１０ａ手前からセッ
ターＳを停止させる機構を有している。例えば図３は、
焼成炉本体１０の加熱部１１ａ手前の位置でセッターＳ
を止め、その後に続くセッターＳを詰めて停止させる場
合を示しており、また図４は、ガラス基板Ｇをセッター
Ｓ上から移載する位置でセッターＳを止め、その後に続
くセッターＳを詰めて停止させる場合を示しているが、
これら図３と図４に示した位置の間、すなわち、加熱部
手前の位置からガラス基板をセッターから移載する位置
までの間のいずれかの位置でセッターを停止させるよう
になっていればよい。そして、最初に停止させられたセ
ッターＳを含めてその後に詰めて停止させられるセッタ
ーＳの枚数は、焼成炉本体１０の加熱部１０ａ内に入り
得るセッター枚数以上であるように設定されている。さ
らに、セッター搬送コンベア２０の少なくとも一部（図
示の例ではコンベアＣ2 ）の速度設定が可変であり、焼
成炉本体１０の出口１２から入口１１までの搬送所要時
間を焼成時間よりも短くできるようになっている。
【００１５】上記構成からなる焼成装置では、通常運転
時は、図２に示すように、焼成炉本体１０の中にセッタ
ーＳが一列に並んで焼成処理が行われる。そして、セッ
ター搬送コンベア２０では、２番目のコンベアＣ2 のと
ころで速く搬送され、５番目のコンベアＣ5 のところで
基板の受渡しが行われる。すなわち、５番目のコンベア
Ｃ5 では、まずセッターＳは基板受取手段４０のところ
で所定時間停止し、その間に焼成後のガラス基板をセッ
ター上から移載する。次いで、空になった状態で基板供
給手段３０のところでまで進み、そこでまた所定時間停
止し、その間に焼成前のガラス基板がセッターＳに載置
され、ガラス基板を積んだ状態で次の６番目のコンベア
Ｃ6 に搬送される。
時は、図２に示すように、焼成炉本体１０の中にセッタ
ーＳが一列に並んで焼成処理が行われる。そして、セッ
ター搬送コンベア２０では、２番目のコンベアＣ2 のと
ころで速く搬送され、５番目のコンベアＣ5 のところで
基板の受渡しが行われる。すなわち、５番目のコンベア
Ｃ5 では、まずセッターＳは基板受取手段４０のところ
で所定時間停止し、その間に焼成後のガラス基板をセッ
ター上から移載する。次いで、空になった状態で基板供
給手段３０のところでまで進み、そこでまた所定時間停
止し、その間に焼成前のガラス基板がセッターＳに載置
され、ガラス基板を積んだ状態で次の６番目のコンベア
Ｃ6 に搬送される。
【００１６】セッターＳへの基板移載システムが故障し
た緊急時は、セッターＳの循環を停止し、図３に示すよ
うに焼成炉１０の入口１１手前から、或いは図４に示す
ようにガラス基板ＧをセッターＳに載せる位置から、全
てのセッターＳを詰めた状態で並べることにより、焼成
炉本体１０内のセッターＳを全て外部に退避させる。こ
れにより、セッターＳが焼成炉本体１０に留まることが
ないので、ガラス基板の焼け過ぎがなく、セッターＳに
反りが出たり炉内の搬送ローラーに影響が出るようなこ
とがない。
た緊急時は、セッターＳの循環を停止し、図３に示すよ
うに焼成炉１０の入口１１手前から、或いは図４に示す
ようにガラス基板ＧをセッターＳに載せる位置から、全
てのセッターＳを詰めた状態で並べることにより、焼成
炉本体１０内のセッターＳを全て外部に退避させる。こ
れにより、セッターＳが焼成炉本体１０に留まることが
ないので、ガラス基板の焼け過ぎがなく、セッターＳに
反りが出たり炉内の搬送ローラーに影響が出るようなこ
とがない。
【００１７】上記構成の焼成装置において、セッターＳ
を清掃するため、基板が載らない状態となる基板供給手
段３０と基板受取手段４０の間にセッタークリーナーを
設けるようにしてもよい。
を清掃するため、基板が載らない状態となる基板供給手
段３０と基板受取手段４０の間にセッタークリーナーを
設けるようにしてもよい。
【００１８】また、上記構成の焼成装置は、図５の概略
構成図に示すように、焼成炉本体１０を２階建てとし、
セッター搬送コンベア２０の一部を２階建て構造にする
こともできる。また、セッター搬送コンベアは、水平方
向のみでなく、上下方向に移動するリフターコンベアを
含んでいても構わない。
構成図に示すように、焼成炉本体１０を２階建てとし、
セッター搬送コンベア２０の一部を２階建て構造にする
こともできる。また、セッター搬送コンベアは、水平方
向のみでなく、上下方向に移動するリフターコンベアを
含んでいても構わない。
【００１９】
【実施例】この実施例では、図２に示すのと同じ平面構
造の焼成装置を作製し、図２に示す通常運転を行うとと
もに、緊急時として図３に示すように焼成炉本体１０か
らの退避を行った。
造の焼成装置を作製し、図２に示す通常運転を行うとと
もに、緊急時として図３に示すように焼成炉本体１０か
らの退避を行った。
【００２０】焼成炉本体１０は、炉長を３０ｍ、出入口
コンベアをそれぞれ２ｍとした。炉入口のコンベアの中
心ｘから炉出口のコンベアの中心ｙまでの距離は３２ｍ
であり、その間は焼成炉本体１０の搬送速度５００ｍｍ
／分で配送し、所要時間は６４分とした。
コンベアをそれぞれ２ｍとした。炉入口のコンベアの中
心ｘから炉出口のコンベアの中心ｙまでの距離は３２ｍ
であり、その間は焼成炉本体１０の搬送速度５００ｍｍ
／分で配送し、所要時間は６４分とした。
【００２１】セッター搬送コンベア２０における各コン
ベアＣ1 〜Ｃ6 は次のように設定した。すなわち、コン
ベアＣ1 、Ｃ3 、Ｃ4 、Ｃ6 については、それぞれの搬
送距離を４ｍ、搬送速度４ｍ／分、所要時間を１分と
し、最も長いコンベアＣ2 は、搬送距離３２ｍ、搬送速
度８ｍ／分、所要時間を４分とした。また、基板供給手
段３０と基板受取手段４０の横を通るコンベアＣ5 は、
搬送距離８ｍ、搬送速度４ｍ／分、基板移載ポジション
２箇所での停止時間をそれぞれ１分とし、所要時間を４
分とした。したがって、セッター搬送コンベア２０での
全体の搬送時間は１２分である。
ベアＣ1 〜Ｃ6 は次のように設定した。すなわち、コン
ベアＣ1 、Ｃ3 、Ｃ4 、Ｃ6 については、それぞれの搬
送距離を４ｍ、搬送速度４ｍ／分、所要時間を１分と
し、最も長いコンベアＣ2 は、搬送距離３２ｍ、搬送速
度８ｍ／分、所要時間を４分とした。また、基板供給手
段３０と基板受取手段４０の横を通るコンベアＣ5 は、
搬送距離８ｍ、搬送速度４ｍ／分、基板移載ポジション
２箇所での停止時間をそれぞれ１分とし、所要時間を４
分とした。したがって、セッター搬送コンベア２０での
全体の搬送時間は１２分である。
【００２２】そして、焼成炉本体１０におけるセッター
処理タクトを４分／枚とし、焼成時間を６０分（焼成炉
本体内に１５枚のセッターが入る）、セッター使用枚数
２０枚とした。この条件では、１周の所要時間は７６分
であり、セッターは４分タクトなので、１９（７６÷
４）枚以上の枚数があれば、切れ目なく循環できるが、
本実施例では余裕をもって２０枚で循環させた。
処理タクトを４分／枚とし、焼成時間を６０分（焼成炉
本体内に１５枚のセッターが入る）、セッター使用枚数
２０枚とした。この条件では、１周の所要時間は７６分
であり、セッターは４分タクトなので、１９（７６÷
４）枚以上の枚数があれば、切れ目なく循環できるが、
本実施例では余裕をもって２０枚で循環させた。
【００２３】そして、図２に示す通常運転の状態から、
基板供給手段３０と基板受取手段４０の作動を停止し
た。次いで、焼成炉本体１０の入口１１手前でセッター
Ｓの搬送を止め、循環中のセッターＳをコンベアＣ6 か
らコンベアＣ1 に渡って順番に詰めて停止させた。これ
により、図３に示すように、２０枚のセッターＳをセッ
ター搬送コンベア２０上に全て退避させることができ
た。また、セッター搬送コンベア２０には、まだ９枚分
の余裕があった。
基板供給手段３０と基板受取手段４０の作動を停止し
た。次いで、焼成炉本体１０の入口１１手前でセッター
Ｓの搬送を止め、循環中のセッターＳをコンベアＣ6 か
らコンベアＣ1 に渡って順番に詰めて停止させた。これ
により、図３に示すように、２０枚のセッターＳをセッ
ター搬送コンベア２０上に全て退避させることができ
た。また、セッター搬送コンベア２０には、まだ９枚分
の余裕があった。
【００２４】
【発明の効果】本発明の焼成装置は、耐熱性のセッター
にガラス基板を載せた状態で搬送しながらガラス基板の
焼成を行う焼成炉本体と、焼成炉本体の入口と出口を接
続するように配設されたセッター搬送コンベアと、セッ
ター搬送コンベアの途中で焼成前のガラス基板をセッタ
ー上に載置する基板供給手段及び焼成後のガラス基板を
セッター上から移載する基板受取手段とを備え、セッタ
ー搬送コンベアが少なくとも焼成炉本体の加熱部手前か
らセッターを停止させる機構を有し、かつ焼成炉本体の
加熱部手前で停止させられるセッターの枚数が焼成炉本
体の加熱部内に入り得るセッター枚数以上であるととも
に、セッター搬送コンベアの少なくとも一部の速度設定
が可変であることを特徴としているので、セッターへの
基板移載システムが故障した場合などに、切れ目なく循
環するセッターを焼成炉本体の加熱部を避けて全て退避
させることができる。
にガラス基板を載せた状態で搬送しながらガラス基板の
焼成を行う焼成炉本体と、焼成炉本体の入口と出口を接
続するように配設されたセッター搬送コンベアと、セッ
ター搬送コンベアの途中で焼成前のガラス基板をセッタ
ー上に載置する基板供給手段及び焼成後のガラス基板を
セッター上から移載する基板受取手段とを備え、セッタ
ー搬送コンベアが少なくとも焼成炉本体の加熱部手前か
らセッターを停止させる機構を有し、かつ焼成炉本体の
加熱部手前で停止させられるセッターの枚数が焼成炉本
体の加熱部内に入り得るセッター枚数以上であるととも
に、セッター搬送コンベアの少なくとも一部の速度設定
が可変であることを特徴としているので、セッターへの
基板移載システムが故障した場合などに、切れ目なく循
環するセッターを焼成炉本体の加熱部を避けて全て退避
させることができる。
【図１】従来の焼成装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る焼成装置の一例を平面的に示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図３】図２に示す焼成装置にてセッターを焼成炉本体
から退避させた状態を示す説明図である。
から退避させた状態を示す説明図である。
【図４】図２に示す焼成装置にてセッターを焼成炉本体
から退避させた状態を示す説明図である。
から退避させた状態を示す説明図である。
【図５】焼成炉本体を２階建てとした焼成装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
Ｇ ガラス基板
Ｓ セッター
１ 焼成炉本体
２ リフターコンベア
３ 入口コンベア
４ リフターコンベア
５ 出口コンベア
１０ 焼成炉本体
１１ 入口
１２ 出口
２０ セッター搬送コンベア
３０ 基板供給手段
４０ 基板受取手段
Ｃ1 〜Ｃ6 コンベア
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｚ
Ｆターム(参考） 4K050 AA04 BA17 CA07 CA09 CA13
CF01 CF11 CG08 CG29 DA01
EA03
5C012 AA09
5C040 JA21 JA31
Claims (5)
- 【請求項１】 耐熱性のセッターにガラス基板を載せた
状態で搬送しながらガラス基板の焼成を行う焼成炉本体
と、焼成炉本体の入口と出口を接続するように配設され
たセッター搬送コンベアと、セッター搬送コンベアの途
中で焼成前のガラス基板をセッター上に載置する基板供
給手段及び焼成後のガラス基板をセッター上から移載す
る基板受取手段とを備え、セッター搬送コンベアが少な
くとも焼成炉本体の加熱部手前からセッターを停止させ
る機構を有し、かつ停止させられるセッターの枚数が焼
成炉本体の加熱部内に入り得るセッターの枚数以上であ
るとともに、セッター搬送コンベアの少なくとも一部の
速度設定が可変であることを特徴とする焼成装置。 - 【請求項２】 セッターを停止させる機構は、焼成炉本
体の加熱部手前の位置からガラス基板をセッターから移
載する位置までの間のいずれかの位置でセッターを停止
させることを特徴とする請求項１に記載の焼成装置。 - 【請求項３】 焼成炉本体の出口から入口までの搬送所
要時間を焼成時間よりも短くできることを特徴とする請
求項１乃至２に記載の焼成装置。 - 【請求項４】 基板供給手段と基板受取手段の間にセッ
タークリーナーを設けたことを特徴とする請求項１乃至
３に記載の焼成装置。 - 【請求項５】 焼成炉本体及びセッター搬送コンベアの
一部が２階建て構造になっていることを特徴とする請求
項１乃至４に記載の焼成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001350922A JP2003148869A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 焼成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001350922A JP2003148869A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 焼成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003148869A true JP2003148869A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19163318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001350922A Pending JP2003148869A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | 焼成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003148869A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103808138A (zh) * | 2012-11-06 | 2014-05-21 | 贵阳铝镁设计研究院有限公司 | 实现窑车在装卸轨上双向步进的方法及装置 |
| CN107202491A (zh) * | 2017-07-10 | 2017-09-26 | 李观德 | 一种双层式垃圾热解隧道窑 |
| JP7498841B1 (ja) | 2023-11-10 | 2024-06-12 | 日本碍子株式会社 | 熱処理システム |
-
2001
- 2001-11-16 JP JP2001350922A patent/JP2003148869A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103808138A (zh) * | 2012-11-06 | 2014-05-21 | 贵阳铝镁设计研究院有限公司 | 实现窑车在装卸轨上双向步进的方法及装置 |
| CN107202491A (zh) * | 2017-07-10 | 2017-09-26 | 李观德 | 一种双层式垃圾热解隧道窑 |
| JP7498841B1 (ja) | 2023-11-10 | 2024-06-12 | 日本碍子株式会社 | 熱処理システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041111 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060822 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060919 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20061113 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070820 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |