KR20140032842A - 처리액 도포 장치 - Google Patents
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Abstract
처리액 도포 장치는 기판으로 도포하기 위한 처리액을 토출하는 토출구가 형성되는 도포 노즐; 및 상기 토출구에서 토출되는 처리액을 균일화하기 위한 프라이밍 유닛을 포함하고, 상기 프라이밍 유닛은 세정액을 수용하는 세정조; 상기 토출구로부터 토출된 처리액이 부착되는 외주면을 가짐과 아울러 일부는 상기 세정액에 침지되도록 구비되는 프라이밍 롤러; 및 상기 프라이밍 롤러와 근접하는 위치에서 상기 프라이밍 롤러로 에어를 분사하여 상기 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 상기 세정액 및 상기 처리액을 제거하도록 구비되는 분사부를 포함할 수 있다.
Description
본 발명은 처리액 도포 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 도포 노즐의 토출구에서 토출되는 처리액을 균일화하기 위한 프라이밍 유닛을 구비하는 처리액 도포 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 소자의 제조 공정 중 포토리소그라피 공정에서는 기판에 형성된 박막에 감광액을 도포하는 도포 공정을 수행한다. 언급한 도포 공정에서는 스테이지에 놓여진 기판 상에 감광액을 토출하는 도포 노즐을 구비하는 도포 장치를 사용한다. 특히, 언급한 도포 장치를 사용한 도포 공정에서는 기판에 감광액을 토출하기 이전에 도포 노즐의 토출구로부터 감광액을 균일하게 토출되도록 도포 노즐의 프라이밍 세정을 수행한다.
언급한 도포 노즐의 프라이밍 세정에 대한 일 예는 본 출원인이 발명하여 대한민국 특허청에 2009년 11월 26일자로 출원한 특허출원 제2009-0115406호 등을 들 수 있다.
그리고 언급한 도포 노즐의 프라이밍 세정시 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 세정액 및 감광액을 제거해야 한다. 이는, 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 세정액 및 감광액을 제거하지 않으면 도포 노즐의 프라이밍 세정이 원활하게 이루어지 않기 때문이다.
따라서 프라이밍 롤러의 외주면과 접촉하게 프라이밍 롤러의 일측에 구비되는 블레이드를 사용하여 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 세정액 및 감광액을 제거하고 있다.
그리고 종래에는 실리콘 러버로 이루어지는 블레이드를 사용하고 있다. 그러나 언급한 실리콘 러버로 이루어지는 블레이드의 경우 계속적으로 사용할 경우 마모로 인하여 블레이드 자체가 갈라지는 상황이 발생할 수 있고, 아울러 블레이드의 빈번한 교체를 요구한다.
이와 같이, 종래의 도포 장치는 블레이드로 인하여 공정 불량이 야기될 수 있고, 더불어 빈번한 유지 보수에 따른 생산성 저하까지도 초래할 수 있다.
본 발명의 목적은 블레이드로 인한 공정 불량을 충분하게 방지할 수 있을 뿐만 아니라 블레이드를 반영구적으로 사용할 수 있기 때문에 유지 보수에 따른 생산성의 향상을 기대할 수 있는 처리액 도포 장치를 제공하는데 있다.
언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 도포 장치는 기판으로 도포하기 위한 처리액을 토출하는 토출구가 형성되는 도포 노즐; 및 상기 토출구에서 토출되는 처리액을 균일화하기 위한 프라이밍 유닛을 포함하고, 상기 프라이밍 유닛은 세정액을 수용하는 세정조; 상기 토출구로부터 토출된 처리액이 부착되는 외주면을 가짐과 아울러 일부는 상기 세정액에 침지되도록 구비되는 프라이밍 롤러; 및 상기 프라이밍 롤러와 근접하는 위치에서 상기 프라이밍 롤러로 에어를 분사하여 상기 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 상기 세정액 및 상기 처리액을 제거하도록 구비되는 분사부를 포함할 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 도포 장치에서, 상기 분사부는 적어도 두 개가 구비될 수 있다.
본 발명의 처리액 도포 장치에 따르면, 프라이밍 롤러와 근접하는 위치에서 프라이밍 롤러로 에어를 분사함으로써 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 세정액 및 처리액을 제거할 수 있다. 즉, 본 발명에서는 에어를 사용하여 프라이밍 롤러의 처리가 가능한 것이다.
이와 같이, 본 발명의 처리액 도포 장치는 프라이밍 롤러의 세정시 비접촉 방식인 에어를 사용하기 때문에 접촉에 따른 마모로 인한 갈림 현상 등을 사전에 방지할 수 있고, 그 결과 종래와 같은 블레이드로 인한 공정 불량의 발생을 최소화할 수 있다. 또한, 본 발명의 처리액 도포 장치는 반영구적인 사용이 가능하기 때문에 블레이드의 유지 보수를 별도로 수행할 필요가 없다.
따라서 본 발명의 처리액 도포 장치를 사용할 경우 공정 불량을 최소화할 수 있음으로 인하여 집적회로 소자의 제조에 따른 신뢰도의 향상을 꾀할 수 있고, 아울러 반영구적인 사용을 통한 유지 보수를 생략할 수 있기 때문에 생산성의 향상까지도 기대할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 도포 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 처리액 도포 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 처리액 도포 장치(100)는 평판 디스플레이 소자의 제조 공정 중 포토리소그라피(photolithogrphy) 공정에 사용하는 것으로써, 특히 기판에 형성된 박막을 패턴으로 형성할 때 언급한 박막에 감광액을 도포하는 도포 공정을 수행하는 것으로 이해할 수 있다.
그리고 처리액 도포 장치(100)는 도포 노즐(11), 프라이밍 유닛 등을 포함할 수 있다.
도포 노즐(11)은 언급한 바와 같이 기판에 형성된 박막에 처리액인 감광액(이하에서는 '감광액'을 '처리액'으로 표현하기로 한다)을 도포하는 것으로써, 단부에 토출구(13)를 구비할 수 있다. 아울러, 언급한 처리액 도포 장치(100)는 도시하지는 않았지만 언급한 도포 노즐(11)로 처리액을 공급하기 위한 부재로써 처리액 공급 라인, 처리액 저장부 등을 더 구비할 수 있다. 또한, 도포 노즐(11)을 이용한 처리액의 도포시 도포 노즐(11)이 기판의 일 방향을 따라 구동해야하기 때문에 도포 노즐(11)을 구동시키기 위한 구동부 등을 더 구비할 수 있다.
이에, 언급한 처리액 도포 장치(100)는 도포 노즐(11)의 토출구(13)를 통하여 기판에 형성한 박막에 처리액을 도포할 수 있는 것이다.
프라이밍 유닛은 도포 노즐(11)로부터 처리액(13)이 균일하게 토출될 수 있도록 도포 노즐(11)을 사용하지 않을 때 도포 노즐(11)의 토출구(13)에 잔류하여 부착되는 처리액(13)을 균일화하는 부재이다. 즉, 본 발명의 처리액 도포 장치(100)를 사용한 도포 공정의 수행시 프라이밍 유닛을 사용하여 도포 노즐(11)의 토출구(13)에서 토출되는 처리액(13)을 균일하는 것이다. 다시 말해, 언급한 처리액 도포 장치(100)의 경우 프라이밍 유닛을 사용하여 도포 노즐(11)의 토출구(13)를 주기적으로 유지 보수하는 것이다.
그리고 프라이밍 유닛은 세정조(15), 프라이밍 롤러(17), 분사부(21) 등을 구비할 수 있다.
세정조(15)는 세정액(31)을 수용하는 부재이다. 여기서, 세정액(31)은 후술하는 프라이밍 롤러(17)에 흡착되어 도포 노즐(11)의 토출구(13)에서 토출되는 처리액(33)을 세정하는 것으로써, 신너 등을 포함할 수 있다.
프라이밍 롤러(17)는 도포 노즐(11)의 토출구(13)로부터 토출되는 처리액(33)이 부착되는 외주면을 가질 수 있다. 아울러, 프라이밍 롤러(17)는 그 일부가 세정조(15)에 수용된 세정액(31)에 침지되고, 나머지가 노출되도록 배치되는 구조를 갖는다. 또한, 프라이밍 롤러(17)는 회전하는 구조를 갖도록 구비되는데, 특히 일부가 세정액(31)에 침지되면서 나머지가 세정액(31)으로부터 노출되는 구조를 갖도록 구비된다. 이에, 프라이밍 롤러(17)는 세정액(31)에 침지되면서 회전에 의해 노출되어 도포 노즐(11)의 토출구(13)로부터 토출되는 처리액(31)을 세정함에 의해 도포 노즐(11)에서 토출되는 처리액(33)을 균일화할 수 있는 것이다.
그리고 본 발명의 처리액 도포 장치(100)에서, 분사부(21)는 프라이밍 롤러(17)의 외주면에 부착되는 세정액(31) 및 처리액(33)을 제거하도록 프라이밍 롤러(17)와 근접한 위치에 배치되게 구비될 수 있다. 이에, 분사부(21)는 프라이밍 롤러(17)에 직접적으로 에어의 분사가 가능하게 배치되는 것으로써, 본 발명에서는 세정조(15)로부터 프라이밍 롤러(17)를 향하도록 배치되게 구비될 수 있다. 특히, 언급한 분사부(21)는 세정액(31) 및 처리액(33)을 제거하기 위한 것으로써, 프라이밍 롤러(17)가 세정액(31)에 침지로부터 노출되는 구간에 구비될 수 있다. 이에, 본 발명에서는 프라이밍 롤러(17)가 세정액(31)으로부터 노출됨과 아울러 도포 노즐(11)을 세정하기 이전의 구간에 분사부(21)가 배치되도록 구비할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 분사부(21)를 제1 분사부(21a) 및 제2 분사부(21b)를 갖도록 구비할 수 있다. 본 발명에서는 언급한 분사부(21)를 제1 분사부(21a) 및 제2 분사부(21b)를 갖도록 한정하여 설명하지만, 분사부(21)를 적어도 두 개를 구비할 경우에는 그 개수에 한정되지는 않는다. 그리고 분사부(21)를 제1 분사부(21a) 및 제2 분사부(21b), 즉 적어도 두 개로 구비하는 것은 보다 효율적으로 프라이밍 롤러(17)의 외주면에 부착되는 세정액(31) 및 처리액(33)을 제거하기 위함이다.
언급한 바와 같이, 본 발명에서는 분사부(21)를 사용하여 프라이밍 롤러(17)로 에어를 분사함으로써 프라이밍 롤러(17)의 외주면에 부착되는 세정액(31) 및 처리액(33)을 제거할 수 있기 때문에 보다 안정적으로 도포 노즐(11)의 토출구(13)로부터 토출되는 처리액(33)을 세정할 수 있고, 그 결과 도포 노즐(11)에서 토출되는 처리액(33)을 균일화할 수 있는 것이다.
따라서 본 발명의 처리액 도포 장치(100)는 프라이밍 롤러(17)의 세정시 비접촉 방식인 에어를 사용하기 때문에 접촉에 따른 마모로 인한 갈림 현상 등을 사전에 방지할 수 있고, 그 결과 종래와 같은 블레이드로 인한 공정 불량의 발생을 최소화할 수 있다. 또한, 본 발명의 처리액 도포 장치(100)는 반영구적인 사용이 가능하기 때문에 유지 보수를 별도로 수행할 필요가 없다.
그리고 본 발명에서의 처리액 도포 장치(100)는 세정조(15)로 세정액(31)을 공급할 수 있는 공급부(23)가 구비될 수 있고, 또한 오버플로우 방식으로 세정조(15)로부터 세정액(31)을 오버플로우 방식으로 배출시킬 수 있는 오버플로우부(27)가 구비될 수 있다. 이에, 본 발명에서의 처리액 도포 장치(100)는 공급부(23)로부터 세정액(31)을 공급받을 수 있고, 오버플로우부(27)를 통하여 오버플로우 방식으로 세정액(31)을 배출시킬 수 있다. 특히, 오버플로우 방식으로 배출되는 세정액(31)은 처리액(33)이 혼합되어 있는 것으로 계속적으로 배출시켜야만 새로운 세정액(31)을 공급받을 수 있는 것이다.
언급한 본 발명의 처리액 도포 장치는 프라이밍 롤러와 근접하는 위치에서 프라이밍 롤러로 에어를 분사할 수 있는 분사부를 구비함으로써 에어를 사용하여 프라이밍 롤러의 처리가 가능하다. 이에, 프라이밍 롤러의 접촉에 따른 마모로 인한 갈림 현상 등을 사전에 방지할 수 있고, 분사부를 반영구적으로 사용할 수 있기 때문에 유지 보수를 별도로 수행할 필요가 없다.
따라서 본 발명의 처리액 도포 장치를 사용할 경우 공정 불량을 최소화할 수 있어 집적회로 소자의 제조에 따른 신뢰도의 향상을 통한 제품 경쟁력을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 반영구적인 사용으로 유지 보수를 생략할 수 있어 집적회로 소자의 제조에 따른 생산성의 향상을 통한 가격 경쟁력까지도 확보할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 도포 노즐 13 : 토출구
15 : 세정조 17 : 프라이밍 롤러
21 : 분사부 23 : 공급부
27 : 오버플로우부 31 : 세정액
33 : 처리액 100 : 처리액 도포 장치
15 : 세정조 17 : 프라이밍 롤러
21 : 분사부 23 : 공급부
27 : 오버플로우부 31 : 세정액
33 : 처리액 100 : 처리액 도포 장치
Claims (2)
- 기판으로 도포하기 위한 처리액을 토출하는 토출구가 형성되는 도포 노즐; 및
상기 토출구에서 토출되는 처리액을 균일화하기 위한 프라이밍 유닛을 포함하고,
상기 프라이밍 유닛은
세정액을 수용하는 세정조;
상기 토출구로부터 토출된 처리액이 부착되는 외주면을 가짐과 아울러 일부는 상기 세정액에 침지되도록 구비되는 프라이밍 롤러; 및
상기 프라이밍 롤러와 근접하는 위치에서 상기 프라이밍 롤러로 에어를 분사하여 상기 프라이밍 롤러의 외주면에 부착되는 상기 세정액 및 상기 처리액을 제거하도록 구비되는 분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리액 도포 장치. - 제1 항에 있어서, 상기 분사부는 적어도 두 개가 구비되는 것을 특징으로 하는 처리액 도포 장치.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160006355A (ko) * | 2014-07-08 | 2016-01-19 | 세메스 주식회사 | 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 |
| KR20170006451A (ko) * | 2015-07-08 | 2017-01-18 | 세메스 주식회사 | 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 도포 장치 |
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2012
- 2012-09-07 KR KR1020120099627A patent/KR20140032842A/ko active Search and Examination
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160006355A (ko) * | 2014-07-08 | 2016-01-19 | 세메스 주식회사 | 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 |
| KR20170006451A (ko) * | 2015-07-08 | 2017-01-18 | 세메스 주식회사 | 프라이밍 유닛 및 이를 포함하는 약액 도포 장치 |
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