KR20070120423A - 세정 롤러 - Google Patents

세정 롤러 Download PDF

Info

Publication number
KR20070120423A
KR20070120423A KR1020070047376A KR20070047376A KR20070120423A KR 20070120423 A KR20070120423 A KR 20070120423A KR 1020070047376 A KR1020070047376 A KR 1020070047376A KR 20070047376 A KR20070047376 A KR 20070047376A KR 20070120423 A KR20070120423 A KR 20070120423A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roller body
cleaning
roller
injection holes
cleaning liquid
Prior art date
Application number
KR1020070047376A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100889455B1 (ko
Inventor
후토시 시마이
시게루 가와타
Original Assignee
도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 filed Critical 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20070120423A publication Critical patent/KR20070120423A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100889455B1 publication Critical patent/KR100889455B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes

Abstract

과제
오염된 세정액이 기판 상에 체류하지 않아, 세정 효과가 한층 개선된 세정 브러시를 제공한다.
해결수단
본 발명에 의한 세정 롤러는 롤러 본체(10)을 갖고, 롤러 본체의 외주면에 브러시모(15)를 심어 설치한다. 롤러 본체는 세정액의 유로를 구성하는 내부 공간을 갖고, 해당 내부 공간은 커플링(12b)를 매개로 세정액 공급 도관(14)에 접속한다. 롤러 본체(10)에는 상기 내부 공간과 연통(連通)되어 세정액을 분사시키는 복수의 분사공(噴射孔)(16)을 롤러 본체의 축선(軸線)을 따라 나선상으로 형성한다.
세정액, 세정 브러시, 브러시모, 롤러 본체, 세정액 공급 도관, 분사공

Description

세정 롤러{Cleaning roller}
도 1은 본 발명에 의한 세정 롤러를 사용하는 세정공정의 일례를 나타내는 선도(線圖)이다.
도 2는 본 발명에 의한 세정 롤러의 일례를 나타내는 선도적 평면도이다.
도 3은 도 2에 나타내는 세정 롤러의 축선(軸線)을 포함하는 면에서 잘라 나타내는 선도적 단면도이다.
부호의 설명
1 유리 기판
2 반송 롤러
3a~3d 세정 롤러
10 롤러 본체
11a, 11b 베어링
12a, 12b 커플링(coupling)
13 모터
14 도관(導管)
15 브러시모
16 분사공(噴射孔)
본 발명은 유리 기판이나 반도체 기판 등의 각종 기판의 표면을 세정하는 세정공정에서 사용되는 세정 롤러에 관한 것이다.
액정용 유리 기판이나 반도체 기판은 현상처리 등의 각종 처리가 행해진 후, 순수 등의 세정액을 사용하여 세정처리가 행해지고 있다. 이 세정공정에 있어서는 다수의 브러시모가 심겨 설치되어 있는 세정 브러시가 사용되고, 세정액을 분사하면서 브러시모의 쓸어내는 작용을 이용하여 세정이 행해지고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
[특허문헌 1] 일본국 특허공개 제2001-204052호 공보
상기 특허문헌에 기재된 세정 브러시에서는, 세정액을 분사시키는 유체 출구가 원주상(圓周狀)으로 배열되어 있기 때문에, 세정 브러시로부터 출사(出射)된 세정액이 기판 표면 상에 체류되어 버려, 현상제 등의 세정되어야 할 물질에 의해 오염된 세정액이 기판 표면 상에 잔존하는 문제가 발생하고 있었다. 또한, 세정 브러시로부터 분사되는 세정액은, 기판 상에 있어서 줄무늬상으로 공급되기 때문에, 주행하는 기판에 대해 세정 얼룩이 발생하는 문제도 발생하고 있었다.
본 발명의 목적은 오염된 세정액이 기판 상에 체류되지 않아, 세정 효과가 한층 개선된 세정 롤러를 제공하는 것에 있다.
본 발명에 의한 세정 롤러는 세정액의 유로를 구성하는 내부 공간을 갖는 중공(中空) 원통상의 롤러 본체와, 롤러 본체의 외주면에 설치한 브러시모, 상기 롤러 본체를 세정액 공급 도관에 회전 자유자재로 연결하는 연결부재를 갖고,
상기 롤러 본체의 내부 공간은 상기 세정액 공급 도관에 접속되며,
상기 롤러 본체에는 상기 내부 공간과 연통(連通)되어 세정액을 분사시키는 복수의 분사공이, 롤러 본체의 축선을 따라 나선상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 세정 롤러에 있어서는, 세정액을 분사하는 분사공이 롤러 축선을 따라 나선상으로 형성되어 있기 때문에, 세정 롤러로부터 분사된 세정액은 기판 상에 잔존하는 오염된 세정액을 후방이 아니라, 비스듬히 측방으로 밀어내도록 작용한다. 이 결과, 기판 상에 잔존하는 오염된 세정액은 신속하게 기판 표면으로부터 제거되어, 오염된 세정액이 기판 상에 체류되는 문제가 해소된다.
또한, 기판에 대해 세정액이 줄무늬상으로 분사되는 것이 아니라, 기판 전면을 향해 균일하게 세정액이 분사되기 때문에, 세정 얼룩이 발생하는 문제도 해소된다.
본 발명에 의한 세정 롤러의 적합한 실시예는, 브러시모는 인접하는 분사공 사이에, 분사공이 형성되어 있는 나선의 피치와 동일한 피치로 나선상으로 심겨 설치되어 있는 것을 특징으로 한다. 브러시모 및 분사공이 모두 동일한 나선 피치로 형성됨으로써, 오염된 세정액을 기판의 측방으로 밀어내는 작용이 한층 효과적으로 된다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
도 1은 본 발명에 의한 세정 롤러를 사용하여 각종 처리 후의 유리 기판을 세정하는 세정공정의 일례를 나타내는 선도이다. 세정해야 할 유리 기판(1)은 반송 롤러(2)에 의해 일정한 반송속도로 화살표방향으로 반송된다. 반송 중의 유리 기판(1)을 끼워 상하로 한쌍의 세정 롤러를 2열 배치한다. 각 세정 롤러(3a, 3b, 3c, 3d)는 상하방향으로 이동 가능하게 취부(取付)되어, 각 세정 롤러의 브러시모의 유리 기판에 대해 밀어넣는 양이 제어된다. 또한, 각 세정 브러시의 회전방향은 시계방향으로, 즉 유리 기판의 반송방향과 반대방향으로 설정한다. 세정 롤러(3a, 3b, 3c, 3d)는 브러시모가 유리 기판(1)의 표면에 맞닿아, 그 쓸어내는 힘에 의해 유리 기판을 세정하는 동시에, 세정 롤러로부터 유리 기판을 향해 세정액을 분사하여 유리 기판의 표면을 세정한다. 따라서, 유리 기판(1)은 반송 중에 브러시모에 의한 기계적인 쓸어내는 힘에 의해 세정되는 동시에 분사되는 세정액의 세정력에 의해 세정된다.
도 2 및 도 3은 본 발명에 의한 세정 롤러의 일례를 나타내는 것으로, 도 2는 선도적 외관도 및 도 3은 롤러 축선을 포함하는 면에서 잘라 나타내는 선도적 단면도이다.
본 발명에 의한 세정 롤러는 중공상의 롤러 본체(10)을 갖고, 롤러 본체(10)의 양끝은 베어링(11a, 11b)에 의해 회전 자유자재로 지지한다. 베어링(11a)가 연결되어 있는 한쪽은 커플링(12a)를 매개로 모터(13)에 연결한다. 또한, 롤러 본체 의 다른 쪽은 별도의 커플링(12b)를 매개로 세정액 공급 도관(14)에 회전 자유자재로 연결한다. 또한, 롤러 본체(10)의 한 끝쪽은 실링부재(12)에 의해 실링한다. 세정액 공급 도관(14)는 세정액 탱크(도시하지 않음)에 접속되어, 롤러 본체(10)의 내부 공간 내에 세정액을 공급한다.
롤러 본체(10)의 외주면에는 예를 들면 나일론제의 브러시모(15)를 축선방향을 따라 나선상으로 열상(列狀)으로 심어 설치한다. 이 브러시모의 열(列)은 브러시모를 금속 고정구에 심어 설치하고, 해당 금속 고정구를 샤프트 외주면에 나선상으로 장착함으로써 열상으로 배열할 수 있다.
롤러 본체(10)에는 세정액을 분사시키기 위한 다수의 분사공(16)을 나선상으로 형성한다. 분사공 열의 나선 피치는 브러시모 열의 나선 피치와 동일한 피치로 설정하고, 인접하는 브러시모 열 사이에 브러시모와 서로 겹치지 않도록 형성한다.
유리 기판은 브러시 롤러(3a~3d)를 통과할 때, 상하방향으로부터 세정 롤러에 의한 세정작용을 받아, 브러시모에 의한 기계적인 쓸어내는 작용 및 세정 롤러로부터 분사되는 세정액의 세정작용에 의해 유리 기판의 표면에 잔존하는 잔액이 제거된다. 동시에, 세정 롤러는 유리 기판의 방송방향과 반대방향으로 회전하기 때문에, 유리 기판 상에 잔존하는 오염된 세정액은 유리 기판의 비스듬히 측방으로 밀어내어져, 오염된 세정액이 기판 상에 체류되는 문제가 방지된다.
본 발명에 의한 세정 롤러는 기판 상에 잔존하는 잔액을 쓸어내는 브러시모 및 세정액을 분사하는 분사공이 모두 나선상으로 형성되어 있기 때문에, 오염된 세 정액이 기판 상에 체류되는 문제가 해소된다. 또한, 기판의 전면에 세정액이 균일하게 분사되기 때문에, 세정 얼룩의 발생이 방지된다.

Claims (2)

  1. 세정액의 유로를 구성하는 내부 공간을 갖는 중공 원통상의 롤러 본체와, 롤러 본체의 외주면에 설치한 브러시모, 상기 롤러 본체를 세정액 공급 도관에 회전 자유자재로 연결하는 연결부재를 갖고,
    상기 롤러 본체의 내부 공간은 상기 세정액 공급 도관에 연통되며,
    상기 롤러 본체에는 상기 내부 공간과 연통되어 세정액을 분사시키는 복수의 분사공이, 롤러 본체의 축선을 따라 나선상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 롤러.
  2. 제1항의 세정 롤러에 있어서, 상기 브러시모는 롤러 축선방향에 있어서 인접하는 분사공 사이에, 분사공이 형성되어 있는 나선의 피치와 동일한 피치로 나선상으로 심겨 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 세정 롤러.
KR1020070047376A 2006-06-19 2007-05-16 세정 롤러 KR100889455B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-00168613 2006-06-19
JP2006168613A JP4805033B2 (ja) 2006-06-19 2006-06-19 洗浄ローラ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070120423A true KR20070120423A (ko) 2007-12-24
KR100889455B1 KR100889455B1 (ko) 2009-03-17

Family

ID=38934946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070047376A KR100889455B1 (ko) 2006-06-19 2007-05-16 세정 롤러

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4805033B2 (ko)
KR (1) KR100889455B1 (ko)
CN (1) CN100496332C (ko)
TW (1) TW200800069A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101318533B1 (ko) * 2012-08-16 2013-10-16 주식회사 케이씨텍 기판 세정 장치

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI594811B (zh) * 2010-05-19 2017-08-11 湯瑪士衛斯特公司 用於擦洗基材的裝置與方法
CN102755980A (zh) * 2011-04-25 2012-10-31 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆清洗刷和晶圆清洗装置
KR101203652B1 (ko) 2011-06-16 2012-11-23 주식회사 포스코 브러쉬 롤의 세정건조장치
CN103894354B (zh) * 2012-12-27 2017-02-08 北京汉能创昱科技有限公司 一种基板清洗装置
KR101590863B1 (ko) * 2014-03-03 2016-02-18 주식회사 한길이에스티 인쇄회로기판 세척기
CN104043604A (zh) * 2014-06-26 2014-09-17 深圳市华星光电技术有限公司 清洁刷结构
CN104117517A (zh) * 2014-06-26 2014-10-29 苏州一合光学有限公司 玻璃风刀清洗机的滚刷辊结构
CN106733795A (zh) * 2016-12-26 2017-05-31 重庆荣易达铝业有限公司 清除缸盖孔道金属屑的方法
CN107051930A (zh) * 2016-12-26 2017-08-18 重庆荣易达铝业有限公司 缸盖弯孔清洗装置
CN108638944A (zh) * 2018-03-26 2018-10-12 合肥市富园汽车改装有限公司 一种户外宣传车显示屏清灰装置
CN109037116B (zh) * 2018-08-31 2021-05-28 上海华力微电子有限公司 晶圆清洗装置
CN110664106A (zh) * 2019-09-12 2020-01-10 安徽名扬刷业有限公司 一种清洗机用毛辊刷
CN111014123B (zh) * 2019-11-22 2021-07-13 沈阳丰晟电力设备有限公司 一种波纹油箱波纹片清理装置
CN111851374B (zh) * 2020-07-22 2022-06-07 山东城邦建设有限公司 一种市政环保用道路中间防护栏清洁机构
CN112007882A (zh) * 2020-08-26 2020-12-01 安徽普冈电子材料有限公司 一种腐蚀箔高效清洗装置
CN113208265A (zh) * 2020-12-08 2021-08-06 安徽立森刷业有限公司 Tft-lcd显示屏生产中用清洗毛刷辊及其制作方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774132A (ja) * 1993-09-06 1995-03-17 Fujitsu Ltd ブラシスクラバとブラシスクラブ方法
JP2000015190A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板洗浄方法及び装置
JP2000202379A (ja) * 1999-01-14 2000-07-25 Nikon Corp ネジ穴洗浄装置および部品の洗浄方法
KR100685919B1 (ko) * 2000-12-29 2007-02-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 세정 장치
KR20040104062A (ko) * 2003-06-03 2004-12-10 삼성전자주식회사 웨이퍼 세정 장치
JP2005138053A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Sumitomo Precision Prod Co Ltd 基板洗浄装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101318533B1 (ko) * 2012-08-16 2013-10-16 주식회사 케이씨텍 기판 세정 장치

Also Published As

Publication number Publication date
CN101091604A (zh) 2007-12-26
CN100496332C (zh) 2009-06-10
JP2007335796A (ja) 2007-12-27
TWI327897B (ko) 2010-08-01
TW200800069A (en) 2008-01-01
JP4805033B2 (ja) 2011-11-02
KR100889455B1 (ko) 2009-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100889455B1 (ko) 세정 롤러
CN109037116B (zh) 晶圆清洗装置
KR100890503B1 (ko) 예비 토출장치
JP2010099579A (ja) ブラシロール及び洗浄装置
KR20140121303A (ko) 신선공정용 와이어의 클리닝 장치
JP4760791B2 (ja) ロールブラシ及び基板の液処理装置
JP2010253425A (ja) 回転式洗浄ヘッド、管路内面の洗浄装置及び洗浄方法
KR20190044165A (ko) 벨트 컨베이어용 크리너장치
JP2003259850A (ja) 根菜類洗浄装置
JP2008140928A (ja) 洗浄装置
KR101418360B1 (ko) 비접촉식 기판세정장치
JPH10337543A (ja) 洗浄処理装置
KR100390661B1 (ko) 유체분사장치 및 이를 갖는 세정장치
JP7216999B2 (ja) 回転式噴射器具と回転式噴射器具集合体と流体噴射装置と噴射式清浄処理方法
CN218677069U (zh) 一种晶圆清洗装置
KR0130743Y1 (ko) 기판 세정장치
KR20150060064A (ko) 기판 이송 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
JP2003181402A (ja) 長尺配管の内周面洗浄装置
CN215964373U (zh) 刷胶器清洗装置
US20050011535A1 (en) Cleaning semiconductor wafers
KR101600774B1 (ko) 브러쉬 세정 장치
JP2007125531A (ja) 洗浄装置
TW201733692A (zh) 清洗機構
KR20140005890U (ko) 식판 세척장치의 세척브러쉬 구조
KR101515220B1 (ko) 박스 와싱 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130227

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140220

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150224

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160218

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170220

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180219

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200218

Year of fee payment: 12