KR20070112210A - 펄스된 레이저 증착 방법 - Google Patents

펄스된 레이저 증착 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20070112210A
KR20070112210A KR1020077021590A KR20077021590A KR20070112210A KR 20070112210 A KR20070112210 A KR 20070112210A KR 1020077021590 A KR1020077021590 A KR 1020077021590A KR 20077021590 A KR20077021590 A KR 20077021590A KR 20070112210 A KR20070112210 A KR 20070112210A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
laser
ablation
coating
coated
metal
Prior art date
Application number
KR1020077021590A
Other languages
English (en)
Inventor
자리 루우트투
Original Assignee
피코데온 리미티드 오와이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from FI20050216A external-priority patent/FI20050216A0/fi
Priority claimed from FI20050559A external-priority patent/FI20050559A0/fi
Priority claimed from FI20050558A external-priority patent/FI20050558A0/fi
Application filed by 피코데온 리미티드 오와이 filed Critical 피코데온 리미티드 오와이
Publication of KR20070112210A publication Critical patent/KR20070112210A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
    • A61L27/28—Materials for coating prostheses
    • A61L27/30—Inorganic materials
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L31/00—Materials for other surgical articles, e.g. stents, stent-grafts, shunts, surgical drapes, guide wires, materials for adhesion prevention, occluding devices, surgical gloves, tissue fixation devices
    • A61L31/08—Materials for coatings
    • A61L31/082—Inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
    • C04B41/4529—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied from the gas phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C23C14/0611—Diamond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
    • F16B37/00—Nuts or like thread-engaging members
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/20—Resistance against chemical, physical or biological attack
    • C04B2111/2038—Resistance against physical degradation
    • C04B2111/2069—Self cleaning materials, e.g. using lotus effect

Abstract

본 발명은 금속, 유리, 암석 또는 플라스틱의 바디를 코팅하기 위한 방법에 관한 것으로서, 상기 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되고, 또한 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 코팅을 성취하기 위하여 이동 타겟으로부터 어블레이트되는 재료 플라즈마 팬에서 시프트된다. 또한, 본 발명은 상기 방법에 의하여 제조되는 제품에 관한 것이다.
바디, 코팅, 레이저 어블레이션, 재료 플라즈마 팬, 이동 타겟

Description

펄스된 레이저 증착 방법{Pulsed laser deposition method}
본 발명은 펄스된 레이저 어블레이션 증착(PLD-Pulsed Laser Deposition) 방법에 관한 것으로, 이동하는 기판을 코팅하기 위하여 이동 타겟(moving target)의 어블레이션(ablation)에 의해 적절한 표면 질(surface qulality)을 발생시키는 것을 목표로 하는 제품에 관한 것이다.
최근 몇년 동안에 레이저 기술은 비약적으로 발전하여 왔고, 오늘날 반도체 섬유(semiconductor fibre)를 기초로 하는 레이저 시스템은, 예를 들면 콜드 어블레이션(cold ablation)에서 사용하기 위하여 허용가능한 효율(tolerable efficiency)로 제조될 수 있다. 콜드 어블레이션을 하기 위한 레이저는 피코-초(pico-second) 레이저와 펨토-초(phemto-second) 레이저를 포함한다. 예를 들면, 피코-초 레이저에서, 상기 콜드-어블레이션 범위는 100 피코-초 이하의 주기를 가지는 파장을 포함한다. 피코-초 레이저와 펨토-초 레이저는 이들의 펄스 주기와 반복 주파수(repetition frequency)가 각각 다르며, 가장 최근의 상용적인 피코-초 레이저는 1-4MHz 범위의 반복 주파수를 가지는 반면에, 펨토-초 레이저는 단지 킬로헤르츠로 측정되는 반복 주파수에서 작동된다. 최적의 경우로서, 콜드 어블레이션은 열 전달(thermal transfer)을 적절히 받는 어블레이트된(ablated) 재료 없이 재료의 어블레이션을 가능케 하며, 다시 말하면 각 펄스에 의해 어블레이트된 재료는 펄스 에너지만 받게된다는 것이다.
완전히 화이버를 기초로 하여 다이오드-펌프된(diode-pumped) 반도체 레이저이외에도, 경쟁적인 램프-펌프된(lamp-pumped) 레이저 소스가 있으며, 이 경우 레이저 빔은 먼저 화이버로 향하게 되고, 그곳으로부터 워크 사이트(work site)로 향하게 된다. 본 출원의 우선일 즈음에서의 본 출원인 정보에 따르면, 이러한 화이버를 기초로 한 레이저 시스템은, 현재에 어떠한 산업적인 스케일(industrial scale)에서도 레이저 어블레이션을 기초로 하는 제품을 제공하는 유일한 수단이다.
현재의 화이버 레이저에서의 화이버와, 그로 인하여 제한되는 빔 효과는 어블레이트될 수 있는 재료의 선택에 제한을 준다. 알루미늄은 적당한 펄스 효과를 가지고 어블레이트될 수 있는 반면에, 동, 텅스텐 등과 같이 어블레이션을 하기가 쉽지 않는 재료는 상당히 높은 펄스 효과를 요구한다.
종래기술의 두번째 특징은 레이저 빔의 스캐닝 폭(scanning width)을 포함한다. 선형 스캐닝(linear scanning)은, 전형적으로 30mm -70mm 범위의 스캐닝 라인을 발생시키면서 미러 박막 스캐너(mirror film scanner)에 일반적으로 사용되어 왔다.
본 출원인의 지식에 따르면, 콜드 어블레이션용의 공지된 펄스 레이저 장치의 효율은, 본 출원인의 우선일 즈음에서 단지 10W 정도이다. 이 경우에, 피코-초 레이저는 약 4MHz의 펄스 주파수를 성취한다. 그러나, 콜드 어블레이션용의 제 2 펄스 레이저는 단지 킬로헤르쯔로 측정되는 펄스 주파수를 성취하게 되고, 이들의 작동 속도는, 예를 들면 다양한 절단 적용에서 피코-초 레이저의 작동 속도보다 더 낮다.
특히, 코팅 적용에서 콜드 어블레이션 레이저의 성공적인 사용은, 전형적으로 적어도 10-6 대기압(atmosphere)인 높은 진공값을 항상 요구한다. 가스 상태에서 재료의 양이 많으면 많을 수록, 기판으로부터 어블레이트된 재료로 형성되는 재료 플라즈마 팬(material plasma fan)의 질은 떨어지고 악화된다. 적절한 진공 레벨에서, 이러한 재료 플라즈마 팬은 약 30mm-70mm의 높이를 가지는데, 이에 대해서는 미국 특허 제 6,372,103 호를 참조한다.
본 발명은 금속, 암석(rock), 유리, 또는 플라스틱으로 제조되는 바디(body)를 코팅하기 위한 방법에 관한 것으로서, 상기 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되고, 또한 가능한 균일한 품질을 가지는 표면을 발생시키기 위하여 이동 타겟(moving target)로 부터 어블레이트된 재료 플라즈마 팬에서 상기 바디가 시프트된다.
또한, 본 발명은 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되는 금속, 암석, 유리 또는 플라스틱으로 제조되는 바디에 관한 것으로서, 상기 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 표면을 발생시키기 위하여 이동 타켓으로부터 어블레이트된 재료 플라즈마 팬에서 시프트된다.
본 발명은, 코팅될 목적물(기판)이 이동 타켓으로부터 어블레이트되는 재료 플라즈마 팬에서 시프트된다면, 평면 또는 어떠한 3차원의 디자인을 가지는 금속, 플라스틱, 암석 또는 유리로 제조되는 바디가 균일한 품질로 코팅될 수 있다는 놀라운 관찰을 기초로 한다. 본 발명은 레이저 어블레이션을 사용하여 바디를 코팅하는 DLC 코팅, 금속 코팅 및, 금속 산화물 코팅의 증착(deposition)을 할 수 있다.
도 1은 어블레이트되는 재료상에 핫 어블레이션(hot ablation)과 콜드 어블레이션(cold ablation)의 효과를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따라서 코팅되는 다수의 의료 기구를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따라서 코팅되는 다수의 의료 기구를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따라서 코팅되는 다수의 광학 제품(optical product)을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따라서 발생되는 매트리얼 플라즈마 팬을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 코팅 방법을 도시하는 도면으로서, 재료 플라즈마 팬(17)에 대하여 코팅될 바디(기판)의 이동 방향(16)을 나타내며, 코팅될 바디와 타켓(어블레이트될 재료)사이의 거리는 70mm이며, 타겟 재료 바디 위의 레이저 빔의 조사각(angle of incidence)은 경사져 있는 것을 나타내는 도면이다.
본 발명은 금속, 유리 또는 플라스틱으로 제조되는 바디를 코팅하기 위한 방 법에 관한 것으로서, 여기에서 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되고, 또한 상기 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 표면을 발생시키기 위하여 이동 타겟으로 부터 어블레이트된 재료 플라즈마 팬에서 시프트된다.
본원에서, 바디는 다양한 평면 및 3차원 구조물을 지칭한다. 이러한 구조물은 다양한 금속 제품 및 이들의 코팅을 포함하는데, 즉 지붕용 시트(roofing sheet), 실내 장식(interior decoration), 및 빌딩 보드(building board), 몰딩 및 윈도우 프레임; 키친 싱크, 수도 꼭지(faucet), 오븐, 금속 코인(metal coin), 보석류, 공구 및 이들의 부품; 자동차 및 다른 차량의 엔진과, 이들 엔진의 부품, 자동차 및 다른 차량의 금속 도금 및 페인트된 금속 코팅; 선박, 보트 및 항공기에 사용되는 금속 도금된 바디, 비행용 터빈 및 연소 기관; 베어링; 포크, 나이프 및 스푼; 가위, 칼집에 든 나이프(sheath-knife), 회전 블레이드(rotating blade), 쏘우(saw) 및 모든 종류의 금속 도금된 커터, 스크류 및 너트; 금속도금된 리액터(reactor), 펌프, 증류관(distilling column), 컨테이너 및 프레임 구조물과 같이 화학 산업에 사용되는 금속 처리 장치; 오일, 가스 및 화학적인 파이프 및 다양한 밸브 및 제어 유닛; 오일 드릴링 리그(oiling drilling rig)에서의 부품 및 커터; 물 이송 파이프; 무기류 및 이들의 부품, 탄약 및 카트리지; 제지용 기계(paper machine)에서 마모에 노출될 부품과 같이 마모에 노출되는 금속 노즐, 즉 코팅 페이스트(coating paste)를 적용시키기 위한 수단; 플레이그라운드 토이(playground toy)에서의 스노우 스페이드(snow spade), 스페이드 및 금속 부품; 길가의 난간(roadside railing), 신호등 및 신호등 대(traffic pole); 금속 캔 및 컨테이너; 외과용 기구, 인공 관절 및 이식물 및 기구; 산화 및 다른 마모에 노출되는 전자 장치의 금속 부품, 카메라의 금속 부품 및 유리 및 플라스틱 렌즈, 마찰 및 강한 열에 견디기 위한 라이닝 해결책(lining solution)을 포함하는 우주선(spacecraft)가 있다.
본 발명에 따라서 제조되는 제품은, 부식성의 화학 합성물에 견디는 코팅 및 3차원 재료, 자체 세정 표면 및, 예를 들면 물, 용액 또는 공기의 정화에 사용되는 UV 보호 코팅 및 UV 활성 코팅과 같은 다양한 렌즈 용액에서의 반사방지 표면을 포함한다.
본 발명에 따라서, 암석 재료는 산화에 의한 마지막 코팅 제조이전에 안료(pigment) 및 색조제(colouring agent)를 첨가시킴으로써 바람직한 색으로 착색될 수 있다. 이러한 암석 제품의 착색 코팅은 본 발명에 따른 레이저 어블레이션에 의하여 이루어 질 수 있다. 또한, 자체 세정의 이산화 티탄(titanium dioxide) 코팅, 또는 산소 상태에서 금속 산화물 또는 금속을 어블레이팅함으로써 암석 재료상에 강화 및 스크래치방지(anti-scratch) 알루미늄 산화물 코팅하는 것이 가능하다. 이것은 자체 세정되고 또한 바람직하다면 조정가능한 색깔을 가지는 저항성 석재 제품(stone article)을 생산한다. 예를 들면, 사암(sandstone)은 매연(soot)에 매우 영향을 받기 쉬우며, 이러한 이유로 인하여, 특히 빌딩 정면에 사용되는 사암의 자체 세정 코팅은 매우 경제적인 효과를 가진다.
상기 암석 재료는 어떠한 자연석이 될 수 있거나, 또는 본 발명의 일 실시예에서 세라믹이 될 수 있다. 코팅될 전형적인 암석 형태는 대리석(marble) 및 사암 과 같은 건물 정면의 크래딩 석재(facade cladding stone)을 포함하지만, 이것의 방법은 화강암(granite), 편마암(gneiss), 규암(quartzite), 점토암(clay stone) 등과 같은 다른 석재(stone) 형태의 코팅에 적용가능하다.
다이아몬드 코팅은 금속의 산화를 방지하고, 또한 이들 장식품의 파괴 및 다른 작용들을 방지한다. 또한, 다이아몬드 표면은 산과 염기(base)로부터 하부층(underlying layer)를 보호한다. 본 발명의 다이아몬드 코팅은 기계적인 마모로 부터 하부층을 보호할 뿐만 아니라, 화학적인 반응으로부터도 보호한다. 다이아몬드 코팅은 금속 산화를 방지하고, 따라서 이들 장식품의 파괴 및 다른 작용들로 부터 보호한다. 몇몇 적용에서 장식적인 금속 도금이 요구된다. 본 발명에 따라서, 특히 장식용 타겟으로서 사용가능한 금속 및 금속 합성물은, 금, 은, 크롬, 플라티늄, 탄탈, 티탄, 동, 아연, 알루미늄, 철, 강철, 블랙 아연(zinc black), 블랙 루테늄(black ruthenium), 코발트, 바나듐, 티탄 나이트라이드(titanium nitride), 티탄 알루미늄 나이트라이드(titanium aluminium nitride), 티탄 카본 나이트라이드(titanium carbon nitride), 지르코늄 나이트라이드(zirconium nitride), 크롬 나이트라이드(chromium nitride), 티탄 실리콘 카바이드(titanium silicon carbide) 및 크롬 카바이드(chrome carbide)를 포함한다. 이러한 합성물들은 물론 다른 성질을 자연적으로 발생시키는데, 마모 방지 코팅 또는, 예를 들면 산화 또는 다른 화학적인 반응에 대한 실드(shield)를 제공하는 코팅을 발생시킨다.
또한, 본 발명의 몇몇 양호한 실시예는, 다양한 유리 및 플라스틱 제품(렌즈, 큰 디스플레이 실드, 차량의 창유리 및 실제 그 성질, 연구실 및 가정용 유리) 에서 강성의(hard) 스크래치가 없는 표면의 제조를 할 수 있게 한다. 본원에서, 특히 양호한 광학 코팅은 MgF2, SiO2, TiO2, Al2O3를 포함한다.
본 발명의 특히 양호한 실시예에서, 코팅은 펄스된 레이저를 가진 레이저 어블레이션의 수단에 의하여 수행된다. 상기 레이저 어블레이션용으로 사용되는 레이저 장치는, 양호하게는 피코-초 레이저와 같은 콜드-어블레이션 레이저를 포함한다.
또한, 상기 장치는 펨토-초 레이저를 포함할 수 있지만, 피코-초 레이저가 코팅을 위해서는 보다 양호하게 사용된다.
상기 코팅은 10-6-10-12 대기압의 진공하에서 수행되는 것이 양호하다.
본 발명의 양호한 실시예에서, 상기 코팅은 2개의 재료 플라즈마 팬에 의해서 연속적으로 코팅될 바디를 통과시킴으로써 수행된다. 이것은 코팅 속도를 증가시키고, 산업 적용에 보다 적합한 코팅 프로세스를 가져온다. 코팅될 구조물과 타겟사이의 전형적인 거리는 30mm-100mm, 양호하게는 35mm-50mm이다.
본 발명의 특히 양호한 실시예에서, 타겟과 코팅될 바디사이의 거리는 전체 어블레이션 주기에 걸쳐서 거의 일정하게 유지된다.
특히 양호한 타겟 재료는, 그래파이트(graphite), 소결된 카본(sintered carbon), 금속, 금속 산화물 및 폴리실록산(polysiloxane)을 포함한다. 그래파이트 또는 카본의 어블레이션은, 다이아몬드-형 카본(diamond-like carbon)(DLC) 코팅 또는 보다 높은 sp3/sp2 비를 가지는 다이아몬드 코팅의 제조를 허용한다.
타겟 재료가 금속이라면, 상기 금속은 양호하게는 알루니늄, 티탄, 동, 아연, 크롬, 지르코늄 또는 주석이다.
금속 산화물 코팅을 발생시키는 것이 양호하다면, 이것은 금속 산화물의 직접적인 어블레이션에 의하여 이루어질 수 있다. 본 발명의 제 2 실시예에서, 금속 산화물 코팅은 산소를 포함하는 가스 분위기에서 금속을 어블레이팅시킴으로써 제조될 수 있다. 상기 산소는 통상의 산소 또는 활성 산소(reactive oxygen)로 구성될 수 있다. 본 발명의 이러한 실시예에서, 상기 가스 분위기는 산소 및, 양호하게는 헬륨 또는 아르곤, 가장 양호하게는 헬륨인 희가스(rare gas)로 이루어진다.
또한, 본 발명은 금속, 플라스틱 또는 유리로 제조되는 바디에 관한 것이고, 상기 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되며, 또한 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 코팅을 성취하기 위하여 이동 타겟으로 부터 어블레이트되는 재료 플라즈마 팬에서 시프트된다.
이러한 바디는 펄스된 레이저를 가진 레이저 어블레이션을 수행함으로써 코팅된다. 그 다음, 어블레이션을 위하여 사용되는 레이저 장치는 피코-초 레이저와같은 콜드-어블레이션 레이저가 양호하다.
본 발명의 바디는 양호하게는 10-6-10-12 대기압의 진공하에서 코팅된다.
본 발명의 또다른 양호한 실시예에서, 상기 바디는 2개 이상의 재료 플라즈마 팬에 의하여 코팅될 플라스틱 케이싱 및/또는 렌즈를 연속적으로 통과시킴으로써 코팅된다. 코팅될 구조물과 타겟사이의 전형적인 거리는 30mm-100mm, 양호하게 는 35mm-50mm이다.
본 발명의 특히 양호한 실시예에서, 상기 바디는 전체 어블레이션 주기에 걸쳐서 거의 일정하게 유지되는 상기 타겟과 코팅될 구조물사이의 거리로 코팅된다. 다수의 양호한 타겟 재료는 그래파이트, 소결된 카본, 금속, 금속 산화물 및 폴리실록산을 포함한다. 양호한 금속은 알루미늄, 티탄, 동, 아연, 크롬, 지르코늄 또는 주석을 포함한다.
상기 바디는 산소가 도입되는 가스 분위기에서 금속을 어블레이팅시킴으로써 산화층으로 코팅될 수 있다. 이러한 가스 분위기는 산소 및, 양호하게는 헬륨 또는 아르곤, 가장 양호하게는 헬륨인 희가스로 구성된다.
실시예
본 발명의 방법 및 제품은 주어진 실시예로 본 발명을 제한하지 않고서 아래와 같이 기재된다. 코팅은 코러레이즈 오와이(Corelase Oy)에 의해서 제조된 X-레이즈 10W 피코-초 레이저와, 코러레이즈 오와이에 의해서 제조된 X-레이즈 10W 피코-초 레이저 양쪽을 사용하여서 이루어진다. 펄스 에너지는 1 입방 센티미터의 면적으로 입사되는 펄스 에너지를 나타내고, 이것은 광학 수단에 의하여 바람직한 크기의 영역에 포커스된다.
실시예 1
이 실시예에서, 폴리카보네이트 플레이트는(소결된 카본의) 다이아몬드 코팅으로 피복되었다. 레이저 장치는 다음과 같은 성능의 인자를 가진다.
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 35mm
진공 레벨: 10-7
이렇게해서, 폴리카보네이트 플레이트는 대략 200nm의 두께를 가지는 DLC 코팅으로 피복된다.
실시예 2
이 실시예에서, 로스터(roster)로 제조되는 뼈 스크류(bone screw)는 티탄 코팅으로 피복되었다. 상기 레이저 장치는 다음과 같은 성능 인자를 가지고, 코팅은 소결된 카본을 어블레이팅시킴으로써 제조되었다:
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 37mm
진공 레벨: 10-8
이렇게 해서 제조된 다이아몬드 코팅(DLC)은 대략 100nm의 두께를 가진다.
실시예 3
이 실시예에서, 유리 편과 폴리카보네이트 플레이트는 이산화 티탄 코팅으로 피복되었다. 레이저 장치는 다음과 같은 성능 인자를 가진다:
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 35mm
진공 레벨: 10-8
대략 10nm의 두께를 가지는 투명한 이산화 티탄 코팅이 유리 편 및 폴리카보네이트 플레이트 양쪽상에서 형성되었다.
실시예 4
이 실시예에서, 대리석이 이산화 티탄 코팅으로 피복되었다. 레이저 장치는 다음과 같은 성능 인자를 가지고, 상기 코팅은 이산화 티탄을 직접 어블레이팅시킴으로써 형성되었다.
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 28mm
진공 레벨: 10-6
대략 100nm의 두께를 가지는 이산화 티탄 코팅이 대리석 플레이트 바디상에 형성되었다.
실시예 5
이 실시예에서, 대리석은 다이아몬드 코팅으로 피복되었다. 석재(stone)은 석재내에 포함된 대부분의 습기를 제거하기 위하여 약 1시간동안 오븐(110℃)에서 건조되었다. 레이저 장치는 다음과 같은 성능 인자를 가지며, 코팅은 소결된 카본을 직접 어블레이팅시킴으로써 형성되었다.
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 30mm
진공 레벨: 10-6
대략 200nm의 두께를 가지는 다이아몬드 코팅이 대리석 플레이트 바디상에서 형성되었다. 라이트 칼러(light colour)의 대리석은 라이트 베이지 쉐이드(light beige shade)로 변하게 됨으로써, 자연석 패턴은 채색된 코팅이 형성됨으로써 가시성으로 되었다.
실시예 6
이 실시예에서, 처리되지 않은 사암은 이산화 티탄으로 피복되었다. 레이저 장치는 다음과 같은 성능 인자를 가지고, 코팅은 이산화 티탄을 직접 어블레이팅시킴으로써 형성되었다.
전력: 10W
반복 주파수: 4MHz
펄스 에너지: 2.5μJ
펄스 주기: 20ps
타겟과 기판사이의 거리: 30mm
진공 레벨: 10-6
약 60nm의 평균두께를 가지는 이산화 티탄 코팅이 사암상에 형성되었다.

Claims (22)

  1. 금속, 유리, 암석 또는 플라스틱의 바디를 코팅하기 위한 방법에 있어서,
    상기 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되고, 상기 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 코팅을 성취하기 위하여 이동 타겟으로부터 어블레이트된 재료 플라즈마 팬에서 시프트되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 레이저 어블레이션은 펄스된 레이저를 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    어블레이션용으로 사용되는 레이저 장치는 피코-초 레이저와 같은 콜드-어블레이션 레이저인 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  4. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    레이저 어블레이션은 10-6 내지 10-12 대기압의 진공하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 코팅은 2개 이상의 재료 플라즈마 팬에 의하여 코팅될 바디를 연속적으로 통과시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    코팅될 바디와 타겟 사이의 거리는 30mm 내지 100mm, 양호하게는 35mm 내지 50mm 범위인 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  7. 청구항 1 또는 6에 있어서,
    상기 타겟과 코팅될 바디 사이의 거리는 전체 어블레이션 주기에 걸쳐서 거의 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 타겟 재료는 그래파이트, 소결된 카본, 금속, 금속 산화물 또는 폴리실록산인 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 금속은 알루미늄, 티탄, 동, 아연, 크롬, 지르코늄 또는 주석인 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  10. 청구항 1 또는 8에 있어서,
    진공 챔버의 가스 분위기내로 산소를 도입함으로써 코팅될 구조물상에 산화물 코팅이 형성되는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 가스 분위기는 산소 및, 양호하게는 헬륨 또는 아르곤, 가장 양호하게는 헬륨인 희가스(rare gas)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 코팅 방법.
  12. 금속, 유리, 또는 플라스틱 바디에 있어서,
    상기 바디는 레이저 어블레이션에 의하여 코팅되고, 또한 바디는 가능한 균일한 품질을 가지는 표면을 형성하기 위하여 이동 타겟으로부터 어블레이트되는 재료 플라즈마 팬에서 시프트되는 것을 특징으로 하는 바디.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 레이저 어블레이션은 펄스된 레이저로써 수행되는 것을 특징으로 하는 바디.
  14. 청구항 13에 있어서,
    레이저 어블레이션용으로 사용되는 레이저 장치는 피코-초 레이저와 같은 콜드-어블레이션 레이저인 것을 특징으로 하는 바디.
  15. 청구항 12 내지 14 중 어느 한 항에 있어서,
    레이저 어블레이션은 10-6 내지 10-12 대기압의 진공하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 바디.
  16. 청구항 12에 있어서,
    2개 이상의 재료 플라즈마 팬에 의하여 바디를 연속적으로 통과시킴으로써 코팅이 수행되는 것을 특징으로 하는 바디.
  17. 청구항 16에 있어서,
    바디와 타겟 사이의 거리는 30mm 내지 100mm, 양호하게는 35mm 내지 50mm인 것을 특징으로 하는 바디.
  18. 청구항 12 또는 17에 있어서,
    상기 타겟과 코팅될 바디 사이의 거리는 전체 어블레이션 주기에 걸쳐서 거의 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 바디.
  19. 청구항 12에 있어서,
    상기 타겟 재료는 그래파이트, 소결된 카본, 금속, 금속 산화물 또는 폴리실 록산인 것을 특징으로 하는 바디.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 금속은 알루미늄, 티탄, 동, 아연, 크롬, 지르코늄 또는 주석인 것을 특징으로 하는 바디.
  21. 청구항 12 또는 19에 있어서,
    진공 챔버의 가스 분위기내로 산소를 도입함으로써 코팅될 구조물상에 산화물 코팅이 형성되는 것을 특징으로 하는 바디.
  22. 청구항 10에 있어서,
    상기 가스 분위기는 산소 및, 양호하게는 헬륨 또는 아르곤, 가장 양호하게는 헬륨인 희가스(rare gas)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 바디.
KR1020077021590A 2005-02-23 2006-02-23 펄스된 레이저 증착 방법 KR20070112210A (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20050216A FI20050216A0 (fi) 2005-02-23 2005-02-23 Menetelmä valmistaa timanttia, muita jalokiviä, kuten safiiria, rubiinia jne. ja suorittaa näillä pinnoituksia sekä suorittaa pinnoituksia muilla aineilla, kuten boriideillä, oksideillä, nitrideillä jne.
FI20050216 2005-02-23
FI20050559A FI20050559A0 (fi) 2005-05-26 2005-05-26 Menetelmä ja laite suorittaa pinnoitusta laserien ja PLD-menetelmän avulla
FI20050559 2005-05-26
FI20050558A FI20050558A0 (fi) 2005-05-26 2005-05-26 Menetelmä ja laite suorittaa pinnoitusta laserien ja PLD-menetelmän avulla
FI20050558 2005-05-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070112210A true KR20070112210A (ko) 2007-11-22

Family

ID=36927061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077021590A KR20070112210A (ko) 2005-02-23 2006-02-23 펄스된 레이저 증착 방법

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20080160217A1 (ko)
EP (2) EP1856302A1 (ko)
JP (1) JP5091686B2 (ko)
KR (1) KR20070112210A (ko)
BR (1) BRPI0608050A2 (ko)
CA (1) CA2599157A1 (ko)
IL (1) IL185503A0 (ko)
WO (2) WO2006090004A1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009117745A2 (en) * 2008-03-19 2009-09-24 Applied Materials, Inc. Surface preheating treatment of plastics substrate
US7993733B2 (en) 2008-02-20 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Index modified coating on polymer substrate
US8057649B2 (en) 2008-05-06 2011-11-15 Applied Materials, Inc. Microwave rotatable sputtering deposition
US8349156B2 (en) 2008-05-14 2013-01-08 Applied Materials, Inc. Microwave-assisted rotatable PVD

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080187684A1 (en) * 2007-02-07 2008-08-07 Imra America, Inc. Method for depositing crystalline titania nanoparticles and films
US8591521B2 (en) 2007-06-08 2013-11-26 United States Endoscopy Group, Inc. Retrieval device
DE102007029672A1 (de) * 2007-06-27 2009-01-02 Lzh Laserzentrum Hannover E.V. Implantat und Verfahren zu dessen Herstellung
JP5207480B2 (ja) * 2008-05-30 2013-06-12 株式会社ナントー精密 インプラント体及びその製造方法並びに歯科用インプラント
CN103317298A (zh) * 2013-05-08 2013-09-25 孙树峰 飞秒激光辅助抑制微切削零件毛刺形成的方法
AU2013406705B2 (en) * 2013-12-06 2017-03-16 Halliburton Energy Services, Inc. Vapor-depositing metal oxide on surfaces for wells or pipelines to reduce scale

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63227766A (ja) * 1986-10-27 1988-09-22 Hitachi Ltd 超微粒子膜の形成方法
US5168097A (en) * 1986-10-27 1992-12-01 Hitachi, Ltd. Laser deposition process for forming an ultrafine-particle film
JPS6443915A (en) * 1987-08-10 1989-02-16 Univ Tokai Manufacture of superconductive material
JPS6443912A (en) * 1987-08-10 1989-02-16 Univ Tokai Superconductive tape material
US5017277A (en) * 1988-07-07 1991-05-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser sputtering apparatus
JP2822447B2 (ja) * 1989-05-19 1998-11-11 住友電気工業株式会社 酸化物超電導線材の製造方法および装置
US5728465A (en) * 1991-05-03 1998-03-17 Advanced Refractory Technologies, Inc. Diamond-like nanocomposite corrosion resistant coatings
JPH05320882A (ja) * 1992-05-20 1993-12-07 Mitsubishi Kasei Corp 蒸着薄膜の作製法
DE4229397C2 (de) * 1992-09-03 1996-11-21 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Vorrichtung zum Abtragen von Material von einem Target
JP3255469B2 (ja) * 1992-11-30 2002-02-12 三菱電機株式会社 レーザ薄膜形成装置
US5432151A (en) * 1993-07-12 1995-07-11 Regents Of The University Of California Process for ion-assisted laser deposition of biaxially textured layer on substrate
US5794801A (en) * 1993-08-16 1998-08-18 Lemelson; Jerome Material compositions
JPH0770740A (ja) * 1993-09-01 1995-03-14 Hitachi Zosen Corp 導電性薄膜の形成方法
US5643343A (en) * 1993-11-23 1997-07-01 Selifanov; Oleg Vladimirovich Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof
JPH07216539A (ja) * 1994-01-28 1995-08-15 Toray Ind Inc 製膜装置およびこれを用いた薄膜の製造方法
US5508368A (en) * 1994-03-03 1996-04-16 Diamonex, Incorporated Ion beam process for deposition of highly abrasion-resistant coatings
US5593742A (en) * 1995-08-24 1997-01-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Fabrication of silicon microclusters and microfilaments
US5618097A (en) * 1995-08-30 1997-04-08 Osram Sylvania Inc. Electric lamp with a variably keyed based
KR100218690B1 (ko) 1996-11-07 1999-09-01 정선종 대면적 산화물 박막용 레이저 증착 장치
US5981827A (en) * 1996-11-12 1999-11-09 Regents Of The University Of California Carbon based prosthetic devices
AU5179098A (en) * 1996-11-18 1998-06-10 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for directional deposition of thin films using laser ablation
AUPO912797A0 (en) * 1997-09-11 1997-10-02 Australian National University, The Ultrafast laser deposition method
JPH11246965A (ja) * 1998-03-03 1999-09-14 Sharp Corp レーザ蒸着法による薄膜の形成方法、およびその方法に使用するレーザ蒸着装置
JP3704258B2 (ja) * 1998-09-10 2005-10-12 松下電器産業株式会社 薄膜形成方法
WO2000022184A1 (en) * 1998-10-12 2000-04-20 The Regents Of The University Of California Laser deposition of thin films
JP2000144386A (ja) * 1998-11-19 2000-05-26 Sharp Corp レーザ蒸着法による薄膜形成方法、及び、この薄膜形成方法で使用されるレーザ蒸着装置
JP4480809B2 (ja) * 1999-03-30 2010-06-16 Ｈｏｙａ株式会社 酸化インジウム薄膜及びその製造方法
ATE363870T1 (de) * 1999-04-15 2007-06-15 Nobel Biocare Ab Mit diamantähnlichem kohlenstoff überzogene zahnärztliche halterungschraube
US6274207B1 (en) * 1999-05-21 2001-08-14 The Board Of Regents, The University Of Texas System Method of coating three dimensional objects with molecular sieves
EP1065023A3 (en) * 1999-06-30 2003-09-10 Canon Kabushiki Kaisha Laser processing method, method for manufacturing ink jet recording head using such method of manufacture, and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture
JP2001140059A (ja) * 1999-11-12 2001-05-22 Natl Research Inst For Metals Ministry Of Education Culture Sports Science & Technology レーザー蒸着成膜方法
JP4273378B2 (ja) * 1999-12-24 2009-06-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスチックレンズ及びその製造方法
DE10026540A1 (de) * 2000-05-27 2001-11-29 Gfe Met & Mat Gmbh Gegenstand, insbesondere Implantat
AUPR026100A0 (en) * 2000-09-20 2000-10-12 Tamanyan, Astghik Deposition of thin films by laser ablation
US6509070B1 (en) * 2000-09-22 2003-01-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Laser ablation, low temperature-fabricated yttria-stabilized zirconia oriented films
KR100384892B1 (ko) * 2000-12-01 2003-05-22 한국전자통신연구원 에르븀이 도핑된 실리콘나노점의 형성 방법
US6645843B2 (en) * 2001-01-19 2003-11-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Pulsed laser deposition of transparent conducting thin films on flexible substrates
JP4706010B2 (ja) * 2001-09-04 2011-06-22 独立行政法人産業技術総合研究所 ダイヤモンド様炭素薄膜の形成方法
US20030129324A1 (en) * 2001-09-07 2003-07-10 The Regents Of The University Of California Synthesis of films and particles of organic molecules by laser ablation
US20060051522A1 (en) * 2002-01-22 2006-03-09 Talton James D Method of pulsed laser assisted surface modification
US20030145681A1 (en) * 2002-02-05 2003-08-07 El-Shall M. Samy Copper and/or zinc alloy nanopowders made by laser vaporization and condensation
AU2003219660A1 (en) * 2002-02-14 2003-09-04 Iowa State University Research Foundation, Inc. Novel friction and wear-resistant coatings for tools, dies and microelectromechanical systems
JP4113383B2 (ja) * 2002-07-11 2008-07-09 松下電器産業株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
JP4016102B2 (ja) * 2003-01-17 2007-12-05 独立行政法人産業技術総合研究所 パルスレーザ蒸着によるダイアモンドの結晶薄膜の作製方法及び同方法で作製した薄膜
US8182862B2 (en) * 2003-06-05 2012-05-22 Superpower Inc. Ion beam-assisted high-temperature superconductor (HTS) deposition for thick film tape
US20050005846A1 (en) * 2003-06-23 2005-01-13 Venkat Selvamanickam High throughput continuous pulsed laser deposition process and apparatus
US20050067389A1 (en) * 2003-09-25 2005-03-31 Greer James A. Target manipulation for pulsed laser deposition
US7879410B2 (en) * 2004-06-09 2011-02-01 Imra America, Inc. Method of fabricating an electrochemical device using ultrafast pulsed laser deposition
US9440003B2 (en) * 2005-11-04 2016-09-13 Boston Scientific Scimed, Inc. Medical devices having particle-containing regions with diamond-like coatings
EP1993774A2 (en) * 2006-02-23 2008-11-26 Picodeon Ltd OY Coating on a medical substrate and a coated medical product
US8741749B2 (en) * 2006-02-23 2014-06-03 Picodeon Ltd Oy Semiconductor and an arrangement and a method for producing a semiconductor
US7767272B2 (en) * 2007-05-25 2010-08-03 Imra America, Inc. Method of producing compound nanorods and thin films
US20110133129A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Imra America, Inc. Method of tuning properties of thin films
US8836941B2 (en) * 2010-02-10 2014-09-16 Imra America, Inc. Method and apparatus to prepare a substrate for molecular detection

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7993733B2 (en) 2008-02-20 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Index modified coating on polymer substrate
WO2009117745A2 (en) * 2008-03-19 2009-09-24 Applied Materials, Inc. Surface preheating treatment of plastics substrate
WO2009117745A3 (en) * 2008-03-19 2009-12-23 Applied Materials, Inc. Surface preheating treatment of plastics substrate
US8057649B2 (en) 2008-05-06 2011-11-15 Applied Materials, Inc. Microwave rotatable sputtering deposition
US8349156B2 (en) 2008-05-14 2013-01-08 Applied Materials, Inc. Microwave-assisted rotatable PVD

Also Published As

Publication number Publication date
JP5091686B2 (ja) 2012-12-05
US20080160217A1 (en) 2008-07-03
JP2008531845A (ja) 2008-08-14
EP1859071A1 (en) 2007-11-28
WO2006090004A1 (en) 2006-08-31
US20080166501A1 (en) 2008-07-10
CA2599157A1 (en) 2006-08-31
IL185503A0 (en) 2008-01-06
WO2006090005A1 (en) 2006-08-31
BRPI0608050A2 (pt) 2009-11-03
EP1856302A1 (en) 2007-11-21
EP1859071A4 (en) 2010-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070112210A (ko) 펄스된 레이저 증착 방법
KR101367839B1 (ko) 고품질 표면을 생성하기 위한 방법과 고품질 표면을 가진 제품
JP5203226B2 (ja) コーティング方法
KR20090003255A (ko) 탄소 질화물 코팅 및 탄소 질화물 코팅된 제품
JP2009527644A5 (ko)
KR101565099B1 (ko) 타겟의 광자 융발을 위한 방법 및 장치
JP5237122B2 (ja) ガラス基材の塗装方法及び塗装されたガラス製品
JP2009527359A (ja) レーザ蒸散により表面および材料を提供する方法
JP2009527359A5 (ko)
WO2009066011A2 (en) Surface processing method
RU2425908C2 (ru) Способ нанесения покрытия с помощью импульсного лазера и объект с покрытием, нанесенным этим способом
CN101128616A (zh) 脉冲激光沉积方法
FI124357B (fi) Kivi- tai keramiikkasubstraattien päällystäminen ja päällystetty kivi- tai keramiikkatuote
FI124358B (fi) Lasisubstraatin päällystäminen ja päällystetty lasituote
FI124360B (fi) Kuitualustalle päällystäminen ja päällystetty kuitutuote
Lu et al. Magnetron Sputtered DLC Coatings for KCI Optics for High Power Industrial CO2 Laser
Kreutz Pulsed laser deposition of ceramics and diamond-like carbon on PMMA for tribological applications

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E601 Decision to refuse application