TW201733692A - 清洗機構 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種清洗機構,該清洗機構包括一操作腔室以及至少一模刷。該操作腔室,用於容置至少一基板以執行溼式製程。該至少一模刷,設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板進行清洗程序。該模刷包括一主軸、複數刷毛以及複數主貫孔。該主軸以該主軸的一長軸為中心進行旋轉。該複數刷毛,設置於該主軸,用於對該操作腔室內部的該至少一基板進行物理清潔。該複數主貫孔,與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。在刷毛進行清洗程序時可以藉由該清潔物質避免髒污附著到刷毛上。

Description

清洗機構
本發明關於一種清洗機構,一種特別適用於溼式製程的清洗機構,尤其是用於面板產業。
在面板產業中,溼式製程發展的已經相當成熟。然而,受限於現有的機構設計,在實際操作中仍存在許多問題,如維修空間不足、耗液量大、均勻性不佳、漏液以及感測器作動異常。
現有技術中,溼式製程的刷毛很容易沾附髒汙,進而縮短刷毛的使用壽命,因此增加更換的人力以及成本。
因此,有必要提供一種清洗機構,以解決上述之問題。
有鑑於此,本發明目的在於提供一種清洗機構,其具有改善上述之問題的功效。
為達成上述目的,本發明提供一種清洗機構,該清洗機構包括一操作腔室以及至少一模刷。
該操作腔室,用於容置至少一基板以執行溼式製程。該模刷,設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板上進行清洗程序。該至少一模刷包括一主軸、複數刷毛以及複數主貫孔。該主軸以該主軸的一長軸 為中心進行旋轉。該複數刷毛,設置於該主軸,用於對該操作腔室內部的該至少一基板上進行物理清潔。該複數主貫孔,與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。
在一較佳實施例中,該主軸還包括一沿著該長軸的該延伸方向之管線。
在一較佳實施例中,該複數主貫孔與該管線連通,該管線用於輸送清潔物質,進而通過該複數主貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室內的該至少一基板上以進行化學清潔。
在一較佳實施例中,每一該複數刷毛還形成一刷毛貫孔,每一該刷毛貫孔與該管線連通,以通過每一該複數刷毛貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室內部的該至少一基板上。
在一較佳實施例中,該複數刷毛與該複數主貫孔配置在該主軸的外表面上的數量比為5:1~10:1。
為達成上述目的,本發明提供一種清洗機構,特別適用於溼式製程,該清洗機構包括一操作腔室以及至少一模刷。
該操作腔室,用於容置至少一基板以執行溼式製程。該至少一模刷,設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板進行清洗程序。該至少一模刷包括一主軸以及複數刷毛。該主軸以該主軸的一長軸為中心進行旋轉。該複數刷毛,設置於該主軸,用於對該操作腔室內部的該至少一基板進行物理清潔。每一該複數刷毛還形成一刷毛貫孔。
在一較佳實施例中,該主軸還包括一沿著該長軸的該延伸方向之管線,該複數刷毛貫孔與該管線連通,以通過每一該刷毛貫孔噴灑清 潔物質至該操作腔室內部的該至少一基板。
在一較佳實施例中,該模刷還包括複數主貫孔,與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。
在一較佳實施例中,該複數主貫孔與該管線連通,以便通過該複數主貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室內部的該至少一基板上。
在一較佳實施例中,該複數刷毛與該複數主貫孔配置在該主軸的外表面上的數量比為5:1~10:1。
相較於先前技術,本發明中通過在刷毛上設置貫孔,讓具有特定壓力的物質可以通過該貫孔,在刷毛清潔基板時可以藉由該清潔物質避免髒污附著到刷毛上,進而解決先前技術存在的技術問題。
100‧‧‧清洗機構
110‧‧‧操作腔室
120‧‧‧模刷
121‧‧‧主軸
122‧‧‧刷毛
123‧‧‧管線
124‧‧‧主貫孔
125‧‧‧刷毛貫孔
1204‧‧‧延伸方向
1205‧‧‧長軸
A‧‧‧部位
第1圖,繪示本發明的清洗機構之示意圖;第2圖,繪示第1圖標示的部位A的第一較佳實施例的局部放大示意圖;第3圖,繪示第1圖的部位A的第二較佳實施例的局部放大示意圖;以及第4圖,繪示第1圖的部位A的第三較佳實施例的局部放大示意圖。
以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本發明的優點和特徵以及實現這些優點和特徵的方法更加明確。但是,本發明不局限於以下所公開的實施例,本發明能夠以互不相同的各種方式實施,以下所公開的實施例僅用於使本發明的公開內容更加完整,有助於本發明所屬技術領 域的普通技術人員能夠完整地理解本發明之範疇,本發明是根據申請專利範圍而定義。在說明書全文中,相同的附圖標記表示相同的裝置元件。
參考第1-2圖。第1圖,繪示本發明的清洗機構100之示意圖。第2圖,繪示第1圖所標示的一部位A的第一較佳實施例的局部放大示意圖。該清洗機構100包括一操作腔室110、一模刷120、一清潔物質收容裝置(未圖示)、一幫浦(未圖示)。於本實施例中,並不限定該模刷120的數量,可依實際需求設置。該清洗機構100利用該模刷120清潔至少一基板(未圖示)上的髒污。該操作腔室110,用於容置該至少一基板以執行溼式製程。該至少一模刷120,設置於該操作腔室110內且用於進行清洗程序。該模刷120包括一主軸121、複數刷毛122以及複數主貫孔124。該主軸121以該主軸121的一長軸1205為中心進行旋轉。該複數刷毛122,設置於該主軸121,用於對該操作腔室110內部的該至少一基板進行物理清潔(如摩擦或撞擊)。該複數主貫孔124與該複數刷毛122沿著該長軸1205的一延伸方向1204均勻分佈地交錯配置於該主軸121的外表面上。較佳地,該複數刷毛122與該複數主貫孔124配置在該主軸121的外表面上的數量比為5:1~10:1。
詳細地,該主軸120的內部還包括一沿著該長軸1205的該延伸方向1204之管線123。該複數主貫孔124與該管線123連通,該管線123用於輸送清潔物質(如清潔液),進而通過該複數主貫孔124噴灑該清潔物質至該操作腔室110內部的該至少一基板上以進行化學清潔。在本實施例中,存放在該清潔物質收容裝置的該清潔物質是通過該幫浦的加壓而進入該管線123,再通過該複數主貫孔124噴灑出來到該操作腔室110內部的該至少一基板上,因此能夠使該複數刷毛122上充滿該清潔物質,一方面增加該模刷120 清潔該至少一基板的能力,同時避免該至少一基板上的髒污附著在該複數刷毛上。因為該清潔物質可以是液體或者氣體,故,除了刷毛本身可以通過該主軸120的旋轉對該至少一基板進行物理清潔(如摩擦或撞擊);同時該清潔物質能在清潔刷毛的同時,進一步對該至少一基板提供化學清潔。
第3圖,繪示第1圖的部位A的第二較佳實施例的局部放大示意圖。本較佳實施例與第一較佳實施例的差異在於:該複數刷毛122還包括複數刷毛貫孔122,該複數刷毛貫孔122與該管線123連通,以便通過該複數刷毛貫孔122噴灑該清潔物質到該操作腔室110內部的該至少一基板上。在本較佳實施例中,該複數刷毛貫孔122的方向為與該複數刷毛122的長邊平行,但是在其他實施例中,可以根據不同要求設置不同的方向。
第4圖,繪示第1圖的部位A的第三較佳實施例的局部放大示意圖。本較佳實施例與第二較佳實施例的差異在於:只有設置複數刷毛貫孔122。如此設計的主要用途是因應不同的清潔需要。
雖然本發明已用較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
120‧‧‧模刷
122‧‧‧刷毛
123‧‧‧管線
124‧‧‧主貫孔
A‧‧‧部位

Claims (10)

  1. 一種清洗機構,包括:一操作腔室,用於容置至少一基板以執行溼式製程;以及至少一模刷,設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板進行清洗程序,該至少一模刷包括:一主軸,以該主軸的一長軸為中心進行旋轉;複數刷毛,設置於該主軸,用於對該操作腔室內部的該至少一基板進行物理清潔;以及複數主貫孔,與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之清洗機構,其中該主軸還包括一沿著該長軸的該延伸方向之管線。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之清洗機構,其中該複數主貫孔與該管線連通,該管線用於輸送清潔物質,進而通過該複數主貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室內的該至少一基板上以進行化學清潔。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之清洗機構,其中每一該複數刷毛還形成一刷毛貫孔,每一該刷毛貫孔與該管線連通,以通過每一該刷毛貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室的該至少一基板上。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之清洗機構,其中該複數刷毛與該複數主貫孔配置在該主軸的外表面上的數量比為5:1~10:1。
  6. 一種清洗機構,包括:一操作腔室,用於容置至少一基板以執行溼式製程;以及至少一模刷,設置於該操作腔室內且用於對該至少一基板進行清洗程序,該至少一模刷包括:一主軸,以該主軸的一長軸為中心進行旋轉;以及複數刷毛,設置於該主軸,用於對該操作腔室內部的該至少一基板進行物理清潔;其中每一該複數刷毛還形成一刷毛貫孔。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之清洗機構,其中該主軸還包括一沿著該長軸的該延伸方向之管線,該刷毛貫孔與該管線連通,以通過每一該刷毛 貫孔噴灑清潔物質該操作腔室內部的該至少一基板上。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之清洗機構,其中該模刷還包括複數主貫孔,與該複數刷毛沿著該長軸的一延伸方向交錯配置於該主軸的外表面上。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之清洗機構,其中該複數主貫孔與該管線連通,以便通過該複數主貫孔噴灑該清潔物質至該操作腔室內的該至少一基板上。
  10. 如申請專利範圍第6項所述之清洗機構,其中該複數刷毛與該複數主貫孔配置在該主軸的外表面上的數量比為5:1~10:1。
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