JP5091686B2 - パルスレーザ蒸着方法 - Google Patents

パルスレーザ蒸着方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5091686B2
JP5091686B2 JP2007556625A JP2007556625A JP5091686B2 JP 5091686 B2 JP5091686 B2 JP 5091686B2 JP 2007556625 A JP2007556625 A JP 2007556625A JP 2007556625 A JP2007556625 A JP 2007556625A JP 5091686 B2 JP5091686 B2 JP 5091686B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coated
coating
ablation
metal
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007556625A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008531845A (ja
Inventor
ヤリ ルットゥー
Original Assignee
ピコデオン エルティーディー オイ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from FI20050216A external-priority patent/FI20050216A0/fi
Priority claimed from FI20050558A external-priority patent/FI20050558A0/fi
Priority claimed from FI20050559A external-priority patent/FI20050559A0/fi
Application filed by ピコデオン エルティーディー オイ filed Critical ピコデオン エルティーディー オイ
Publication of JP2008531845A publication Critical patent/JP2008531845A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5091686B2 publication Critical patent/JP5091686B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
    • A61L27/28—Materials for coating prostheses
    • A61L27/30—Inorganic materials
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L31/00—Materials for other surgical articles, e.g. stents, stent-grafts, shunts, surgical drapes, guide wires, materials for adhesion prevention, occluding devices, surgical gloves, tissue fixation devices
    • A61L31/08—Materials for coatings
    • A61L31/082—Inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
    • C04B41/4529—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied from the gas phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C23C14/0611—Diamond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
    • F16B37/00—Nuts or like thread-engaging members
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/20—Resistance against chemical, physical or biological attack
    • C04B2111/2038—Resistance against physical degradation
    • C04B2111/2069—Self cleaning materials, e.g. using lotus effect

Description

本発明は、パルスレーザアブレーション蒸着（ＰＬＤ−パルスレーザ蒸着（Ｐｕｌｓｅｄ Ｌａｓｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ））の方法、及び移動する基材をコーティングするために、移動ターゲットのアブレーションによって最適な表面品質を生ずることを意図した製品に関する。
レーザ技術は、近年にわたって著しい進歩を遂げており、現在では、半導体ファイバに基づくレーザシステムを、例えば、コールドアブレーション用に許容できる効率で出力することができる。コールドアブレーション用のレーザには、ピコ秒レーザ及びフェムト秒（ｐｈｅｍｔｏ−ｓｅｃｏｎｄ）レーザがある。例えば、ピコ秒レーザでは、コールドアブレーション範囲は、１００ピコ秒以下の持続時間を有するパルス長である。ピコ秒レーザは、パルス持続時間及び繰返し周波数の両方に関してフェムト秒レーザとは異なり、最近の市販のピコ秒レーザは１〜４ＭＨｚの範囲の繰返し周波数を有するのに対して、フェムト秒レーザはキロヘルツレベルの測定繰返し周波数で運用される。最適な場合では、コールドアブレーションにより、アブレーションされる材料そのものを熱移動に曝すことなく、材料のアブレーションを可能にする。言い換えると、各パルスによってアブレーションされる材料は、パルスエネルギーのみに曝される。
完全ファイバ・ベース・ダイオード励起半導体レーザの他にも、ランプ励起（ｌａｍｐ−ｐｕｍｐｅｄ）レーザ源があり、この場合はレーザ光線が最初にファイバに照射された後、作業場所（ｗｏｒｋ ｓｉｔｅ）に照射される。本願優先日までの出願人の情報によると、現在では、これらのファイバベースのレーザシステムは、工業規模によらずレーザアブレーションにより製品を提供する唯一の手段である。
現在のファイバレーザのファイバ、及びその結果としての固定ビーム効果により、アブレーションできる材料の選択の幅が制限される。アルミニウムは、適当なパルス効果を用いてアブレーションできるが、一方で、銅及びタングステンなどの、よりアブレーションしにくい材料は、より高いパルス効果を必要とする。第２の従来技術の特徴は、レーザ光線の走査幅である。直線走査は、ミラーフィルム（ｍｉｒｒｏｒ ｆｉｌｍ）スキャナにおいて一般的に使用されており、一般的には３０ｍｍ〜７０ｍｍの範囲の走査線の幅である。
本出願の優先日までに出願人が知る限りでは、既知のコールドアブレーション用のパルスレーザ装置の効率は、わずか１０Ｗ程度であった。この場合には、ピコ秒レーザでは、約４ＭＨｚのパルス周波数となる。しかしながら、コールドアブレーション用の秒パルスレーザでは、キロヘルツレベルのパルス周波数でしかなく、例えば種々の切断用途において、その動作速度は、ピコ秒レーザよりも低い。
特にコーティング用途においてコールドアブレーションレーザを用いて良好な結果を得るためには、一般的に少なくとも１０−６気圧の真空値を必要である。気相における材料の量が多いほど、基材からアブレーションされる材料で形成される材料プラズマファン（プラズマの扇状の広がり）の品質が低下し、不良になる。適切な真空レベルでは、そのような材料プラズマファンは、約３０ｍｍ〜７０ｍｍの高さを有する（米国特許第６，３７２，１０３号参照）
本発明は、金属、ガラス、又はプラスチック製の部材をコーティングする方法に関し、可能な限り均一な品質を有する表面を作り出すために、部材を移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動させつつ、レーザアブレーションによってコーティングされる。
本発明はまた、可能な限り均一な品質を有する表面を作り出すために移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中に置かれる、レーザアブレーションによってコーティングされた金属、岩石、ガラス、又はプラスチック製の部材に関する。
本発明は、コーティングされるべき目標物（基材）を、移動するターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動させる場合に、平面又は任意の三次元の構造を有する金属、プラスチック、岩石、又はガラス製の部材を、均一な品質でコーティングすることができるという驚くべき観察結果に基づいている。本発明は、レーザアブレーションを使用することによって、そのような部材上で、ＤＬＣコーティング、金属コーティング、及び金属酸化物コーティングの沈着を可能にする。
本発明は、金属、ガラス、又はプラスチック製の部材をコーティングする方法に関し、可能な限り均一な品質を有する表面を作り出すために、移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動しつつ、部材がレーザアブレーションによってコーティングされる。
ここで、部材とは、種々の平面及び三次元の構造を意味する。かかる構造は、例えば、屋根板、室内装飾及び建築板、鋳造物、及び窓枠、台所の流し、蛇口、オーブン、金属硬貨、宝石類、道具及びその部品、自動車及び他の車両のエンジン及びそれらのエンジンの部品、自動車及び他の車両のめっき及び塗装された金属コーティング、船舶、ボート、及び航空機に使用されるめっきされた部材、飛行機用タービン、及び燃焼機関、ベアリング、フォーク、ナイフ、及びスプーン、ハサミ、さやナイフ、回転刃、ノコギリ及び全ての種類のめっきされたカッター、スクリュー、及びナット、めっきされた反応器、ポンプ、蒸留塔、容器、及び軸組構造などの、化学工業において使用される金属製の処理装置、オイルパイプ、ガスパイプ、及び化学パイプ、及び種々のバルブ及び制御ユニット、石油掘削装置における部品及びカッター、水搬送パイプ、武器及びその部品、弾丸、及び薬包、抄紙機においてアブレーションにさらされる部品などの、摩耗にさらされる金属ノズル（例えばコーティングペーストを塗布する手段）、雪踏みぐわ（ｓｎｏｗ ｓｐａｄｅ）、踏みぐわ、及び遊び場の玩具における金属部品、ガードレール（ｒｏａｄｓｉｄｅ ｒａｉｌｉｎｇ）、交通標識、及び交通ポール（ｔｒａｆｆｉｃ ｐｏｌｅ）、金属の缶及び容器、手術器具、人工関節及びインプラント、及び器具、酸化作用及び他の摩耗にさらされる電子デバイスの金属部品、カメラの金属部品及びガラスレンズ及びプラスチックレンズ、及び摩擦及び高熱に耐える宇宙船の内層ソリューション（ｌｉｎｉｎｇ ｓｏｌｕｔｉｏｎ）を含む宇宙船のような種々の金属製品及びそれらのコーティングを含む。
本発明に従って生産される物品はまた、腐食性の化合物に耐えるコーティング及び三次元材料、自浄式表面、さらに種々のレンズソリューションにおける反射防止表面（例えば、紫外線防護コーティング、及び水、溶液、又は空気の浄化に使用される紫外線作用性（ＵＶ ａｃｔｉｖｅ）コーティングでもよい。
本発明によれば、岩石材料は、酸化による最終的なコーティング形成前に、顔料又は着色剤を加えることによって所望の色に着色することができる。岩石製品を着色するコーティングは、本発明のレーザアブレーションによって実施することができる。金属酸化物又は酸素相（ｏｘｉｇｅｎ ｐｈａｓｅ）における金属をアブレーションすることによって、岩石材料の上に、自浄式の二酸化チタンコーティング、又は例えば強化抗引っかき性（ａｎｔｉ−ｓｃｒａｔｃｈ）酸化アルミニウムコーティングを形成することも可能である。これにより、耐性のある岩石製品が提供され、前記岩石製品は自浄式であり、所望により調整可能な色さえも有する。例えば砂岩は、煤煙の影響を非常に受けやすく、この理由によって、特に建築物の面に使用される砂岩上の自浄式コーティングは、大きな経済的影響力を有する。
岩石材料は、任意の天然岩石、又は本発明の一実施態様におけるセラミックであってもよい。コーティングされる代表的な岩石の種類は、大理石及び砂岩などの外観を被覆する石を含むが、本方法は、花崗岩、片麻岩、珪岩、粘板岩などの他の種類の岩石のコーティングにも適用される。
ダイヤモンドコーティングは、金属の酸化を防止し、したがって金属の装飾機能又は他の機能の破壊を防止する。さらに、ダイヤモンド表面は、下部の層を酸及び塩基から保護する。本発明のダイヤモンドコーティングは、下部の層を機械的摩耗から保護するのみならず、化学反応からも保護する。ダイヤモンドコーティングは、金属の酸化を防止し、したがって金属の装飾機能又は他の機能の破壊を防止する。一部の用途において、装飾的めっきが所望される。本発明により特に装飾的なターゲットとして使用可能な金属及び金属化合物は、金、銀、クロム、白金、タンタル、チタン、銅、亜鉛、アルミニウム、鉄、鋼鉄、亜鉛黒、ルテニウム黒（ｒｕｔｈｅｎｉｕｍ ｂｌａｃｋ）、コバルト、バナジウム、窒化チタン、窒化チタンアルミニウム（ｔｉｔａｎｉｕｍ ａｌｕｍｉｎｉｕｍ ｎｉｔｒｉｄｅ）、窒化チタン炭素（ｔｉｔａｎｉｕｍ ｃａｒｂｏｎ ｎｉｔｒｉｄｅ）、窒化ジルコニウム、窒化クロム、炭化チタン珪素（ｔｉｔａｎｉｕｍ ｓｉｌｉｃｏｎ ｃａｒｂｉｄｅ）、及び炭化クロムでよい。これらの化合物は、耐摩耗性のコーティング、又は酸化又は他の化学反応に対する防護を提供するコーティングなどの、他の特性も必然的に提供する。
さらに、本発明のある好ましい実施態様により、種々のガラス製品及びプラスチック製品（レンズ、大型ディスプレイシールド、車両及び不動産における窓ガラス、研究用及び家庭用のガラス）における硬くて引っかきのない表面の形成を可能になる。ここで、特に好ましい光学コーティングは、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３を含む。
本発明の特に好ましい実施態様において、コーティングは、パルスレーザを用いたレーザアブレーションによって行われる。レーザアブレーション用のレーザ装置は、好ましくはピコ秒レーザなどのコールドアブレーションレーザでよい。
前記装置は、フェムト秒レーザでもよいが、コーティングのためにはピコ秒レーザを使用したほうが好ましい。
コーティングは、好ましくは１０−６〜１０−１２気圧の真空下で行われる。
本発明の好ましい実施態様において、コーティングは、コーティングされる部材を、連続して２以上の材料プラズマファンを通過させることによって行われる。これにより、コーティング速度を増加し、工業用途によりふさわしいコーティングプロセスを得る。コーティングされる構造とターゲットとの間の典型的な距離は、３０ｍｍ〜１００ｍｍであり、３５ｍｍ〜５０ｍｍが好ましい。
本発明の特に有利な実施態様において、ターゲットとコーティングされる部材との間の距離は、アブレーション工程全体にわたってほぼ一定に維持される。
特に好ましいターゲット材料は、グラファイト、焼結炭素、金属、金属酸化物、及びポリシロキサンを含む。グラファイト又は炭素のアブレーションにより、ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）コーティング、又はより高いｓｐ３／ｓｐ２比を有するダイヤモンドコーティングの形成が可能になる。ターゲット材料が金属である場合には、金属は、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、クロム、ジルコニウム、又はスズが好ましい。
金属酸化物のコーティングを形成することが望ましい場合には、金属酸化物の直接的なアブレーションによって実施することができる。本発明の第２の実施態様において、金属酸化物のコーティングは、酸素を含むガス雰囲気中で金属をアブレーションすることによって形成することができる。酸素は、通常の酸素又は反応性酸素でよい。本発明の実施態様において、ガス雰囲気は酸素及び希ガスであり、ヘリウム又はアルゴンが好ましく、ヘリウムが最も好ましい。
本発明はまた、金属、プラスチック、又はガラス製の部材に関し、可能な限り均一な品質を有するコーティングを達成するために、移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動しつつ、部材がレーザアブレーションによってコーティングされる。
かかる部材は、パルスレーザを用いてレーザアブレーションを行うことによってコーティングされるのが好ましい。アブレーション用のレーザ装置は、ピコ秒レーザなどのコールドアブレーションレーザが好ましい。
本発明の部材は、１０−６〜１０−１２気圧の真空下でコーティングされるのが好ましい。
本発明のさらに好ましい実施態様において、部材は、コーティングされるプラスチックケーシング及び／又はレンズを連続して２以上の材料プラズマファンを通過させることによってコーティングされる。コーティングされるべき構造とターゲットとの間の典型的な距離は、３０ｍｍ〜１００ｍｍであり、３５ｍｍ〜５０ｍｍが好ましい。
本発明の特に有利な実施態様において、ターゲットとコーティングされる構造との間の距離がアブレーション工程全体にわたってほぼ一定に維持されて部材がコーティングされる。好ましいターゲット材料の多くは、グラファイト、焼結炭素、金属、金属酸化物、及びポリシロキサンを含む。
好ましい金属は、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、クロム、ジルコニウム、又はスズを含む。
部材は、酸素が導入されたガス雰囲気中で金属をアブレーションすることによっても、酸化物層によってコーティングすることができる。そのようなガス雰囲気は、酸素及び希ガスであり、ヘリウム又はアルゴンが好ましく、ヘリウムが最も好ましい。
本発明の方法及び製品は、本発明を所与の実施例に限定することなく、以下に説明する。
Ｃｏｒｅｌａｓｅ Ｏｙにより出力されるＸ−レーズ（Ｘ−ｌａｓｅ）１０Ｗピコ秒レーザ、及びＣｏｒｅｌａｓｅ Ｏｙにより出力されるＸ−レーズ（Ｘ−ｌａｓｅ）１０Ｗピコ秒レーザの両方を使用してコーティングを形成した。パルスエネルギーは、１平方センチメートルの面積上に入射するパルスエネルギーを意味し、光学素子によって所望のサイズの面積上に焦点を合わせる。
実施例１
本実施例において、ポリカーボネートプレートを、（焼結炭素の）ダイヤモンドコーティングによってコーティングした。レーザ装置は、以下の性能パラメータを有した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との間の距離３５ｍｍ
真空レベル１０−７
ポリカーボネートプレートは、約２００ｍｍの厚さを有するＤＬＣコーティングによって、コーティングされた。
実施例２
本実施例において、ロースター（ｒｏｓｔｅｒ）製の骨ねじを、チタンコーティングによってコーティングした。レーザ装置は以下の性能パラメータを有し、コーティングは焼結炭素をアブレーションによって形成した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との距離３７ｍｍ
真空レベル１０−８
形成されたダイヤモンドコーティング（ＤＬＣ）は、約１００ｍｍの厚さを有する。
実施例３
本実施例において、ガラス片及びポリカーボネートプレートの両方を、二酸化チタンコーティングによってコーティングした。レーザ装置は以下の性能パラメータを有した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との距離３５ｍｍ
真空レベル１０−８
約１０ｎｍの厚さを有する透明な二酸化チタンコーティングが、グラス片及びポリカーボネートプレートの両方の上に形成された。
実施例４
本実施例において、大理石を二酸化チタンコーティングによってコーティングした。レーザ装置は以下の性能パラメータを有し、二酸化チタンを直接アブレーションすることによってコーティングが形成した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との間の距離２８ｍｍ
真空レベル１０−６
約１００ｎｍの厚さを有する二酸化チタンコーティングが、大理石プレート部材の上に形成した。
実施例５
本実施例において、大理石をダイヤモンドコーティングによってコーティングした。大理石に含まれる湿気のほとんどを除去するために、石は約１時間にわたってオーブン（１１０℃）の中で乾燥した。レーザ装置は以下の性能パラメータを有し、焼結炭素を直接アブレーションすることによってコーティングが形成した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との間の距離３０ｍｍ
真空レベル１０−６
約２００ｎｍの厚さを有するダイヤモンドコーティングが、大理石プレート部材の上に形成した。大理石の薄い色は、薄いベージュの色合いに変化し、ここで形成した色つきのコーティングを通して、天然の岩石パターンを視認できた。
実施例６
本実施例において、未処理の砂岩を二酸化チタンによってコーティングした。レーザ装置は以下の性能パラメータを有し、二酸化チタンを直接アブレーションすることによってコーティングが形成した。
電力１０Ｗ
繰返し周波数４ＭＨｚ
パルスエネルギー２．５μＪ
パルス持続時間２０ｐｓ
ターゲットと基材との間の距離３０ｍｍ
真空レベル１０−６
平均約６０ｎｍの厚さを有する二酸化チタンコーティングが、砂岩の上に形成した。
図１は、アブレーションされる材料の上のホットアブレーション及びコールドアブレーションの効果を示す。 図２は、本発明に従ってコーティングされた種々の医療器具を示す。 図３は、本発明に従ってコーティングされた種々の医療器具を示す。 図４は、本発明に従ってコーティングされた種々の光学製品を示す。 図５は、本発明に従って作り出された材料プラズマファンを示す。 図６は、本発明のコーティング方法を示す。本図は、材料プラズマファン（１７）に対して、コーティングされる部材（基材）の運動の方向（１６）を示す。コーティングされる部材とターゲット（アブレーションべき材料）との間の距離は７０ｍｍであり、ターゲットの材料部材上のレーザ光線の入射角は斜めである。
符号の説明
１６ コーティングされる部材（基材）の運動の方向
１７ 材料プラズマファン

Claims (18)

  1. 金属、ガラス、岩石、又はプラスチックの部材をコーティングする方法であって、
    可能な限り均一な品質を有するコーティングを達成するために、移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動させつつ、前記部材をコールドアブレーションによってコーティングし、
    アブレーションのために使用されるレーザは、２０ピコ秒以下の持続時間を有するパルス長のコールドアブレーション用のレーザである方法。
  2. 前記レーザアブレーションは、１０−６〜１０−１２気圧の真空下で行われる、請求項１に記載の方法。
  3. 前記コーティングは、コーティングされる前記部材を連続して２つ以上の材料プラズマファンを通過させることによって行われる、請求項１に記載の方法。
  4. 前記コーティングされる部材と前記ターゲットとの間の距離は、３０ｍｍ〜１００ｍｍの範囲である、請求項３に記載の方法。
  5. 前記ターゲットと前記コーティングされる部材との間の距離は、アブレーション工程全体にわたってほぼ一定に維持される、請求項１及び４のいずれか１項に記載の方法。
  6. 前記ターゲットの材料は、グラファイト、焼結炭素、金属、金属酸化物、又はポリシロキサンである、請求項１に記載の方法。
  7. 前記金属は、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、クロム、ジルコニウム、又はスズである、請求項６に記載の方法。
  8. 真空室のガス雰囲気の中に酸素を導入することによって、コーティングされる構造の上に酸化物コーティングが形成される、請求項１又は６に記載の方法。
  9. 前記ガス雰囲気は、酸素及び希ガスからなる、請求項８に記載の方法。
  10. 可能な限り均一な品質を有するコーティングを達成するために、移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動しつつ、２０ピコ秒以下の持続時間を有するパルス長のコールドアブレーション用のパルスレーザによるレーザアブレーションによってコーティングされる、金属、ガラス、又はプラスチック部材。
  11. 前記レーザアブレーションは、１０−６〜１０−１２気圧の真空下で行われる、請求項１０に記載の部材。
  12. 前記コーティングは、前記部材を連続して２つ以上の材料プラズマファンを通過させることによって行われる、請求項１０に記載の部材。
  13. 前記部材と前記ターゲットとの間の距離は、３０ｍｍ〜１００ｍｍである、請求項１２に記載の部材。
  14. 前記ターゲットと前記コーティングされる部材との間の距離は、アブレーション工程全体にわたってほぼ一定に維持される、請求項１０及び１３のいずれか１項に記載の部材。
  15. 前記ターゲットの材料は、グラファイト、焼結炭素、金属、金属酸化物、又はポリシロキサンである、請求項１０に記載の部材。
  16. 前記金属は、アルミニウム、チタン、銅、亜鉛、クロム、ジルコニウム、又はスズである、請求項１５に記載の部材。
  17. 真空室内のガス雰囲気の中に酸素を導入することによって、コーティングされる構造の上に酸化物コーティングが形成される、請求項１０又は１５に記載の部材。
  18. 前記ガス雰囲気は、酸素及び希ガスからなる、請求項１０に記載の部材。
JP2007556625A 2005-02-23 2006-02-23 パルスレーザ蒸着方法 Expired - Fee Related JP5091686B2 (ja)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20050216A FI20050216A0 (fi) 2005-02-23 2005-02-23 Menetelmä valmistaa timanttia, muita jalokiviä, kuten safiiria, rubiinia jne. ja suorittaa näillä pinnoituksia sekä suorittaa pinnoituksia muilla aineilla, kuten boriideillä, oksideillä, nitrideillä jne.
FI20050216 2005-02-23
FI20050558 2005-05-26
FI20050558A FI20050558A0 (fi) 2005-05-26 2005-05-26 Menetelmä ja laite suorittaa pinnoitusta laserien ja PLD-menetelmän avulla
FI20050559 2005-05-26
FI20050559A FI20050559A0 (fi) 2005-05-26 2005-05-26 Menetelmä ja laite suorittaa pinnoitusta laserien ja PLD-menetelmän avulla
PCT/FI2006/000068 WO2006090004A1 (en) 2005-02-23 2006-02-23 Pulsed laser deposition method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008531845A JP2008531845A (ja) 2008-08-14
JP5091686B2 true JP5091686B2 (ja) 2012-12-05

Family

ID=36927061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007556625A Expired - Fee Related JP5091686B2 (ja) 2005-02-23 2006-02-23 パルスレーザ蒸着方法

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20080160217A1 (ja)
EP (2) EP1856302A1 (ja)
JP (1) JP5091686B2 (ja)
KR (1) KR20070112210A (ja)
BR (1) BRPI0608050A2 (ja)
CA (1) CA2599157A1 (ja)
IL (1) IL185503A0 (ja)
WO (2) WO2006090004A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11166735B2 (en) 2007-06-08 2021-11-09 United States Endoscopy Group, Inc. Retrieval device

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080187684A1 (en) * 2007-02-07 2008-08-07 Imra America, Inc. Method for depositing crystalline titania nanoparticles and films
DE102007029672A1 (de) * 2007-06-27 2009-01-02 Lzh Laserzentrum Hannover E.V. Implantat und Verfahren zu dessen Herstellung
US7993733B2 (en) 2008-02-20 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Index modified coating on polymer substrate
US20090238993A1 (en) * 2008-03-19 2009-09-24 Applied Materials, Inc. Surface preheating treatment of plastics substrate
US8057649B2 (en) 2008-05-06 2011-11-15 Applied Materials, Inc. Microwave rotatable sputtering deposition
US8349156B2 (en) 2008-05-14 2013-01-08 Applied Materials, Inc. Microwave-assisted rotatable PVD
JP5207480B2 (ja) * 2008-05-30 2013-06-12 株式会社ナントー精密 インプラント体及びその製造方法並びに歯科用インプラント
CN103317298A (zh) * 2013-05-08 2013-09-25 孙树峰 飞秒激光辅助抑制微切削零件毛刺形成的方法
WO2015084386A1 (en) * 2013-12-06 2015-06-11 Halliburton Energy Services, Inc. Vapor-depositing metal oxide on surfaces for wells or pipelines to reduce scale

Family Cites Families (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63227766A (ja) * 1986-10-27 1988-09-22 Hitachi Ltd 超微粒子膜の形成方法
US5168097A (en) * 1986-10-27 1992-12-01 Hitachi, Ltd. Laser deposition process for forming an ultrafine-particle film
JPS6443912A (en) * 1987-08-10 1989-02-16 Univ Tokai Superconductive tape material
JPS6443915A (en) * 1987-08-10 1989-02-16 Univ Tokai Manufacture of superconductive material
US5017277A (en) * 1988-07-07 1991-05-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser sputtering apparatus
JP2822447B2 (ja) * 1989-05-19 1998-11-11 住友電気工業株式会社 酸化物超電導線材の製造方法および装置
US5728465A (en) * 1991-05-03 1998-03-17 Advanced Refractory Technologies, Inc. Diamond-like nanocomposite corrosion resistant coatings
JPH05320882A (ja) * 1992-05-20 1993-12-07 Mitsubishi Kasei Corp 蒸着薄膜の作製法
DE4229397C2 (de) * 1992-09-03 1996-11-21 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Vorrichtung zum Abtragen von Material von einem Target
JP3255469B2 (ja) * 1992-11-30 2002-02-12 三菱電機株式会社 レーザ薄膜形成装置
US5432151A (en) * 1993-07-12 1995-07-11 Regents Of The University Of California Process for ion-assisted laser deposition of biaxially textured layer on substrate
US5740941A (en) * 1993-08-16 1998-04-21 Lemelson; Jerome Sheet material with coating
JPH0770740A (ja) * 1993-09-01 1995-03-14 Hitachi Zosen Corp 導電性薄膜の形成方法
US5643343A (en) * 1993-11-23 1997-07-01 Selifanov; Oleg Vladimirovich Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof
JPH07216539A (ja) * 1994-01-28 1995-08-15 Toray Ind Inc 製膜装置およびこれを用いた薄膜の製造方法
US5508368A (en) * 1994-03-03 1996-04-16 Diamonex, Incorporated Ion beam process for deposition of highly abrasion-resistant coatings
US5593742A (en) * 1995-08-24 1997-01-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Fabrication of silicon microclusters and microfilaments
US5618097A (en) * 1995-08-30 1997-04-08 Osram Sylvania Inc. Electric lamp with a variably keyed based
KR100218690B1 (ko) 1996-11-07 1999-09-01 정선종 대면적 산화물 박막용 레이저 증착 장치
US5981827A (en) * 1996-11-12 1999-11-09 Regents Of The University Of California Carbon based prosthetic devices
WO1998022635A1 (en) * 1996-11-18 1998-05-28 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for directional deposition of thin films using laser ablation
AUPO912797A0 (en) * 1997-09-11 1997-10-02 Australian National University, The Ultrafast laser deposition method
JPH11246965A (ja) * 1998-03-03 1999-09-14 Sharp Corp レーザ蒸着法による薄膜の形成方法、およびその方法に使用するレーザ蒸着装置
JP3704258B2 (ja) * 1998-09-10 2005-10-12 松下電器産業株式会社 薄膜形成方法
WO2000022184A1 (en) * 1998-10-12 2000-04-20 The Regents Of The University Of California Laser deposition of thin films
JP2000144386A (ja) * 1998-11-19 2000-05-26 Sharp Corp レーザ蒸着法による薄膜形成方法、及び、この薄膜形成方法で使用されるレーザ蒸着装置
JP4480809B2 (ja) * 1999-03-30 2010-06-16 Ｈｏｙａ株式会社 酸化インジウム薄膜及びその製造方法
US6447295B1 (en) * 1999-04-15 2002-09-10 Nobel Biocare Ab Diamond-like carbon coated dental retaining screws
US6274207B1 (en) * 1999-05-21 2001-08-14 The Board Of Regents, The University Of Texas System Method of coating three dimensional objects with molecular sieves
US6693656B1 (en) * 1999-06-30 2004-02-17 Canon Kabushiki Kaisha Laser processing method, method for manufacturing ink jet recording head using such method of manufacture, and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture
JP2001140059A (ja) * 1999-11-12 2001-05-22 Natl Research Inst For Metals Ministry Of Education Culture Sports Science & Technology レーザー蒸着成膜方法
JP4273378B2 (ja) * 1999-12-24 2009-06-03 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスチックレンズ及びその製造方法
DE10026540A1 (de) * 2000-05-27 2001-11-29 Gfe Met & Mat Gmbh Gegenstand, insbesondere Implantat
AUPR026100A0 (en) * 2000-09-20 2000-10-12 Tamanyan, Astghik Deposition of thin films by laser ablation
US6509070B1 (en) * 2000-09-22 2003-01-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Laser ablation, low temperature-fabricated yttria-stabilized zirconia oriented films
KR100384892B1 (ko) * 2000-12-01 2003-05-22 한국전자통신연구원 에르븀이 도핑된 실리콘나노점의 형성 방법
US6645843B2 (en) * 2001-01-19 2003-11-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Pulsed laser deposition of transparent conducting thin films on flexible substrates
JP4706010B2 (ja) * 2001-09-04 2011-06-22 独立行政法人産業技術総合研究所 ダイヤモンド様炭素薄膜の形成方法
US20030129324A1 (en) * 2001-09-07 2003-07-10 The Regents Of The University Of California Synthesis of films and particles of organic molecules by laser ablation
US20060051522A1 (en) * 2002-01-22 2006-03-09 Talton James D Method of pulsed laser assisted surface modification
US20030145681A1 (en) * 2002-02-05 2003-08-07 El-Shall M. Samy Copper and/or zinc alloy nanopowders made by laser vaporization and condensation
AU2003219660A1 (en) * 2002-02-14 2003-09-04 Iowa State University Research Foundation, Inc. Novel friction and wear-resistant coatings for tools, dies and microelectromechanical systems
JP4113383B2 (ja) * 2002-07-11 2008-07-09 松下電器産業株式会社 インクジェットヘッドの製造方法
JP4016102B2 (ja) * 2003-01-17 2007-12-05 独立行政法人産業技術総合研究所 パルスレーザ蒸着によるダイアモンドの結晶薄膜の作製方法及び同方法で作製した薄膜
US8182862B2 (en) * 2003-06-05 2012-05-22 Superpower Inc. Ion beam-assisted high-temperature superconductor (HTS) deposition for thick film tape
US20050005846A1 (en) * 2003-06-23 2005-01-13 Venkat Selvamanickam High throughput continuous pulsed laser deposition process and apparatus
US20050067389A1 (en) * 2003-09-25 2005-03-31 Greer James A. Target manipulation for pulsed laser deposition
US7879410B2 (en) * 2004-06-09 2011-02-01 Imra America, Inc. Method of fabricating an electrochemical device using ultrafast pulsed laser deposition
US9440003B2 (en) * 2005-11-04 2016-09-13 Boston Scientific Scimed, Inc. Medical devices having particle-containing regions with diamond-like coatings
US8486073B2 (en) * 2006-02-23 2013-07-16 Picodeon Ltd Oy Coating on a medical substrate and a coated medical product
JP5237125B2 (ja) * 2006-02-23 2013-07-17 ピコデオン エルティーディー オイ 金属基材上のコーティングおよびコーティングした製品
US7767272B2 (en) * 2007-05-25 2010-08-03 Imra America, Inc. Method of producing compound nanorods and thin films
US20110133129A1 (en) * 2009-12-07 2011-06-09 Imra America, Inc. Method of tuning properties of thin films
US8836941B2 (en) * 2010-02-10 2014-09-16 Imra America, Inc. Method and apparatus to prepare a substrate for molecular detection

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11166735B2 (en) 2007-06-08 2021-11-09 United States Endoscopy Group, Inc. Retrieval device

Also Published As

Publication number Publication date
CA2599157A1 (en) 2006-08-31
WO2006090005A1 (en) 2006-08-31
US20080166501A1 (en) 2008-07-10
JP2008531845A (ja) 2008-08-14
IL185503A0 (en) 2008-01-06
WO2006090004A1 (en) 2006-08-31
BRPI0608050A2 (pt) 2009-11-03
US20080160217A1 (en) 2008-07-03
EP1859071A1 (en) 2007-11-28
EP1859071A4 (en) 2010-04-14
KR20070112210A (ko) 2007-11-22
EP1856302A1 (en) 2007-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5091686B2 (ja) パルスレーザ蒸着方法
JP5437640B2 (ja) 高品質の表面を製造するための方法および高品質の表面を有する製品
JP5203226B2 (ja) コーティング方法
JP2009527642A5 (ja)
KR20090003255A (ko) 탄소 질화물 코팅 및 탄소 질화물 코팅된 제품
JP2009527644A5 (ja)
US20090017318A1 (en) Coating on a metal substrate and a coated metal product
US20090166343A1 (en) Method for Producing Surfaces and Materials by Laser Ablation
JP2009527359A5 (ja)
WO2009066011A2 (en) Surface processing method
RU2467092C2 (ru) Способ нанесения покрытия и металлическое изделие, снабженное покрытием
RU2425908C2 (ru) Способ нанесения покрытия с помощью импульсного лазера и объект с покрытием, нанесенным этим способом
CN101128616A (zh) 脉冲激光沉积方法
WO2007116124A1 (en) Method for adjusting ablation threshold

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111024

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120208

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120911

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120914

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees